JPH02298215A - 真空加熱方法及び真空加熱装置 - Google Patents
真空加熱方法及び真空加熱装置Info
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- JPH02298215A JPH02298215A JP11757289A JP11757289A JPH02298215A JP H02298215 A JPH02298215 A JP H02298215A JP 11757289 A JP11757289 A JP 11757289A JP 11757289 A JP11757289 A JP 11757289A JP H02298215 A JPH02298215 A JP H02298215A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、真空加熱処理された被加熱材を水槽に供給し
て焼き入れする真空加熱方法及び真空加熱装置に関する
。
て焼き入れする真空加熱方法及び真空加熱装置に関する
。
〈従来の技術〉
真空加熱した被加熱材をガスにより焼き入れする真空加
熱装置や、被加熱材を油で冷却して焼き入れる真空加熱
装置（例えば特公昭５５−２４４９２号公報）は既に知
られている。
熱装置や、被加熱材を油で冷却して焼き入れる真空加熱
装置（例えば特公昭５５−２４４９２号公報）は既に知
られている。
（発明が解決しようとする課題）
しかし、ガスで冷却する真空加熱装置は冷却能力が劣り
、加圧ガスを利用してもあまり冷却能率が上昇しない、
しかも加圧ガスを利用すると冷却室を耐加圧構造にしな
ければならず、構造及び処理時において制約を受ける場
合があり、価格上昇の要因となるので不利である。
、加圧ガスを利用してもあまり冷却能率が上昇しない、
しかも加圧ガスを利用すると冷却室を耐加圧構造にしな
ければならず、構造及び処理時において制約を受ける場
合があり、価格上昇の要因となるので不利である。
また、油で冷却する真空加熱装置は、充分な冷却能力を
期待できるが、処理時において飛散する油の分子が真空
加熱室に流入し、汚損するので真空加熱室内の真空度に
著しい悪影響を与える。しかも焼き入れ冷却時の油の炭
化及びそれに基（スケールの付着等の問題もある。
期待できるが、処理時において飛散する油の分子が真空
加熱室に流入し、汚損するので真空加熱室内の真空度に
著しい悪影響を与える。しかも焼き入れ冷却時の油の炭
化及びそれに基（スケールの付着等の問題もある。
一方、冷却媒体として水を使用することによって、上記
したよりな熱容鳳及びコストの面に対しての対策が可能
になるが、冷却用水槽を真空にする場合、水分が空気と
共に真空ポンプ内に混入する場合、水分が空気と共に真
空ポンプ内に混入し、真空ポンプの油の劣化を早め、吸
気能力を著しく低下させるために、頻繁に真空ポンプに
溜った水を捨てる作業を必要としていた。
したよりな熱容鳳及びコストの面に対しての対策が可能
になるが、冷却用水槽を真空にする場合、水分が空気と
共に真空ポンプ内に混入する場合、水分が空気と共に真
空ポンプ内に混入し、真空ポンプの油の劣化を早め、吸
気能力を著しく低下させるために、頻繁に真空ポンプに
溜った水を捨てる作業を必要としていた。
さらに、冷却用水槽の水は、脱気処理が必要であるため
に、蒸発による水の減少にともない、新しい水を補充し
て新たな脱気を行う必要がある。
に、蒸発による水の減少にともない、新しい水を補充し
て新たな脱気を行う必要がある。
（課題を解決するための手段〉
本発明は、上記に鑑み提案されたもので、密閉された真
空加熱室、真空焼き入れ室及び被加熱材の冷却用水槽を
有し、真空加熱室で真空加熱した被加熱材を真空焼き入
れ室から冷却用水槽に供給して焼き入れするとともに５
真空時に真空加熱室、真空焼き入れ室から吸入した内気
から水分な凝集し、この凝集された水を冷却用水槽に還
流させるようにしたことを特徴とする真空加熱方法。
空加熱室、真空焼き入れ室及び被加熱材の冷却用水槽を
有し、真空加熱室で真空加熱した被加熱材を真空焼き入
れ室から冷却用水槽に供給して焼き入れするとともに５
真空時に真空加熱室、真空焼き入れ室から吸入した内気
から水分な凝集し、この凝集された水を冷却用水槽に還
流させるようにしたことを特徴とする真空加熱方法。
並びに真空加熱装置に関するものである。
〈作 用）
上記した本発明によれば、真空加熱室で加熱した被加熱
材を真空焼き入れ室に導き、続いて冷却用水槽に供給す
れば、大規模な部材も、短時間に、なおかつ安価に、焼
き入れ処理を行うことができる。
材を真空焼き入れ室に導き、続いて冷却用水槽に供給す
れば、大規模な部材も、短時間に、なおかつ安価に、焼
き入れ処理を行うことができる。
また、脱水槽を設けて真空加熱室や真空焼き入れ室を真
空にする場合に吸入する内気から凝集する水を還流させ
ることにより、真空ポンプを含めた装置全体の保守及び
処理工程の安定な実施が可能となり、しかも脱気されて
いる水がほとんど減少することがなく冷却用水槽に戻る
ので、新たな水を水槽に供給する必要がなく、また脱気
された水を冷却用として長期間使用できるものである。
空にする場合に吸入する内気から凝集する水を還流させ
ることにより、真空ポンプを含めた装置全体の保守及び
処理工程の安定な実施が可能となり、しかも脱気されて
いる水がほとんど減少することがなく冷却用水槽に戻る
ので、新たな水を水槽に供給する必要がなく、また脱気
された水を冷却用として長期間使用できるものである。
〈実施例〉
本発明の真空加熱方法及び真空加熱装置を図面の実施例
により説明する。
により説明する。
第１図は、本発明の真空加熱装置の概略を示すもので、
真空加熱装置１は、気密に閉塞された真空焼き入れ室２
の一側に真空加熱室３を並設するとともに、真空焼き入
れ室２の下方に冷却用水槽４を位置させ、真空焼き入れ
室２に臨む真空加熱室３の側面には開口部５を設け、こ
の開口部５に蓋材６を開閉可能に設ける。
真空加熱装置１は、気密に閉塞された真空焼き入れ室２
の一側に真空加熱室３を並設するとともに、真空焼き入
れ室２の下方に冷却用水槽４を位置させ、真空焼き入れ
室２に臨む真空加熱室３の側面には開口部５を設け、こ
の開口部５に蓋材６を開閉可能に設ける。
そして、蓋材６が開口部５を開放しているときには外部
から開閉部（図示せず）を介して真空焼き入れ室２内に
供給した被加熱材ａを真空加熱室３内に搬入したり、又
は真空加熱室３内の被加熱材ａを真空焼き入れ室２内に
搬出することができる。
から開閉部（図示せず）を介して真空焼き入れ室２内に
供給した被加熱材ａを真空加熱室３内に搬入したり、又
は真空加熱室３内の被加熱材ａを真空焼き入れ室２内に
搬出することができる。
上記した蓋材６の開閉、被加熱材ａの搬出若しくは搬入
は、通常使用されている種々のシステムにより自動化し
て行うようにしてもよいし１手動操作を併用して行うよ
うにしてもよい。
は、通常使用されている種々のシステムにより自動化し
て行うようにしてもよいし１手動操作を併用して行うよ
うにしてもよい。
また、被加熱材ａとしては、・チタン合金、アルミ−リ
チウム合金等、その他の真空加熱処理に適した全ての金
属（但し、鉄、銅等の酸化されやすい金属の使用を除＜
）、または非金属を使用することができ、単体部材でも
よいし、又はバスケットに収納した多数の小部品でもよ
い。
チウム合金等、その他の真空加熱処理に適した全ての金
属（但し、鉄、銅等の酸化されやすい金属の使用を除＜
）、または非金属を使用することができ、単体部材でも
よいし、又はバスケットに収納した多数の小部品でもよ
い。
前記した冷却用水槽４は、真空焼き入れ室２の下方に位
置するもので、冷却用水槽４内には脱気された水が供給
されている。
置するもので、冷却用水槽４内には脱気された水が供給
されている。
一方、上記した真空焼き入れ室２には吸気管７の一端を
接続し、該吸気管７の他端を脱水槽８の上面に接続する
。また、上記脱水槽８と真空ポンプ９とは連結管１０で
連絡し、脱水槽８の下面から延在する戻り管１１を前記
した冷却用水槽４に接続する。
接続し、該吸気管７の他端を脱水槽８の上面に接続する
。また、上記脱水槽８と真空ポンプ９とは連結管１０で
連絡し、脱水槽８の下面から延在する戻り管１１を前記
した冷却用水槽４に接続する。
なお、真空焼き入れ室２および真空加熱室３には不活性
ガス供給管１２が接続されている。
ガス供給管１２が接続されている。
上記した吸気管７、連結管ｌＯ及び戻り管１１には電磁
弁７° ｌＯｏ １１“を途中に設け、多管を流れる水
蒸気、空気、水の状態、を適宜に調整することができる
。また、連結管１０の途中に塩化カルシウム、硫酸ナト
リウム、硫酸マグネシクム等の脱水剤を夫々必要に応じ
てガラス管等に充填して設けると、真空ポンプ９で吸気
する空気が脱気されるので、真空ポンプ９を保護するこ
とができる。
弁７° ｌＯｏ １１“を途中に設け、多管を流れる水
蒸気、空気、水の状態、を適宜に調整することができる
。また、連結管１０の途中に塩化カルシウム、硫酸ナト
リウム、硫酸マグネシクム等の脱水剤を夫々必要に応じ
てガラス管等に充填して設けると、真空ポンプ９で吸気
する空気が脱気されるので、真空ポンプ９を保護するこ
とができる。
上記した真空加熱装置１により被加熱材ａを加熱して焼
き入れする工程は次のようである。
き入れする工程は次のようである。
第１工程。
真空焼き入れ室２および真空加熱室３が常圧で、冷却用
水槽４内に冷却水が供給されている状態において、真空
焼き入れ室２の開閉部を通じて被加熱材ａを外部から真
空焼き入れ室２に供給して開放している開口部５から真
空加熱室３内に搬入し、真空焼き入れ室２の開閉部を気
密に閉止して真空焼き入れ室２および真空加熱室３を閉
塞する。
水槽４内に冷却水が供給されている状態において、真空
焼き入れ室２の開閉部を通じて被加熱材ａを外部から真
空焼き入れ室２に供給して開放している開口部５から真
空加熱室３内に搬入し、真空焼き入れ室２の開閉部を気
密に閉止して真空焼き入れ室２および真空加熱室３を閉
塞する。
第２工程。
蓋材６により開口部５を開放したまま電磁弁？’、１０
’ を開放して真空ポンプ９を駆動し、真空焼き入れ室
２と真空加熱室３との内気を吸気管７、脱水槽８から連
結管ｌＯを介して吸入し、真空焼き入れ室２と真空加熱
室３とを真空状態にする。この場合、真空焼き入れ室２
と真空加熱室３の内部の空気は脱水槽８内に供給され、
含有する水分が凝集されて脱水槽８の底部に溜る。
’ を開放して真空ポンプ９を駆動し、真空焼き入れ室
２と真空加熱室３との内気を吸気管７、脱水槽８から連
結管ｌＯを介して吸入し、真空焼き入れ室２と真空加熱
室３とを真空状態にする。この場合、真空焼き入れ室２
と真空加熱室３の内部の空気は脱水槽８内に供給され、
含有する水分が凝集されて脱水槽８の底部に溜る。
第３工程。
真空焼き入れ室２および真空加熱室３が所望の真空状態
にまで減圧したら、開口部５を蓋材６により気密に閉止
し、真空加熱室３の内部を加熱して被加熱材ａを熱処理
する。
にまで減圧したら、開口部５を蓋材６により気密に閉止
し、真空加熱室３の内部を加熱して被加熱材ａを熱処理
する。
第４工程。
被加熱材ａが十分に加熱処理されたら、各不活性ガス供
給管１２から真空焼き入れ室２、真空加熱室３の内部に
不活性ガスを供給し、不活性雰囲気にして常圧にする。
給管１２から真空焼き入れ室２、真空加熱室３の内部に
不活性ガスを供給し、不活性雰囲気にして常圧にする。
第５工程。
蓋材６により開口部５を開放し、被加熱材ａを真空焼き
入れ室２に移動して冷却用水槽４の内部に供給し、冷却
用水槽４内の冷却水により被加熱材ａを焼き入れをする
。
入れ室２に移動して冷却用水槽４の内部に供給し、冷却
用水槽４内の冷却水により被加熱材ａを焼き入れをする
。
第６エ程。
被加熱材ａが十分に焼き入れされたら、真空焼き入れ室
２の開閉部を開放して冷却用水槽４内の被加熱材ａを外
部に排出し、真空焼き入れ室２および真空加熱室３を第
１工程の開始可能状態にする。
２の開閉部を開放して冷却用水槽４内の被加熱材ａを外
部に排出し、真空焼き入れ室２および真空加熱室３を第
１工程の開始可能状態にする。
上記した第１工程から第６エ程を順に繰り返すことによ
り被加熱材ａを順次焼き入れするのであるが、脱水槽８
内に凝集された水が溜れば適宜に電磁弁１１°を開放し
て冷却用水槽４内に戻すのである。
り被加熱材ａを順次焼き入れするのであるが、脱水槽８
内に凝集された水が溜れば適宜に電磁弁１１°を開放し
て冷却用水槽４内に戻すのである。
したがって、冷却用水槽４内には常に脱気された冷却用
の水がある。また、真空ポンプ９には、脱水槽８により
水分が供給することがない。
の水がある。また、真空ポンプ９には、脱水槽８により
水分が供給することがない。
以上本発明を図面の実施例に基づいて説明したが、本発
明は上記した実施例に限定されるものではなく、特許請
求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのようにでも
実施することができる。
明は上記した実施例に限定されるものではなく、特許請
求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのようにでも
実施することができる。
（発明の効果）
上記したように１本発明の真空加熱装置および装置は、
水を冷却媒体にしているため熱容量が高（なり、従来の
ガスを冷却媒体として用いた場合に比して冷却能力が極
めて高い。
水を冷却媒体にしているため熱容量が高（なり、従来の
ガスを冷却媒体として用いた場合に比して冷却能力が極
めて高い。
また、水は従来の冷却媒体であるガスや粉体や油に比し
て極めて安価であり、取扱いもまた容易である。
て極めて安価であり、取扱いもまた容易である。
さらに、脱水槽から冷却用水槽の水が還流するので、作
業者は、被加熱材を移動する操作と真空ポンプや電磁弁
等の操作を適宜に留意するだけで容易に、安全に操作で
きる。
業者は、被加熱材を移動する操作と真空ポンプや電磁弁
等の操作を適宜に留意するだけで容易に、安全に操作で
きる。
従って、本発明の真空加熱方法及び真空加熱装置は、上
記した冷却能力の高さ、コスト面の利点、取扱いの容易
さにより、被加熱材として極めて大きい部材を適用する
ことが可能となり、加えて装置のメンテナンスも安定に
保つことを可能とする方法であり、実用的価値の高いも
のとなる。
記した冷却能力の高さ、コスト面の利点、取扱いの容易
さにより、被加熱材として極めて大きい部材を適用する
ことが可能となり、加えて装置のメンテナンスも安定に
保つことを可能とする方法であり、実用的価値の高いも
のとなる。
第１図は本発明の真空加熱装置の概要図である。
ｌは真空加熱装置、２は真空焼き入れ室、３は真空加熱
室、４は冷却用水槽、５は開口部、６は蓋材、８は脱水
槽、９は真空ポンプ。
室、４は冷却用水槽、５は開口部、６は蓋材、８は脱水
槽、９は真空ポンプ。
Claims (2)
- （１）密閉された真空加熱室、真空焼き入れ室及び被加
熱材の冷却用水槽を有し、真空加熱室で真空加熱した被
加熱材を真空焼き入れ室から冷却用水槽に供給して焼き
入れするとともに、真空時に吸入した真空加熱室、真空
焼き入れ室の内気から水分を凝集し、この凝集された水
を冷却用水槽に還流させるようにしたことを特徴とする
真空加熱方法。 - （２）密閉された真空加熱室、真空焼き入れ室及び被加
熱材の冷却用水槽を有し、上記した真空焼き入れ室には
脱水槽を介して真空ポンプに接続し、上記した脱水槽に
は真空加熱室、真空焼き入れ室内から吸入した内気から
凝集した水を冷却用水槽に還流させる戻り管を水槽に接
続して成る真空加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11757289A JP2811581B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 真空加熱方法及び真空加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11757289A JP2811581B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 真空加熱方法及び真空加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02298215A true JPH02298215A (ja) | 1990-12-10 |
| JP2811581B2 JP2811581B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=14715143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11757289A Expired - Fee Related JP2811581B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 真空加熱方法及び真空加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2811581B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104178603A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-12-03 | 刘小阳 | 一种真空炉淬火工艺 |
| CN104178609A (zh) * | 2013-05-22 | 2014-12-03 | 刘小阳 | 一种真空炉 |
| CN111020138A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-17 | 广州市中潭空气净化科技有限公司 | 一种具有净化功能的高效型淬火设备 |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP11757289A patent/JP2811581B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104178609A (zh) * | 2013-05-22 | 2014-12-03 | 刘小阳 | 一种真空炉 |
| CN104178609B (zh) * | 2013-05-22 | 2016-06-08 | 东莞市禾盛金属科技有限公司 | 一种真空炉 |
| CN104178603A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-12-03 | 刘小阳 | 一种真空炉淬火工艺 |
| CN104178603B (zh) * | 2013-05-27 | 2016-04-20 | 东莞市禾盛金属科技有限公司 | 一种真空炉淬火工艺 |
| CN111020138A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-17 | 广州市中潭空气净化科技有限公司 | 一种具有净化功能的高效型淬火设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2811581B2 (ja) | 1998-10-15 |
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