JPH0532186Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 真空処理装置内の排気を行う真空引き装置に関
しこの明細書では、通常の排気に先立つ予備排
気、いわゆる粗引きを急速に行うことについての
開発研究の成果を述べる。

熱処理における真空炉および物理的蒸着処理に
おける高真空処理槽など、高真空雰囲気を必要と
する真空処理装置には、該装置内の排気を行う真
空引き装置が付帯されている。

（従来の技術） ところで最近、真空蒸着や、スパツタリング、
イオンプレーテイングなどの物理的蒸着（PVD）
が各分野で採用されている。

例えば鉄鋼分野においては、金属ストリツプの
表面特性、すなわち耐食性、耐摩耗性および表面
硬さなどの改良を目的として、TiNやTiCなどの
セラミツクスの被覆処理が行われている。

なかでも一方向性けい素鋼板の表面に、張力付
与被膜としてTiNやＡＮなどを被成すること
が鉄損の改善に有効であることがわかり、該鋼板
への蒸着処理を工業的規模で実施するべく検討し
ているが、解決すべき種々の問題が残されてい
て、その１つに高真空処理槽内の真空引きに要す
る時間がある。

すなわち高真空処理槽内の蒸発源の補充、該処
理槽の清掃やメンテナンスなどのために、槽内を
大気開放する必要があり、その後槽内の大気を排
気して高真空雰囲気にしなければならない。

高真空処理槽内の排気は、まず油回転ポンプ
（ロータリーポンプ）により粗引きを行い、つい
で油拡散ポンプにより高真空引きを行う（金属表
面技術協会編「金属表面技術便覧」日刊工業新聞
社（昭54−12−20）P.542参照）。

したがつて真空引きには長時間を要し、連続処
理を行う場合の大きな障害となつている。

（考案が解決しようとする問題点） そこで粗引きを短時間で行うことのできる真空
引き装置を提供することが、この考案の目的であ
る。

（問題点を解決するための手段） この考案は、高真空雰囲気を必要とする真空処
理装置に付帯して該真空処理装置の排気を行う真
空引き装置であつて、上記真空処理装置にバルブ
を介して連通し、該バルブを閉じているときには
高真空に保たれ、バルブを開いたときに真空処理
装置の予備排気を行う真空タンクと、上記真空処
理装置にバルブを介して連通し、上記予備排気後
の排気を行う真空ポンプとからなる急速真空引き
装置である。

さてこの考案に従う急速真空引き装置を第１図
に示す。なお第１図には、真空処理装置の一例と
して、イオンプレーテイング装置を併示した。

図中１はイオンプレーテイング装置の高真空処
理槽、２はけい素鋼板などの基板、３は基板２を
マイナスに印加する基板用電源、４は蒸発源、５
は蒸発源４の加熱用電源、６はシヤツター、そし
て７はアースである。

また８はロータリーポンプ、９は油拡散ポン
プ、１０は真空タンク、１１は真空タンク１０に
連通されたロータリーポンプ、１２〜１６はバル
ブ、１７は大気開放用のバルブ、そして１８，１
９は圧力計である。

（作用） 次に高真空処理槽１を真空引きする際の手順に
ついて説明する。

まず高真空処理槽１内にて蒸着処理を行つてい
る場合は、バルブ１５および１７を閉じ、バルブ
１２〜１４は開け、ロータリーポンプ８および油
拡散ポンプ９により高真空処理槽１内の真空度が
一定となるよう逐次真空引きを行う。

一方上記の蒸着処理の間に、バルブ１６を開い
てロータリーポンプ１１により真空タンク１０内
の排気を行い、圧力計１９の検出値が所定の真空
度を示した際にバルブ１６が閉じ、かつロータリ
ーポンプ１１の作動が停止するよう自動制御がな
される。

そして例えば蒸発源４の補充時期となり高真空
処理槽１を大気開放する場合は、バルブ１２〜１
４を閉じ、バルブ１７を開ける。

その後所定の作業を行つてから、バルブ１７を
閉じる。ついでバル１４，１５を開く。このとき
真空タンク１０はすでに高真空に保持されている
ため、高真空処理槽１内の圧力は急速に低下し、
該槽１と真空タンク１０の内部圧力は等しくな
る。そして圧力計１８，１９との検出値が等しい
ことを確認した後、バルブ１５を閉じ、バルブ１
３を開いてロータリーポンプ８を起動し、ついで
バルブ１２を開いて油拡散ポンプ９のヒーター９
ａを作動させて高真空処理槽１内の排気を所定の
真空度まで行う。

なお以上の操作は制御装置によつて自動運転に
することもでき、また手動操作としてもよい。

（考案の効果） この考案によれば、真空引きに際して粗引きを
急速で行うことができるため、真空引きに要する
時間を短縮することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この考案の好適例を示す急速真空引
き装置の説明図である。 １……高真空処理槽、２……基板、３……基板
用電源、４……蒸発源、５……加熱用電源、６…
…シヤツター、７……アース、８……ロータリー
ポンプ、９……油拡散ポンプ、１０……真空タン
ク、１１……ロータリーポンプ、１２〜１７……
バルブ、１８，１９……圧力計。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 高真空雰囲気を必要とする真空処理装置にバル
   ブを介して連通し、該バルブを閉じた状態での排
   気によつて内部を高真空とした後、バルブを開い
   て真空処理装置の予備排気に供する真空タンク
   と、 上記真空処理装置にバルブを介して連通し、上
   記予備排気後の排気を司る真空ポンプとからなる
   急速真空引き装置。