JP3076020B2 - 処理方法および処理装置 - Google Patents
処理方法および処理装置Info
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
した水、油、亜鉛メッキ等の液体並びに固体を除去する
のに適した清浄方法に関するものである。
などを取り除くための方法としては、酸洗やショット加
工、又は、空気中にての酸化除去などが知られている。
るが、その洗滌液が公害を惹き起こす虞れがあるだけで
なく、ランニングコスト、作業員の養成確保の点で問題
がある。また、ショット加工法も、ランニングコストが
高く、亜鉛が付着したショット粒子の処理が困難などの
問題を抱えている。
身に酸化物などができ、また、脱亜鉛性能が悪い。従っ
て、鉄板などを再利用するために溶解した場合、酸化
鉄、酸化亜鉛などのノロ(不溶解物質)や亜鉛が溶解炉
炉壁に侵入し、その結果炉自身の寿命が短かくなるとい
った欠点がある。
の清浄方法には多くの問題があった。そこで本発明は、
そのような問題のない固体表面の清浄方法を提供するこ
とを課題とする。
被処理品を装入し、前記密閉空間内を減圧した後、非酸
化性ガスを供給すると共に一次加熱し、次いで減圧した
後更に二次加熱して前記被処理品に付着した液体並びに
固体の付着物を蒸発させ、その蒸発物を凝縮器に収容し
て凝縮させた後再び非酸化性ガスを供給して前記被処理
品を冷却し、この冷却処理により温められた前記非酸化
性ガスを予熱炉に導入して未処理のて未処理の被処理品
を予熱することを特徴とする。
棄物は日々増え続けており、その効果的な処理技術の確
立が急務である。
いるが、分離の困難さなどから廃棄物から分離されず、
ほとんどの廃棄物はそのまま埋め立や焼却により処分さ
れている。廃棄物中の有用物質は、できるかぎり分離・
回収して再利用することが求められている。
おり、このような有害物質は環境破壊の原因になるだけ
でなく、廃棄物の再利用を困難にしている大きな原因の
一つである。廃棄物中の有害物質を効果的に取り除くこ
とができれば、廃棄物を資源の宝庫として積極的に再利
用することが可能になるとともに、環境や生物への影響
も最小限にとどめることができる。
源の枯渇、エネルギー源の不足といった現代社会を取り
巻く深刻な問題を解決するために、廃棄物を効果的に処
理する技術は是非とも確立されなければならない。
岐にわったっており、複数の異なった素材が一体化した
複合的な廃棄物も多く、さらに有害物質が含まれている
廃棄物もある。このような複合廃棄物を資源として再利
用するためには、複数の異なった素材が一体化した廃棄
物から、有用な物質、有害な物質を選択的に分離・回収
しなければならないが、このような処理技術は未だ確立
されていない。
なされたものである。すなわち本発明は金属、有機物、
水等を含む物体を効果的、経済的に処理できる処理装
置、及び処理方法を提供することを目的とする。
下に説明するような構成を採用している。
1の成分と、常温で固体である第2の成分と、常温で固
体であり前記第2の成分よりも沸点の高い第3の成分と
を含む処理対象物体を処理する処理方法において、気密
容器内に処理対象物体を導入し、前記処理対象物体を非
酸化雰囲気で加熱し、前記気密容器内を減圧するととも
に、前記第1の成分、または前記第2の成分の沸点以上
に加熱して、前記第1の成分または前記第2の成分を蒸
発させる、ことを特徴とする。
に説明する。被処理品に付着している金属又は非金属を
除去する場合には、この被処理品を密閉容器内に装入
し、減圧手段によって密閉空間内を減圧した後、前記密
閉空間内を加熱手段で加熱すると共に非酸化性ガスを供
給し、この非酸化性ガスによる熱伝達の作用で一次加熱
した後減圧し、次いで被処理品に付着した金属、又は非
金属等の沸点以上の温度まで二次加熱し、その金属等を
蒸発させるようにする。
よって蒸気を回収し、回収経路の途中に設けた凝縮手段
で、蒸発物を収容し、且つ、凝縮させる。そして、密閉
容器内に再び非酸化性ガスを供給して被処理物を冷却
し、その結果温められたガスは予熱炉に導入し、未処理
の被処理物の予熱に利用する。
ゴン等の不活性ガスを利用し、密閉容器内を加圧、昇温
又は冷却する際、製品が酸化されないようにする。な
お、被処理品の表面に付着している金属、非金属等は単
一成分ではなく、数種の物からなる合成物の場合がある
と考えるのが妥当であるので、これらの処理物の所定温
度における蒸気圧はある程度の幅をもって考えるべきで
あり、その上で密閉空間内の減圧(真空)の程度、加熱
温度、不活性ガスの加圧の程度の選択を行なうことが好
ましい。
装置の例を図面に依拠して説明する。図1に示す清浄装
置は、大まかに区分して、被処理品1を装入する密閉空
間2を有する密閉容器3と、前記密閉容器3内の被処理
品1の付着物の温度を上昇させる加熱手段としての発熱
体4と、前記密閉容器3内と連通し、且つ、前記被処理
品1より除去された蒸発物類を凝縮させる凝縮手段とし
ての凝縮器5と、前記凝縮器5を介して前記密閉容器3
内を減圧する減圧手段としての減圧ポンプ6と、前記密
閉容器内3を非酸化牲ガスで加圧する加圧手段としての
ガスボンベ7と、更に、加熱された被処理品1を冷却す
るチッ素ガスを導入し、当該チッ素ガスを処理品の予熱
に利用する予熱炉31とから成る。
空形状のレトルト11の外側に断熱材12を設けた容器
本体部分の一端側に、断熱材13を裏当てした後方断熱
扉14を取付けると共に、容器本体部分の他端側に断熱
材15を裏当てした前方断熱扉16を取付け、この前方
断熱扉16の開口部16aに開閉可能な前扉17を配置
して、内部に密閉空間2を形成して成る。この密閉容器
3の上部には、撹拌器21が設置されると共に、密閉空
間2内を加熱昇温するための発熱体4が備えられてい
る。また、凝縮器5は、配管25を介して密閉空間2と
連通させると共に、配管26を介して減圧ポンプ6と連
通させる。減圧ポンプ6には排気管27が設けられる。
前記チッ素ガスボンベ7は、途中に調圧バルブ28及び
圧力計29を備えた配管30を介し、密閉容器3に接続
される。
法につき説明すると、前扉17を開放して密閉容器3内
に被処理品1を装入した後、前扉17を降下させて開口
部16aを閉じ、減圧(真空)ポンプ6を作動させて密
閉容器3の密閉空間2内を10-2〜10-4Torr 程度に
まで減圧し、次いで配管30よりチッ素ガスを供給加圧
してから撹拌器21を作動させ、雰囲気を撹拌しながら
発熱体4によって一次加熱し、チッ素ガスによる熱伝達
の作用により被処理品1の温度を、ある程度の温度(余
り蒸発しない温度)まで加熱する。
体4の作用で二次加熱し、被処理品1の付着物を蒸発さ
せる。その蒸発物は、凝縮器5に収容して凝縮させる。
その後チッ素ガスで加圧して冷却し、その幾分温められ
たチッ素ガスを予熱炉32に導入し、被処理品1の予熱
に使用する。図2は、密閉空間2内の圧力と被処理品1
の温度の変化を、経時的に表わしたものである。冷却さ
れた被処理品1は、前扉17を開けて取り出す。
品の表面に付着した金属や非金属類を従来のような特別
な清浄剤や燃焼炎等を使用することなく、極めて良好に
除去することができ、また、密閉処理空間内で清浄処理
するために、公害や作業環境の汚染等の心配が全くな
く、上記金属、非金属等に限らず、物品に付着した液体
並びに固体の除去を著しく良好に行なうことが可能であ
るという非常に優れた効果を有する。更に、ランニング
コストが安く、自動化も容易で、しかも、付着物は真空
蒸発により回収するために純粋に近いものが得られ、回
収物自身の再利用も可能となる特徴がある。
系統的説明図である。
に伴う変化を示すグラフである。
Claims (4)
- 【請求項1】 常温で液体である第1の成分と、常温で
固体である第2の成分と、常温で固体であり前記第2の
成分よりも沸点の高い第3の成分とを含む処理対象物体
を処理する処理方法において、 気密容器内に処理対象物体を導入し、 前記処理対象物体を非酸化雰囲気で加熱し、 前記気密容器内を減圧するとともに、前記第2の成分の
沸点以上に加熱して前記第2の成分を蒸発させる、 ことを特徴とする処理方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の処理方法において、 前記気密容器内を減圧するとともに、前記第2の成分の
沸点以上に加熱して前記第2の成分を蒸発させる工程に
先立ち、 前記気密容器内を常温で減圧することを特徴とする処理
方法。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の処理方
法において、 前記気密容器内を減圧するとともに、前記第2の成分の
沸点以上に加熱して前記第2の成分を蒸発させる工程の
後に前記処理対象物体を非酸化雰囲気で冷却することを
特徴とする処理方法。 - 【請求項4】 第1の沸点を有する常温で固体である第
1の成分と、第2の沸点を有する常温で固体である第2
の成分とを有する処理対象物体を処理する処理方法にお
いて、 気密容器内に処理対象物体を導入し、 前記処理対象物体中の前記第1の成分が選択的に蒸発す
るように、前記気密容器内の温度と圧力とを調節して少
なくとも前記気密容器内の温度を前記第1の沸点以上と
し、 前記第1の成分の少なくとも一部が蒸発した後、前記処
理対象物体を非酸化雰囲気で冷却することを特徴とする
処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10375111A JP3076020B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 処理方法および処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10375111A JP3076020B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 処理方法および処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2414963A Division JPH0747152B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 固体表面の清浄方法及び清浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11267401A JPH11267401A (ja) | 1999-10-05 |
JP3076020B2 true JP3076020B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=18504987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10375111A Expired - Fee Related JP3076020B2 (ja) | 1998-12-11 | 1998-12-11 | 処理方法および処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3076020B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017175096A1 (ja) * | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 精製方法、及び精製装置 |
-
1998
- 1998-12-11 JP JP10375111A patent/JP3076020B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11267401A (ja) | 1999-10-05 |
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