DE102018115410A1 - Vakuumanordnung und Verfahren - Google Patents

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Torsten Dsaak
Thomas Meyer
Bernd Teichert
Ralf Biedermann
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Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
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Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumanordnung (100a, 400) Folgendes aufweisen: eine erste Dehydratationskammer (104) und eine zweite Dehydratationskammer (106), die voneinander gassepariert sind; eine Substrat-Transferkammer (102) zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport zu der zweiten Dehydratationskammer (106) hin; eine erste Hochvakuumpumpe (240) vom Gastransfertyp zum Abpumpen der ersten Dehydratationskammer (104); und eine zweite Hochvakuumpumpe (242) vom Gasbindetyp zum Abpumpen der zweiten Dehydratationskammer (106); wobei die erste Dehydratationskammer (104) bezüglich des Substrattransports zwischen der zweiten Dehydratationskammer (106) und der Substrat-Transferkammer (102) angeordnet ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vakuumanordnung und ein Verfahren.
  • Im Allgemeinen kann ein Substrat im Vakuum behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats im Vakuum können verschiedene Beschichtungsverfahren durchgeführt werden. Beispielsweise kann eine Vakuumbeschichtungsanlage genutzt werden, um eine Schicht oder mehrere Schichten mittels einer chemischen und/oder physikalischen Gasphasenabscheidung auf einem Substrat oder auf mehreren Substraten abzuscheiden.
  • Um ein großflächiges Abscheiden auf einem entsprechend großflächigen, z.B. plattenförmigen, Substrat effizient zu realisieren, kann eine sogenannte Prozessieranlage genutzt werden, bei der das Substrat beispielsweise mittels Rollen durch die gesamte Prozessieranlage und deren Vakuumkammern transportiert wird. Verschiedene Vakuumkammern einer Vakuumanlage können mittels so genannter Kammerwände oder Schottwände voneinander getrennt sein, beispielsweise bei horizontalen Durchlauf-Beschichtungsanlagen (In-Line-Anlagen) mittels vertikaler Kammerwände bzw. vertikaler Schottwände. Ferner kann die Vakuumanlage eingangsseitig und/oder ausgangsseitig jeweils eine Schleusenkammer derart aufweisen, dass ein Substrat in die Vakuumanlage hinein und/oder aus der Vakuumanlage herausgebracht werden kann.
  • Das Beschichten des Substrats kann es erforderlich machen, die Oberfläche des Substrats (Substratoberfläche) vorzubehandeln, zum Beispiel Wasseranlagerungen von dieser zu entfernen (auch als Dehydratisieren, Desorption oder Trocknen bezeichnet). Beispielsweise können Wasserrückstände auf der Oberfläche des Substrats die Qualität der aufgebrachten Beschichtung beeinträchtigen. Dazu wird das Substrat üblicherweise in einer Dehydratationskammer erwärmt, so dass Wasser von dessen Oberfläche abdampft, d.h. das Wasser wird desorbiert. Der so entstehende Wasserdampf (d.h. das desorbierte Wasser) wird dann vom Substrat getrennt.
  • Üblicherweise wird in einer Dehydratationskammer eine Meißner-Falle zum Binden des desorbierten Wassers, welches bei geheizten Prozessen die Substratoberfläche verlässt, verwendet. Eine Meißner-Falle basiert auf dem Prinzip, das desorbierte Wasser an einer Kühloberfläche anzulagern und dort in einen festen Zustand zu überführen. Dabei wird die gekühlte Oberfläche nach und nach mit Wassereis beschichtet. Zum einen isoliert das Wassereis die gekühlte Oberfläche thermisch, so dass die Leistung der Meißner-Falle im Betrieb abnimmt. Zum anderen entsteht so ein massiver Eispanzer, welcher die Meißner-Falle zunehmend zusetzt und beschädigen kann. Daher ist eine Meißner-Falle in ihrer Standzeit begrenzt, da es erforderlich ist, diese regelmäßig zu warten, was es erfordert die Vakuumkammer zu öffnen, um das Wassereis zu entfernen. Dies unterbricht allerdings den Betrieb der Prozessieranlage und verursacht damit zusätzliche Kosten.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Vakuumanordnung und ein Verfahren bereitgestellt, welche den Wassermassestrom in Richtung der Meissner-Falle reduzieren, deren Standzeit verlängern, deren Standzeit steuern, die Beständigkeit gegen thermische Einflüsse (z.B. Heizprozesse in unmittelbarer Umgebung) verbessern und/oder deren Herstellbarkeit vereinfachen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde erkannt, dass die Meißner-Falle herkömmlicherweise in Kombination zu einer oder mehr als einer Turbomolekularpumpe betrieben wird, d.h. mit dieser zusammen das abzupumpende Volumen (auch als Rezipient bezeichnet) gleichzeitig abpumpt. In dieser Kombination soll die Turbomolekularpumpe das zu erreichende Hochvakuum bereitstellen, um möglichst wenig Gas in den nachfolgenden Beschichtungsprozess einzubringen. Demgegenüber soll die Meißner-Falle das in dem Hochvakuum verbleibende Wasser binden.
  • Diese Kombination stellt verlässlich einen niedrigen Enddruck bei geringem Wasseranteil bereit. In dem Zusammenhang wurde erkannt, dass die Turbomolekularpumpe im Hochvakuum allerdings wenig oder kein Wasser mehr abpumpt, so dass die Meißner-Falle einen Großteil der Last des Wasserentfernens trägt. Anschaulich sinkt das Wasserpumpvermögen der Turbomolekularpumpe mit kleinerem Druck erheblich ab.
  • Demgegenüber wird gemäß verschiedenen Ausführungsformen ausgenutzt, dass für eine Turbomolekularpumpe kaum oder keinen Wartungsbedarf entsteht, wenn diese mehr Wasser abpumpt. Damit die Turbomolekularpumpe eine größere Last des Wasserentfernens tragen kann, soll diese gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem höheren Druckbereich arbeiten, welcher von dem Arbeitspunkt der Meißner-Falle bei niedrigerem Druck gas- und drucktechnisch separiert wird (auch als gassepariert bezeichnet).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird das Dehydratisieren (auch als Desorbieren bezeichnet) in verschiedenen Druckstufen bereitgestellt, von denen eine erste Druckstufe von einer Turbomolekularpumpe versorgt wird und eine zweite Druckstufe von einer Meißner-Falle versorgt wird. Die Turbomolekularpumpe arbeitet bei erhöhtem Druck, so dass diese mehr Wasser abpumpt, während die daraus hervorgehende Gaszusammensetzung der Meißner-Falle zugeführt wird, welche nachfolgend das darin verbliebene Wasser bindet. Damit wird die Dehydratationslast der Meißner-Falle reduziert.
  • In dem Zusammenhang wurde ferner erkannt, dass die Meißner-Falle herkömmlicherweise derart ausgelegt wird, dass diese so viel desorbiertes Wasser wie möglich bindet. In dem Zusammenhang wurde anschaulich erkannt, dass bei der Auslegung der Meißner-Falle die eigentlichen Erfordernisse des nachfolgenden Beschichtungsprozesses nicht berücksichtigt werden. Beispielsweise vertragen einige Beschichtungsprozesse mehr Wasserrückstände auf der Substratoberfläche als andere, ohne starke Qualitätseinbußen hinnehmen zu müssen. Dies ermöglicht es, die Meissner-Falle derart einzustellen, dass diese gerade so viel Wasser bindet, wie der nachfolgende Beschichtungsprozess erfordert. Damit wird die Dehydratationslast der Meißner-Falle reduziert.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumanordnung Folgendes aufweisen: eine erste Dehydratationskammer (auch als erste Desorptionskammer bezeichnet) und eine zweite Dehydratationskammer (auch als zweite Desorptionskammer bezeichnet), die voneinander gassepariert sind, und von denen optional in jeder Dehydratationskammer eine Heizvorrichtung angeordnet ist; eine Substrat-Transferkammer zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport zu der ersten und/oder zweiten Dehydratationskammer hin; eine erste Hochvakuumpumpe vom Gastransfertyp zum Abpumpen der ersten Dehydratationskammer; und eine zweite Hochvakuumpumpe vom Gasbindetyp zum Abpumpen der zweiten Dehydratationskammer; wobei die erste Dehydratationskammer bezüglich des Substrattransports zwischen der zweiten Dehydratationskammer und der Substrat-Transferkammer angeordnet ist.
  • Es zeigen
    • 1A eine Vakuumanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 1B eine Vakuumanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Diagramm.
    • 2A eine erste Druckstufe gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 2B eine dritte Druckstufe gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 3 eine Gasbindepumpanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht;
    • 4 eine Vakuumanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; und
    • 5 und 6 jeweils ein Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm.
  • In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer, z.B. mechanischen, hydrostatischen, fluidleitenden, thermischen und/oder elektrischen, (z.B. direkten oder indirekten) Verbindung und/oder Wechselwirkung verstanden werden. Mehrere Elemente können beispielsweise entlang einer Wechselwirkungskette miteinander gekoppelt sein, entlang welcher die Wechselwirkung (z.B. ein Signal) übertragen werden kann. Beispielsweise können zwei miteinander gekoppelte Elemente eine Wechselwirkung miteinander austauschen, z.B. eine mechanische, hydrostatische, fluidleitende, thermische und/oder elektrische Wechselwirkung. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physikalischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen.
  • Im Zusammenhang mit Vakuumkomponenten (z.B. einer Pumpe, einer Kammer, einer Leitung, einem Ventil, usw.) kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer (z.B. fluidleitenden) Verbindung zu einem gemeinsamen Vakuumsystem verstanden werden. Die Komponenten des Vakuumsystems können eingerichtet sein, mittels der Kopplung untereinander ein Gas austauschen (d.h. fluidleitend miteinander wechselwirken), wobei die Kopplung von einem Äußeren des Vakuumsystems (z.B. vakuumdicht) gassepariert sein kann.
  • Mehrere miteinander gekoppelte Vakuumkammern können Teil eines gemeinsamen Vakuumsystems sein, in dem mittels einer oder mehrerer mit den Vakuumkammern gekoppelten Vakuumpumpen ein Vakuum erzeugt werden kann, wobei der Gasfluss zwischen miteinander gekoppelten Vakuumkammer(n) und/oder Vakuumpump(en) mittels optional dazwischen geschalteter Ventile eingestellt werden kann.
  • Vakuumpumpen werden im Allgemeinen zur Erzeugung eines Vakuums verwendet. Dabei werden die Vakuumpumpen nach dem von ihnen erzeugten Vakuum und nach ihrem Funktionsprinzip voneinander unterschieden. Vakuumpumpen werden je nach ihrem physikalischen Wirkprinzip in gastransferierende Vakuumpumpen (d.h. Vakuumpumpen vom Gastransfertyp) und in gasbindende Vakuumpumpen (d.h. Vakuumpumpen vom Gasbindetyp) eingeteilt.
  • Eine gastransferierende Vakuumpumpe (auch als Gastransfervakuumpumpe bezeichnet) transportiert Gasteilchen entweder in einem geschlossenen Arbeitsraum (auch als Verdrängervakuumpumpe bezeichnet) oder durch Impulsübertragung auf die Gasteilchen (z.B. durch Stöße). Typische Vertreter vom Gastransfertyp sind beispielsweise Membranpumpen, Hubkolbenvakuumpumpen, Drehschieberpumpen, Sperrschiebervakuumpumpen, Wälzkolbenpumpen, Schraubenvakuumpumpen, Molekularpumpen, Turbomolekularpumpen oder auch Flüssigkeitsstrahlpumpen.
  • Eine gasbindende Vakuumpumpe (auch als Gasbindevakuumpumpe bezeichnet) erzielt ihre Pumpwirkung, indem sie die Gasteilchen an eine Festkörperoberfläche bindet (z.B. sorbiert, auch als Sorption bezeichnet) und damit den Druck im Rezipienten vermindern. Zu den gasbindenden Vakuumpumpen (z.B. Sorptionspumpen) gehören unter anderem Getterpumpen, Sublimationspumpen, Kondensationspumpen (z.B. eine Kryopumpe) oder Adsorptionspumpen (eine Sorptionspumpe, bei der das Gas durch physikalische Adsorption an der inneren Oberfläche eines hochporösen Stoffes gebunden wird).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumpumpe eingerichtet sein, einen niedrigen Vakuumdruck zu erzielen, (beispielsweise einen Druck von weniger als 10-3 mbar). Die oder jede Vakuumpumpe kann optional Teil einer mehrstufigen Vakuumpumpenanordnung sein. Eine erste Pumpstufe (z.B. eine Drehschieberpumpe aufweisend) der Vakuumpumpenanordnung erzeugt ein Vorvakuum und wird häufig als Vorpumpstufe bezeichnet, wobei die nachfolgende Pumpstufe der Vakuumpumpenanordnung mit dem Rezipienten verbunden ist und beispielsweise ein Hochvakuum bereitstellt. Eine mehrstufige Vakuumpumpenanordnung kann beispielsweise eine oder mehr als eine Verdrängervakuumpumpe als Vorpumpe und eine oder mehr als eine Turbomolekular-Vakuumpumpe (auch als Turbomolekularpumpe bezeichnet) als Hochvakuumpumpe aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Im Allgemeinen (z.B. im Vorvakuum oder Hochvakuum) kann eine Vakuumpumpe vom Gastransfertyp (auch als Gastransfervakuumpumpe bezeichnet) eine größere Pumprate für Stickstoff (auch als Stickstoff-Pumprate bezeichnet) bereitstellen als eine Vakuumpumpe vom Gasbindetyp (auch als Gasbindevakuumpumpe bezeichnet), z.B. mehr als die zehnfache oder hundertfache Stickstoff-Pumprate. Alternativ oder zusätzlich (z.B. im Vorvakuum oder Hochvakuum) kann eine Gasbindevakuumpumpe eine größere Pumprate für Wasser (auch als Wasser-Pumprate bezeichnet) bereitstellen als eine Gastransfervakuumpumpe, z.B. mehr als die zehnfache oder hundertfache Wasser-Pumprate.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumpumpenanordnung (aufweisend zumindest eine Hochvakuumpumpe) eingerichtet sein, innerhalb einer Vakuumkammer ein Vakuum (d.h. ein Druck kleiner als 0,3 bar), z.B. einen Druck in einem Bereich von ungefähr 10-2 mbar bis ungefähr 10-3 mbar (mit anderen Worten Vorvakuum) oder weniger, z.B. einen Druck in einem Bereich von ungefähr 10-3 mbar bis ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) oder weniger, z.B. einen Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Ultrahochvakuum) bereitzustellen. Die Pumprate (d.h. abgepumptes Normvolumen pro Zeit) kann auf einen bestimmten Druck bezogen sein, z.B. auf ein Vorvakuum, Hochvakuum und/oder Ultrahochvakuum.
  • Eine Kondensationspumpe ist ein Pumpentyp, der sich die Volumenverringerung von Gasen bei der Kondensation zunutze macht. Die einfachste Ausführung ist die sog. Kühlfalle, bei der Gase durch Kühlung (mit z.B. flüssigem Stickstoff) kondensieren (ausfrieren). Allerdings hängt die Pumpleistung einer solchen Kühlfalle vom Dampfdruck des gepumpten Gases und damit von der Gasart ab. Bei Kühlung mit flüssigem Helium werden alle, bei Kühlung mit Wasserstoff fast alle Bestandteile der Luft ausgefroren (auch als Kryopumpe bezeichnet). Die Kühlung kann allerdings auch auf andere Art und Weise bereitgestellt sein oder werden, z.B. mittels eines anderen Kältemittels (z.B. in einer Kompressionskältemaschine), wie beispielsweise Ammoniak, Kohlenstoffdioxid oder auch einem anderen Kohlenwasserstoff, oder mittels eines Peltier-Elements.
  • Komplexe Prozesse können eine wirkungsvolle Gasseparation (Gastrennung) erfordern als mittels einer Kammerwand mit einer Substrat-Transferöffnung erreicht werden kann. Beispielsweise kann eine Beschichtung von Substraten mit Lagen unterschiedlicher Zusammensetzung (z.B. unterschiedlicher Materialien) verschiedene Prozessbedingungen (z.B. metallisch gegenüber reaktiv/oxydisch oder unterschiedliche Reaktivgaszusammensetzungen wie Ar/N2 gegenüber Ar/O2) und damit verbunden eine wirkungsvolle gastechnische Trennung der Prozessbedingungen voneinander erfordern, welche ein Vermischen der sich voneinander unterscheidenden Prozessbedingungen verringert (Gasseparation).
  • Die Gasseparation beschreibt anschaulich einen Unterschied im Gasdruck und/oder in der Gaszusammensetzung zwischen vakuumtechnisch miteinander verbundenen Bereichen (z.B. gasseparierten Bereichen). Die Bauelemente (z.B. die Teile einer Gasseparationsstruktur), welche zur Gasseparation beitragen, können derart eingerichtet sein, dass der Unterschied im Gasdruck oder in der Gaszusammensetzung zwischen vakuumtechnisch miteinander verbundenen Bereichen (z.B. gasseparierten Bereichen) aufrecht erhalten werden kann (z.B. stabil). Mit anderen Worten kann ein Gasaustausch zwischen vakuumtechnisch miteinander verbundenen und voneinander gasseparierten Bereichen verringert werden, z.B. je größer die Gasseparation zwischen den Bereichen ist.
  • Beispielsweise kann die Gasseparationsstruktur eine oder mehr als eine Blende aufweisen, die beispielsweise einen Spalt und/oder einen Tunnel bildet (auch als Gasseparationsspalt bzw. Gasseparationstunnel bezeichnet).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Spalt zum Gasseparieren eingerichtet sein (auch als Gasseparationsspalt bezeichnet). Der Gasseparationsspalt kann verstanden werden als ein Spalt, welcher einen Gasaustausch durch den Gasseparationsspalt hindurch erschwert. Ist der Spalt eingerichtet durch diesen ferner ein Substrat transportieren zu können, kann der Gasseparationsspalt auch als Transferspalt bezeichnet werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Gasseparationsspalt (z.B. ein Transferspalt) eine Spalthöhe (d.h. ein Abstand der gegenüberliegenden Körper oder Flächen zwischen denen der Gasseparationsspalt gebildet ist) von weniger als 10 cm (z.B. eine Spalthöhe von weniger als 9 cm, 8 cm, 7 cm, 6 cm, 5 cm, 4 cm, 3 cm, 2 cm oder 1 mm) aufweisen, z.B. von weniger als 10 mm (Millimeter) aufweisen. Alternativ oder zusätzlich kann der Gasseparationsspalt eine Spaltbreite (Ausdehnung quer zur Spalthöhe und/oder quer zur Transportrichtung) aufweisen von mehr als 1 m (Meter), z.B. mehr als 2 m. Alternativ oder zusätzlich kann der Gasseparationsspalt ein Verhältnis (auch als Ausdehnungsverhältnis bezeichnet) von Spalthöhe zu Spaltbreite aufweisen von weniger als 0,1 (z.B. weniger als 0,05 oder 0,02 oder 0,01). Eine Substrat-Transferöffnung kann hingegen ein Verhältnis zwischen Höhe zu Breite von größer als 0,1 aufweisen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Kammergehäuse zum Bereitstellen eines Vakuums oder zumindest eines Unterdrucks innerhalb des Kammergehäuses eingerichtet sein. Anschaulich kann das Kammergehäuse (z.B. dessen Kammerwände) derart stabil eingerichtet sein, dass dieses evakuiert (abgepumpt) werden kann, so dass von außen ein Druck (z.B. der herrschende Luftdruck oder ein Druck welcher mehrere Größenordnungen größer ist als der Druck im Inneren des Kammergehäuses) auf das Kammergehäuse (bzw. dessen Kammerwände) wirken kann, wenn dieses evakuiert ist, ohne dass das Kammergehäuse irreversibel verformt und/oder beschädigt wird. Mit anderen Worten kann das Kammergehäuse als Vakuumkammer eingerichtet sein.
  • Das Kammergehäuse kann Bestandteil (ein Grundkörper) einer Vakuumanordnung sein und eine oder mehr als eine Vakuumkammer aufweisen, z.B. eine oder mehr als eine Schleusenkammer, eine oder mehr als eine Pufferkammer, eine oder mehr als eine Transferkammer, eine oder mehr als eine Prozesskammer (z.B. eine Beschichtungskammer) und/oder eine oder mehr als eine Gasseparationskammer. Dabei kann die jeweilige Funktionsweise oder die Betriebsart der Vakuumkammer aufgrund des mit dem Kammergehäuse verwendeten Kammerdeckels in Verbindung mit den in dem Kammergehäuse angeordneten Einbauten (z.B. Gastrennwände, Ventile, Füllkörper, Transportsystem, usw.) definiert sein.
  • 1A veranschaulicht eine Vakuumanordnung 100a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht. Die Vakuumanordnung 100a kann mehrere Vakuumkammern aufweisen, von denen eine erste Vakuumkammer 102 als Substrat-Transferkammer 102 (auch als Transferkammer bezeichnet) eingerichtet ist, eine zweite Vakuumkammer 104 als eine erste Dehydratationskammer 104 eingerichtet ist, eine dritte Vakuumkammer 106 als eine zweite Dehydratationskammer 106 eingerichtet ist und zumindest eine (d.h. eine oder mehr als eine) vierte Vakuumkammer 108 als Beschichtungskammer 108 eingerichtet ist.
  • Von den mehreren Vakuumkammern 102, 104, 106, 108 kann jede Vakuumkammer Teil einer Druckstufe 302, 304, 306, 308 sein, wie später noch genauer beschrieben wird.
  • Von den mehrere Vakuumkammern 102, 104, 106, 108 kann jede Vakuumkammer mit einer Vakuumpumpenanordnung 202 gekoppelt sein, z.B. fluidleitend und/oder mit deren Pumpeingang, von denen jede Vakuumpumpenanordnung 202 eine oder mehr als eine Hochvakuumpumpe aufweisen kann. Jede Vakuumpumpenanordnung 202 kann beispielsweise eine oder mehr als eine Hochvakuumpumpe 240 vom Gastransfertyp (auch als Gastransferpumpenanordnung 240 bezeichnet) aufweisen, z.B. eine oder mehr als eine Turbomolekularpumpe.
  • Zumindest die mit der zweiten Dehydratationskammer 106 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 (auch als dritte Vakuumpumpenanordnung 202 bezeichnet) kann eine oder mehr als eine Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp (auch als Gasbindepumpenanordnung 242 bezeichnet) aufweisen, z.B. eine oder mehr als eine Kühlfalle (z.B. Meißner-Falle). Alternativ oder zusätzlich kann die dritte Vakuumpumpenanordnung 202 mehr Hochvakuumpumpen 242 vom Gasbindetyp aufweisen als die mit der ersten Dehydratationskammer 104, mit der ersten Vakuumkammer 102 und/oder mit der zumindest einen vierten Vakuumkammer 108 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202.
  • Beispielsweise kann zumindest die mit der ersten Dehydratationskammer 104 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 frei von einer Hochvakuumpumpe vom Gasbindetyp sein. Alternativ oder zusätzlich kann die mit der ersten Vakuumkammer 102 und/oder der zumindest einen vierten Vakuumkammer 108 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 frei von einer Hochvakuumpumpe vom Gasbindetyp sein.
  • Die Substrat-Transferkammer 102 kann eingerichtet sein zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport (auch als Transporttypüberführung bezeichnet) zu der zumindest einen Beschichtungskammer hin. Dies kann beispielsweise erreicht werden, indem in der Substrat-Transferkammer 102 zwei (z.B. getrennt voneinander angesteuerte und/oder angetriebene) Transportvorrichtungen aneinandergrenzen, zwischen denen zumindest ein Substrat 102s übergeben wird. Anschaulich kann die Substrat-Transferkammer 102 ein kontinuierlich transportiertes Substratband ausgeben. Im Allgemeinen kann ein oder mehr als ein Substrat 102s in eine Transportrichtung 101t und/oder durch einen Transportbereich 101b transportiert werden, entlang derer nach der Substrat-Transferkammer 102 die erste Dehydratationskammer 104 angeordnet ist, nach der ersten Dehydratationskammer 104 die zweite Dehydratationskammer 106 angeordnet ist und nach der zweiten Dehydratationskammer 106 die Beschichtungskammer 108 angeordnet ist.
  • Die mehreren Vakuumkammern können paarweise voneinander gassepariert sein zumindest mittels eines Substrat-Transferspalts 204 (auch vereinfacht als Transferspalt bezeichnet). Der Transferspalt 204 kann eine gasseparierende Verbindung zwischen zwei aneinandergrenzenden Vakuumkammern bereitstellen, durch welchen kontinuierlich mehrere Substrate 102s transportiert werden können. Der Transferspalt 204 kann eine geringere Gasleitfähigkeit und/oder Querschnittsfläche (quer zur Transportrichtung 101t) aufweisen als das Kammervolumen zwischen zwei Transferspalten 204 (z.B. der Transportbereich 101b). Die bereitgestellte Gasseparation kann den Gasaustausch durch den Transferspalt 204 hindurch hemmen. Die Gasleitfähigkeit kann als das Reziproke des Strömungswiderstandes verstanden werden.
  • Der oder jeder Transferspalt 204 (z.B. zwischen den mehreren Vakuumkammern 102, 104, 106, 108) kann optional vom immeroffen Typ sein, z.B. nicht verschließbar eingerichtet sein, z.B. keine Substrattransfer-Klappe und/oder Dichtfläche aufweisen. Alternativ oder zusätzlich kann die Transferkammer 102 eingangsseitig, d.h. der ersten Dehydratationskammer 104 gegenüberliegend, eine Substrat-Transferöffnung 214 und eine Substrattransfer-Klappe 206 aufweisen. Die Substrattransfer-Klappe 206 kann in einem Offen-Zustand eine fluidleitende Verbindung durch die Substrat-Transferöffnung 214 hindurch bereitstellen (z.B. freigeben) und in einem Geschlossen-Zustand die Substrat-Transferöffnung 214 abdecken (z.B. vakuumdicht). Das Bringen in den Offen-Zustand (Öffnen) und in den Geschlossen-Zustand (Schließen) kann im Takt des getakteten Substrattransports erfolgen.
  • Der getaktete Substrattransport kann einem Substrat 102s eine größere zeitliche Schwankung in dessen Transportgeschwindigkeit und/oder Abstand vom nachfolgenden Substrat 102s bereitstellen als der kontinuierliche Substrattransport. Der getaktete Substrattransport kann beispielsweise verstanden werden, als dass ein Substrat 102s abwechselnd (im Takt und/oder periodisch) bewegt und angehalten wird, d.h. dass seine Transportgeschwindigkeit mehrmals zwischen null und einem endlichen Wert wechselt, und/oder dass mehrere aufeinanderfolgend transportierte Substrate 102s sich in ihrer Transportgeschwindigkeiten unterscheiden. Der kontinuierliche Substrattransport kann beispielsweise verstanden werden, als dass ein Substrat 102s eine im Wesentlichen zeitlich invariante Transportgeschwindigkeit aufweist und/oder dass mehrere (z.B. mehr als 5 oder 10) aufeinanderfolgende Substrate 102s im Wesentlichen identische Transportgeschwindigkeiten aufweisen.
  • Im getakteten Substrattransport kann der Abstand mehrere aufeinanderfolgend transportierter Substrate 102s zeitlich schwanken, z.B. um mindestens die Ausdehnung der mehreren Substrate 102s in Transportrichtung (z.B. um mehr als 1 m). Alternativ oder zusätzlich kann im kontinuierlichen Substrattransport der Abstand mehrerer aufeinanderfolgend transportierter Substrate 102s zeitlich invariant sein, und z.B. kleiner sein als ungefähr 1 m, z.B. 10 cm.
  • In der ersten Dehydratationskammer 104 kann eine erste Heizvorrichtung 114 angeordnet sein. In der zweiten Dehydratationskammer 106 kann eine zweite Heizvorrichtung 116 angeordnet sein. Die erste Heizvorrichtung 114 und die zweite Heizvorrichtung 116 können elektrisch miteinander gekoppelt sein, z.B. elektrisch wahlweise in Reihe oder parallel zueinander und/oder derart, dass diese gemeinsam betrieben (z.B. angesteuert) werden können.
  • In der Beschichtungskammer 108 kann eine oder mehr als eine Beschichtungsvorrichtung 118 (auch als Beschichtungsmaterialquelle bezeichnet) angeordnet sein.
  • Die oder jede Beschichtungsmaterialquelle 118 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen zum Beschichten zumindest eines Substrats 102s (d.h. genau eines Substrats 102s oder mehrere Substrate 102s) eingerichtet sein, welches z.B. durch den Transportbereich 101b in der Beschichtungskammer 108 (auch als Beschichtungsbereich bezeichnet) hindurch transportiert wird. Beispielsweise kann die oder jede Beschichtungsmaterialquelle zum Bereitstellen eines gasförmigen Beschichtungsmaterials (Materialdampf) und/oder flüssigen Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, welches z.B. auf dem zumindest einen Substrat 102s zum Bilden einer Schicht abgeschieden werden kann. Eine Beschichtungsmaterialquelle kann zumindest eines von Folgendem aufweisen: eine Sputtervorrichtung, eine thermisch-Verdampfen-Vorrichtung (z.B. einen Laserstrahlverdampfer, einen Lichtbogenverdampfer, einen Elektronenstrahlverdampfer und/oder einen thermischen Verdampfer), eine Präkursorgasquelle, einen Flüssigphasenzerstäuber. Eine Sputtervorrichtung kann zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials mittels eines Plasmas eingerichtet sein. Eine thermisch-Verdampfen Vorrichtung kann zum Verdampfen des Beschichtungsmaterials mittels thermischer Energie eingerichtet sein. Je nach der Beschaffenheit des Beschichtungsmaterials kann alternativ oder zusätzlich zu dem thermischen Verdampfen, d.h. ein thermisches Überführen eines flüssigen Zustands (flüssige Phase) in einen gasförmigen Zustand (gasförmige Phase), auch ein Sublimieren, d.h. ein thermisches Überführen eines festen Zustands (feste Phase) in einen gasförmigen Zustand, auftreten. Mit anderen Worten kann die thermisch-Verdampfen-Vorrichtung das Beschichtungsmaterial auch sublimieren. Ein Flüssigphasenzerstäuber kann zum Aufbringen eines Beschichtungsmaterials aus der Flüssigphase eingerichtet sein, z.B. eines Farbstoffs.
  • Beispielsweise kann das Beschichtungsmaterial zumindest ein Material der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Metall; ein Übergangsmetall, ein Oxid (z.B. ein Metalloxid oder ein Übergangsmetalloxid); ein Dielektrikum; ein Polymer (z.B. ein Kohlenstoff-basiertes Polymer oder ein Silizium-basiertes Polymer); ein Oxinitrid; ein Nitrid; ein Karbid; eine Keramik; ein Halbmetall (z.B. Kohlenstoff); ein Perowskit; ein Glas oder glasartiges Material (z.B. ein sulfidisches Glas); einen Halbleiter; ein Halbleiteroxid; ein halborganisches Material, und/oder ein organisches Material.
  • Die an die Beschichtungskammer 108 angekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 kann eingerichtet sein, zumindest einer Beschichtungskammer 108 Gas zu entziehen, so dass innerhalb der Beschichtungskammer 108 eine Prozessatmosphäre bereitgestellt werden kann. Die Prozessatmosphäre kann ein Arbeitsgas und optional ein Reaktivgas aufweisen oder ein Gasgemisch aus mehreren Arbeitsgasen und mehreren optionalen Reaktivgasen.
  • Optional kann die Vakuumanordnung 100a eine Steuerungsvorrichtung aufweisen, welche mit einem oder mehreren Bestandteilen der Vakuumanordnung 100a gekoppelt sein kann zum Steuern und/oder Regeln des Arbeitspunktes in einer oder mehr als einer Vakuumkammer der Vakuumanordnung 100a, z.B. der Temperatur (auch als Prozesstemperatur bezeichnet) darin, dem Druck (auch als Kammerinnendruck oder Gesamtdruck bezeichnet) darin, einem oder mehr als einem Partialdruck darin und/oder chemische Zusammensetzung der Atmosphäre darin. Mit anderen Worten kann der Arbeitspunkt gestellt oder geregelt werden, z.B. während des Beschichtens, des Dehydratisierens, des Heizens und/oder des Abpumpens.
  • Optional kann die Vakuumanordnung 100a eingangsseitig und/oder ausgangsseitig jeweils eine zusätzliche Schleusenkammer (nicht dargestellt) aufweisen, wie später genauer beschrieben wird.
  • 1B veranschaulicht eine Vakuumanordnung, z.B. die Vakuumanordnung 100a, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Diagramm 100b, in welchem der Kammerinnendruck 111d über dem Transportpfad 111t in Transportrichtung 101t aufgetragen ist. Die Vakuumanordnung kann im Allgemeinen mehrere Druckstufen 302, 304, 306, 308 aufweisen, welche voneinander gassepariert (z.B. vom immeroffen Typ) sind, und/oder von denen jede Druckstufe aufweist: eine oder mehr als eine Vakuumkammer sowie eine an diese gekoppelte Vakuumpumpenanordnung.
  • Eine oder jede Druckstufe 302, 304, 306, 308 kann beispielsweise zumindest die zur Druckbildung beitragenden Komponenten (z.B. deren Gesamtheit) aufweisen, z.B. Vakuumkammer(n), Vakuumpumpe(n), eingangsseitige Gasseparation, ausgangsseitige Gasseparation, optionale Gaszuführung, usw.
  • Die Gasseparation kann bereitstellen, dass sich jeweils zwei aufeinanderfolgende Druckstufen paarweise in ihrer Atmosphäre (z.B. im Inneren deren Vakuumkammer(n)) voneinander unterscheiden, z.B. in dem Druck (auch als Kammerinnendruck oder Atmosphärendruck bezeichnet) und/oder der chemischen Zusammensetzung (auch als Atmosphärenzusammensetzung bezeichnet) der Atmosphäre. Die Vakuumpumpenanordnung kann den Kammerinnendruck bereitstellen, z.B. wie vorstehend beschrieben.
  • Von den mehreren Druckstufen kann eine erste Druckstufe 302 bzw. die Transportvorrichtung darin zur Transporttypüberführung eingerichtet sein. Von den mehreren Druckstufen kann eine zweite Druckstufe 304 die erste Dehydratationskammer 104 aufweisen. Von den mehreren Druckstufen kann eine dritte Druckstufe 306 die zweite Dehydratationskammer 106 aufweisen. Von den mehreren Druckstufen kann eine vierte Druckstufe 308 (auch als Beschichtungsstufe bezeichnet) zur Substratbeschichtung eingerichtet sein, z.B. eine oder mehr als eine Beschichtungskammer 108 aufweisen.
    Entlang der Transportrichtung 101t kann sich der Kammerinnendruck zwischen zwei aufeinanderfolgenden Druckstufen unterscheiden, z.B. um zumindest eine Größenordnung (d.h. einen Faktor von mindestens ungefähr 10, z.B. mindestens ungefähr 100). Bis zur dritten Druckstufe 306 kann der Druck entlang der Transportrichtung 101t absinken und dann zu der Beschichtungsstufe 308 hin wieder ansteigen, z.B. auf einen Wert der größer ist als ein Kammerinnendruck der zweiten Dehydratationskammer 106 und/oder der ersten Dehydratationskammer 104.
  • Optional kann die zweite Druckstufe 304 frei von einer Hochvakuumpumpe vom Gasbindetyp sein oder zumindest weniger Hochvakuumpumpen vom Gasbindetyp aufweisen als die dritte Druckstufe 306.
  • Die erste Druckstufe 302 und/oder die zweite Druckstufe 304 (z.B. deren Vakuumpumpenanordnung und/oder Heizvorrichtung) können eingerichtet sein, einen Dehydratationsarbeitspunkt bereitzustellen. Der Dehydratationsarbeitspunkt durch zumindest eine Dehydratationstemperatur (d.h. die Kammerinnentemperatur, bei welcher das Dehydratisieren erfolgt) und/oder einen Dehydratationsdruck (d.h. der Kammerinnenduck, bei welcher das Dehydratisieren erfolgt) definiert sein oder werden. Die Dehydratationstemperatur kann beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 130°C bis ungefähr 320°C sein, z.B. in einem Bereich von ungefähr 175°C bis ungefähr 250°C. Der Dehydratationsdruck kann beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10-2 mbar bis ungefähr 10-5 mbar sein, z.B. in einem Bereich von ungefähr 10-2 mbar bis ungefähr 10-3 mbar.
  • Die mehreren Druckstufen können mittels eines oder mehr als eines Kammergehäuses, welches mehrere Vakuumkammern aufweist, bereitgestellt sein oder werden. Von den mehreren Vakuumkammern kann zumindest eine Vakuumkammer Teil jeweils einer Druckstufe der mehreren Druckstufen sein.
  • Die mehreren Druckstufen 302, 304, 306, 308 (z.B. deren Vakuumkammern) können mittels einer Substrat-Transferöffnung 204 miteinander verbunden sein, so dass diese z.B. ein gemeinsames Vakuumsystem bilden. Das Vakuumsystem kann nach außen im Wesentlichen luftdicht verschlossen sein, z.B. mittels zumindest eines Ventils, zumindest eines Kammerdeckels und/oder zumindest einer Transferöffnung-Klappe.
  • 2A veranschaulicht die erste Druckstufe 302 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Die erste Druckstufe 302 kann aufweisen: eine Schleusenkammer 302s (z.B. mittels einer ersten Vakuumkammer bereitgestellt) zum Einschleusen eines Substrats 102s in die Vakuumanordnung hinein und/oder zum Ausschleusen eines Substrats 102s aus der Vakuumanordnung heraus, eine optionale Pufferkammer 312s (z.B. mittels einer zweiten Vakuumkammer bereitgestellt) zum Vorhalten eines Substrats 102s, die Transferkammer 102 (z.B. mittels einer dritten Vakuumkammer bereitgestellt) zum Bilden eines Substratbands (einer kontinuierlich transportierte Folge von Substraten 102s) aus mehreren Substraten 102s.
  • 2B veranschaulicht die dritte Druckstufe 306 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Die dritte Druckstufe 306 kann eine oder mehr als eine Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp (allgemeiner auch als Gasbindepumpanordnung 242 bezeichnet) aufweisen.
  • Beispielsweise kann die dritte Druckstufe 306 mehr Hochvakuumpumpen 242 vom Gasbindetyp und/oder mehr Gasbindetyp-Saugvermögen aufweisen als die zweite Druckstufe 304. Alternativ oder zusätzlich kann die dritte Druckstufe 306 eine größere mittels der Gasbindepumpanordnung 242 bereitgestellte Pumprate für Wasser aufweisen als die zweite Druckstufe 304.
  • Die oder jede Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp kann aufweisen: eine Gasbindefläche 242a, eine Kühlvorrichtung 242b und eine Versorgungsstruktur 242c, welche die Gasbindefläche 242a mit der Kühlvorrichtung 242b (z.B. fluidleitend und/oder elektrisch) koppelt (z.B. kuppelt), z.B. fluidleitend und/oder elektrisch miteinander verbindet.
  • Im Allgemeinen kann die Kühlvorrichtung 242b eingerichtet sein, der Gasbindefläche 242a thermische Energie zu entziehen, z.B. mittels eines Fluids oder elektrothermisch, und/oder diese auf eine Temperatur von weniger als der Erstarrungstemperatur (auch als Gefrierpunkt bezeichnet) von Wasser und/oder von weniger als ungefähr 0°C (z.B. -10°C, - 25°C oder -50°C) zu bringen. Die Erstarrungstemperatur von Wasser kann mit sinkendem Druck abnehmen. Beispielsweise kann diese an dem Dehydratationsarbeitspunkt der dritten Druckstufe 306 kleiner sein als ungefähr 0°C, -10°C, -25°C oder -50°C.
  • Die Kühlvorrichtung 242b kann beispielsweise eingerichtet sein, einen Temperaturunterschied und/oder einen Wärmestrom entgegen eines Temperaturgradienten zu erzeugen. Je nach Ausgestaltung der Hochvakuumpumpe(n) 242 vom Gasbindetyp kann/können deren Kühlvorrichtung(en) auf verschiedenen Kühlprinzipien basieren, z.B. elektrothermisch (dann auch als elektrothermischer Halbleiterwandler bezeichnet), wärmeabstrahlungsbasiert (dann auch als Radiator bezeichnet) und/oder auf Basis eines thermodynamischen Kreisprozesses (dann auch als Wärmepumpe bezeichnet, z.B. eine Kompressionswärmepumpe).
  • Die oder jede Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp kann beispielsweise aufweisen: einen Wärmetauscher 242a, ein Kühlaggregat 242b und eine Fluidverbindung 242c, welche den Wärmetauscher 242a mit dem Kühlaggregat 242b fluidleitend verbindet. Der Wärmetauscher 242a kann beispielsweise eine Fluidleitung (z.B. eine Rohrleitung) aufweisen, z.B. in Form einer Kühlschlange oder anders meanderförmig.
    Beispielsweise kann die Kühlvorrichtung 242b zum Versorgen des Wärmetauschers 242a eingerichtet sein, z.B. mit einem temperierten Fluid (z.B. ein Kühlfluid). Alternativ oder zusätzlich kann die Kühlvorrichtung 242b mit elektrischer Energie versorgt werden. Beispielsweise kann mittels der Kühlvorrichtung 242b ein Kühlfluid zu dem Wärmetauscher 242a zugeführt und von diesem wieder aufgenommen werden. Optional kann die Kühlvorrichtung 242b außerhalb der zweiten Dehydratationskammer 106 angeordnet sein.
  • Optional kann die oder jede Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp eine Abschirmung 242d aufweisen, welche in der zweiten Dehydratationskammer 106 angeordnet ist. Die Abschirmung 242d kann zumindest einen ersten Teil der Gasbindefläche 242a (auch als abgeschirmte Fläche bezeichnet) abschirmen, z.B. gegenüber dem Transportbereich 101b und/oder der zweiten Heizvorrichtung 116. Ferner kann die Abschirmung 242d einen zweiten Teil (auch als freigelegte Fläche bezeichnet) der Gasbindefläche 242a freilegen, z.B. gegenüber dem Transportbereich 101b und/oder der zweiten Heizvorrichtung 116. Das Freilegen kann beispielsweise mittels einer oder mehr als einer Öffnung 24o bereitgestellt sein oder werden.
  • Der Transportbereich 101b kann zwischen der Gasbindepumpanordnung 242 und der zweiten Heizvorrichtung 116 angeordnet sein.
  • Beispielsweise kann die Abschirmung 242d eine Platte (z.B. ein Blech oder einen anderen flächenförmigen Grundkörper) aufweisen oder daraus gebildet sein, in welcher die eine oder mehr als eine Öffnung 24o gebildet ist.
  • Das Verhältnis (auch als Saugzugriffflächenverhältnis bezeichnet) der freigelegten Fläche zur abgeschirmten Fläche kann beispielsweise kleiner sein als ungefähr 50% (z.B. 40%, 30%, 20%, 10%, 5%) und/oder einstellbar eingerichtet sein, beispielsweise mittels eines oder mehr als eines Regulatorelements 314 und/oder einer Steuervorrichtung.
    Das oder jedes Regulatorelement 314 kann beispielsweise flächenförmig sein und je nach Position und/oder Ausrichtung zumindest eine Öffnung 24o der Abschirmung 242d teilweise abdecken. Beispielsweise kann das oder jedes Regulatorelement 314 eine Finne, einen Deckel, eine Kappe, eine Klappe, eine Haube oder Ähnliches aufweisen.
  • Die zweite Heizvorrichtung 116 und/oder die erste Heizvorrichtung 114 (vgl. 1A) können eingerichtet sein, die Dehydratationstemperatur bereitzustellen, z.B. eine entsprechende Wärmestrahlungsmenge abstrahlend.
  • Die zweite Heizvorrichtung 116 und/oder die erste Heizvorrichtung 114 können eine kontaktlos-Heizvorrichtung sein, z.B. mittels einer Wärmestrahlungsquelle. Die zweite Heizvorrichtung 116 und/oder die erste Heizvorrichtung 114 können ein oder mehr als eine resistive Wärmestrahlungsquelle aufweisen.
  • 3 veranschaulicht eine Gasbindepumpanordnung 242 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht.
  • Die Abschirmung 242d kann eine Einhausung 312 aufweisen oder einen anderen die Abschirmung umgebenden und/oder seitlich abschirmenden Grundkörper 312, in welchem die eine oder mehr als eine Öffnung 24o (z.B. mehrere Öffnungen) gebildet ist. Beispielsweise können mehrere Öffnungen 24o in einem (z.B. flächenförmigen) Deckel 316 des Grundkörpers 312 gebildet sein. Die Öffnungen 24o können beispielsweise längserstreckt sein, z.B. parallel zueinander.
  • Von den mehreren Öffnungen 24o kann zumindest ein Teil oder jede Öffnung mittels jeweils eines Regulatorelements 314 teilweise abgedeckt und/oder verschlossen sein. Die Größe der freigelegten Fläche kann beispielsweise mittels Ausrichtens (z.B. Biegens) eines jeweiligen Regulatorelements 314 eingestellt sein oder werden. Anschaulich kann eine Öffnung 24o mittels eines Regulatorelements 314 weiter geöffnet oder geschlossen werden. Optional kann der Deckel 316 der Einhausung 312 abgenommen werden, um den Zugriff zu erhöhen.
  • Der Deckel 316 kann flächenförmig sein. Alternativ oder zusätzlich können die Regulatorelemente 314 schräg zu dem flächenförmigen Deckel und/oder einem Querschnitt der Öffnung(en) 24o angeordnet sein.
  • 4 veranschaulicht eine Vakuumanordnung 400 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. eingerichtet wie die Vakuumanordnung 100a.
  • Die Vakuumanordnung 400 kann ferner eine Transportvorrichtung 101 aufweisen, welche mehrere Transportrollen 402 aufweist.
  • Die mit der ersten Dehydratationskammer 104 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 kann eine Gastransferpumpenanordnung 240 aufweisen, welche eine oder mehr als eine Gastransfervakuumpumpe aufweist.
  • Die mit der zweiten Dehydratationskammer 106 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 kann eine Gasbindepumpenanordnung 242 aufweisen, welche eine oder mehr als eine Gasbindevakuumpumpe aufweist. Optional kann die mit der zweiten Dehydratationskammer 106 gekoppelte Vakuumpumpenanordnung 202 eine Gastransferpumpenanordnung 240 aufweisen, welche eine oder mehr als eine Gastransfervakuumpumpe aufweist.
  • Der Transferspalt 204 kann beispielsweise in einem oder an einem Gehäusewandelement, wie beispielsweise einer Schottwand oder einer Kammerwand, bereitgestellt sein oder werden, und/oder mittels eines anderen Gasseparationsflächenelements (dann auch als Gasseparationswand bezeichnet). Beispielsweise kann das Gehäusewandelement eine Substrat-Transferöffnung aufweisen, welche mittels des Gasseparationsflächenelements (z.B. einem geschlitzten Blech), in dem der Transferspalt gebildet ist, abgedeckt und/oder verengt ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird die veränderbare und/oder steuerbare Abschirmung 242d einer oder mehr als einer Meissner-Falle 242 bereitgestellt. Die Abschirmung 242d ermöglicht eine Einschränkung/Regulierung deren Saugzugriffs und/oder eine Verlängerung deren Standzeit. Der Saugzugriff kann anschaulich beschreiben, welchen Anteil der gesamten Fläche der Gasbindefläche freigelegt ist, d.h. mit welcher Querschnittsfläche die Gasbindevakuumpumpe effektiv abpumpt.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine einstellbare Gastrennung 204 zur gezielten Differenzierung und/oder Herstellung von Bereichen mit höherem und niedrigem Wasserdampfpartialdruck (H2O-Partildruck) bereitgestellt.
  • Anschaulich kann in Bereichen mit hohem H2O-Partialdruck der Einsatz von TMP-technik zum Pumpen von Wasser (anschaulich eine hohe Saugleistung p*S für Wasser bereitstellend), während die Meissner-Falle dem Bereich mit niedrigem H2O-Partialdruck (deutliche Verlängerung der Standzeit) abpumpt.
  • Anstatt der Meissner-Falle kann auch eine andere Gasbindevakuumpumpe verwendet werden.
  • Ferner kann die Vakuumanordnung 400 eine Beschichtungsstufe (nicht dargestellt) aufweisen, z.B. um darin mittels eines Beschichtungsprozesses und/oder einer Beschichtungsvorrichtung ein oder mehr als ein Substrat 102s zu beschichten. Ferner kann die Vakuumanordnung 400 eine Transportvorrichtung 101 aufweisen zum Transportieren zumindest eines Substrats 102s entlang eines Transportpfads in eine Transportrichtung 101t durch die mehreren Druckstufen hindurch in die Beschichtungsstufe. Ferner kann die Vakuumanordnung 400 eine oder mehr als eine Beschichtungsvorrichtung 118 aufweisen, z.B. eine Beschichtungsmaterialquelle. Die Beschichtungsvorrichtung 118 kann beispielsweise zum Emittieren zumindest eines Beschichtungsmaterials in Richtung des Transportpfads 111p und/oder der Transportvorrichtung 101 eingerichtet sein.
  • 5 veranschaulicht ein Verfahren 500 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm, z.B. zum Betreiben der Vakuumanordnung 100a oder 400.
  • Das Verfahren 500 kann in 501 optional aufweisen: Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport.
  • Das Verfahren 500 kann in 503 aufweisen: Transportieren zumindest eines Substrats 102s zwischen einem ersten Dehydratationsbereich und einem zweiten Dehydratationsbereich, welche voneinander gassepariert sind. Das Transportieren 503 kann aufweisen: Zuführen des kontinuierlichen Substrattransports durch den ersten Dehydratationsbereich (z.B. das Innere der ersten Dehydratationskammer 104) hindurch in den zweiten Dehydratationsbereich (z.B. das Innere der zweiten Dehydratationskammer 106).
  • Das Verfahren 500 kann in 505, 507 aufweisen: Dehydratisieren (auch als Desorbieren bezeichnet) des Substrats 102s in dem ersten Dehydratationsbereich bei einem ersten Druck und dem zweiten Dehydratationsbereich bei einem zweiten Druck. Das Dehydratisieren kann in 505 aufweisen: Heizen des ersten Dehydratationsbereichs und erstes Abpumpen des ersten Dehydratationsbereichs mittels Gastransfers (auch als erstes Dehydratisieren bezeichnet). Das Dehydratisieren kann in 507 aufweisen: Heizen des zweiten Dehydratationsbereichs und zweites Abpumpen des zweiten Dehydratationsbereichs mittels Gasbindens (auch als zweites Dehydratisieren bezeichnet).
  • Das Verfahren 500 kann optional in 509 aufweisen: Beschichten in einem Beschichtungsbereich (der mittels der Beschichtungsvorrichtung 118 bereitgestellt wird) während des Substrattransports durch den Beschichtungsbereich hindurch (auch als Beschichtungsprozess bezeichnet).
  • Das erste Dehydratisieren kann bei einem größeren Gesamtdruck (auch als Kammerinnendruck bezeichnet) und/oder Wasserstoffpartialdruck erfolgen als das zweite Dehydratisieren, z.B. mindestens dem doppelten Gesamtdruck. Alternativ oder zusätzlich kann das erste Dehydratisieren bei einer geringeren Temperatur des Substrats 102s erfolgen.
  • Der Substrattransport kann aufweisen: ein oder mehr als ein Substrat 102s zu transportieren.
  • Das erste Dehydratisieren und das zweite Dehydratisieren können aufweisen, dem einem oder mehr als einem Substrat 102s zumindest Wasser (angelagertes Wasser) zu entziehen, z.B. von dessen Oberfläche zu desorbieren. Das erste Dehydratisieren und das zweite Dehydratisieren können aufweisen, das von dem Substrat 102s desorbierte Wasser abzupumpen.
  • 6 veranschaulicht ein Verfahren 600 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagramm, z.B. zum Justieren der Vakuumanordnung 100a oder 400.
  • Das Verfahren 600 kann in 601 aufweisen: Dehydratisieren eines ersten Substrats 102s bei einer ersten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des ersten Substrats 102s. Das Verfahren 600 kann in 603 aufweisen: Ändern der ersten Dehydratationskonfiguration in eine zweite Dehydratationskonfiguration. Das Verfahren 600 kann in 605 aufweisen: Dehydratisieren eines zweiten Substrats 102s bei der zweiten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des zweiten Substrats 102s.
  • Die Dehydratationskonfiguration kann von folgenden Parametern definiert sein von dem Dehydratationsarbeitspunk, von der Gasseparation der zwei Dehydratationskammern (bzw. der darin bereitgestellten Dehydratationsbereiche) und/oder dem Saugzugriff der Gasbindevakuumpumpe.
  • Das Ändern der Dehydratationskonfiguration kann aufweisen, einen oder mehr als einen Parameter der Dehydratationskonfiguration zu verändern.
  • Das Ändern der Dehydratationskonfiguration kann aufweisen, eine Gasseparation von zwei Dehydratationsbereichen voneinander und/oder einen Saugzugriff einer Gasbindevakuumpumpe zu verändern, mittels welcher/welchen das Dehydratisieren erfolgt.
  • Das Verändern der Dehydratationskonfiguration (z.B. der Gasseparation der zwei Dehydratationsbereiche) kann aufweisen, einen Transferspalt zwischen den zwei Dehydratationsbereichen zu verändern, z.B. das Ausdehnungsverhältnis des Transferspalts und/oder die Spalthöhe des Transferspalts zu verändern. Alternativ oder zusätzlich kann das Verändern der Dehydratationskonfiguration (z.B. das Verändern des Saugzugriffs der Gasbindevakuumpumpe) aufweisen, ein Flächenverhältnis (auch als Saugzugriffflächenverhältnis bezeichnet) zwischen einer abgedeckten Fläche der Gasbindevakuumpumpe und einer freigelegten Fläche der Gasbindevakuumpumpe zu verändern, z.B. eine Öffnung durch welche die Gasbindevakuumpumpe hindurch pumpt, abzudecken oder freizugeben (z.B. indem ein Regulatorelement 314 in seiner Ausrichtung und/oder Position verändert wird).
  • Die zwei Druckstufen können die zweite Druckstufe 304 und die dritte Druckstufe 306 aufweisen. Die die zweite Druckstufe 304 kann den ersten Dehydratationsbereich bereitstellen (z.B. mittels der ersten Dehydratationskammer 104) und die dritte Druckstufe 306 kann den zweiten Dehydratationsbereich bereitstellen (z.B. mittels der zweiten Dehydratationskammer 106) .
  • Das Dehydratisieren 601, 605 des ersten und/oder zweiten Substrats (oder auch mehrerer erster bzw. zweiter Substrate) kann jeweils aufweisen: erstes Abpumpen 505 des ersten Dehydratationsbereichs und/oder in der zweiten Druckstufe 304 (z.B. in der ersten Dehydratationskammer 104) mittels Gastransfers und zweites Abpumpen 507 des zweiten Dehydratationsbereichs und/oder in der dritten Druckstufe 306 (z.B. in der zweiten Dehydratationskammer 106) mittels Gasbindens sowie Heizen 505, 507 des ersten Dehydratationsbereichs und des zweiten Dehydratationsbereichs.
  • Im Folgenden werden verschiedene Beispiele beschrieben, die sich auf vorangehend Beschriebene und in den Figuren Dargestellte beziehen.
  • Beispiel 1 ist eine Vakuumanordnung 100a, 400, aufweisend: zumindest eine Beschichtungskammer, in welcher eine Beschichtungsvorrichtung angeordnet ist, eine Substrat-Transferkammer 102 zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport zu der zumindest einen Beschichtungskammer hin; eine erste Dehydratationskammer 104 und eine zweite Dehydratationskammer 106, die voneinander gassepariert sind und bezüglich des Substrattransports zwischen der Substrat-Transferkammer 102 und der zumindest einen Beschichtungskammer angeordnet sind, und von denen in jeder Dehydratationskammer 104, 106 optional eine Heizvorrichtung 114, 116 angeordnet ist; eine erste Hochvakuumpumpe 240 vom Gastransfertyp zum Abpumpen der ersten Dehydratationskammer 104; und eine zweite Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp zum Abpumpen der zweiten Dehydratationskammer 106; wobei die zweite Dehydratationskammer 106 bezüglich des Substrattransports zwischen der ersten Dehydratationskammer 104 und der Beschichtungskammer angeordnet ist.
  • Beispiel 2 ist eine Vakuumanordnung 100a, 400, aufweisend: zumindest eine optionale Beschichtungskammer, in welcher eine Beschichtungsvorrichtung angeordnet ist, eine erste Dehydratationskammer 104 und eine zweite Dehydratationskammer 106, die voneinander gassepariert sind, und von denen in jeder Dehydratationskammer 104, 106 optional eine Heizvorrichtung 114, 116 angeordnet ist; eine Substrat-Transferkammer 102 zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport zu der ersten Dehydratationskammer 104 und/oder zweiten Dehydratationskammer 106 hin; eine erste Hochvakuumpumpe 240 vom Gastransfertyp zum Abpumpen der ersten Dehydratationskammer 104; und eine zweite Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp zum Abpumpen der zweiten Dehydratationskammer 106; wobei die erste Dehydratationskammer 104 bezüglich des Substrattransports zwischen der zweiten Dehydratationskammer 106 und der Substrat-Transferkammer 102 angeordnet ist.
  • Beispiel 3 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 1 oder 2, wobei die erste Dehydratationskammer 104 und die zweite Dehydratationskammer 106 mittels eines Substrat-Transferspalts 204 voneinander gassepariert sind.
  • Beispiel 4 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 3, wobei der Substrat-Transferspalt 204 eine kleinste Ausdehnung von weniger als 10 cm aufweist und/oder einen Gastrennungsfaktor von weniger als 1/10 bereitstellt.
  • Beispiel 5 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 4, wobei die erste Dehydratationskammer 104 und die erste Hochvakuumpumpe 240 Teil einer ersten Druckstufe sind, und wobei die zweite Dehydratationskammer 106 und die zweite Hochvakuumpumpe 242 Teil einer zweiten Druckstufe sind; wobei die erste Druckstufe und die zweite Druckstufe derart eingerichtet sind, dass im Betrieb ein Kammerinnendruck (auch als Betriebsdruck bezeichnet) in der ersten Dehydratationskammer 104 größer ist als in der zweiten Dehydratationskammer 106; und/oder wobei die erste Druckstufe weniger Hochvakuumpumpen und/oder Saugvermögen vom Gasbindetyp aufweist als die erste Druckstufe (z.B. keine Hochvakuumpumpe bzw. kein Saugvermögen vom Gasbindetyp).
  • Beispiel 6 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 5, wobei die erste Hochvakuumpumpe 240 eine kleinere Pumprate für Wassergas aufweist als die zweite Hochvakuumpumpe 242; und/oder wobei die erste Hochvakuumpumpe 240 eine größere Pumprate für Stickstoff aufweist als die zweite Hochvakuumpumpe 242.
  • Beispiel 7 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 6, wobei im Betrieb eine Temperatur der ersten Hochvakuumpumpe 240 größer ist als eine Temperatur der zweiten Hochvakuumpumpe 242.
  • Beispiel 8 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7, wobei die erste Hochvakuumpumpe 240 eine Turbomolekularpumpe aufweist; und/oder wobei die zweite Hochvakuumpumpe 242 eine Kühlfalle aufweist.
  • Beispiel 9 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 8, wobei die zweite Hochvakuumpumpe 242 einen Wärmetauscher (z.B. eine Kühlschlange) und/oder eine Wärmesenke (d.h. einen Absorber für Wärmestrahlung) aufweist.
  • Beispiel 10 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 9, wobei die Heizvorrichtung 114 in der ersten Dehydratationskammer 104 und/oder in der zweiten Dehydratationskammer 106 eingerichtet ist, einen Dehydratationsarbeitspunkt bereitzustellen.
  • Beispiel 11 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 10, wobei die Heizvorrichtung 114 in der ersten Dehydratationskammer 104 und die Heizvorrichtung 116 in der zweiten Dehydratationskammer 106 eine im Wesentlichen gleiche Heizleistungsdichte bereitstellen und/oder elektrisch parallel zueinander und/oder in Reihe zueinander gekoppelt sind.
  • Beispiel 12 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 11, die Vakuumanordnung 100a, 400 ferner aufweisend: eine Abschirmung 242d, welche in der zweiten Dehydratationskammer 106 zwischen der zweiten Hochvakuumpumpe 242 und einem Substrat-Transportbereich 101b der zweiten Dehydratationskammer 106 angeordnet ist, wobei beispielsweise der Substrat-Transportbereich 101b zwischen der zweiten Heizvorrichtung 116 und der zweiten Hochvakuumpumpe 242 angeordnet ist; und/oder die Vakuumanordnung 100a, 400 ferner aufweisend: eine erste Heizvorrichtung 114, welche in der ersten Dehydratationskammer 104 angeordnet ist; und/oder eine zweite Heizvorrichtung 116, welche in der zweiten Dehydratationskammer 106 angeordnet ist.
  • Beispiel 13 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 12, wobei die Abschirmung 242d zumindest eine Öffnung 24o aufweist, welche die zweite Hochvakuumpumpe 242 bezüglich Substrat-Transportbereichs 101b freilegt und/oder die zweite Hochvakuumpumpe 242 fluidleitend mit dem Substrat-Transportbereich 101b verbindet.
  • Beispiel 14 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 13, wobei die Abschirmung 242d einen flächenförmigen Grundkörper aufweist, welcher von der zumindest einen Öffnung 24o durchdrungen wird.
  • Beispiel 15 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 13 oder 14, wobei ein Flächenverhältnis der mittels der zumindest einen Öffnung 24o freigelegten Fläche der zweiten Hochvakuumpumpe 242 zu einer abgeschirmten Fläche der der zweiten Hochvakuumpumpe 242 kleiner ist als 50%; und/oder wobei die Abschirmung 242d zumindest ein Regulatorelement 314 aufweist, welches die zumindest eine Öffnung 24o zumindest teilweise abdeckt.
  • Beispiel 16 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 14 oder 15, wobei das Regulatorelement 314 ein Flächenelement aufweist, welches beispielsweise schräg zu dem flächenförmigen Grundkörper angeordnet ist.
  • Beispiel 17 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 16, wobei die zumindest eine Beschichtungskammer von der zweiten Dehydratationskammer 106 gassepariert ist, z.B. mittels eines Substrat-Transferspalts 204.
  • Beispiel 18 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 17, wobei die Substrat-Transferkammer 102 (eingangsseitig) eine schwenkbar gelagerte Ventilklappe aufweist.
  • Beispiel 19 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 1 bis 18, ferner aufweisend: eine Transportanordnung (eine oder mehr als eine Transportvorrichtung aufweisend, von denen jede Transportvorrichtung z.B. mehrere Transportrollen aufweist, und/oder einen Transportbereich 101b definierend), welche in der Substrat-Transferkammer 102 eingerichtet ist, das Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport bereitzustellen, wobei optional die Vakuumanordnung 100a, 400 ferner die Beschichtungskammer (in welcher z.B. eine Beschichtungsvorrichtung angeordnet ist) aufweist, wobei beispielsweise die Beschichtungskammer in Richtung des Substrattransports (auch als Transportrichtung bezeichnet) die der Substrat-Transferkammer 102 unmittelbar nachfolgende (z.B. allererste) Beschichtungskammer ist, wobei beispielsweise die erste Dehydratationskammer 104 und die zweite Dehydratationskammer 106 zwischen der Substrat-Transferkammer 102 und der Beschichtungskammer angeordnet sind.
  • Beispiel 20 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 19, wobei die Transportanordnung ferner eingerichtet ist zum Substrattransport in eine Transportrichtung von der Substrat-Transferkammer 102 durch die erste Dehydratationskammer 104 und die zweite Dehydratationskammer 106 hindurch zu der oder in die Beschichtungskammer.
  • Beispiel 21 ist eine Vakuumanordnung 100a, 400, aufweisend: eine Vakuumkammer 106, welche einen Transportbereich 101b aufweist; eine Hochvakuumpumpe 242 vom Gasbindetyp zum Abpumpen der Vakuumkammer 106; eine Transportvorrichtung (z.B. mehrere Transportrollen aufweisend und/oder einen Transportbereich 101b definierend) zum Substrattransport durch den Transportbereich 101b hindurch; eine Abschirmung 242d, welche zwischen der Hochvakuumpumpe 242 und dem Transportbereich 101b angeordnet ist zum Abschirmen der Hochvakuumpumpe 242.
  • Beispiel 22 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 21, wobei die Abschirmung 242d zumindest eine Öffnung 24o aufweist, welche die Hochvakuumpumpe 242 bezüglich des Transportbereichs 101b freilegt und/oder welche die Hochvakuumpumpe 242 mit dem Transportbereich 101b fluidleitend verbindet.
  • Beispiel 23 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 22, wobei die Abschirmung 242d einen flächenförmigen Grundkörper aufweist, welcher von der zumindest einen Öffnung 24o durchdrungen wird.
  • Beispiel 24 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 22 oder 23, wobei ein Flächenverhältnis der mittels der zumindest einen Öffnung 24o freigelegten Fläche der Hochvakuumpumpe 242 zu der abgeschirmten Fläche der Hochvakuumpumpe 242 kleiner ist als 50%; und/oder wobei die Abschirmung 242d zumindest ein Regulatorelement 314 aufweist, welches die zumindest eine Öffnung 24o zumindest teilweise abdeckt.
  • Beispiel 25 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 23 oder 24, wobei das Regulatorelement 314 ein Flächenelement aufweist, welches beispielsweise schräg zu dem flächenförmigen Grundkörper ist.
  • Beispiel 26 ist ein Verfahren 500, aufweisend: Überführen 501 eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport; Zuführen 503 des kontinuierlichen Substrattransports durch einen ersten Dehydratationsbereich und einen zweiten Dehydratationsbereich, welche voneinander gassepariert sind, hindurch zu einem Beschichtungsvorgang; Heizen 505, 507 des ersten Dehydratationsbereichs und des zweiten Dehydratationsbereichs (z.B. mittels Emittierens von Wärmestrahlung in diese und/oder mittels einer Wärmestrahlungsquelle); erstes Abpumpen 505 des ersten Dehydratationsbereichs mittels Gastransfers; und zweites Abpumpen 507 der zweiten Dehydratationsbereichs mittels Gasbindens.
  • Beispiel 27 ist ein Verfahren 500, aufweisend: Überführen 501 eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport; Zuführen 503 des kontinuierlichen Substrattransports durch einen ersten Dehydratationsbereich in einen zweiten Dehydratationsbereich, welche voneinander gassepariert sind, und optional durch den zweiten Dehydratationsbereich hindurch zu einem Beschichtungsvorgang; Heizen 505, 507 des ersten Dehydratationsbereichs und des zweiten Dehydratationsbereichs; erstes Abpumpen 505 des ersten Dehydratationsbereichs mittels Gastransfers; und zweites Abpumpen 507 der zweiten Dehydratationsbereichs mittels Gasbindens.
  • Beispiel 28 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß Beispiel 26 oder 27, wobei in dem ersten Dehydratationsbereich ein Druck größer als in dem zweiten Dehydratationsbereich bereitgestellt wird.
  • Beispiel 29 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 26 bis 28, wobei das zweite Abpumpen durch zumindest eine Öffnung 24o in einer Abschirmung 242d hindurch erfolgt.
  • Beispiel 30 ist die Vakuumanordnung 100a, 400 gemäß einem der Beispiele 26 bis 29, wobei das Heizen des ersten Dehydratationsbereichs und das Heizen des zweiten Dehydratationsbereichs derart erfolgen, dass ein Dehydratisieren eines mittels des Substrattransports transportierten Substrats 102s erfolgt.
  • Beispiel 31 ist ein Verfahren, aufweisend: Transportieren zumindest eines Substrats 102s von einem ersten Dehydratationsbereich in einen zweiten Dehydratationsbereich, welche voneinander gassepariert sind; Dehydratisieren des Substrats 102s in dem ersten Dehydratationsbereich bei einem ersten Druck und in dem zweiten Dehydratationsbereich bei einem zweiten Druck; wobei der erste Druck größer ist als der zweite Druck und mittels eines Gastransfervakuumpumpens bereitgestellt wird; und wobei der zweite Druck mittels eines Gasbindevakuumpumpens bereitgestellt wird (z.B. mittels einer oder mehr als einer Meißner-Falle und einer oder mehr als einer Turbomolekularpumpe).
  • Beispiel 32 ist die Vakuumanordnung 100a, 400, aufweisend: mehrere voneinander gasseparierte Druckstufen, von denen jede Druckstufe eine Vakuumkammer 106 und eine Vakuumpumpe zum Abpumpen der Vakuumkammer 106 aufweist, zumindest eine Beschichtungsstufe, welche eine Beschichtungskammer und in dieser eine Beschichtungsvorrichtung aufweist, eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats 102s durch die mehreren Druckstufen hindurch in eine Transportrichtung zu der Beschichtungskammer hin, wobei die Transportvorrichtung in einer ersten Druckstufe der mehreren Druckstufen zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport eingerichtet ist; wobei von den mehreren Druckstufen eine zweite Druckstufe sowie eine dritte Druckstufe optional jeweils eine Heizvorrichtung 114, 116 aufweisen, und die zweite Druckstufe bezüglich der Transportrichtung zwischen der ersten Druckstufe und der dritten Druckstufe angeordnet ist; wobei die Vakuumpumpe der zweiten Druckstufe vom Hochvakuum-Gastransfertyp ist und die Vakuumpumpe der dritten Druckstufe vom Hochvakuum-Gasbindetyp ist; wobei beispielsweise von den mehreren Druckstufen, eine zusätzliche erste Druckstufe zum Schleusenbetrieb eingerichtet ist.
  • Beispiel 33 ist ein Verfahren (600), aufweisend: Dehydratisieren 601 eines ersten Substrats 102s bei einer ersten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des ersten Substrats 102s; Ändern 603 der ersten Dehydratationskonfiguration in eine zweite Dehydratationskonfiguration; Dehydratisieren 605 eines zweiten Substrats 102s bei der zweiten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des zweiten Substrats 102s; wobei das Ändern 603 aufweist, eine Gasseparation zwischen zwei Druckstufen (bzw. darin bereitgestellten Dehydratationsbereichen) und/oder einen Saugzugriff einer Gasbindevakuumpumpe zu verändern, mittels welcher/welchen das Dehydratisieren erfolgt.

Claims (12)

  1. Vakuumanordnung (100a, 400), aufweisend: • eine erste Dehydratationskammer (104) und eine zweite Dehydratationskammer (106), die voneinander gassepariert sind; • eine Substrat-Transferkammer (102) zum Überführen eines getakteten Substrattransports in einen kontinuierlichen Substrattransport zu der zweiten Dehydratationskammer (106) hin; • eine erste Hochvakuumpumpe (240) vom Gastransfertyp zum Abpumpen der ersten Dehydratationskammer (104); und • eine zweite Hochvakuumpumpe (242) vom Gasbindetyp zum Abpumpen der zweiten Dehydratationskammer (106); • wobei die erste Dehydratationskammer (104) bezüglich des Substrattransports zwischen der zweiten Dehydratationskammer (106) und der Substrat-Transferkammer (102) angeordnet ist.
  2. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß Anspruch 1, wobei die erste Dehydratationskammer (104) und eine zweite Dehydratationskammer (106) mittels eines Substrat-Transferspalts (204) voneinander gassepariert sind.
  3. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß Anspruch 2, wobei der Substrat-Transferspalt (204) eine kleinste Ausdehnung von weniger als 10 cm aufweist.
  4. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die erste Hochvakuumpumpe (240) eine Turbomolekularpumpe aufweist; und/oder wobei die zweite Hochvakuumpumpe (242) eine Kühlfalle aufweist.
  5. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend: eine Abschirmung (242d), welche in der zweiten Dehydratationskammer (106) zwischen der zweiten Hochvakuumpumpe (242) und einem Substrat-Transportbereich (101b) der zweiten Dehydratationskammer (106) angeordnet ist.
  6. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß Anspruch 5, wobei die Abschirmung (242d) zumindest eine Öffnung (24o) aufweist, welche die zweite Hochvakuumpumpe (242) bezüglich Substrat-Transportbereichs (101b) freilegt und/oder die zweite Hochvakuumpumpe (242) fluidleitend mit dem Substrat-Transportbereich (101b) verbindet.
  7. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß Anspruch 6, wobei die Abschirmung (242d) einen flächenförmigen Grundkörper aufweist, welcher von der zumindest einen Öffnung (24o) durchdrungen wird.
  8. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß Anspruch 7, wobei die Abschirmung (242d) zumindest ein Regulatorelement (314) aufweist, welches die zumindest eine Öffnung (24o) zumindest teilweise abdeckt.
  9. Vakuumanordnung (100a, 400) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, ferner aufweisend: eine erste Heizvorrichtung (114), welche in der ersten Dehydratationskammer (104) angeordnet ist; und/oder eine zweite Heizvorrichtung (116), welche in der zweiten Dehydratationskammer (106) angeordnet ist.
  10. Vakuumanordnung (100a, 400), aufweisend: • eine Vakuumkammer (106), welche einen Transportbereich (101b) aufweist; • eine Hochvakuumpumpe (242) vom Gasbindetyp zum Abpumpen der Vakuumkammer (106); • eine Transportvorrichtung zum Substrattransport durch den Transportbereich (101b) hindurch; • eine Abschirmung (242d), welche zwischen der Hochvakuumpumpe (242) und dem Transportbereich (101b) zum Abschirmen der Hochvakuumpumpe (242) angeordnet ist.
  11. Verfahren (500), aufweisend: • Transportieren (503) zumindest eines Substrats (102s) von einem ersten Dehydratationsbereich in einen zweiten Dehydratationsbereich, welche voneinander gassepariert sind; • Dehydratisieren (505, 507) des Substrats (102s) in dem ersten Dehydratationsbereich bei einem ersten Druck und in dem zweiten Dehydratationsbereich bei einem zweiten Druck; • wobei der erste Druck größer ist als der zweite Druck und mittels eines Gastransfervakuumpumpens bereitgestellt wird; und • wobei der zweite Druck mittels eines Gasbindevakuumpumpens bereitgestellt wird.
  12. Verfahren (600), aufweisend: • Dehydratisieren (601) eines ersten Substrats (102s) bei einer ersten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des ersten Substrats (102s) ; • Ändern (603) der ersten Dehydratationskonfiguration in eine zweite Dehydratationskonfiguration; • Dehydratisieren (605) eines zweiten Substrats (102s) bei der zweiten Dehydratationskonfiguration und nachfolgendes Beschichten des zweiten Substrats (102s) ; • wobei das Ändern (603) aufweist, eine Gasseparation zwischen zwei Druckstufen und/oder einen Saugzugriff einer Gasbindevakuumpumpe zu verändern, mittels welcher/welchen das Dehydratisieren erfolgt.
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