DE102016114640B4 - Vakuum-Gehäuseanordnung, Kammerkörper und Kammerdeckel - Google Patents

Vakuum-Gehäuseanordnung, Kammerkörper und Kammerdeckel Download PDF

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Abstract

Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500), aufweisend:• ein erstes Gehäuseteil (402) und ein zweites Gehäuseteil (404), welche zusammengefügt einen Spalt (110s) bilden;• eine Dichtungsstruktur (108) zum Abdichten des Spalts (110s); und• ein metallisches Federelement (112), mittels dessen die Dichtungsstruktur (108) auslenkbar relativ zu dem ersten Gehäuseteil (402) gelagert ist, so dass eine Fehlstellung ausgeglichen werden kann;• wobei das metallische Federelement (112) eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur (108) aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vakuum-Gehäuseanordnung, einen Kammerkörper und einen Kammerdeckel.
  • Eine Dichtung kann im Allgemeinen eingesetzt werden, um zwei Bereiche gegeneinander abzudichten und dabei einen Stoffübergang zwischen den zwei Bereichen zu verhindern oder zumindest zu reduzieren. In Vakuumanordnungen, z.B. Vakuumanlagen, eingesetzte Dichtungen (so genannte Vakuumdichtungen) sollten geeignet sein, einen Vakuumbereich und/oder dessen Verbindung mit einem anderen Vakuumbereich vakuumdicht von der Umgebung des Vakuumbereiches abzudichten. Eine Vakuumanordnung kann dabei einen Vakuumbereich oder mehrere Vakuumbereiche aufweisen, wobei jeder Vakuumbereich mit einer Pumpen-Anordnung gekoppelt sein kann zum Evakuieren des Vakuumbereichs. In einem oder mehreren Vakuumbereichen kann ein Substrat prozessiert (bearbeitet) werden.
  • Verschiedene Prozessbedingungen können eine wirkungsvolle Gasseparation (Gastrennung) zwischen verschiedenen Vakuumbereichen erfordern, in denen das Substrat prozessiert wird. Beispielsweise kann eine Beschichtung des Substrates mit Lagen unterschiedlicher Zusammensetzung (z.B. unterschiedlicher Materialien) verschiedene Prozessbedingungen (z.B. metallisch gegenüber reaktiv/oxydisch oder unterschiedliche Reaktivgaszusammensetzungen wie Ar/N2 gegenüber Ar/O2), und damit verbunden, eine wirkungsvolle gastechnische Trennung der Prozessbedingungen voneinander erfordern, welche ein Vermischen der sich voneinander unterscheidenden Prozessbedingungen verringert (kann als Gasseparation bezeichnet werden).
  • Beispielsweise kann eine Dichtung zum Abdichten einzelner Gehäuseabteile (so genannte Kompartments) von Vakuumbeschichtungsanlagen eingesetzt werden, in denen eine Gasseparation bzw. Abdichtung zwischen den Prozessbedingungen erforderlich ist. Für Wartungszwecke kann es allerdings nötig sein, die Gehäuseabteile zu öffnen. Dazu können die Kammerwände eines Vakuumkammergehäuses trennbar voneinander sein. Eine abtrennbare Kammerwand kann auch als Kammerdeckel bezeichnet werden.
  • Im Allgemeinen können die Kräfte, welche auf eine Kammerwand wirken, mit zunehmenden Druckunterschied eine Verformung der Kammerwand hervorrufen, welche dazu führen kann, dass sich ein Spalt an der Kontaktstelle zwischen dem Kammerdeckel und dem restlichen Vakuumkammergehäuse öffnet. Weiterhin begrenzen Fertigungstoleranzen oder Positionsfehler das minimal erreichbare Spaltmaß an der Kontaktstelle.
  • Herkömmlicherweise werden Dichtungen aus besonders elastischen Werkstoffen, wie Polymer, verwendet, um die Unterschiede und Veränderungen im Spaltmaß auszugleichen. Zum Abdichten kann eine herkömmliche Dichtung gegen eine Dichtfläche gepresst werden, wobei die Dichtung und die Dichtfläche eine gemeinsame Kontaktfläche bilden. Beim Anpressen an die Dichtfläche kann sich die Dichtung verformen und sich an die Dichtfläche anpassen, wobei mit steigendem Anpressdruck eine größere Kontaktfläche resultieren kann. Die Dichtwirkung der Dichtung, also die Reduktion eines Stoffübergangs entlang der Kontaktfläche, kann dabei von der Beschaffenheit der Dichtfläche, dem Anpressdruck und der Härte der Dichtung beeinflusst werden. Üblicherweise ist die Dichtwirkung größer, je besser die Dichtung an der Dichtfläche anliegt, d.h. je weicher die Dichtung ist. Verändert sich das Spaltmaß, kann die Dichtung nachgeben, ohne dass deren Kontakt zur Dichtfläche verloren geht. Zum Abdichten des Spalts kann beispielsweise eine so genannte Lippendichtung eingesetzt werden, welche eine sich in den Spalt hinein erstreckende Dichtlippe aufweisen kann. Anschaulich kann die Dichtlippe einen abzudichtenden Spalt überbrücken und eine Toleranz gegenüber einem ungleichmäßig geformten Spalt bereitstellen. Aufgrund der Beschaffenheit der Lippendichtung, kann die resultierende Dichtwirkung zusätzlich von einer Überlagerung des Anpressdrucks und einem auf die Dichtlippe wirkenden Druckunterschied beeinflusst werden.
  • In der US 4 693 803 A wird eine mehrteilige Vakuumkammer beschrieben, deren Inneres mittels Zwischenwänden in mehrere Sektionen unterteilt ist. Die Vakuumkammer besteht aus einem Gehäuse, welches auf gegenüberliegenden Seiten mittels fahrbarer Kammerdeckel verschließbar ist. Die Zwischenwände bestehen aus zwei Segmenten, von denen das eine Segment mit seinem Querträger an dem Gehäuse verschweißt ist und das andere Segment mit seinem Querträger an einem Rahmen und dieser wiederum an dem Kammerdeckel befestigt ist. Jeweils das an dem Rahmen befestigte Segment wird gemeinsam mit dem fahrbaren Kammerdeckel aus dem Gehäuse herausgefahren, wobei die freien Enden der Segmente, welche von einem Metallblech und einer Dichtung gebildet werden, aneinander abgleiten.
  • In der JP 2012 - 136 724 A wird eine Vakuumkammer beschrieben, deren Inneres mittels massiver Trennwände unterteilt ist, welche eine vertikale Separierung bereitstellen.
  • In WO 2014/ 060 468 A1 wird eine Vakuumkammer mit mehreren Kompartments offenbart, von denen ein Kompartment, das in 6-Uhr Stellung angeordnet ist, zweiteilig ist. Um die beiden Teile gasdicht miteinander zu verbinden, sollen flexible Blechlippen verwendet werden.
  • In DE 10 2014 116 697 A1 wird ein Kammerdeckel zum Abdichten einer Kammeröffnung in einer Gasseparationskammer beschrieben, dessen Pumpöffnung mittels eines Blechs separiert ist.
    Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Dichtanordnung zum Abdichten eines Spalts zwischen zwei voneinander trennbaren Gehäuseteilen bereitgestellt, welche ein zuverlässiges Abdichten des Spaltes ermöglicht und eine Fehlstellung (z.B. einen Lagefehler) der zwei Gehäuseteile ausgleicht.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Dichtanordnung bereitgestellt, welche anschaulich kostengünstig, montagefreundlich und einfach herzustellen ist. Die Dichtanordnung kann eine hohe Haltbarkeit aufweisen. Die Dichtanordnung kann sowohl zum Abdichten von Vakuum (Grob- bis Hochvakuum) gegenüber Atmosphäre, d.h. zum Trennen von Atmosphäre und Vakuum, wie auch zwischen verschiedenen Vakuumbereichen eingesetzt werden. Ferner weist die Dichtanordnung anschaulich eine sehr geringe Leckrate auf und kann somit zum gegeneinander Abdichten verschiedener Kompartments eingesetzt werden.
  • Beispielsweise kann der abgedichtete (mittels der Dichtungsstruktur separierte) Druckunterschied, zwischen dem ein Stoffübergang verringert oder verhindert wird, einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 1 bar aufweisen oder in einem Bereich von kleiner als ungefähr 1 mbar (im Falle von Vakuum zu Vakuum).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Vakuum-Gehäuseanordnung, ein Kammerkörper und ein Kammerdeckel bereitgestellt, deren Dichtanordnung rein metallisch und damit besonders vakuumverträglich ist. Anschaulich kann die bereitgestellte Dichtanordnung im Gegensatz zu Polymerdichtungen aus Elastomer und Kunststoff nicht ausgasen und damit die Vakuumbedingungen weniger beeinträchtigen. Mit anderen Worten kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen die Verwendung von ausgasenden Werkstoffen verringert oder vermieden werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Dichtanordnung bereitgestellt, welche eine Dichtungsstruktur zum Abdichten des Spalts und ein metallisches Federelement aufweist, mittels dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar gelagert ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Vakuum-Gehäuseanordnung, ein Kammerkörper und ein Kammerdeckel bereitgestellt, deren Dichtanordnung anschaulich eine große Elastizität aufweist, was es ermöglicht Positionsfehler, Verformungen, und Fertigungstoleranzen auszugleichen. Damit kann ein nur geringer Restspalt verbleiben, so dass anschaulich eine möglichst große Dichtwirkung erreicht wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Vakuum-Gehäuseanordnung, ein Kammerkörper und ein Kammerdeckel bereitgestellt, deren Dichtanordnung eine hohe Lebenserwartung aufweist. Anschaulich können eine Metall-auf-Metall-Kontaktdichtung und/oder eine Metall-auf-Metall-Spaltdichtung bereitgestellt sein oder werden, welche im Vergleich zu Polymerdichtungen einen geringeren Abrieb beim Trennen und Zusammenfügen aufweisen. Weiterhin reduziert dies die Belastung des Vakuums mit durch Abrieb.
  • Die gemäß verschiedenen Ausführungsformen bereitgestellte Dichtanordnung kann Druckunterschiede (z.B. zwischen Atmosphäre und Vakuum) und selbst geringe Druckunterschiede (z.B. zwischen verschiedenen Vakuumbereichen) zuverlässig abdichten (d.h. eine möglichst geringe Leckrate aufweisen), gasundurchlässig sein und ausgas-frei, um zu verhindern, dass das Vakuum verunreinigt wird.
  • Erfindungsgemäß weist eine Vakuum-Gehäuseanordnung Folgendes auf: ein erstes Gehäuseteil und ein zweites Gehäuseteil, welche zusammengefügt einen Spalt bilden; eine Dichtungsstruktur zum Abdichten des Spalts; und ein metallisches Federelement, mittels dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar relativ zu dem ersten Gehäuseteil gelagert ist, so dass eine Fehlstellung (des ersten Gehäuseteils zu dem zweiten Gehäuseteil) ausgeglichen werden kann, wobei das metallische Federelement eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur aufweist.
  • Das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil können voneinander trennbar eingerichtet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Gehäuseteil des ersten Gehäuseteils und des zweiten Gehäuseteils einen Kammerkörper aufweisen das andere Gehäuseteil des ersten Gehäuseteils und des zweiten Gehäuseteils kann einen Kammerdeckel aufweisen. Beispielsweise kann das erste Gehäuseteil den Kammerkörper aufweisen oder daraus gebildet sein und das zweite Gehäuseteil kann den Kammerdeckel aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ kann das erste Gehäuseteil den Kammerdeckel aufweisen oder daraus gebildet sein und das zweite Gehäuseteil kann den Kammerkörper aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuum-Gehäuseanordnung Folgendes aufweisen: einen Kammerkörper und einen Kammerdeckel, welche zusammengefügt einen Spalt bilden; eine Dichtungsstruktur zum Abdichten des Spalts; und zumindest ein metallisches Federelement, mittels dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar (entweder) relativ zu dem Kammerdeckel oder relativ zu dem Kammerkörper gelagert ist, so dass eine Fehlstellung zwischen diesen ausgeglichen werden kann.
  • Erfindungsgemäß weist ein Kammerkörper Folgendes auf: eine Kammeröffnung zum Aufnehmen eines Kammerdeckels; eine Dichtungsstruktur zum Abdichten eines Spalts zwischen dem Kammerkörper und dem Kammerdeckel; und ein metallisches Federelement, mittels dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar relativ zu der Kammeröffnung gelagert ist, so dass eine Fehlstellung des Kammerdeckels ausgeglichen werden kann, wobei das metallische Federelement eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur aufweist.
  • Erfindungsgemäß weist ein Kammerdeckel zum Verschließen einer Kammeröffnung in einem Kammerkörper Folgendes auf: eine Dichtungsstruktur zum Abdichten eines Spalts zwischen dem Kammerkörper und dem Kammerdeckel; und ein metallisches Federelement, mittels dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar gelagert ist, so dass eine Fehlstellung des Kammerdeckels ausgeglichen werden kann, wobei das metallische Federelement eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur aufweist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur mittels des zumindest einen metallischen Federelements (z.B. federnd) auslenkbar mit dem ersten Gehäuseteil (z.B. mit dem Kammerkörper oder mit dem Kammerdeckel) gekuppelt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das zweite Gehäuseteil (z.B. entweder der Kammerdeckel oder der Kammerkörper) eine Dichtfläche aufweisen, wobei, wenn das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil zusammengefügt sind (z.B. wenn der Kammerdeckel die Kammeröffnung verschließt), die Dichtungsstruktur mittels des zumindest einen metallischen Federelements gegen die Dichtfläche gepresst wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das erste Gehäuseteil (z.B. entweder der Kammerdeckel oder der Kammerkörper) eine zusätzliche Dichtfläche aufweisen, wobei die Dichtungsstruktur in eine Richtung auslenkbar gelagert sein kann, welche parallel zu der zusätzlichen Dichtfläche ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuum-Gehäuseanordnung ferner zwei voneinander gasseparierte Vakuumbereiche aufweisen, zwischen denen der Spalt gebildet ist. Beispielsweise kann das zweite Gehäuseteil (z.B. der Kammerkörper) die zwei voneinander gasseparierten Vakuumbereiche aufweisen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die zwei voneinander gasseparierten Vakuumbereiche einander umgreifen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuum-Gehäuseanordnung ferner aufweisen: eine an den Spalt angrenzende Gegen-Dichtungsstruktur; wobei die Dichtungsstruktur und die Gegen-Dichtungsstruktur zum einander Umgreifen eingerichtet sind, so dass zwischen diesen eine Labyrinthdichtung gebildet wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gegen-Dichtungsstruktur mit dem zweiten Gehäuseteil gekuppelt sein, z.B. mittels einer Befestigung.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das erste Gehäuseteil (z.B. der Kammerdeckel) zumindest eine Gastrennwand aufweisen oder daraus gebildet sein, welche sich, wenn das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil zusammengefügt sind, in das zweite Gehäuseteil (z.B. den Kammerkörper) hinein erstreckt; wobei der Spalt an die zumindest eine Gastrennwand angrenzt.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das erste Gehäuseteil (z.B. der Kammerdeckel) mehrere voneinander separierte Gastrennwände aufweisen oder daraus gebildet sein, welche sich, wenn das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil zusammengefügt sind, in das zweite Gehäuseteil (z.B. den Kammerkörper) hinein erstrecken; wobei der Spalt an zumindest eine Gastrennwand der mehreren Gastrennwände angrenzt.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Spalt an einen Rand der zumindest einen Gastrennwand angrenzen (z.B. an diesem entlanglaufend).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur mittels des zumindest einen metallischen Federelements auslenkbar mit der zumindest einen Gastrennwand gekuppelt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuum-Gehäuseanordnung zumindest eine zusätzliche Dichtungsstruktur zum Abdichten eines zusätzlichen Spalts und ein zusätzliches metallisches Federelement aufweisen, mittels dessen die zusätzliche Dichtungsstruktur auslenkbar relativ zu dem ersten Gehäuseteil gelagert ist, so dass eine Fehlstellung ausgeglichen werden kann; wobei das metallische Federelement eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur aufweist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das zusätzliche metallische Federelement auf einer dem metallischen Federelement gegenüberliegenden Seite mit der zumindest einen Gastrennwand gekuppelt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das zweite Gehäuseteil (z.B. der Kammerkörper) eine Führungsnut aufweisen, in welche, wenn das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil zusammengefügt sind, die Dichtungsstruktur hineingreift.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das zweite Gehäuseteil (z.B. der Kammerkörper) ein Kammerinneres umgeben und eine Gastrennwand aufweisen, welche innerhalb des Kammerinneren angeordnet ist; wobei der Spalt an die Gastrennwand angrenzt.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Spalt an einen Rand der Gastrennwand angrenzen (z.B. am Rand entlanglaufend).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das erste Gehäuseteil (z.B. der Kammerdeckel) zumindest eine Lageranordnung zum Lagern einer Prozessquelle aufweisen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil entlang einer Richtung zusammenfügbar sein, wobei sich das Federelement quer zu der Richtung längserstreckt. Alternativ kann das Federelement quer zu der Richtung auslenkbar sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Federelement flächenförmig oder plattenförmig ausgebildet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Federelement zumindest einen Balken (z.B. Federbalken) aufweisen oder daraus gebildet sein (d.h. einen Balken oder mehrere Balken).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Federelement zumindest ein Federblatt aufweisen (d.h. ein Federblatt oder mehrere Federblätter).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können das erste Gehäuseteil und das zweite Gehäuseteil entlang einer ersten Richtung zusammenfügbar sein, wobei sich das Federelement quer zu der ersten Richtung erstreckt.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur mehrere Dichtungsstruktursegmente aufweisen, von denen jedes mittels eines metallischen Federelements auslenkbar gelagert ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement einen Doppellenker aufweisen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtungsstruktur und/oder der Spalt entlang eines (z.B. konstant) gekrümmten Pfads erstreckt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes Dichtungsstruktursegment der mehrere Dichtungsstruktursegmente entlang eines (z.B. konstant) gekrümmten Pfads erstreckt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumanordnung Folgendes aufweisen: den Kammerkörper und eine Transportanordnung, welche in dem Kammerkörper angeordnet ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumanordnung Folgendes aufweisen: die Vakuum-Gehäuseanordnung und eine Transportanordnung, welche in der Vakuum-Gehäuseanordnung angeordnet ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportanordnung Folgendes aufweisen: mehrere drehbar gelagerte Wickelhülsenkupplungen von denen zwei Wickelhülsenkupplungen zum Ankuppeln von Wickelhülsen, zwischen denen ein flexibles Substrat umgewickelt werden soll, eingerichtet sind, und von denen optional zumindest eine zusätzliche Wickelhülsenkupplung zum Ankuppeln zumindest einer zusätzlichen Wickelhülse, mittels derer eine Wickel-Zwischenschicht aufgenommen und/oder vorgehalten werden soll, eingerichtet ist; zumindest eine drehbar gelagerte Führungsrolle, welche einen gekrümmten Transportpfad definiert, entlang dessen das Umwickeln erfolgt (auch als Bahnlauf bezeichnet).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: die Vakuumanordnung; und eine Prozessierquelle zum Prozessieren eines Substrats, welches entlang des Transportpfads transportiert wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die zumindest eine Führungsrolle zumindest einer von folgenden Führungsrollen-Typen sein: ein Umlenkrolle; eine Breitstreckrolle; eine Messrolle; und/oder eine Zugrolle. Zumindest die Zugrolle kann eine angetriebene (d.h. aktive) Führungsrolle sein. Alternativ oder zusätzlich können die Umlenkrolle; die Breitstreckrolle und/oder die Messrolle eine antriebslose (d.h. passive) Führungsrolle sein. Die Messrolle kann einen Sensor aufweisen zum Erfassen einer Substrateigenschaft oder zum Erfassen einer Transporteigenschaft.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement verstanden werden als ein Metall aufweisend oder daraus gebildet. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement eine magnetische Permeabilität kleiner als ungefähr 10 aufweisen, z.B. kleiner als ungefähr 5, z.B. ungefähr 1. Damit kann eine magnetische Wechselwirkung verringert werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement Aluminium aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement Stahl aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Federstahl.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtungsstruktur und/oder die Gegen-Dichtungsstruktur ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtungsstruktur und/oder die Gegen-Dichtungsstruktur eine magnetische Permeabilität kleiner als ungefähr 10 aufweisen, z.B. kleiner als ungefähr 5, z.B. ungefähr 1.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können das erste Gehäuseteil und/oder das zweite Gehäuseteil ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Stahl.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die oder jede Gastrennwand ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Stahl.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtungsstruktur und/oder die Gegen-Dichtungsstruktur Eisen aufweisen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtungsstruktur und/oder die Gegen-Dichtungsstruktur Stahl aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement ein Flächenelement aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement einen Federweg bereitstellen, entlang dessen die Dichtungsstruktur auslenkbar ist (in Auslenkrichtung).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement quer zu der Auslenkrichtung längserstreckt sein.
  • Das Federelement kann auf einer ersten Seite mit der Dichtungsstruktur verbunden sein und/oder kann auf einer der ersten Seite entlang der Längserstreckung gegenüberliegenden zweiten Seite mit dem ersten Gehäuseteil verbunden sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das metallische Federelement eine Rückstellkraft in Richtung einer Ruhelage bereitstellen, wenn die Dichtungsstruktur aus der Ruhelage ausgelenkt wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur eine Dichtfläche aufweisen, welche mittels des metallischen Federelements federnd gelagert ist.
  • Eine oder jede Kammerwand (z.B. der Vakuum-Gehäuseanordnung, z.B. des Vakuumkammergehäuses) kann im Gegensatz zu einer oder jeder Gastrennwand (z.B. der Vakuum-Gehäuseanordnung) zur Stabilisierung der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. des Vakuumkammergehäuses) beitragen, und kann dazu z.B. eine oder mehrere Versteifungsrippen aufweisen. Mit anderen Worten kann die oder jede Gastrennwand mechanisch weniger stabil sein als die oder jede Kammerwand, z.B. weniger dick sein als die oder jede Kammerwand. Die oder jede Kammerwand (z.B. eine Gehäuseseitenwand) kann beispielsweise zur Versteifung der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. des Vakuumkammergehäuses) beitragen, d.h. eine stabilisierende Funktion und/oder Versteifungsrippen aufweisen. Im Gegensatz dazu kann die Stabilität der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. des Vakuumkammergehäuses) unabhängig von der oder jeder Gastrennwand sein, d.h. diese können entnommen werden, ohne die Stabilität der Vakuum-Gehäuseanordnung zu gefährden. Anschaulich die oder jede Gastrennwand zum Bereitstellen eines Unterschieds in der Gaszusammensetzung eingerichtet sein, während die oder jede Kammerwand zum Bereitstellen eines Unterschieds in dem Gasdruck eingerichtet ist.
  • Die oder jede Kammerwand der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. des Vakuumkammergehäuses) können das Äußere (d.h. den Bereich in dem Atmosphäre verbleibt) von dem Inneren (d.h. in dem Vakuum erzeugt oder erhalten wird) der Vakuum-Gehäuseanordnung trennen. Die oder jede Gastrennwand kann im Inneren der Vakuum-Gehäuseanordnung zwei Bereiche (Vakuumbereiche, d.h. Bereiche, in denen Vakuum erzeugt oder erhalten wird) voneinander separieren.
  • Die oder jede Kammerwand und/oder die oder jede Gastrennwand können einen plattenförmigen Träger aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Platte, z.B. ein Blech. Die oder jede Kammerwand kann eine größere Dicke (Ausdehnung quer zur Längserstreckung) aufweisen als die oder jede Gastrennwand und/oder mehr Versteifungsrippen als diese.
  • Als Kammer kann ein von Kammerwänden begrenzter Hohlraum verstanden werden, d.h. ein druckstabiler Innenraum. Als Kompartment kann ein Hohlraum verstanden werden, welcher von zumindest einer Gastrennwand begrenzt wird. In einer Kammer können optional mehrere Kompartments bereitgestellt sein oder werden, z.B. indem in der Kammer zumindest eine Gastrennwand angeordnet ist oder wird.
  • Der Kammerdeckel und die Kammeröffnung des Kammergehäuses können derart eingerichtet sein, dass der Kammerdeckel die Kammeröffnung vakuumdicht verschließt, wenn der Kammerdeckel in der Kammeröffnung aufgenommen ist. Dazu kann der Kammerdeckel passend zur Kammeröffnung geformt sein, so dass ein Spalt zwischen dem Kammerdeckel und dem Kammergehäuse möglichst klein ist, wenn der Kammerdeckel in der Kammeröffnung aufgenommen ist. Ferner können der Kammerdeckel und/oder die Kammeröffnung beispielsweise entsprechende Dichtungen aufweisen, welche den (verbleibenden) Spalt zwischen dem Kammerdeckel und dem Kammergehäuse abdichten, wenn der Kammerdeckel in der Kammeröffnung aufgenommen ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuum-Gehäuseanordnung Folgendes aufweisen: einen Kammerkörper, welche in eine erste Richtung geöffnet ist; einen Kammerdeckel zum Verschließen der Öffnung (z.B. entlang der ersten Richtung), wobei der Kammerdeckel ein erstes Wandelement aufweist, welches quer zu der ersten Richtung erstreckt ist und ein zweites Wandelement aufweist, welches entlang der ersten Richtung erstreckt ist; wobei der Kammerkörper und der Kammerdeckel zusammengefügt einen ersten Spalt zwischen dem ersten Wandelement und dem Kammerkörper bilden und einen zweiten Spalt zwischen dem zweiten Wandelement und dem Kammerkörper bilden; eine erste Dichtungsstruktur zum Abdichten des ersten Spalts und zumindest ein erstes metallisches Federelement, mittels dessen die erste Dichtungsstruktur auslenkbar in die erste Richtung gelagert ist; und eine zweite Dichtungsstruktur zum Abdichten des zweiten Spalts und zumindest ein zweites metallisches Federelement, mittels dessen die zweite Dichtungsstruktur auslenkbar in eine zweite Richtung gelagert ist, die quer zur ersten Richtung ist.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.
  • Es zeigen
    • 1A und 1B jeweils eine Vakuum-Gehäuseanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 2A einen Kammerkörper gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 2B einen Kammerdeckel gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 2C eine Vakuum-Gehäuseanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 3A einen Kammerdeckel gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 3B, 3B und 3C jeweils eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 4A und 4B jeweils eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 5, 6 und 7 jeweils eine Vakuum-Gehäuseanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Ansichten;
    • 8 eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht;
    • 9 eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 10A und 10B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 11 eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht;
    • 12 eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht;
    • 13 eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht;
    • 14 und 15 jeweils eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Ansichten;
    • 16 und 17 jeweils eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Ansichten;
    • 18 und 19 jeweils eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Ansichten;
    • 20 und 21 jeweils ein erstes Gehäuseteil gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen Ansichten; und
    • 22 eine Vakuum-Gehäuseanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht.
  • In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer (z.B. mechanischen, hydrostatischen, thermischen und/oder elektrischen), z.B. direkten oder indirekten, Verbindung und/oder Wechselwirkung verstanden werden. Mehrere Elemente können beispielsweise entlang einer Wechselwirkungskette miteinander gekoppelt sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Bewegung, Druck, Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen.
  • Im Zusammenhang mit vakuumerzeugenden oder vakuumerhaltenden Vakuumkomponenten (z.B. einer Pumpe, einer Kammer, einer Leitung, einem Ventil, usw.) kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer Verbindung zu einem gemeinsamen Vakuumsystem verstanden werden. Die miteinander gekoppelten Komponenten des Vakuumsystems können eingerichtet sein, mittels der Kopplung untereinander ein Gas austauschen, wobei die Kopplung von einem Äußeren des Vakuumsystems gassepariert sein kann.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Steuerung eine nach vorn gerichtete Steuerstrecke aufweisen und somit anschaulich eine Ablaufsteuerung implementieren, welche eine Eingangsgröße in eine Ausgangsgröße umsetzt. Die Steuerstrecke kann aber auch Teil eines Regelkreises sein, so dass eine Regelung implementiert wird. Die Regelung weist im Gegensatz zu der reinen Vorwärts-Steuerung eine fortlaufende Einflussnahme der Ausgangsgröße auf die Eingangsgröße auf, welche durch den Regelkreis bewirkt wird (Rückführung). Mit anderen Worten kann alternativ oder zusätzlich zu der Steuerung eine Regelung verwendet werden bzw. alternativ oder zusätzlich zu dem Steuern ein Regeln erfolgen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat, beispielsweise ein Glassubstrat, ein Metallsubstrat und/oder ein Polymersubstrat, behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats können verschiedene Beschichtungsverfahren durchgeführt werden, wie beispielsweise eine Gasphasenabscheidung, z.B. eine chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder eine physikalische Gasphasenabscheidung (PVD).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein flexibles Substrat in Form eines Bands (z.B. Metallband, Folienband oder Glasband) in einer Durchlaufanlage prozessiert, z.B. in einer Folienbeschichtungsanlage beschichtet (und/oder anderweitig behandelt), werden. Dabei kann beispielsweise ein Bandsubstrat mittels einer Transportanordnung durch einen Beschichtungsbereich hindurch transportiert werden. Die Transportanordnung kann beispielsweise derart eingerichtet sein, dass das Bandsubstrat von Rolle-zu-Rolle (auch als R2R bezeichnet) prozessiert wird, wobei das Bandsubstrat von einem ersten Substrat-Wickel abgewickelt wird, durch den Beschichtungsbereich hindurch transportiert wird, und nach dem Beschichten zu einem zweiten Substrat-Wickel wieder aufgewickelt wird (auch als Umwickeln bezeichnet), z.B. von einer ersten Wickelhülse auf eine zweite Wickelhülse. Dabei kann die Beschichtungsanlage eine Vakuumkammer aufweisen, so dass das Bandsubstrat im Vakuum beschichtet werden kann. Der Substrat-Wickel kann beispielsweise in die Vakuumkammer eingeschleust oder aus dieser ausgeschleust werden, so dass die Vakuumkammer zyklisch belüftet werden muss zum Austauschen des Bandsubstrats. Der Substrat-Wickel kann ein aufgewickeltes Substrat bezeichnen. Der Substrat-Wickel kann mittels einer Wickelhülse gelagert sein oder werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Prozessieren (auch als Behandeln bezeichnet) eines Bandsubstrats mindestens eines von Folgendem aufweisen: Reinigen des Bandsubstrats, Beschichten des Bandsubstrats, Bestrahlen (z.B. mittels Licht, UV-Licht, Teilchen, Elektronen, Ionen, usw.) des Bandsubstrats, Modifizieren der Oberfläche des Bandsubstrats, Erwärmen des Bandsubstrats, Ätzen des Bandsubstrats und Glimmen des Bandsubstrats.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumbeschichtungsanlage genutzt werden, um eine Schicht oder mehrere Schichten mittels einer chemischen und/oder physikalischen Gasphasenabscheidung auf einem Bandsubstrat abzuscheiden. Um ein großflächiges Abscheiden auf entsprechend großflächigen Bandsubstraten effizient zu realisieren, kann das Bandsubstrat mittels Führungsrollen durch mehrere Beschichtungsbereiche hindurch umgewickelt werden, wobei während des Transports des Substrats durch die Anlage hindurch in jedem Beschichtungsbereich der Beschichtungsanlage ein Beschichtungsprozess durchgeführt werden kann.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat mit einem Beschichtungsmaterial beschichtet sein oder werden. Das Beschichtungsmaterial kann zumindest ein Material der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Metall; ein Übergangsmetall, ein Oxid (z.B. ein Metalloxid oder ein Übergangsmetalloxid); ein Dielektrikum; ein Polymer (z.B. ein Kohlenstoff-basiertes Polymer oder ein Silizium-basiertes Polymer); ein Oxinitrid; ein Nitrid; ein Karbid; eine Keramik; ein Halbmetall (z.B. Kohlenstoff); ein Perowskit; ein Glas oder glasartiges Material (z.B. ein sulfidisches Glas); einen Halbleiter; ein Halbleiteroxid; ein halborganisches Material, und/oder ein organisches Material. Das Beschichtungsmaterial zum Beschichten des Substrats kann mittels einer Beschichtungsmaterialquelle bereitgestellt sein oder werden.
  • Die Beschichtungsmaterialquelle kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen zum Beschichten zumindest eines Substrat (d.h. eines Substrats oder mehrere Substrate) eingerichtet sein, welches z.B. durch den Prozessierabschnitt hindurch transportiert wird. Beispielsweise kann die Beschichtungsmaterialquelle zum Bereitstellen eines gasförmigen Beschichtungsmaterials (z.B. ein Materialdampf) und/oder flüssigen Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, welches z.B. auf dem zumindest einen Substrat zum Bilden einer Schicht abgeschieden werden kann. Eine Beschichtungsmaterialquelle kann zumindest eines von Folgendem aufweisen: eine Sputtervorrichtung, eine thermisch-Verdampfen-Vorrichtung (z.B. einen Laserstrahlverdampfer, einen Lichtbogenverdampfer, einen Elektronenstrahlverdampfer und/oder einen thermischen Verdampfer), eine Präkursorgasquelle, einen Flüssigphasenzerstäuber. Eine Sputtervorrichtung kann zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials mittels eines Plasmas eingerichtet sein. Eine thermisch-Verdampfen Vorrichtung kann zum Überführen des Beschichtungsmaterials in einen gasförmigen Aggregatszustand mittels thermischer Energie eingerichtet sein. Je nach der Beschaffenheit des Beschichtungsmaterials können ein Sublimieren und/oder ein Verdampfen des Beschichtungsmaterials erfolgen. Mit anderen Worten kann die thermisch-Verdampfen-Vorrichtung das Beschichtungsmaterial auch sublimieren. Ein Flüssigphasenzerstäuber kann zum Aufbringen eines Beschichtungsmaterials aus der Flüssigphase eingerichtet sein, z.B. einen Farbstoff aufweisend oder daraus gebildet.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, einen Halbleiter (z.B. einen amorphen, polykristallinen oder einkristallinen Halbleiter, z.B. Silizium), ein Metall (z.B. Aluminium, Kupfer, Eisen, Stahl, Platin, Gold, etc.) ein Polymer (z.B. Kunststoff) und/oder eine Mischung verschiedener Materialien, wie z.B. ein Verbundwerkstoff (z.B. Kohlenstofffaser-verstärkter-Kohlenstoff, oder Kohlenstofffaser-verstärkter-Kunststoff).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat eine Kunststofffolie, eine Halbleiterfolie, eine Metallfolie und/oder eine Glasfolie aufweisen oder daraus gebildet sein, und optional beschichtet sein oder werden. Optional kann das Substrat Fasern aufweisen, z.B. Glasfasern, Kohlenstofffasern, Metallfasern und/oder Kunststofffasern, z.B. in Form eines Gewebes, eines Netzes, eines Gewirks, Gestricks, oder als Filz bzw. Flies.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat als Band (auch als Bandsubstrat bezeichnet) von Rolle-zu-Rolle transportiert werden. Das Bandsubstrat kann eine Breite in einem Bereich von ungefähr 50 cm bis ungefähr 500 cm aufweisen, oder eine Breite von mehr als ungefähr 500 cm. Ferner kann das Bandsubstrat flexibel sein. Anschaulich kann ein Bandsubstrat ein beliebiges Substrat sein, welches auf eine Rolle aufgewickelt werden kann und/oder beispielsweise von Rolle-zu-Rolle prozessiert werden kann. Das Bandsubstrat kann je nach Elastizität des verwendeten Materials eine Materialstärke (auch als Substratdicke bezeichnet) in einem Bereich von ungefähr einigen Mikrometern (z.B. von ungefähr 1 µm) bis ungefähr einigen Millimetern (z.B. bis ungefähr 10 mm) aufweisen, z.B. in einem Bereich von ungefähr 0,01 mm bis ungefähr 3 mm. Die Führungsrollen können länger sein, als das Substrat breit ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Abdichten eines Spalts verstanden werden, als dass ein erster Bereich an oder in dem Spalt gegenüber einem zweiten Bereich an oder in dem Spalt, abgedichtet ist oder wird. Der erste Bereich und der zweite Bereich können sich in ihrem Druck unterscheiden, d.h. diese können einen Druckunterschied aufweisen. Mittels des Abdichtens kann ein Stoffübergang zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich gestört sein oder werden, z.B. zumindest teilweise unterdrückt. Der erste Bereich und optional der zweite Bereich können ein Vakuumbereich (z.B. innerhalb des Kammerkörpers angeordnet) sein, d.h. in diesem kann ein Vakuum erzeugt und/oder erhalten werden. Alternativ kann der zweite Bereich ein Atmosphärebereich sein, d.h. dieser kann Atmosphärendruck aufweisen und/oder außerhalb der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. außerhalb des oder jedes Vakuumkammergehäuses) angeordnet sein.
  • Das Innere des Kammerkörpers kann beispielsweise einen Vakuumbereich oder mehrere Vakuumbereiche aufweisen, welche miteinander vakuumtechnisch verbunden sind und/oder gegenüber einem Äußeren (z.B. einem Äußeren des Kammerkörpers) vakuumdicht abgedichtet sein können. Beispielsweise kann der oder jeder Vakuumbereich zumindest teilweise durch den Kammerkörper definiert sein oder werden, d.h. z.B. nach außen hin begrenzt werden. Eine Vakuum-Gehäuseanordnung kann beispielsweise ein oder mehrere Vakuumkammergehäuse aufweisen und/oder kann zumindest ein Vakuumkammergehäuse mit einem oder mehreren Gehäuseabteilen (so genannte Kompartments) aufweisen, wobei das oder jedes Vakuumkammergehäuse und/oder das oder jedes Gehäuseabteil jeweils einen Vakuumbereich definieren kann.
  • Das oder jedes Vakuumkammergehäuse kann als hermetisches Behältnis verstanden werden, welches in sich stabil ist, d.h. mittels Kammerwänden gestützt sein kann, und welche gegeneinander und nach außen einen Druckunterschied von mindestens einem Bar standhalten. Mittels des Kammerkörpers kann ein oder können mehrere Vakuumkammergehäuse bereitgestellt sein oder werden, welche optional mittels Gastrennwänden in Kompartments unterteilt sein oder werden können. Mit anderen Worten kann jede Vakuumkammer mittels eines Vakuumkammergehäuses bereitgestellt sein oder werden, wobei die Vakuumkammer optional in mehrere Kompartments unterteilt sein oder werden kann. Das Vakuumkammergehäuse kann als funktioneller Teil der Vakuum-Gehäuseanordnung verstanden werden, welcher z.B. ein Behältnis des Kammerkörpers aufweist, wobei das Behältnis optional eine Öffnung zum Freilegen der darin bereitgestellten Vakuumkammer aufweist, und optional einen Deckel zum Verschließen der Öffnung. Beispielsweise kann die Vakuum-Gehäuseanordnung mehrere Vakuumkammergehäuse aufweisen, von denen jedes eine Öffnung und einen zugehörigen Deckel aufweisen kann.
  • Die Vakuum-Gehäuseanordnung kann verstanden werden als die zur Bereitstellung des oder jedes Vakuumbereichs benötigten Gehäuseteile oder zumindest einen Teil derer, wie z.B. den Kammerkörper und/oder den oder jeden Kammerdeckel sowie optional darin angeordnete Einbauten (eingebaute Gehäuseteile), wie beispielsweise eine Gastrennwand oder mehrere Gastrennwände. Die Einbauten können optional mit dem Kammerkörper oder dem Kammerdeckel verbunden sein, z.B. daran befestigt und/oder eingesteckt, und somit diesen zugeordnet sein. Beispielsweise kann dem Kammerkörper zumindest eine Gastrennwand hinzugefügt, z.B. darin befestigt, sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich kann dem Kammerdeckel zumindest eine Gastrennwand hinzugefügt, z.B. daran befestigt, sein oder werden. Die dem Kammerdeckel hinzugefügte zumindest eine Gastrennwand kann mit diesem gemeinsam von dem Kammerkörper gelöst sein oder werden und/oder mit diesem gemeinsam mit dem Kammerkörper zusammengebracht sein oder werden.
  • Das Abdichten eines Spalts (z.B. gegenüber einem Vakuum, bzw. Vakuumbereich) kann verstanden werden, als dass ein Stoffübergang, bzw. Stoffaustausch (z.B. Gasaustausch), durch den Spalt hindurch mittels der Dichtungsstruktur verringert begrenzt oder verhindert werden kann. Beispielsweise kann ein Stoffübergang in das Vakuum hinein verringert, begrenzt oder verhindert werden.
  • Zum Abdichten kann die Dichtungsstruktur gegen eine Dichtfläche (z.B. des zweiten Gehäuseteils) gepresst werden, wobei die Dichtfläche und die Dichtungsstruktur eine gemeinsame Kontaktfläche bilden. Alternativ kann die Dichtungsstruktur in einem Abstand zu der Dichtfläche angeordnet sein, welcher derart gering ist, dass ein Gasaustausch durch die zwischen diesen gebildete Spaltdichtung (anschaulich ein Restspalt) behindert wird. Damit eine möglichst hohe Dichtwirkung erreicht werden kann, können die Dichtungsstruktur und die Dichtfläche planar und/oder parallel zueinander sein.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung kann ein Metall (auch als metallischer Werkstoff bezeichnet) zumindest ein metallisches Element (d.h. ein oder mehrere metallische Elemente) aufweisen (oder daraus gebildet sein), z.B. zumindest ein Element aus der Folgenden Gruppe von Elementen: Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Titan (Ti), Nickel (Ni), Silber (Ag), Chrom (Cr), Platin (Pt), Gold (Au), Magnesium (Mg), Aluminium (A1), Zirkonium (Zr), Tantal (Ta), Molybdän (Mo), Wolfram (W), Vanadium (V), Barium (Ba), Indium (In), Calcium (Ca), Hafnium (Hf), Samarium (Sm), Silber (Ag), und/oder Lithium (Li). Ferner kann ein Metall eine metallische Verbindung (z.B. eine intermetallische Verbindung oder eine Legierung) aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Verbindung aus zumindest zwei metallischen Elementen (z.B. aus der Gruppe von Elementen), wie z.B. Bronze oder Messing, oder z.B. eine Verbindung aus zumindest einem metallischen Element (z.B. aus der Gruppe von Elementen) und mindestens einem nichtmetallischen Element (z.B. Kohlenstoff), wie z.B. Stahl.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen eine Vakuum-Gehäuseanordnung eine Kammer (auch als Vakuumkammer bezeichnet) oder mehrere Kammern aufweisen. Die Vakuum-Gehäuseanordnung kann beispielsweise zum Bereitstellen eines Unterdrucks oder eines Vakuums mit einer Pumpenanordnung, z.B. einer Vakuumpumpenanordnung, (z.B. gasleitend) gekoppelt sein und derart stabil eingerichtet sein, dass diese dem Einwirken des Luftdrucks im abgepumpten Zustand standhält. Die Pumpenanordnung (aufweisend zumindest eine Vakuumpumpe, z.B. eine Hochvakuumpumpe, z.B. eine Turbomolekularpumpe) kann es ermöglichen, einen Teil des Gases aus dem Inneren der Prozessierkammer, z.B. aus dem Vakuumbereich, abzupumpen. Dementsprechend kann eine Vakuumkammer oder können mehrere Vakuumkammern in einer Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. jede mittels eines Vakuumkammergehäuses) bereitgestellt sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. das oder jedes Vakuumkammergehäuse), z.B. eine oder jede darin bereitgestellte Vakuumkammer, derart eingerichtet sein, dass darin ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10 mbar bis ungefähr 1 mbar (mit anderen Worten Grobvakuum) bereitgestellt werden kann, und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10-3 mbar (mit anderen Worten Feinvakuum), und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10-3 mbar bis ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) und/oder ein Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10-7 mbar.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Folienbeschichtungsanlagen bereitgestellt sein oder werden, welche eine Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. ein Vakuumkammergehäuse) und eine darin angeordnete Sputteranordnung aufweist. Die Sputteranordnung kann folgende aufweisen: Eine Beschichtungswalze (auch als Prozessierrolle bezeichnet), welche innerhalb eines Gestells gelagert ist (z.B. zwischen eine Platinenpaar). An die Prozessierrolle kann zumindest ein Kompartment, d.h. ein Kompartment oder mehrere Kompartments angrenzen. Beispielsweise könne die mehreren Kompartment um die Prozessierrolle herum sternförmig angeordnet sein oder werden.
  • Um die Prozessierrolle herum können sternförmig mit einem radialen Abstand zur Prozessierrolle und in bestimmten Winkelabständen untereinander mehrere Magnetrons (allgemeiner mehrere Beschichtungsmaterialquellen) in dem oder jedem Kompartment angeordnet sein oder werden.
  • Die Magnetrons bzw. Beschichtungsmaterialquellen können an dem Kammerdeckel (anschaulich eine Tür) befestigt sein und/oder können zum Öffnen der Vakuum-Gehäuseanordnung (z.B. des oder jedes Vakuumkammergehäuses) zusammen mit dem Kammerdeckel in eine horizontale Richtung bewegt und somit von der Prozessierrolle getrennt und der Wartung zugeführt werden.
  • Zwischen den Magnetrons bzw. Beschichtungsquellen bzw. Kompartments kann optional eine Gastrennung erfolgen. Dazu können zwei Gastrennwände zwischen benachbarten Kompartments angeordnet sein oder werden. Die zwei Gastrennwände können zur Prozessierrolle hin mittels Strömungswiderständen abgedichtet sein oder werden. Die zwei Gastrennwände und die Strömungswiderstände bilden zusammen die Gastrennung.
  • Zwischen den zwei Gastrennwänden kann aktiv abgepumpt werden, so dass möglichst wenig Gas zwischen den Kompartments ausgetauscht werden kann und/oder von einem Kompartment zum benachbarten gelangen kann.
  • Zur Kammerwand (nach außen) können die zwei Gastrennwände entweder:
    • • im Bereich des oder jedes Kompartments verbunden (z.B. bei axialer Pumpenanordnung in dem oder jedem Kompartment) sein und offen im Bereich der Gastrennung (z.B. bei Pumpen durch Kammer-Hintergrunddruck); oder
    • • dicht mit den Kammerwänden verbunden sein (beispielsweise bei einer radialen Pumpenanordnung).
  • Zu Wartungszwecken kann der Zugang zur Prozessierrolle ermöglicht sein, z.B. um eine oder mehrere Abschirmungen (z.B. Bedampfungsschutzschilde) zu wechseln. Die Magnetrons bzw. Beschichtungsmaterialquellen können mittels des Kammerdeckels in eine horizontale und/oder axiale Richtung aus dem oder jedem Kompartment herausgezogen werden.
  • Die Gastrennwände und Abschirmungen können zumindest teilweise (d.h. teilweise oder vollständig) von der Prozessierrolle entfernt werden. Dazu können die Trennstellen längsseits und an der Stirnseite des oder jedes Kompartments (welche z.B. zwischen den einzelnen Komponenten erforderlich sein können) mittels einer Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen abgedichtet sein oder werden.
  • 1A veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 100a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111).
  • Die Vakuum-Gehäuseanordnung 100a kann ein erstes Gehäuseteil 402 aufweisen, welches einen Kammerkörper 104 aufweist. Ferner kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 100a ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, welches einen Kammerdeckel 106 aufweist. Das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 können zusammengefügt einen abzudichtenden Spalt 110s bilden.
  • Der Kammerkörper 104 kann eine Kammeröffnung 104o aufweisen, welche ein Inneres 104i des Kammerkörpers 104 (auch als Kammerinneres 104i bezeichnet) in eine erste Richtung 105 (z.B. eine vertikale, eine horizontale und/oder axiale Richtung 105) freilegt. Mit anderen Worten kann der Kammerkörper 104 in Richtung 105 geöffnet und/oder geschlossen sein oder werden. Die Richtung 105 kann sich nach der Geometrie und/oder Ausrichtung des Kammerkörpers 104 richten, und bei einer seitlich zu öffnenden Prozessieranordnung eine horizontale Richtung sein, z.B. in axialer Richtung der Transportrollen.
  • In dem oder an dem abzudichtenden Spalt 110s kann eine Dichtungsstruktur 108 angeordnet sein, so dass der abzudichtende Spalt 110s zumindest teilweise abgedichtet wird. Die Dichtungsstruktur 108 kann eine Dichtfläche 108f (auch als erste Kontakt-Dichtfläche 108f bezeichnet) aufweisen, mit welcher die Dichtungsstruktur 108 gegen die Kammerdeckel 106, z.B. gegen dessen Dichtfläche 106f (auch als zweite Kontakt-Dichtfläche 106f bezeichnet), gepresst wird. Die zum Anpressen der Dichtungsstruktur 108 gegen den Kammerdeckel 106 erforderliche Rückstellkraft kann mittels eines metallischen Federelements 112 erzeugt werden.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels des metallischen Federelements 112 mit dem Kammerkörper 104 gekoppelt sein, z.B. auslenkbar entlang zumindest einer Auslenkrichtung 111 (welche parallel zu der ersten Richtung 105 sein kann). Die Dichtungsstruktur 108 kann entlang einer zweiten Richtung 103, 105 (quer zu der ersten Richtung 105) in einem Abstand von dem Kammerkörper 104 angeordnet sein, z.B. von einem Wandelement 104w des Kammerkörpers 104, z.B. dessen Kammerwand oder einer Gastrennwand. Der zwischen der Dichtungsstruktur 108 und dem Kammerkörper 104, z.B. dessen Wandelement 104w, eingerichtete Abstand kann derart eingerichtet sein, dass dieser als Spaltdichtung 110v wirkt.
  • Eine Spaltdichtung 110v kann verstanden werden als räumliche Verbindung zwischen zwei Bereichen, welche einen derart hohen Strömungswiderstand aufweist, dass ein Gasaustausch zwischen den zwei Bereichen behindert wird, d.h. als gassperrende Verbindung. Die Dichtwirkung der Spaltdichtung 110v kann anschaulich auf der Verlängerung des Strömungsweges durch den abzudichtenden Spalt 110s beruhen, wodurch der Strömungswiderstand wesentlich erhöht wird. Beispielsweise kann die Spaltdichtung 110v einen Strömungsweg (entlang der Auslenkrichtung 111) bereitstellen, welcher mehr als ungefähr das Zehnfache (z.B. mehr als das Fünfzigfache, z.B. mehr als ungefähr das Hundertfache) der Ausdehnung der Spaltdichtung 110v quer zum Strömungsweg ist, z.B. der Ausdehnung der Spaltdichtung 110v entlang der zweiten Richtung 103, 101).
  • Wird der Kammerdeckel 106 auf den Kammerkörper 104 aufgelegt (aus Richtung 105), kann das metallische Federelement 112 ausgelenkt werden, so dass sich die Dichtungsstruktur 108 entlang der ersten Richtung relativ zu dem Kammerkörper 104 bewegt. Dabei kann die Spaltdichtung 110v erhalten bleiben.
  • Ist der Kammerdeckel 106 auf den Kammerkörper 104 aufgelegt, kann der Kammerdeckel 106 mit der Dichtungsstruktur 108 in körperlichem Kontakt sein und zwischen der Dichtungsstruktur 108 und dem Kammerkörper 104 (z.B. dessen Wandelement 104w) kann die Spaltdichtung gebildet sein oder werden.
  • 1B veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 100b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Die Vakuum-Gehäuseanordnung 100b kann ein erstes Gehäuseteil 402 aufweisen, welches einen Kammerdeckel 106 aufweist. Ferner kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 100b ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, welches einen Kammerkörper 104 aufweist. Das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 können zusammengefügt einen abzudichtenden Spalt 110s bilden.
  • In dem oder an dem abzudichtenden Spalt 110s kann eine Dichtungsstruktur 108 angeordnet sein, so dass der abzudichtende Spalt 110s zumindest teilweise abgedichtet wird. Die Dichtungsstruktur 108 kann eine Dichtfläche 108f (auch als erste Kontakt-Dichtfläche 108f bezeichnet) aufweisen, mit welcher die Dichtungsstruktur 108 gegen den Kammerkörper 104, z.B. gegen dessen Dichtfläche 104f (auch als zweite Kontakt-Dichtfläche 104f bezeichnet), gepresst wird. Die zum Anpressen der Dichtungsstruktur 108 gegen den Kammerkörper 104 erforderliche Rückstellkraft kann mittels des metallischen Federelements 112 erzeugt werden.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels des metallischen Federelements 112 mit dem Kammerdeckel 106 gekoppelt sein, z.B. auslenkbar entlang zumindest der Auslenkrichtung 111 (welche beispielsweise parallel zu der ersten Richtung 105 sein kann). Die Dichtungsstruktur 108 kann entlang der zweiten Richtung 103, 101 (quer zu der ersten Richtung 105) in einem Abstand von dem Kammerdeckel 106 angeordnet sein, z.B. von dessen Seitenfläche. Der zwischen der Dichtungsstruktur 108 und dem Kammerdeckel 106 eingerichtete Abstand kann derart eingerichtet sein, dass dieser als Spaltdichtung 110v wirkt.
  • Wird der Kammerdeckel 106 auf den Kammerkörper 104 aufgelegt (aus Richtung 105), kann das metallische Federelement 112 ausgelenkt werden, so dass sich die Dichtungsstruktur 108 entlang der ersten Richtung 105 relativ zu dem Kammerdeckel 106 bewegt. Dabei kann die Spaltdichtung 110v erhalten bleiben.
  • Ist der Kammerdeckel 106 auf den Kammerkörper 104 aufgelegt, kann der Kammerkörper 104 mit der Dichtungsstruktur 108 in körperlichem Kontakt sein und zwischen der Dichtungsstruktur 108 und dem Kammerdeckel 106 kann die Spaltdichtung 110v gebildet sein oder werden.
  • 2A veranschaulicht einen Kammerkörper 200a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Der Kammerkörper 200a kann eine Kammeröffnung 104o aufweisen und eine Dichtungsstruktur 108, welche an die Kammeröffnung 104o angrenzt. Der Kammerkörper 200a kann mehrere Wandelemente 104w (z.B. Kammerwände oder Gastrennwände) aufweisen, welche die Kammeröffnung 104o umgeben. Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels des metallischen Federelements 112 auslenkbar 111 an zumindest einem Wandelement 104w des Kammerkörpers 200a gelagert sein, z.B. auslenkbar entlang der ersten Richtung 105. In die erste Richtung 105 kann die Dichtungsstruktur 108 eine Dichtfläche 108f des Kammerkörpers 104 bereitstellen.
  • Der Kammerkörper 104, z.B. dessen Wandelement 104w, kann eine zusätzliche Dichtfläche 114f aufweisen, welche parallel zu der Auslenkrichtung 111 ist. Zwischen der zusätzlichen Dichtfläche 114f des Kammerkörpers 104 und der Dichtungsstruktur 108 kann die Spaltdichtung 110v gebildet sein. Die Spaltdichtung 110v kann eine erste Ausdehnung entlang der zusätzlichen Dichtfläche 114f und eine zweite Ausdehnung quer zur der zusätzlichen Dichtfläche 114f aufweisen, wobei die erste Ausdehnung größer ist als ungefähr das Zehnfache (z.B. mehr als das Fünfzigfache, z.B. mehr als ungefähr das Hundertfache) der zweiten Ausdehnung.
  • 2B veranschaulicht einen Kammerdeckel 200b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Der Kammerdeckel 200b kann ein Wandelement 106w aufweisen, z.B. eine Kammerwand oder eine Gastrennwand. Der Kammerdeckel 200b kann ferner eine Dichtungsstruktur 108 aufweisen, welche eine Dichtfläche 108f des Kammerdeckels 106 bereitstellt (Richtung 105). Ferner kann der Kammerdeckel 200b ein metallisches Federelement 112 aufweisen, mittels dessen die Dichtungsstruktur 108 auslenkbar 111 an dem Wandelement 106w gelagert ist, z.B. auslenkbar entlang der ersten Richtung 105. Das Wandelement 106w kann einen plattenförmigen Träger aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Der Kammerdeckel 106 kann eine zusätzliche Dichtfläche 116f aufweisen, welche parallel zur Auslenkrichtung 111 ist. Zwischen der zusätzlichen Dichtfläche 116f des Kammerdeckels 106 und der Dichtungsstruktur 108 kann die Spaltdichtung 110v gebildet sein. Die Spaltdichtung 110v kann eine erste Ausdehnung entlang der zusätzlichen Dichtfläche 116f und eine zweite Ausdehnung quer zur der zusätzlichen Dichtfläche 116f aufweisen, wobei die erste Ausdehnung größer ist als ungefähr das Zehnfache (z.B. mehr als das Fünfzigfache, z.B. mehr als ungefähr das Hundertfache) der zweiten Ausdehnung.
  • 2C veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 200c gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerkörper 104 zwei voneinander gasseparierte Vakuumbereiche 306b, 308b aufweisen, zwischen denen der abzudichtende Spalt 110s gebildet ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 106 zumindest eine Gastrennwand 106g aufweisen, welche sich quer zu dem Wandelement 106w erstreckt, z.B. in den Kammerkörper 104 hinein. Beispielsweise kann das Wandelement 106w eine Kammerwand oder eine zusätzliche Gastrennwand aufweisen oder daraus gebildet sein. Der abzudichtende Spalt 110s kann an die Gastrennwand 106g angrenzen.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels des metallischen Federelements 112 an einem Wandelement 114w (z.B. einer Kammerwand oder einer Gastrennwand) des Kammerkörpers 104 gekuppelt sein. Beispielsweise können das Wandelement 114w und die Kammeröffnung 104o einander gegenüberliegen. Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels des metallischen Federelements 112 entlang der Auslenkrichtung 111 auslenkbar 111 gelagert sein (z.B. entlang einer zweiten Richtung 103, welche quer zu der ersten Richtung 105 ist).
  • Optional kann der Kammerdeckel 106 eine an den abzudichtenden Spalt 110s angrenzende Gegen-Dichtungsstruktur 118 aufweisen. Die Dichtungsstruktur 108 und die Gegen-Dichtungsstruktur 118 können zum Ineinandergreifen (z.B. einander Umgreifen) eingerichtet sein, so dass zwischen diesen eine Labyrinthdichtung 110v gebildet wird. Die Labyrinthdichtung 110v kann eine gewinkelt oder gekrümmt verlaufende Spaltdichtung sein. Anschaulich kann die Labyrinthdichtung 110v eine weitere Verlängerung des Strömungsweges bereitstellen, welche mittels ineinandergreifender Dichtflächen bereitgestellt wird.
  • Alternativ zu der in 2C veranschaulichten Anordnung, kann das metallische Federelement 112 alternativ auch an der Gastrennwand 106g des Kammerdeckels 106 befestigt sein oder werden. Dann kann der Kammerkörper 104 die optionale Gegen-Dichtungsstruktur 118 aufweisen, wie im Folgenden noch genauer beschrieben wird.
  • 3A veranschaulicht einen Kammerdeckel 300a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung quer zur ersten Richtung 105).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 300a mehrere Gastrennwände 106g (z.B. alternativ oder zusätzlich zu den Gastrennwänden 106g in 200c, 100a und/oder 100b) aufweisen, welche beispielsweise in unterschiedliche Richtungen erstreckt sind. Mit jeder Gastrennwand der mehreren Gastrennwände 106g kann ein metallisches Federelement 112 gekuppelt, z.B. daran befestigt, sein. Mittels der mehreren Gastrennwände 106 können mehr als zwei Vakuumbereiche voneinander gassepariert sein oder werden, wenn der Kammerdeckel 300a mit einem Kammerkörper 104 zusammengefügt ist.
  • Der Kammerdeckel 300a kann mehrere Dichtungsstrukturen 108 aufweisen, von denen jede Dichtungsstruktur 108 mittels eines metallischen Federelements 112 auslenkbar mit einer Gastrennwand der mehreren Gastrennwände 106g gekuppelt ist.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann optional zum Ineinandergreifen mit einer Gegen-Dichtungsstruktur 118 eingerichtet sein, welche zusammen eine Dichtanordnung bilden, wie nachfolgend noch genauer beschrieben ist.
  • 3B, 3C und 3D veranschaulichen jeweils eine Dichtanordnung 300b, 300c, 300d gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Die jeweilige Dichtanordnung 300b, 300c, 300d kann eine Dichtungsstruktur 108 und eine Gegen-Dichtungsstruktur 118 aufweisen. Die Dichtungsstruktur 108 kann mittels eines metallischen Federelements 112 relativ zu der Gegen-Dichtungsstruktur 118 auslenkbar gelagert sein. Die Dichtungsstruktur 108 kann zwischen der Gegen-Dichtungsstruktur 118 und dem metallischen Federelement 112 angeordnet sein oder werden.
  • Weiterhin können die Gegen-Dichtungsstruktur 118 und die Dichtungsstruktur 108 zum Ineinandergreifen eingerichtet sein. Mit anderen Worten können die Gegen-Dichtungsstruktur 118 und die Dichtungsstruktur 108 zueinander komplementäre Profile aufweisen.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann eine profilierte Dichtfläche 308f (auch als erste profilierte Dichtfläche 308f bezeichnet) aufweisen und die Gegen-Dichtungsstruktur 118 kann eine profilierte Gegen-Dichtfläche 318f (auch als zweite profilierte Dichtfläche 318f bezeichnet) aufweisen. Die erste profilierte Dichtfläche 308f und die zweite profilierte Dichtfläche 318f können einander zugewandt sein. Die erste profilierte Dichtfläche 308f und die zweite profilierte Dichtfläche 318f können zueinander komplementäre Profile aufweisen und/oder einander umgreifen.
  • Zwischen der Dichtungsstruktur 108, z.B. deren profilierter Dichtfläche 308f, und der Gegen-Dichtungsstruktur 118, z.B. deren profilierten Dichtfläche 318f, kann die Labyrinthdichtung 110v gebildet sein oder werden. Mit anderen Worten kann die Labyrinthdichtung 110v zwischen zwei profilierten Oberflächen gebildet sein.
  • Die Dichtungsstruktur 108 der Dichtanordnung 300b kann eine Vertiefung 302 aufweisen, in welche die Gegen-Dichtungsstruktur 118 hineingreift. Beispielsweise kann die Vertiefung 302 ein selbstzentrierendes Profil aufweisen, z.B. in einem Winkel zueinander verlaufende Abschnitte der ersten profilierten Dichtfläche 308f.
  • Die Gegen-Dichtungsstruktur 118 der Dichtanordnung 300b kann eine Vertiefung 302 aufweisen, in welche die Dichtungsstruktur 108 hineingreift und/oder in welcher die Dichtungsstruktur 108 vollständig angeordnet sein oder werden kann. Beispielsweise kann die Vertiefung 302 eine Nut aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Die Gegen-Dichtungsstruktur 118 der Dichtanordnung 300b kann zwei Vorsprünge 118v aufweisen, zwischen denen ein Aufnahmebereich gebildet ist, in welche die Dichtungsstruktur 108 hineingreift. Beispielsweise können die Vorsprünge 118v jeder ein Blech aufweisen und/oder die Vertiefung 302 kann eine Nut aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Die Vertiefung 302 der Dichtungsstruktur 108 und/oder der Gegen-Dichtungsstruktur 118 kann quer zu der Auslenkrichtung 111 längserstreckt sein, z.B. entlang der ersten Richtung 105.
  • 4A veranschaulicht eine Dichtanordnung 400a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111).
  • Die Dichtanordnung 400a kann ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, z.B. den Kammerdeckel 106 oder den Kammerkörper 104.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur 108 mittels des metallischen Federelements 112 entlang einer Richtung 111 (auch als Auslenkrichtung 111 bezeichnet) schwenkbar gelagert sein. Beispielsweise kann die Auslenkrichtung 111 parallel zu dem zweiten Gehäuseteil 404 oder der entsprechenden Oberfläche sein.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann eine planare Dichtfläche 408f (auch als erste planare Dichtfläche 408f bezeichnet) aufweisen, welche z.B. entlang der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Das zweite Gehäuseteil 404 kann eine planare Dichtfläche 418f (auch als zweite planare Dichtfläche 418f bezeichnet) aufweisen, welche z.B. entlang der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Beispielsweise kann die Auslenkrichtung 111 parallel zu der ersten planaren Dichtfläche 408f und/oder zu der zweiten planaren Dichtfläche 418f sein.
  • Die erste planare Dichtfläche 408f und die zweite planare Dichtfläche 418f können zueinander parallel eingerichtet sein. Zwischen der ersten planaren Dichtfläche 408f und der zweiten planaren Dichtfläche 418f kann die Spaltdichtung 110v gebildet sein. Mit anderen Worten kann die Spaltdichtung 110v zwischen zwei zueinander parallele Oberflächen gebildet sein.
  • 4B veranschaulicht eine Dichtanordnung 400b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • Die Dichtanordnung 400b kann ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, z.B. den Kammerdeckel 106 oder den Kammerkörper 104.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur 108 mittels des metallischen Federelements 112 entlang einer Richtung 111 (auch als Auslenkrichtung 111 bezeichnet) schwenkbar gelagert sein, z.B. auf das zweite Gehäuseteil 404 zu und/oder davon weg.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann eine Kontakt-Dichtfläche 108f (auch als erste Kontakt-Dichtfläche 108f bezeichnet) aufweisen, welche z.B. quer zu der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Das zweite Gehäuseteil 404 kann eine Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f (auch als zweite Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f bezeichnet) aufweisen, welche z.B. quer zu der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist.
  • Die erste Kontakt-Dichtfläche 108f und die zweite Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f können zueinander parallel eingerichtet sein. Zwischen der ersten Kontakt-Dichtfläche 108f und der zweiten Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f kann ein körperlicher Kontakt gebildet sein, wenn der Kammerdeckel 106 und der Kammerkörper 104 zusammengefügt (montiert) sind. Beispielsweise können die erste Kontakt-Dichtfläche 108f und die zweite Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f zueinander parallel sein.
  • 5 veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 500 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111).
  • Die Vakuum-Gehäuseanordnung 500 kann einen Kammerdeckel 106 aufweisen, welcher eine Kammerwand 106k und mehrere Gastrennwände 106g aufweisen kann, z.B. alternativ oder zusätzlich zu den Gastrennwänden 106g in 200c, 300a, 100a und/oder 100b.
  • Die Vakuum-Gehäuseanordnung 500 kann zwei voneinander gasseparierte Vakuumbereiche 306b, 1306b aufweisen, welche einander umgreifen. Zum Gasseparieren der zwei Vakuumbereiche 306b, 1306b kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 500 zumindest eine Gastrennwand 104g aufweisen, welche zwischen den zwei Vakuumbereichen 306b, 1306b angeordnet ist. Ferner kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 500 mehrere Kammerwände 104k aufweisen, welche das Innere 104i der Vakuum-Gehäuseanordnung 500, z.B. die zwei Vakuumbereiche 306b, 1306b, umgeben.
  • Mittels der Gastrennwand 104g kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 500 in zumindest zwei Segmente (auch als Gehäuseabteile bezeichnet) unterteilt sein, von denen jedes Segment einen Vakuumbereich der zwei Vakuumbereiche 306b, 1306b bereitstellt. Die Gastrennwand 104g kann im Inneren der Vakuum-Gehäuseanordnung 500 (z.B. des Vakuumkammergehäuses) angeordnet sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jede Dichtungsstruktur 108 zum Abdichten eines Spalts 110s eingerichtet sein. Jeder abzudichtende Spalt 110s kann an die Gastrennwand 104g (auch als Körper-Gastrennwand 104g bezeichnet) angrenzen.
  • Das umgriffene Segment 306b kann auf einander gegenüberliegenden Seiten geöffnet 104o sein. Mittels des Kammerdeckels 106, bzw. dessen Gastrennwänden 106g (auch als Deckel-Gastrennwand 106g bezeichnet), können die Öffnungen 104o verschlossen werden, z.B. staubdicht und/oder vakuumdicht.
  • Ferner kann der Kammerdeckel 106 eine Lageranordnung 1061 aufweisen, welche eingerichtet ist, zumindest eine Prozessierquelle 306 zu lagern. Die Prozessierquelle 306 kann in dem Vakuumbereich 306b angeordnet sein, wenn der Kammerdeckel 106 und der Kammerkörper 104 zusammengefügt sind. Der Vakuumbereich 306b kann dann ein Prozessierbereich 306b (auch als Kompartment bezeichnet) sein, in dem ein Substrat prozessiert werden kann.
  • Wahlweise kann eine oder jede Dichtungsstruktur 108 mit dem Kammerdeckel 106 oder mit dem Kammerkörper 104 gekuppelt sein, wie in 5 veranschaulicht ist.
  • In dem umgreifenden Vakuumbereich 1306b kann eine Transportanordnung 502 angeordnet sein, mittels derer ein Substrat durch das Innere 104i der Vakuum-Gehäuseanordnung 500 (z.B. des Vakuumkammergehäuses) transportiert werden kann.
  • 6 veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 600 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111) .
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 106 eine Kammerwand 106k aufweisen und eine Gastrennwand 106g, welche in einem Abstand von der Kammerwand 106k des Kammerdeckels 106 angeordnet ist, z.B. parallel dazu.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 600 (z.B. das oder jedes Vakuumkammergehäuse) mehrere metallische Federelemente 112 aufweisen, mittels denen die Dichtungsstruktur 108 auslenkbar gestützt ist oder wird.
  • 7 veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 700 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111) .
  • Der Kammerkörper 104 kann einen Hochvakuumpumpen-Anschluss 702 aufweisen zum Anschließen einer Hochvakuumpumpe an den Kammerkörper 104. Der Hochvakuumpumpen-Anschluss 702 kann eine Durchgangsöffnung aufweisen, welche eine Kammerwand des Kammerkörpers 104 durchdringt. Ferner kann der Hochvakuumpumpen-Anschluss 702 einen Flansch aufweisen, mittels welchem die Hochvakuumpumpe befestigt werden kann.
  • Ferner kann der Kammerkörper 104 einen zusätzlichen Vakuumbereich 702g aufweisen, welcher zwischen zwei Gastrennwänden 106g, 104g angeordnet ist. Der zusätzliche Vakuumbereich 702g kann anschaulich ein Pumpzugriffsbereich 702g sein, welcher die Pumpleistung der angeschlossenen Hochvakuumpumpe verteilt.
  • Ferner kann der Kammerkörper 104 zwei Vakuumbereiche 306b, 308b aufweisen, von denen jeder Vakuumbereich eine Prozessierquelle 306, 308 aufweist (Kompartments 306b, 308b). Der Pumpzugriffsbereich 702g kann zwischen den zwei Vakuumbereichen 306b, 308b angeordnet sein.
  • Jede Gastrennwand der zwei Gastrennwände 106g, 104g kann zwei Flächenelemente 104g, 106g aufweisen, von denen ein erstes Flächenelement 104g Teil des Kammerkörpers 104 ist und ein zweites Flächenelement 106g Teil des Kammerdeckels 106 ist.
  • Zwischen den zwei Flächenelementen 106g, 104g jeder Gastrennwand 106g, 104g kann eine Dichtungsstruktur 108 und eine Gegen-Dichtungsstruktur 118 angeordnet sein, wobei die Dichtungsstruktur 108 relativ zu der Gegen-Dichtungsstruktur 118 auslenkbar gelagert ist mittels eines metallischen Federelements 112. Beispielsweise kann die Gegen-Dichtungsstruktur 118 mit dem ersten Flächenelement 104g gekuppelt sein und das metallische Federelement 112 kann mit dem zweiten Flächenelement 106g gekuppelt sein. Alternativ kann die Gegen-Dichtungsstruktur 118 mit dem zweiten Flächenelement 106g gekuppelt sein und das metallische Federelement 112 kann mit dem ersten Flächenelement 104g gekuppelt sein, wie in 7 veranschaulicht ist.
  • Alternativ oder zusätzlich kann zwischen jedem Flächenelement 106g der zwei zweiten Flächenelemente 106g und der Kammerwand 104k eine Dichtungsstruktur 108 und eine Gegen-Dichtungsstruktur 118 angeordnet sein, wobei die Dichtungsstruktur 108 relativ zu der Gegen-Dichtungsstruktur 118 auslenkbar gelagert ist mittels eines metallischen Federelements 112. Beispielsweise kann die Gegen-Dichtungsstruktur 118 mit der Kammerwand 104w gekuppelt sein und das metallische Federelement 112 kann mit dem zweiten Flächenelement 106g gekuppelt sein, wie in 7 veranschaulicht ist. Alternativ kann die Gegen-Dichtungsstruktur 118 mit dem zweiten Flächenelement 106g gekuppelt sein und das metallische Federelement 112 kann mit der Kammerwand 104w gekuppelt sein.
  • 8 veranschaulicht eine Dichtanordnung 800 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111) .
  • Die Dichtanordnung 800 kann ein erstes Gehäuseteil 402 aufweisen, z.B. ein Flächenelement 104g des Kammerkörpers 104. Die Dichtanordnung kann ferner ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, z.B. ein Flächenelement 106g des Kammerdeckels 106. Das erste Gehäuseteil 402 und/oder das zweite Gehäuseteil 404 können beispielsweise ein Wandelement aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Gastrennwand.
  • Die Dichtanordnung 800 kann ferner eine Dichtungsstruktur 108 und eine Gegen-Dichtungsstruktur 118 aufweisen, welche zum Ineinandergreifen eingerichtet sind. Beispielsweise kann die Dichtungsstruktur 108 von der Gegen-Dichtungsstruktur 118 umgriffen werden.
  • Ferner kann die Dichtanordnung 800 ein metallisches Federelement 112 aufweisen, welches mit dem ersten Gehäuseteil 402 und der Dichtungsstruktur 108 gekuppelt ist.
  • Das metallische Federelement 112 weist eine kleinere Dicke 802d (Ausdehnung zur Längserstreckung) als die Dichtungsstruktur 108 auf und kann des weiteren beispielsweise zumindest eines von Folgendem aufweisen: ein kleineres Elastizitätsmodul als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; eine kleinere Dicke 802d (Ausdehnung quer zur Längserstreckung) als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; eine größere Festigkeit als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; und/oder eine größere Elastizitätsgrenze als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404.
  • Die Elastizitätsgrenze einer Struktur (z.B. eines Körpers oder dessen Material) kann als mechanische Spannung verstanden werden, bei dem eine irreversible (d.h. plastische) Verformung der Struktur einsetzt, z.B. eine irreversible Abnahme der Querschnittsfläche der Struktur und/oder es ein irreversibles Fließverhalten. Mit anderen Worten kann die Elastizitätsgrenze diejenige mechanische Spannung sein, bis zu der die Struktur elastisch ist, d.h. von selbst in ihre ursprüngliche Form zurückkehrt.
  • Die Festigkeit einer Struktur (z.B. eines Körpers oder dessen Material) kann als mechanische Spannung verstanden werden, bei dem das Versagen der Struktur einsetzt. Beim Einsetzen des Versagens kann das Maximum der zur Deformation der Struktur benötigten mechanischen Spannung erreicht oder bereits überschritten sein. Beim Einsetzen des Versagens kann bereits eine irreversible (d.h. plastische) Verformung der Struktur vorliegen, z.B. eine irreversible Abnahme der Querschnittsfläche der Struktur und/oder ein irreversibles Fließverhalten. Die zur weiteren Verformung benötigte mechanische Spannung kann ab dem Überschreiten der Festigkeit abnehmen.
  • Die Dicke 802d des metallischen Federelements 112 kann als Ausdehnung entlang der Auslenkrichtung 111 verstanden werden.
  • Das metallische Federelement 112 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen als Flächenelement ausgebildet sein.
  • 9 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 900 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung durch die Kammeröffnung).
  • Die Prozessieranordnung 900 kann eine Vakuum-Gehäuseanordnung 104 gemäß verschiedenen Ausführungsformen aufweisen.
  • Die Prozessieranordnung 900 kann einen Prozessierraum 911 aufweisen, in welchem ein Substrat 102 prozessiert (behandelt) werden kann.
  • Die Prozessieranordnung 900 kann eine Transportanordnung 502 aufweisen, welche mehrere Führungsrollen 122, 122p, aufweist mittels denen ein flexibles Substrat 102 entlang eines mehrfach gekrümmten Transportpfads durch den Prozessierraum 911 hindurch geführt werden kann. Zumindest eine Führungsrolle 122p der mehreren Führungsrollen 122, 122p kann als Prozessierrolle 122p (auch als Beschichtungswalze bezeichnet) eingerichtet sein, d.h. eine Temperiervorrichtung aufweisen, wie nachfolgend noch genauer beschrieben wird.
  • In dem Prozessierraum 911 können mehrere Segmente 902-1, 902-2, 902-3, 902-4, 902-5 der Vakuum-Gehäuseanordnung 104, 106 (z.B. des oder jedes Vakuumkammergehäuses) angeordnet sein, welche an den Transportpfad angrenzen und in dessen Richtung geöffnet sind. In zumindest einem Segment 902-3 der mehreren Segmente 902-1, 902-2, 902-3, 902-4, 902-5 kann eine Prozessierquelle 306, z.B. eine Sputtervorrichtung 306, angeordnet sein, zum Beschichten und/oder zu Sputterätzen des Substrats in einem Sputterbereich 306b. Die Sputtervorrichtung 306 kann beispielsweise ein Magnetron oder mehrere Magnetrons aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • 10A und 10B veranschaulichen jeweils eine Prozessieranordnung 1000a, 1000b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung entlang der Drehachse 101a) .
  • Das Prozessieren (z.B. Beschichten) des Substrats 102 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem Vakuum erfolgen, z.B. in einer Prozessieranordnung 1000a, 1000b.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b eine Vakuum-Gehäuseanordnung 802 aufweisen, in welcher ein Vakuum erzeugt und/oder erhalten werden kann. Die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. das oder jedes Vakuumkammergehäuse) kann dazu beispielsweise luftdicht, staubdicht und/oder vakuumdicht eingerichtet sein oder werden. Die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 kann eine oder mehrere Vakuumkammern aufweisen (von denen jede mittels eines Vakuumkammergehäuses bereitgestellt sein kann). Die oder jede Vakuumkammer kann einen oder mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b bereitstellen. Die mehreren Vakuumkammern und/oder die mehreren Vakuumbereiche 306b, 308b der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 können optional zumindest teilweise gassepariert voneinander sein.
  • Ferner kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 mit einem Pumpensystem 804 (aufweisend zumindest eine Hochvakuumpumpe) gekoppelt sein. Das Pumpensystem 804 kann eingerichtet sein, der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. dem oder jedem Vakuumkammergehäuse) ein Gas (z.B. das Prozessgas) zu entziehen, so dass innerhalb der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. innerhalb des oder jedes Vakuumkammergehäuses) ein Vakuum (d.h. ein Druck kleiner als 0,3 bar) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10-3 mbar (mit anderen Worten Feinvakuum) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10-3 mbar bis ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) oder ein Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Ultrahochvakuum) bereitgestellt sein oder werden kann.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b eine Gaszuführung 1716 aufweisen. Mittels der Gaszuführung 1716 kann der Vakuum-Gehäuseanordnung 802(z.B. dem oder jedem Vakuumkammergehäuse) ein Prozessgas zugeführt werden zum Bilden einer Prozessatmosphäre in der Vakuum-Gehäuseanordnung 802. Das Prozessgas kann z.B. ein Inertgas aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann das Prozessgas ein Reaktivgas aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Stickstoff, Wasserstoff, Argon und/oder ein organisches Polymer. Der Prozessdruck kann sich aus einem Gleichgewicht an Prozessgas bilden, welches mittels der Gaszuführung 1716 zugeführt und mittels des Pumpensystems 804 entzogen wird.
  • Ferner kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. das oder jedes Vakuumkammergehäuse) derart eingerichtet sein, dass die Vakuumbedingungen (die Prozessbedingungen) darin (z.B. Prozessdruck, Prozesstemperatur, chemische Prozessgaszusammensetzung, usw.), z.B. innerhalb des oder jedes Vakuumkammergehäuses, gestellt oder geregelt werden können (z.B. lokal), z.B. mittels einer Steuerung 508. Beispielsweise können mittels der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b mit voneinander verschiedenen Vakuumbedingungen bereitgestellt sein oder werden. Beispielsweise kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln der Gaszuführung 1716 und/oder des Pumpensystems 804 eingerichtet sein, so dass ein Prozessdruck und/oder eine Prozessgaszusammensetzung gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln eines Normvolumenstroms an Prozessgas eingerichtet sein, welche mittels der Gaszuführung 1716 zugeführt und/oder mittels des Pumpensystems 804 entzogen wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln einer optionalen Substrat-Temperiervorrichtung 1124 (z.B. aufweisend eine Heizvorrichtung und/oder ein Kühlvorrichtung) eingerichtet sein, so dass eine Prozesstemperatur (z.B. des Substrat 102 und/oder des Prozessgases), beispielsweise während des Prozessierens (z.B. während des Beschichtens), gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 508 eingerichtet sein zum Steuern und/oder Regeln einer thermischen Leistung, welche mittels der Substrat-Temperiervorrichtung 1124 zugeführt und/oder mittels dieser entzogen wird.
  • In der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. in einer erste Vakuumkammer) kann zumindest ein Vakuumbereich 306b, z.B. ein erster Vakuumbereich 306b, angeordnet sein. Ferner kann in der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. in der ersten Vakuumkammer) eine erste Prozessierquelle 306, z.B. eine Beschichtungsmaterialquelle 306, angeordnet sein. Die Beschichtungsmaterialquelle 306 kann zum Emittieren eines gasförmigen Beschichtungsmaterials in den ersten Vakuumbereich 306b hinein eingerichtet sein. Mit dem Beschichtungsmaterial kann das Substrat 102 beschichtet sein oder werden. Mit anderen Worten kann das Beschichten des Substrats 102 in einem Vakuum erfolgen. Der erste Vakuumbereich 306b kann ein Beschichtungsbereich 306b sein.
  • In der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. in einer zweiten Vakuumkammer oder in der ersten Vakuumkammer) kann zumindest ein zweiter Vakuumbereich 308b angeordnet sein. Ferner kann in der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 (z.B. in der zweiten Vakuumkammer) eine zweite Prozessierquelle 308, z.B. eine Belichtungsvorrichtung 308, angeordnet sein. Die zweite Prozessierquelle 308 kann zum Bearbeiten des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrats 102 beschichtet ist oder wird, z.B. mittels Licht. Beispielsweise kann die Prozessierquelle 308 zum Strukturieren oder chemischen Umwandeln des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrats 102 beschichtet ist oder wird. Der zweite Vakuumbereich 308b kann ein Bearbeitungsbereich 308b sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 eine Kammeröffnung oder mehrere Kammeröffnungen zum Freilegen des Inneren der Vakuum-Gehäuseanordnung 802 aufweisen. Die oder jede Kammeröffnung kann das Innere der Vakuum-Gehäuseanordnung 802, beispielsweise in Drehachsenrichtung (z.B. parallel zu der ersten Richtung 105), freilegen. Zum Verschließen der Kammeröffnung kann die Vakuum-Gehäuseanordnung 802 einen Kammerdeckel aufweisen.
  • Beispielsweise kann die zweite Prozessierquelle 308 mindestens eine Belichtungsvorrichtung aufweisen, beispielsweise eine Lichtquelle (z.B. einen Laser, eine Lampe, eine Blitzlampe oder eine Röntgenquelle), eine Wärmestrahlungsquelle oder eine Teilchenquelle (z.B. ein Elektronenquelle oder eine Protonenquelle).
  • Die zweite Prozessierquelle 308 kann eine gepulst oder eine kontinuierlich betriebene zweite Prozessierquelle 308 sein. Beispielsweise kann mittels der zweiten Prozessierquelle 308 eine (z.B. gepulste oder kontinuierliche) Strahlung 402 (z.B. elektromagnetische Strahlung, wie Licht, Wärmestrahlung und/oder Teilchenstrahlung, wie Elektronenstrahlung und/oder Ionenstrahlung) erzeugt werden, beispielsweise ein kontinuierlicher Elektronenstrahl 402 mittels einer Elektronenstrahlkanone (z.B. mittels einer Linearquelle) oder ein gepulster Lichtblitz mittels einer Blitzlampe (z.B. einer Gasentladungslampe oder einer Leuchtdiode).
  • Die zweite Prozessierquelle 308 kann beispielsweise eine oder mehrere Blitzlampen aufweisen oder daraus gebildet sein. Die oder jede Blitzlampe kann eine Gasentladungslampe aufweisen, welche gepulst betrieben sein oder werden kann, z.B. mittels der Steuerung 508. Zum gepulsten Betreiben der oder jeder Gasentladungslampe, kann ein Strompuls durch die Gasentladungslampe hindurch entladen werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln der ersten Prozessierquelle 306 und/oder der zweiten zweite Prozessierquelle 308 eingerichtet sein, z.B. indem diese eine Materialmenge und/oder thermische Energie (z.B. Strahlungsenergie) steuert und/oder regeln welche pro Zeit in Richtung 105 des Substrats 102 emittiert wird.
  • Ferner kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b eine Wickelhülsenkupplung 112a, 112b zum Abwickeln eines Substrat 102 aufweisen (auch als Abwickelwalze bezeichnet), so dass das Substrat 102 in den zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b hineingebracht wird. Ferner kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b eine zusätzliche Wickelhülsenkupplung 112c, 112d zum Aufwickeln des Substrat 102 aufweisen (auch als Aufwickelwalze 112c, 112d bezeichnet), welches aus dem zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b herausgebracht wird. Mit anderen Worten kann das Substrat 102 von Rolle-zu-Rolle prozessiert werden.
  • Ferner kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b mehrere Führungsrollen 122 aufweisen, welche einen Transportpfad 111 definieren, entlang dessen das Substrat 102 (z.B. ein bandförmiges Substrat) zwischen der Abwickelwalze 112a, 112b und der Aufwickelwalze 112c, 112d durch den zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b hindurch transportiert wird, z.B. in eine Transportrichtung 111w (welche senkrecht zu der Drehachsenrichtung sein kann).
  • Die Prozessieranordnung 1000a kann zumindest zwei Führungsrollen 122 aufweisen, zwischen denen ein geradlinig verlaufender Abschnitt 111g des Transportpfads 111 aufgespannt wird. Der geradlinig verlaufende Abschnitt 111g des Transportpfads 111 kann in dem zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b angeordnet sein, in dem das Substrat 102 prozessiert wird.
  • Die Prozessieranordnung 1000b kann genau eine Führungsrolle 122p aufweisen, welche die Temperiervorrichtung 1124 aufweist, d.h. welche als Prozessierrolle 122p eingerichtet ist, mittels der das Substrat 102 temperiert, z.B. erwärmt und/oder gekühlt, werden kann. Mittels der Prozessierrolle 122p kann ein konstant gekrümmte Abschnitt 111k des Transportpfads 111 (auch als Transportpfadabschnitt 111k bezeichnet) bereitgestellt sein oder werden. Der konstant gekrümmte Transportpfadabschnitt 111k kann in dem zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b angeordnet sein, in dem das Substrat 102 prozessiert wird.
  • Ferner kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b ein Antriebssystem 518 aufweisen, welches zumindest mit einem Teil der Vielzahl von Rollen 112a, 112b, 112c, 112d, 122 gekoppelt 518k ist, z.B. zumindest mit einem Teil der mehreren Führungsrollen 122 und mit jeder Wickelhülsenkupplung der mehreren Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c, 112d. Das Antriebssystem 518 kann mehrere Antriebe 506 aufweisen, von denen jeder Antrieb mit einer Rolle der Vielzahl von Rollen 112a, 112b, 112c, 112d, 122 gekuppelt ist. Beispielsweise kann das Antriebssystem 518 mittels Wellen, 518k Ketten 518k, Riemen 518k oder Zahnrädern 518k mit dem Teil der Vielzahl von Rollen 112a, 112b, 112c, 112d, 122 gekuppelt sein, welche angetrieben werden. Das Antriebssystem 518 und der Teil der Vielzahl von Rollen 112a, 112b, 112c, 112d, 122 können Teil einer Positionierungsvorrichtung sein, welche zum Positionieren des Substrats 102 eingerichtet ist.
  • Die Steuerung 508 kann zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518 eingerichtet sein, z.B. zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k einer Transportcharakteristik, z.B. einer Transportgeschwindigkeit, einer mechanischen Zugspannung auf das Substrat 102, und/oder einer Position des Substrats 102. Das Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518 kann während des Prozessierens des Substrats 102 erfolgen, z.B. während des Beschichtens und/oder Bestrahlens, z.B. auf Grundlage eines Prozessierfortschritts (z.B. eines Beschichtungsfortschritts und/oder eines Strukturierungsfortschritts) und/oder auf Grundlage einer Transportcharakteristik.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 1000a, 1000b optional zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 (d.h. eine oder mehrere Substratvorbehandlung-Vorrichtungen 310) aufweisen zum Vorbehandeln des Substrats 102, z.B. zum chemischen Aktivieren des Substrats 102. Beispielsweise kann die zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtungen 310 eingerichtet sein, das Substrat 102 chemisch zu aktivieren, z.B. dessen Oberfläche chemisch zu aktivieren, das Substrat 102 zu Reinigen und/oder das Substrat 102 zu ätzen. Beispielsweise kann die zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtungen 310 eine Ätzvorrichtung aufweisen oder daraus gebildet sein zum Ätzen des Substrats 102. Alternativ oder zusätzlich kann die zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 zumindest eine Sputterätzquelle, zumindest eine Plasmaquelle, zumindest eine Glimmvorrichtung und/oder zumindest eine Ätzgasquelle aufweisen oder daraus gebildet sein. Beispielsweise kann das Vorbehandeln des Substrats 102 aufweisen, das Substrat 102 mittels Sputterätzens; Ionenätzens und/oder Glimmens zu behandeln.
  • Optional kann mittels der zumindest einen Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 ein Wasserfilm von dem Substrat 102 entfernt werden. Alternativ oder zusätzlich kann mittels der Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 eine Anzahl offener chemischer Bindungen des Substrats 102 (auch als chemische Aktivierung bezeichnet) vergrößert werden, was z.B. die Haftung und die Ausbildung der Beschichtung auf dem Substrat 102 verbessern kann.
  • Alternativ oder zusätzlich kann eine Substratnachbehandlung-Vorrichtung 310 verwendet werden, um das Substrat 102, welches mit dem Beschichtungsmaterial beschichtet ist, nachzubehandeln, z.B. ähnlich zu dem Vorbehandeln. Beispielsweise kann das Substrat 102 aufweisend die Beschichtung mit dem Beschichtungsmaterial selektiv geheizt (z.B. getempert) und/oder geätzt werden.
  • 11 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 1100 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht (z.B. mit Blickrichtung auf den Kammerdeckel 106).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann zumindest ein Substrat 102 mittels der Prozessieranordnung 1100 prozessiert (behandelt) werden. Dabei kann die Prozessieranordnung 1100 derart eingerichtet sein, dass das Substrat 102 beispielsweise beschichtet, geheizt, gekühlt, geätzt, belichtet, strukturiert und/oder auf eine andere Weise behandelt werden kann.
  • Zum Prozessieren eines Substrats 102 in der Prozessieranordnung 1100 können an dem Kammerdeckel 106 der Prozessieranordnung 1100 mehrere Prozessierquellen 306, 308, 2306, 2308, 2310 befestigt sein. In jeder Sektion der mehreren Sektionen 2202a, 2202b, 2202c, 2202d, 2202e kann zumindest eine Prozessierquelle der mehreren Prozessierquellen 306, 308, 2306, 2308, 2310 angeordnet sein. Die mehreren Sektionen 2202a, 2202b, 2202c, 2202d, 2202e können voneinander gassepariert sein oder werden, z.B. jeweils paarweise mittels der Dichtungsstruktur 108.
  • Eine Prozessierquelle 306, 308, 2306, 2308, 2310 kann z.B. eine Beschichtungsmaterialquelle (ein Magnetron, ein Rohr-Magnetron oder ein Doppelrohr-Magnetron, ein Planarmagnetron oder Doppel-Planarmagnetron), eine Belichtungsvorrichtung (eine Lichtquelle, einen Laser, eine Blitzlampe oder eine Blitzlampenanordnung), eine Wärmequelle (z.B. einen Heizer), eine Ätzvorrichtung (z.B. eine Ätzgasquelle oder Ätzplasmaquelle), eine Strahlenquelle (z.B. eine Elektronenstrahlquelle oder Ionenstrahlquelle), oder Ähnliches aufweisen.
  • Zum Beschichten (Bedampfen) des zumindest einen Substrats 102 kann beispielsweise eine Beschichtungsmaterialquelle verwendet werden, welche derart eingerichtet ist, dass mittels der Beschichtungsmaterialquelle ein Sputterverfahren (Kathodenzerstäubungsverfahren) durchgeführt werden kann. Sputterverfahren können in verschiedenen Weisen durchgeführt werden, z.B. als Gleichspannungs-(DC)-Sputtern, Mittelfrequenz-(MF)-Sputtern, Hochfrequenz-(HF)-Sputtern, jeweils unter Verwendung einer oder mehrerer Kathoden (Targets), unter Verwendung eines Magnetsystems (Magnetronsputtern), unter Verwendung eines Reaktivgases als reaktives Sputtern, als Impuls-Sputtern mit hoher Leistung und/oder dergleichen. Optional kann zum Beschichten (Bedampfen) des zumindest einen Substrats 102 beispielsweise mindestens eine von folgenden Beschichtungsarten verwendet werden: chemische Gasphasenabscheidung, physikalische Gasphasenabscheidung, thermisches Verdampfen, und/oder Elektronenstrahlverdampfen.
  • 12 veranschaulicht einen Prozessieranordnung 1200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht (z.B. mit Blickrichtung in das Kammerinnere 104i).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können zumindest einige Sektionen 2202c, 2202d der mehreren Sektionen 2202a, 2202b, 2202c, 2202d, 2202e mit zumindest einem Hochvakuumpumpen-Anschluss 702 gekoppelt sein, z.B. an diese angrenzend.
  • 13 veranschaulicht eine Dichtanordnung 1300 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung quer zur Auslenkrichtung 111).
  • Die Dichtanordnung 1300 kann ein erstes Gehäuseteil 402 aufweisen, z.B. ein Flächenelement 106g des Kammerdeckels 106. Die Dichtanordnung 1300 kann ferner ein zweites Gehäuseteil 404 aufweisen, z.B. ein Flächenelement 104g des Kammerkörpers 104. Das erste Gehäuseteil 402 und/oder das zweite Gehäuseteil 404 können beispielsweise Wandelemente, z.B. Gastrennwände, oder zumindest Teil dessen sein.
  • Die Dichtanordnung 1300 kann ferner eine Dichtungsstruktur 108 und eine Gegen-Dichtungsstruktur 118 aufweisen, welche zum Ineinandergreifen eingerichtet sind. Beispielsweise kann die Dichtungsstruktur 108 von der Gegen-Dichtungsstruktur 118 umgriffen werden.
  • Ferner kann die Dichtanordnung 1300 ein metallisches Federelement 112 aufweisen, welches mit dem ersten Gehäuseteil 402 und der Dichtungsstruktur 108 gekuppelt ist.
  • Das metallische Federelement 112 weist eine kleinere Dicke 802d (Ausdehnung zur Längserstreckung) als die Dichtungsstruktur 108 auf und kann des weiteren beispielsweise zumindest eines von Folgendem aufweisen: ein kleineres Elastizitätsmodul als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; eine kleinere Dicke 802d (Ausdehnung quer zur Längserstreckung) als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; eine größere Festigkeit als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404; und/oder eine größere Elastizitätsgrenze als das erste Gehäuseteil 402 und/oder als das zweite Gehäuseteil 404.
  • Das metallische Federelement 112 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen ein Flächenelement aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • An dem ersten Gehäuseteil 402 (auch als erste Komponente bezeichnet) kann beispielsweise ein Federblech 112 (z.B. aus Federstahl gebildet) befestigt, z.B. eingespannt, sein. An der gegenüberliegenden Seite der Einspannung kann eine Leiste 108 oder können mehrere Leisten 108 an dem Federblech 112 befestigt sein. An dem zweiten Gehäuseteil 404 (auch als zweite Komponente bezeichnet) kann ein Spalt 302 gebildet sein, z.B. zwischen zwei Blechen 118v. Die oder jede Leiste 108 kann in den Spalt 302 eintauchen, wenn das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 zusammengefügt sind.
  • Eine Fehlstellung (z.B. Lagefehler) zwischen dem ersten Gehäuseteil 402 und dem zweiten Gehäuseteil 404 (der beiden Komponenten) kann durch Verbiegen des metallischen Federelements 112 (z.B. des Federbleches) und/oder durch verschiedene Eintauchtiefe in den Spalt der Gegen-Dichtungsstruktur 118 ausgeglichen werden. Die Dichtungsstruktur 108 (z.B. die oder jede Leiste) kann aus geeignetem Werkstoff gebildet sein, so dass der Abrieb beim Trennen oder Ineinandergreifen des ersten Gehäuseteils 402 und des zweiten Gehäuseteils 404 anschaulich möglichst klein ist, z.B. aus Stahl.
  • Werden das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 komplett voneinander getrennt, kann das wieder zusammenfügen erleichtert werden, indem die Dichtungsstruktur 108 und/oder die Gegen-Dichtungsstruktur 118 eine Einführhilfe aufweisen, wie nachfolgend noch genauer beschrieben wird. Der Spalt 302 kann beispielsweise als Führungsnut 302 ausgebildet sein, welche in welchem die Dichtungsstruktur 108 entlang beim Zusammenfügen gleitet (z.B. entlang der ersten Richtung 105, welche z.B. quer zu der Auslenkrichtung 111 ist).
  • 14 veranschaulicht eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht 1400 und 15 die Dichtanordnung in einer schematischen Draufsicht 1500.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Ineinandergreifenden Enden der Dichtungsstruktur 108 und/oder der Gegen-Dichtungsstruktur 118 eine Einführhilfe 1402 aufweisen. Die Einführhilfe 1402 kann zwei Seitenflächen 1402s aufweisen, welche die Vertiefung 302 auf einander gegenüberliegenden Seiten begrenzen. Die zwei Seitenflächen 1402s können in einem Winkel zueinander verlaufen. Die mittels der zwei Seitenflächen 1402s gebildete (z.B. keilförmige) Öffnung 1402o kann einen entlang der ersten Richtung zunehmenden Querschnitt aufweisen.
  • Mittels der Einführhilfe 1402 kann das Hineinbringen der Dichtungsstruktur 108 in die Vertiefung 302 erleichtert sein oder werden. Die Vertiefung 302 kann eine Führungsnut aufweisen oder daraus gebildet sein, entlang welcher die Dichtungsstruktur 108 geführt wird.
  • Beispielsweise können an den ineinander fahrenden Enden der Dichtanordnung 1500 Einführschrägen 1402 angeordnet sein. Damit wird beim Ineinanderfahren der Dichtungsstruktur 108 in die Nut 302 das Federblech 112 in den Spalt 302 geführt.
  • 16 veranschaulicht eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht 1600 und 17 die Dichtanordnung in einer schematischen Perspektivansicht 1700.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur 108 einen Verschluss 1404 aufweisen zum Verschließen der Öffnung 1402o der Einführhilfe 1402, wenn das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 zusammengeführt sind. Der Verschluss 1404 kann eine zu der Öffnung 1402o komplementäre Form (z.B. keilförmig) aufweisen.
  • Optional kann der Verschluss 1404 einen oder zwei Freiheitsgrade aufweisen, entlang dessen dieser verschiebbar gelagert ist.
  • Beispielsweise kann der Verschluss 1404 ein erstes Schubgelenk aufweisen, mittels dessen der Verschluss 1404 entlang eines ersten Freiheitsgrads verschiebbar ist, der parallel zu der Auslenkrichtung 111 ist. Das erste Schubgelenk kann den Verschluss 1404 mit dem Gehäuseteil 402, 404 (dem ersten Gehäuseteil 402 oder dem zweiten Gehäuseteil 404) kuppeln.
  • Alternativ oder zusätzlich kann der Verschluss 1404 ein zweites Schubgelenk aufweisen, mittels dessen der Verschluss 1404 entlang eines zweiten Freiheitsgrads verschiebbar ist, der quer zu der Auslenkrichtung 111 ist. Das zweite Schubgelenk kann den Verschluss 1404 mit der Dichtungsstruktur 108 kuppeln.
  • 18 veranschaulicht eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht 1800 und 19 die Dichtanordnung in einer schematischen Perspektivansicht 1900, wobei das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 zusammengefügt sind.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen der Verschluss 1404 in der Öffnung 1402o der Einführhilfe 1402 angeordnet sein, wenn das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 zusammengeführt sind. Zwischen dem Verschluss 1404 und der Einführhilfe 1402 kann eine Spaltdichtung 110v gebildet sein. Anschaulich kann der Verschluss 1404 als fliegender Keil ausgebildet und am Federblech 112 angeordnet sein sowie die Öffnung 1402o für die Einführschräge 1402s verschließen.
  • 20 veranschaulicht ein erstes Gehäuseteil (z.B. einen Kammerdeckel) gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht 2000 (z.B. mit Blickrichtung aus dem Kammerinneren) und 21 das erste Gehäuseteil in einer schematischen Detailansicht 2100.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gastrennwand 106g zwischen zwei die Dichtungsstrukturen 108 angeordnet sein. Optional kann eine der zwei Dichtungsstrukturen 108 weggelassen werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die oder jede Dichtungsstruktur 108 ringförmig ausgebildet sein. Die oder jede Dichtungsstruktur 108 kann sich entlang einer Gastrennwand 106g des Kammerdeckels erstrecken, z.B. entlang eines Randes der Gastrennwand 106g. Damit kann ein ringförmiger anzudichtender Spalt 110s abgedichtet sein oder werden.
  • Optional kann die oder jede Dichtungsstruktur 108 mehrere Segmente 108s (auch als Dichtungsstruktursegmente 108s bezeichnet) aufweisen, von denen jedes mittels zwei metallischen Federelementen 112 auslenkbar gelagert ist.
  • Einander benachbarte Dichtungsstruktursegmente der mehreren Dichtungsstruktursegmente 108s können optional formschlüssig ineinandergreifen 2102, z.B. mittels einer Feder-NutVerbindung. Damit kann ein besseres Abdichtverhalten bereitgestellt sein oder werden. Die Dichtungsstruktursegmente 108s können beispielsweise die Form von Ringsegmenten aufweisen.
  • Bildet der abzudichtende Spalt 110s (z.B. an einer Stirnseite eines Gehäuseteils 402, 404) keinen geschlossenen Kreis, kann ein einteiliger federnder Ring oder ein einteiliges federndes Ringsegment nur schwer verwendet werden. Die Spalthöhe des abzudichtenden Spaltes 110s kann kleiner als der Radius des Spaltes 110s sein (entlang derselben Richtung gemessen), z.B. weniger als 10% des Radius des Spaltes 110s, z.B. kleiner als 1% des Radius des Spaltes 110s.
  • Beispielsweise kann der Radius des abzudichtenden Spaltes 110s quer zur Auslenkrichtung 111 sein.
  • Anschaulich lassen sich große und schlanke Ringe nur mit großem Aufwand herstellen, sind nicht steif genug und neigen zum Verkanten beim Abdichten. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein segmentierter Ring 108 oder Halbring 108 bereitgestellt sein oder werden, welcher mittels eines parallelführenden metallischen Federelements 112 gelagert ist. Mit anderen Worten können die Dichtungsstruktursegmente 108s eine Parallelführung aufweisen.
  • Beispielsweise kann ein halbkreisförmiger Spalt 110s mittels sechs Dichtungsstruktursegmenten 108s (z.B. sechs Ringsegmenten 108s) abgedichtet sein oder werden. Die Dichtungsstruktursegmente 108s können optional mittels Feder und Nut paarweise untereinander gekuppelt sein.
  • Die einzelnen Dichtungsstruktursegmente 108s können in sich versteift sein (z.B. mittels Versteifungsrippen 108v) und eine kostengünstigere Herstellung ermöglichen, z.B. mittels Fräsens auf einer Maschine überschaubarer Größe.
  • 22 veranschaulicht eine Vakuum-Gehäuseanordnung 2200 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur 108 mittels des metallischen Federelements 112 mit dem ersten Gehäuseteil 402 gekuppelt sein, z.B. fest verbunden.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann eine erste planare Dichtfläche 408f aufweisen, welche entlang der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Das erste Gehäuseteil 402 kann eine zweite planare Dichtfläche 418f aufweisen, welche entlang der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Zwischen der ersten planaren Dichtfläche 408f und der zweiten planaren Dichtfläche 418f kann eine Spaltdichtung 110v (z.B. eine kontaktlos-Dichtung) gebildet sein oder werden.
  • Die Dichtungsstruktur 108 kann eine erste Kontakt-Dichtfläche 108f aufweisen, welche quer zu der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Das zweite Gehäuseteil 404 kann eine zweite Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f aufweisen, welche quer zu der Auslenkrichtung 111 erstreckt ist. Die erste Kontakt-Dichtfläche 108f und die zweite Kontakt-Dichtfläche 104f, 106f können zueinander parallel eingerichtet sein.
  • Optional kann das metallische Federelement 112 eine Parallelführung 112d aufweisen, z.B. in Form eines Doppellenkers. Die Parallelführung 112d kann zwei Führungsarme 112d aufweisen, welche an gegenüberliegenden Enden miteinander und jeweils mit der Dichtungsstruktur 108 und dem ersten Gehäuseteil gekoppelt sind. Die Führungsarme 112d können Federstahl aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Optional kann die Verbindung zwischen dem metallischen Federelement 112 und dem ersten Gehäuseteil 402 derart eingerichtet sein, z.B. eine Stellstruktur aufweisen, dass eine Spalthöhe der Spaltdichtung 110v eingestellt sein oder werden kann. Beispielsweise kann die Verbindung zwischen dem metallischen Federelement 112 und dem ersten Gehäuseteil 402 Langlöcher, eine Stellschraube, o.ä. aufweisen.
  • Beispielsweise kann die Dichtungsstruktur 108 (z.B. jedes Dichtungsstruktursegment 108s) radial mittels eines einstellbaren Spalts 110v gedichtet sein und axial gegen eine Planfläche 104f, 106f des zweiten Gehäuseteils anschlagen (z.B. dagegen gepresst sein), wenn das erste Gehäuseteil 402 und das zweite Gehäuseteil 404 zusammengefügt sind. Die mehreren Dichtungsstruktursegment 108s können mittels Doppellenkern, die z.B. zwei Federbleche 112d (z.B. Federstahl aufweisend oder daraus gebildet) aufweisen oder daraus gebildet sind, parallel geführt werden. Die zwei Federbleche 112d können optional auf einer Einspannseite Langlöcher aufweisen, mittels derer die zwei Federbleche 112d zusammen mit dem (zugeordneten) daran befestigten Dichtungsstruktursegment 108s in radiale Richtung 103, 101 verschoben werden können. Damit kann die Spaltdichtung 110v auf eine minimale Spalthöhe einstellbar sein, was die Dichtwirkung verbessert.
  • Beispielsweise kann mittels der Parallelführung 112d und der Kupplung einander benachbarter Dichtungsstruktursegment 108s miteinander (z.B. mittels Feder und Nut) ein Risiko, dass ein Verkanten der Dichtungsstruktur 108 (bzw. deren Dichtungsstruktursegmente 108s) erfolgt, verringert werden. Die Dichtanordnung 2200 kann tolerant reagieren auf ungleichmäßiges oder lokales Einfedern der Dichtungsstruktursegmente 108s und/oder bei großem Federweg.

Claims (14)

  1. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500), aufweisend: • ein erstes Gehäuseteil (402) und ein zweites Gehäuseteil (404), welche zusammengefügt einen Spalt (110s) bilden; • eine Dichtungsstruktur (108) zum Abdichten des Spalts (110s); und • ein metallisches Federelement (112), mittels dessen die Dichtungsstruktur (108) auslenkbar relativ zu dem ersten Gehäuseteil (402) gelagert ist, so dass eine Fehlstellung ausgeglichen werden kann; • wobei das metallische Federelement (112) eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur (108) aufweist.
  2. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß Anspruch 1, wobei das erste Gehäuseteil (402) einen Kammerkörper (104) oder einen Kammerdeckel (106) aufweist.
  3. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß Anspruch 2, wobei das zweite Gehäuseteil (404) den Kammerkörper (104) aufweist, wenn das erste Gehäuseteil (402) den Kammerdeckel (106) aufweist, und wobei das zweite Gehäuseteil (404) den Kammerdeckel (106) aufweist, wenn das erste Gehäuseteil (402) den Kammerkörper (104) aufweist.
  4. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das zweite Gehäuseteil (404) eine Dichtfläche (104f, 106f) aufweist, und wobei, wenn das erste Gehäuseteil (402) und das zweite Gehäuseteil (404) zusammengefügt sind, die Dichtungsstruktur (108) mittels des zumindest einen metallischen Federelements (112) gegen die Dichtfläche (104f, 106f) gepresst wird.
  5. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das erste Gehäuseteil (402) eine zusätzliche Dichtfläche (418f) aufweist, und wobei die Dichtungsstruktur (108) in eine Richtung (111) auslenkbar gelagert ist, welche parallel zu der zusätzlichen Dichtfläche (418f) ist.
  6. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, ferner aufweisend: eine an den Spalt (110s) angrenzende Gegen-Dichtungsstruktur (118); wobei die Dichtungsstruktur (108) und die Gegen-Dichtungsstruktur (118) zum einander Umgreifen eingerichtet sind, so dass zwischen diesen eine Labyrinthdichtung (110v) gebildet wird.
  7. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das erste Gehäuseteil (402) zumindest eine Gastrennwand (104g, 106g) aufweist, welche sich, wenn das erste Gehäuseteil (402) und das zweite Gehäuseteil (404) zusammengefügt sind, in das zweite Gehäuseteil (404) hinein erstreckt; und wobei der Spalt (110s) an die zumindest eine Gastrennwand (104g, 106g) angrenzt.
  8. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei das zweite Gehäuseteil (404) ein Kammerinneres umgibt und eine Gastrennwand (104g) aufweist, welche innerhalb des Kammerinneren angeordnet ist; und wobei der Spalt (110s) an die Gastrennwand (104g) angrenzt.
  9. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das erste Gehäuseteil (402) und das zweite Gehäuseteil (404) entlang einer Richtung (105) zusammenfügbar sind, und wobei sich das Federelement (112) quer zu der Richtung (105) längserstreckt; oder wobei das Federelement (112) quer zu der Richtung (105) auslenkbar ist.
  10. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei das Federelement (112) zumindest einen Balken oder ein Flächenelement aufweist.
  11. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei die Dichtungsstruktur (108) mehrere Dichtungsstruktursegmente (108s) aufweist, von denen jedes mittels eines metallischen Federelements (112) auslenkbar gelagert ist.
  12. Vakuum-Gehäuseanordnung (100a, 100b, 500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11, zwei voneinander gasseparierte Vakuumbereiche (306a, 1306b), zwischen denen der Spalt (110s) gebildet ist.
  13. Kammerkörper (104), aufweisend: • eine Kammeröffnung (1040) zum Aufnehmen eines Kammerdeckels (106); • eine Dichtungsstruktur (108) zum Abdichten eines Spalts (110s) zwischen dem Kammerkörper (104) und dem Kammerdeckel (106); und • ein metallisches Federelement (112), mittels dessen die Dichtungsstruktur (108) auslenkbar relativ zu der Kammeröffnung gelagert ist, so dass eine Fehlstellung des Kammerdeckels (106) ausgeglichen werden kann; • wobei das metallische Federelement (112) eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur (108) aufweist.
  14. Kammerdeckel (106) zum Verschließen einer Kammeröffnung (104o) in einem Kammerkörper (104), aufweisend: • eine Dichtungsstruktur (108) zum Abdichten eines Spalts (110s) zwischen dem Kammerkörper (104) und dem Kammerdeckel (106); und • ein metallisches Federelement (112), mittels dessen die Dichtungsstruktur (108) auslenkbar gelagert ist, so dass eine Fehlstellung des Kammerdeckels (106) ausgeglichen werden kann; • wobei das metallische Federelement (112) eine kleinere Dicke als die Dichtungsstruktur (108) aufweist.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112331587B (zh) * 2020-10-26 2024-03-26 北京北方华创微电子装备有限公司 净化腔室及半导体工艺设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4693803A (en) 1984-03-28 1987-09-15 General Engineering Radcliffe Limited Vacuum coating apparatus
JP2012136724A (ja) 2010-12-24 2012-07-19 Kobe Steel Ltd 巻取り式連続成膜装置
WO2014060468A1 (de) 2012-10-16 2014-04-24 Von Ardenne Gmbh Mehrfachbeschichtungseinrichtung für bandsubstrate und bandsubstrat-vakuumbeschichtungsanlage
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4693803A (en) 1984-03-28 1987-09-15 General Engineering Radcliffe Limited Vacuum coating apparatus
JP2012136724A (ja) 2010-12-24 2012-07-19 Kobe Steel Ltd 巻取り式連続成膜装置
WO2014060468A1 (de) 2012-10-16 2014-04-24 Von Ardenne Gmbh Mehrfachbeschichtungseinrichtung für bandsubstrate und bandsubstrat-vakuumbeschichtungsanlage
DE102014116697A1 (de) 2014-11-14 2016-05-19 Von Ardenne Gmbh Kammerdeckel zum Abdichten einer Kammeröffnung in einer Gasseparationskammer und Gasseparationskammer

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