JPH02294638A - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
- Publication number
- JPH02294638A JPH02294638A JP1116833A JP11683389A JPH02294638A JP H02294638 A JPH02294638 A JP H02294638A JP 1116833 A JP1116833 A JP 1116833A JP 11683389 A JP11683389 A JP 11683389A JP H02294638 A JPH02294638 A JP H02294638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- substituted
- silver halide
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 108
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims abstract description 7
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 5
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 47
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 claims description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 claims description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 29
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 16
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 14
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 12
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 12
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 8
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 5
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 5
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 5
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 3
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 3
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000238413 Octopus Species 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical class [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000005521 carbonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052811 halogen oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000002458 infectious effect Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical class [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical group [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical class SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 2-[butyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCO GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- MNYQCTDEZSAROX-UHFFFAOYSA-N 4-amino-1-methylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1(O)CC=C(N)C=C1 MNYQCTDEZSAROX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-1,2,3-benzotriazole Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001385733 Aesculus indica Species 0.000 description 1
- 101100294115 Caenorhabditis elegans nhr-4 gene Proteins 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 241000270722 Crocodylidae Species 0.000 description 1
- 101100480530 Danio rerio tal1 gene Proteins 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001649081 Dina Species 0.000 description 1
- 101100096319 Drosophila melanogaster Spc25 gene Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical class OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- MUQNGPZZQDCDFT-JNQJZLCISA-N Halcinonide Chemical compound C1CC2=CC(=O)CC[C@]2(C)[C@]2(F)[C@@H]1[C@@H]1C[C@H]3OC(C)(C)O[C@@]3(C(=O)CCl)[C@@]1(C)C[C@@H]2O MUQNGPZZQDCDFT-JNQJZLCISA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 208000028257 Joubert syndrome with oculorenal defect Diseases 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100480538 Mus musculus Tal1 gene Proteins 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100312945 Pasteurella multocida (strain Pm70) talA gene Proteins 0.000 description 1
- 244000203593 Piper nigrum Species 0.000 description 1
- 235000008184 Piper nigrum Nutrition 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Chemical class 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 101000650578 Salmonella phage P22 Regulatory protein C3 Proteins 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101001040920 Triticum aestivum Alpha-amylase inhibitor 0.28 Proteins 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000013614 black pepper Nutrition 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 235000008429 bread Nutrition 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000002946 cyanobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N desomorphine Chemical compound C1C2=CC=C(O)C3=C2[C@]24CCN(C)[C@H]1[C@@H]2CCC[C@@H]4O3 LNNWVNGFPYWNQE-GMIGKAJZSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L disulfite Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])(=O)=O WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical group CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229940071106 ethylenediaminetetraacetate Drugs 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000004005 formimidoyl group Chemical group [H]\N=C(/[H])* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229940028332 halog Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical class [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000012669 liquid formulation Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Chemical group 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005948 methanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000006525 methoxy ethyl amino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004372 methylthioethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 125000006518 morpholino carbonyl group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([H])C([H])([H])N(C(*)=O)C1([H])[H] 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004957 nitroimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid amide group Chemical group P(N)(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009938 salting Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 235000017709 saponins Nutrition 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M sodium;4-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical group CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical group CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical group [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/10—Organic substances
- G03C2001/108—Nucleation accelerating compound
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真製版の分野で用いられる、超硬調な画像を
安定性の高い処理液をもって迅速に形成せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(特にネガ型)に関するものである
。
安定性の高い処理液をもって迅速に形成せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(特にネガ型)に関するものである
。
(従来の技術)
ある徨のハロゲン化銀を用いて極めてコントラストの高
い写真画it−形成できることは公知でろ夕、そのよう
な写真画像の形成方法は、写真表版の分野で用いられて
いる。
い写真画it−形成できることは公知でろ夕、そのよう
な写真画像の形成方法は、写真表版の分野で用いられて
いる。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特殊な現
像液が用いられてきた。リス現像gは現像主薬としてハ
イドロキノ/のみ全含み、その伝染現gl性を阻害しな
いように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付
加物の形Kして用い遊離の亜硫酸イオンのa度を極めて
低く(通常0,lモル/11以下)してある。そのため
リス現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える
保存に耐えられないという重大な欠点を持っている。
像液が用いられてきた。リス現像gは現像主薬としてハ
イドロキノ/のみ全含み、その伝染現gl性を阻害しな
いように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付
加物の形Kして用い遊離の亜硫酸イオンのa度を極めて
低く(通常0,lモル/11以下)してある。そのため
リス現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える
保存に耐えられないという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第ダ,一一弘,≠07号、同第参
,/At.277号、同第ダ,l66,7弘一号、同第
弘,31/ ,717号、同第μ,λ7コ,604号、
同第≠,rii,rz7号、同第≠,λ≠3,732号
等に記載されているヒドラジyts導体を用いる方法が
ある。この方法によれば、超硬調で感度の高い写X特性
が得られ、更に現像液中に高!1度の亜硫酸塩を加える
ことが許容されるので、現儂液の空気酸化に対する安定
性はリス現像液に比べて飛賎的に向上する。
方法としては米国特許第ダ,一一弘,≠07号、同第参
,/At.277号、同第ダ,l66,7弘一号、同第
弘,31/ ,717号、同第μ,λ7コ,604号、
同第≠,rii,rz7号、同第≠,λ≠3,732号
等に記載されているヒドラジyts導体を用いる方法が
ある。この方法によれば、超硬調で感度の高い写X特性
が得られ、更に現像液中に高!1度の亜硫酸塩を加える
ことが許容されるので、現儂液の空気酸化に対する安定
性はリス現像液に比べて飛賎的に向上する。
しかしながら、これらヒドラジ/化合物を用いた、超硬
調な画像形成法は、伝染現gIt強く促進するためK1
高感度で高い黒化濃度が得られるがコントラストの低い
文字原稿(特に明朝体の細線)の撮影時に、細い白地と
なるべき部分まで黒化してしまい、線巾か細くなク易い
という問題がらつ次。
調な画像形成法は、伝染現gIt強く促進するためK1
高感度で高い黒化濃度が得られるがコントラストの低い
文字原稿(特に明朝体の細線)の撮影時に、細い白地と
なるべき部分まで黒化してしまい、線巾か細くなク易い
という問題がらつ次。
特に線画撮影工程Kおける原稿は、写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼シ込まれて
作られる。したがって原稿には濃度や線巾の異なる画像
が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カメラ
、写真感光材料あるいは画儂形成方法が強く望まれてい
る。一方、カタログや、大型ポスターの製版Kは、網写
真の拡大〔目伸し〕あるいは縮小(目縮め)が広く行な
われ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなク
ボケた点の撮影となる。縮小でh原稿よりさらに線数/
インチが大きく細い点の撮影になる。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼シ込まれて
作られる。したがって原稿には濃度や線巾の異なる画像
が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カメラ
、写真感光材料あるいは画儂形成方法が強く望まれてい
る。一方、カタログや、大型ポスターの製版Kは、網写
真の拡大〔目伸し〕あるいは縮小(目縮め)が広く行な
われ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなク
ボケた点の撮影となる。縮小でh原稿よりさらに線数/
インチが大きく細い点の撮影になる。
従って網階調の再現性を維持するためよシー層広い2チ
テユードを有する画像形成方法が要求されている。
テユードを有する画像形成方法が要求されている。
伝染現像性を抑制する方法は、造核剤の添加量を下げた
シ、現像液のpHを下げたクすればよいが、これでFi
階v4が軟調にな)、画線の鮮鋭度がなくなシ、実用的
K問題があった。
シ、現像液のpHを下げたクすればよいが、これでFi
階v4が軟調にな)、画線の鮮鋭度がなくなシ、実用的
K問題があった。
本発明では、造核現像の促進剤を併用することによシE
)H//.2以下の現儂液でも階調を十分硬調にするこ
とができ、さらKJOOnrn−弘コOロmK吸収極大
を有する染料を使用することによシ線画撮影の露光ラチ
チュードを向上させることができた。
)H//.2以下の現儂液でも階調を十分硬調にするこ
とができ、さらKJOOnrn−弘コOロmK吸収極大
を有する染料を使用することによシ線画撮影の露光ラチ
チュードを向上させることができた。
染料の波長としてはJOOnmよシ短いと画質向上効果
が得られず、4tJOnrnよシ長いと感度低下が著し
い。
が得られず、4tJOnrnよシ長いと感度低下が著し
い。
(発明の目的)
本発明の第7の目的は、画線、網点の再現性の良好な(
露光ラチチュードが広い)ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
露光ラチチュードが広い)ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
第一の目的は、ヒドラジ/化合物を用いた系において、
安定な現像液で、性能を安定K維持できる超硬調な画像
形成法を提供することである。
安定な現像液で、性能を安定K維持できる超硬調な画像
形成法を提供することである。
(発明の開示)
本発明の上記目的は、支持体上K少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水
性コロイド層に一般式(I)のヒドラジン鰐導体を有す
るネガ型感光材料をpHi /.2以下の現偉液で処理
してガ/マl以上の硬調な黒白画像を形成する方法にお
いて、該ハロゲ/化銀写真感光材料がJOOnrnP−
4AコOnmに吸収極大を有する染料を少くとも一種含
有することを特徴とする画像形成方法Kよって達成され
た。
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水
性コロイド層に一般式(I)のヒドラジン鰐導体を有す
るネガ型感光材料をpHi /.2以下の現偉液で処理
してガ/マl以上の硬調な黒白画像を形成する方法にお
いて、該ハロゲ/化銀写真感光材料がJOOnrnP−
4AコOnmに吸収極大を有する染料を少くとも一種含
有することを特徴とする画像形成方法Kよって達成され
た。
まず本発明K使用する一般式(I)のヒド2ジン誘導体
Kついて説明する。
Kついて説明する。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
I)によって採わされる化合物が好ましい。
I)によって採わされる化合物が好ましい。
一般式(I)
式や、R1Fi脂肪族基または芳香族基全炭わし、R2
は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、カルパモイル基又はオキ
シカルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホ
ニル基、ヌルホキシ基、A1、A2はともに水素原子あ
るいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のア
ルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の7リー
ルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を
災わす。
は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、カルパモイル基又はオキ
シカルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホ
ニル基、ヌルホキシ基、A1、A2はともに水素原子あ
るいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のア
ルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の7リー
ルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を
災わす。
一般式CI)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数/−
JOの直鎖、分岐ま虎は環状のアルキル基でちる。ここ
で分岐アルキル基はその中に7つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、ヌルホキシ基、スルホ/アミド基、カル
ボ/アミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数/−
JOの直鎖、分岐ま虎は環状のアルキル基でちる。ここ
で分岐アルキル基はその中に7つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、ヌルホキシ基、スルホ/アミド基、カル
ボ/アミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(I)においてR1で表される芳香族基は単環ま
たは一環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
たは一環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
ここで不飽和へテロ環基は単環またi;jJ環のアリー
ル基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
ル基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イ{”ダゾール環、ピラゾール環、キノリン環
、インキノリ/環、ペンズイミダゾー?環、テアゾール
環、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもべ冫ゼン環
を含むものが好ましい。
ジン環、イ{”ダゾール環、ピラゾール環、キノリン環
、インキノリ/環、ペンズイミダゾー?環、テアゾール
環、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもべ冫ゼン環
を含むものが好ましい。
R■として4!K好ましいものはアリール基である。
几、のアリール基または不飽和へテロ環泰は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、クレイド基、クレタ/基、アリー
ルオキン基、ヌルファモイル基、カルパモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヌルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルボニルi、7!j−ルオキシ
カルポニル基、アシル基、アルコキシカル〆ニル基、ア
シルオキシ基、カルポンアミド基、スルホ/アミド基や
カルボキシル基、9冫酸アミド基、ジアシルアミノ基、
イミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数ノ〜
コ0のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が7〜3の単環またはコ環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数ノ〜コOのもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数7〜一〇のアルキル基で置換され
たアミン基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
3θを持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素
数7〜30′t−持つもの)、ウレイド基(好ましくは
炭素数7〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好まし
くは炭累数7〜30のもの)などである。
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、クレイド基、クレタ/基、アリー
ルオキン基、ヌルファモイル基、カルパモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヌルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシカルボニルi、7!j−ルオキシ
カルポニル基、アシル基、アルコキシカル〆ニル基、ア
シルオキシ基、カルポンアミド基、スルホ/アミド基や
カルボキシル基、9冫酸アミド基、ジアシルアミノ基、
イミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数ノ〜
コ0のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が7〜3の単環またはコ環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数ノ〜コOのもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数7〜一〇のアルキル基で置換され
たアミン基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
3θを持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素
数7〜30′t−持つもの)、ウレイド基(好ましくは
炭素数7〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好まし
くは炭累数7〜30のもの)などである。
一般式CI)においてR2で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数/−1のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルがキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フエニル基、ヌルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
ては、好ましくは炭素数/−1のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルがキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フエニル基、ヌルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
アリール基としては単環または一環のアリール基が好1
レく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えはハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルfキシル基、ヌルホ基、スルホニル晶などで置換さ
れていてもよい。
レく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えはハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルfキシル基、ヌルホ基、スルホニル晶などで置換さ
れていてもよい。
アルコキシ基としては炭素数/〜tのアルコキシ基のも
のが好ましく、ハαグ/原子、アリール基などでf換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハαグ/原子、アリール基などでf換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミン基及び、炭素数/〜IO
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換力ルバモイル基及び炭
素数/〜IOのアルキルカルバモイル基、アリールカル
パモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボ”キシ基などで置換されていてもよい。
素数/〜IOのアルキルカルバモイル基、アリールカル
パモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボ”キシ基などで置換されていてもよい。
オキンカルボニル基としては、炭素数7〜IOのアルコ
キシ力ル〆ニル基、アリールオキシカルfニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲ/原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシ力ル〆ニル基、アリールオキシカルfニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲ/原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
几2で茂わされる基のうち好ましいものは、G,がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アル・↑ル基(例えば
、メチル基、トリフルオロメテル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、!一メタ/スルホ/アミドプロビル基、フエ
ニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えは
、0−ヒドロキシベ/ジル基など)、アリール基(例え
ば、フエニv基、3.j−ジクロロフエニル基、O−メ
タンヌルホ/アミドフエニル基、グーメタンヌルホニル
7エニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい
。
ボニル基の場合には、水素原子、アル・↑ル基(例えば
、メチル基、トリフルオロメテル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、!一メタ/スルホ/アミドプロビル基、フエ
ニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えは
、0−ヒドロキシベ/ジル基など)、アリール基(例え
ば、フエニv基、3.j−ジクロロフエニル基、O−メ
タンヌルホ/アミドフエニル基、グーメタンヌルホニル
7エニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい
。
またGエがヌルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシ7エニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フエニル基など)ま虎は置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシ7エニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フエニル基など)ま虎は置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
G がヌルホキシ基の場合、好ましいR+2はシエ
アノベンジル基、メチルチオベンジル基などであr)
?メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、7エノキシ基
、7エニル基が好ましく、特に、7エノキクiが好適で
ある。
、7エニル基が好ましく、特に、7エノキクiが好適で
ある。
G■がN一置換ま九は無置換イミノメチレ7基の場合、
好ましいR2#iメチル基、エチル基、置換または無置
換のフエニル基である。
好ましいR2#iメチル基、エチル基、置換または無置
換のフエニル基である。
凡 の置換基としては、几1に関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式(I)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
。
。
又、几2はG■一几2部分を残余分子から分裂させ、−
G,−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、具体的Kは
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
G,−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、具体的Kは
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
一般式(a)
一几3−Z1
?中、2 はGllC対し求核的に攻撃し、!
G −R −Z■部分を残余分子から分裂させ得?
基でおり、R3はR2から水素原子/個除いたもので、
Z1がG■に対し求核攻撃し、Gエ,R3,Zlで環式
構造が生成可能なものである.さらに詳細には、Zlは
一瓜式(I)ヒドラジン化合物が酸化等により次の反応
中間体を生成したときに容易にG1と求核反応し R 1− N − N − G l− R 3 − Z
R,−N−N基を01から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまたはNHR4 (R,は水素原子
、アルキル基、了りール基、−CORS、または−SO
xRsであり、R,は水素原子、アルキル基、アリール
蟇、ヘテロ環基などを表す)、COOHなどのようにG
,と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H,SH,NHR.、−COOHはアルカリ等の加水分
解によりこれらの基を生成するように一時的に保護され
ていてもよい)、あるいは、−C−R. 、−C−R6
(R& 、Rtは水素原子、アルキル基、アルケニル基
、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イ
オンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することで
G,と反応することが可能になる官n&であってもよい
. また、G+ ,Rs 、Z+で形成される環としては5
員または6員のものが好ましい. 一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる. 一般式(b) ましくは炭素数1〜l2のもの》、アルケニル碁(好ま
しくは炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜12のもの)などを表し、同じでも異なっ
てもよい.Bは置換基を有してもよい5員環または6員
環を完成するのに必要な原子であり、m,nはOまたは
1であり、(n+m)はlまたは2である. Bで形成される5員たまは6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ビリジン環、キノリン環などである. Z,は一般式(a)と同義である. 一般式(e) fNi下−−fCRc R.?i Z.式中、Rt,R
.は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
またはハロゲン原子などを表し、同じでも異なってもよ
い. R,は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール碁を表す. pは0または1を表し、qは1〜4を表す.Rc,Rc
およびR1は2,がG,へ分子内求I亥攻撃し得る構造
の限りにおいて互いに結合して環を形成してもよい. R, 、Rcは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ま
たはアルキル基であり、Rcは好ましくはアルキル基ま
たはアリール基である. qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpはOまた
は1を、qが2のときpはOまたは】を、qが3のとき
pは0またはlを表し、qが2または3のときCR,R
cは同一でも異なってもよい.Z1は一般式(a)と同
義である. A+ − AXは水素原子、炭素数20以下のアルキル
スルホニル碁およびアリールスルホニル基(好ましくは
フエニルスルホニル基又はハメットの置lA基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたフエニルスルホ
ニル基)、炭$120以下のアシルS(好ましくはベン
ゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以
上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖
又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基<
ravsとしては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる.))A+ 、Axと
しては水素原子が最も好ましい.−C式(I)のR1ま
たはR.はその中にカブラー等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基が組み込まれているも
のでもよい.バラスト基は8以上の炭素数を有する写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基
、アルコキシ碁、フエニル基、アルキルフユニル基、フ
エノキシ基、アルキルフエノキシ基などの中から選ぶこ
とができる. 一般式(I)のR,またはR8はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい,かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカブト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4,385,108号、同4,459
,347号、特開昭59−195.233号、同59−
200.231号、同59−201,045号、同5つ
一201,046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−lフ0,733号、同61−270.744
号、同62−948号、特廓昭62−67,508号、
同62−67,501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる. 一m式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す.
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない. C糞Hi 1−I?) T−20) SH CH* CH! CHt SH T−15) SH ff−25) CN ゴー27) T−36) T−37) ■−グP) 1−to) 1−J1) ■−4!ぶ) 1一亭7) I−参r〕 T−1−2) 1−jJ) 1−7≠) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISCLO8URE
l lm 2!! / J (/Pl’3年ノノ月号
、p.311t)およびそこに引用された文献の他、米
国特許弘,010,J07号、同弘,−62,タ一タ号
、同ダ,コ76,3ぶ弘号、同≠,271.7μt号、
同a,3et,ior号、同1t,If!F,JIA7
号、同弘,340,631号、同弘,≠7F,2.2t
号、英国特許2,0//,39/B、特開昭60−/7
P7J4t号、同j!−270,タ4tt号、同t3−
コタ,73ノ号、!#開昭4/一/70.7JJ号、同
乙/−コ70,7I/−弘号、同6一一タ4At号、E
P2/7,J/0号、特願昭t/−/73.23≠号、
z6/−コ!/,≠lJ号、ttt/−141,J4A
タ号、It/−J74,213号、I6コーJ712r
号、lぶ一一A7.10P号、I6一一47,!/0号
、zt2−jt,jIJ号、14.2−/30.119
号、l6コー/μ3,≠ぶ7号、ttl2−/t’A,
//7号、またはUS44,ぶrt,it7号、特開昭
6コーi7y,i4tぶ号、特開昭ぶ3−コj4L,J
弘μ号、同ぶJ−2344.2173号、同ぶ3一一3
4A,λ≠6号、同63−一タII, j1一号、同J
j−JOt,≠3r号、特願昭61一76ぶ,//7号
、lぶλ一一弘7,1771号、I63−ioz,tr
一号、ttAJ−//u,//r号、lぶ3−iio,
ozi号、163−//≠,l/タ号、z6J−//6
,JJタ号、ztJ−/447,332号、zt3−/
7タ,7AO号、〃63−−コタ,/63号、特願平/
−/I,377号、tt/ 一/r,371号、#/−
/I,372号、I/−/!,763号、l/一/t,
!7μ号、ll−参〇,7タコ号、I/−4t!,ぶ/
J号、l/一μコ.676号に記載されたものを用いる
ことができる。
基でおり、R3はR2から水素原子/個除いたもので、
Z1がG■に対し求核攻撃し、Gエ,R3,Zlで環式
構造が生成可能なものである.さらに詳細には、Zlは
一瓜式(I)ヒドラジン化合物が酸化等により次の反応
中間体を生成したときに容易にG1と求核反応し R 1− N − N − G l− R 3 − Z
R,−N−N基を01から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまたはNHR4 (R,は水素原子
、アルキル基、了りール基、−CORS、または−SO
xRsであり、R,は水素原子、アルキル基、アリール
蟇、ヘテロ環基などを表す)、COOHなどのようにG
,と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H,SH,NHR.、−COOHはアルカリ等の加水分
解によりこれらの基を生成するように一時的に保護され
ていてもよい)、あるいは、−C−R. 、−C−R6
(R& 、Rtは水素原子、アルキル基、アルケニル基
、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水酸イ
オンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することで
G,と反応することが可能になる官n&であってもよい
. また、G+ ,Rs 、Z+で形成される環としては5
員または6員のものが好ましい. 一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる. 一般式(b) ましくは炭素数1〜l2のもの》、アルケニル碁(好ま
しくは炭素数2〜12のもの)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜12のもの)などを表し、同じでも異なっ
てもよい.Bは置換基を有してもよい5員環または6員
環を完成するのに必要な原子であり、m,nはOまたは
1であり、(n+m)はlまたは2である. Bで形成される5員たまは6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ビリジン環、キノリン環などである. Z,は一般式(a)と同義である. 一般式(e) fNi下−−fCRc R.?i Z.式中、Rt,R
.は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
またはハロゲン原子などを表し、同じでも異なってもよ
い. R,は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール碁を表す. pは0または1を表し、qは1〜4を表す.Rc,Rc
およびR1は2,がG,へ分子内求I亥攻撃し得る構造
の限りにおいて互いに結合して環を形成してもよい. R, 、Rcは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ま
たはアルキル基であり、Rcは好ましくはアルキル基ま
たはアリール基である. qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpはOまた
は1を、qが2のときpはOまたは】を、qが3のとき
pは0またはlを表し、qが2または3のときCR,R
cは同一でも異なってもよい.Z1は一般式(a)と同
義である. A+ − AXは水素原子、炭素数20以下のアルキル
スルホニル碁およびアリールスルホニル基(好ましくは
フエニルスルホニル基又はハメットの置lA基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたフエニルスルホ
ニル基)、炭$120以下のアシルS(好ましくはベン
ゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以
上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖
又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基<
ravsとしては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる.))A+ 、Axと
しては水素原子が最も好ましい.−C式(I)のR1ま
たはR.はその中にカブラー等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基が組み込まれているも
のでもよい.バラスト基は8以上の炭素数を有する写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基
、アルコキシ碁、フエニル基、アルキルフユニル基、フ
エノキシ基、アルキルフエノキシ基などの中から選ぶこ
とができる. 一般式(I)のR,またはR8はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい,かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカブト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4,385,108号、同4,459
,347号、特開昭59−195.233号、同59−
200.231号、同59−201,045号、同5つ
一201,046号、同59−201,047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−lフ0,733号、同61−270.744
号、同62−948号、特廓昭62−67,508号、
同62−67,501号、同62−67.510号に記
載された基があげられる. 一m式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す.
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない. C糞Hi 1−I?) T−20) SH CH* CH! CHt SH T−15) SH ff−25) CN ゴー27) T−36) T−37) ■−グP) 1−to) 1−J1) ■−4!ぶ) 1一亭7) I−参r〕 T−1−2) 1−jJ) 1−7≠) 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISCLO8URE
l lm 2!! / J (/Pl’3年ノノ月号
、p.311t)およびそこに引用された文献の他、米
国特許弘,010,J07号、同弘,−62,タ一タ号
、同ダ,コ76,3ぶ弘号、同≠,271.7μt号、
同a,3et,ior号、同1t,If!F,JIA7
号、同弘,340,631号、同弘,≠7F,2.2t
号、英国特許2,0//,39/B、特開昭60−/7
P7J4t号、同j!−270,タ4tt号、同t3−
コタ,73ノ号、!#開昭4/一/70.7JJ号、同
乙/−コ70,7I/−弘号、同6一一タ4At号、E
P2/7,J/0号、特願昭t/−/73.23≠号、
z6/−コ!/,≠lJ号、ttt/−141,J4A
タ号、It/−J74,213号、I6コーJ712r
号、lぶ一一A7.10P号、I6一一47,!/0号
、zt2−jt,jIJ号、14.2−/30.119
号、l6コー/μ3,≠ぶ7号、ttl2−/t’A,
//7号、またはUS44,ぶrt,it7号、特開昭
6コーi7y,i4tぶ号、特開昭ぶ3−コj4L,J
弘μ号、同ぶJ−2344.2173号、同ぶ3一一3
4A,λ≠6号、同63−一タII, j1一号、同J
j−JOt,≠3r号、特願昭61一76ぶ,//7号
、lぶλ一一弘7,1771号、I63−ioz,tr
一号、ttAJ−//u,//r号、lぶ3−iio,
ozi号、163−//≠,l/タ号、z6J−//6
,JJタ号、ztJ−/447,332号、zt3−/
7タ,7AO号、〃63−−コタ,/63号、特願平/
−/I,377号、tt/ 一/r,371号、#/−
/I,372号、I/−/!,763号、l/一/t,
!7μ号、ll−参〇,7タコ号、I/−4t!,ぶ/
J号、l/一μコ.676号に記載されたものを用いる
ことができる。
一般式(I)で茨わされる化合物は、ノ−ロゲ/化銀/
モルあ念シ/×IO−6モルないしJ×io ”モル
含有させるのが好ましく、等に/×IO−5モルないし
一X/0−2モルの範囲が好ましい添加量である。
モルあ念シ/×IO−6モルないしJ×io ”モル
含有させるのが好ましく、等に/×IO−5モルないし
一X/0−2モルの範囲が好ましい添加量である。
一般式CI)の化合物を写真感光材料中に含有させると
きは、水溶性の場合は水溶液として、水不溶性の場合は
アルコール類(たとえばメタノール、エタノール)エス
テル類(たとえば酢酸エチル)ケトン類(たとえばアセ
トン)などの水に混和しうる有機溶媒の溶液として、ハ
ロゲン化銀乳剤溶液又は、親水性コロイド溶液に添加す
ればよい。
きは、水溶性の場合は水溶液として、水不溶性の場合は
アルコール類(たとえばメタノール、エタノール)エス
テル類(たとえば酢酸エチル)ケトン類(たとえばアセ
トン)などの水に混和しうる有機溶媒の溶液として、ハ
ロゲン化銀乳剤溶液又は、親水性コロイド溶液に添加す
ればよい。
ハロゲン化銀乳剤溶液中に添加する場合は、その添加は
化学熟成の開始から塗布までの任意の時期に行うことが
できるが化学熟成終了IK行うのが好ましく、%K?1
1布のために用意された塗布液中に添加するのが好まし
い。
化学熟成の開始から塗布までの任意の時期に行うことが
できるが化学熟成終了IK行うのが好ましく、%K?1
1布のために用意された塗布液中に添加するのが好まし
い。
次に、本発明に使用される染料Kついて説明する。
本発明K用いられる染料は300んtLt20nmにピ
ークを有し、よシ好ましくはJjOnmwll/Onm
にピークを有する染料(紫外線吸収剤を含む)である。
ークを有し、よシ好ましくはJjOnmwll/Onm
にピークを有する染料(紫外線吸収剤を含む)である。
具体例としては、特開昭6−−コ/O≠it号、同43
−/0グ04t6号、同63−IOJJJ!号、特願昭
ぶ一−4t3704t号、同42−Jlrt4tl号、
特開昭43−304(I36号、同43−JllIjJ
j号などK記載されている。
−/0グ04t6号、同63−IOJJJ!号、特願昭
ぶ一−4t3704t号、同42−Jlrt4tl号、
特開昭43−304(I36号、同43−JllIjJ
j号などK記載されている。
本発明に好ましく用いられる300〜4tJOnmlc
吸収ピークを有する化合物としては、例えばアリール基
で置換されたペンゾトリアゾール化合物、4−チアヅリ
ドン化合物、ペンゾフエノン化合物、桂皮酸エステル化
合物、ブタジエン化合物、ペンゾオキサゾール化合物さ
らに紫外線吸収ボリマーを用いることができる. さらに特に好ましく用いられる染料としては下記一般式
(D−α)、(D−k))、(D−C)又は(D−d)
で表わされる化合物で吸収極大が300〜420flm
である化合物である.一般式〔D−α〕 X 式中、R+’は−OXまたは一Nぐ で表さY れる原子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基
、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルヰル
基または置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウ
ム・カリウム塩を表し、R2′とR,′は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、または前記の一〇X碁と同様の基を
表し、Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルポキシ
基、スルホ基、またはスルホアルキル基或はそのナトリ
ウム・カリウム塩で置換されたフエニル基またはスルホ
アルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアル
キルチオアルキル碁を、またLは置換されてもよいメチ
ン基を表すeR4 ″はアルキル基、カルボキシ基、
アルキルオキシ力ルボニル基或はアシル置換、非置換の
アミツ基を表す.mは整数1または2を、nは整数0ま
たは1をそれぞれ示す. 一般式(D−b) 式中Rs 、R& 、R* 、Re’及びRl.
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボ
キシル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩を表し、R,はアルキル基またはカルボキシル碁を
表す. 一般式(D−C) RI’3 R11 式中Rl1′及びRlffi″はアルキル基、置換アル
キル基、アリール基、アルコキシカルボニル基またはカ
ルボキシル基を表し、Rlff′及びR1,′はスルホ
ン酸基もしくはカルボキシル基で置換されたアルキル基
またはスルホンa2基もしくはカルボキシル基またはス
ルホン酸基で置換されたアリール基或はそのナトリウム
・カリウム塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン
鎮を表す.Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を
表し、lは0または1を表す. 一般式(D−d) 式中R,Ill、R%、R%、R,′はアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、ア
ルコキシ基及びスルホアルキル基を表す.RS′及びR
,#′はスルホン酸基、アルキルスルホンa基を表す. 以下に本発明で好ましく用いられる染料の具体的化合物
例を示すが本発明がこれに限定されるものではない. D−11 I CHx CH.SOs K D−4 D−5 D−6 D−7 D−14 CCHz)a SCh K ごUゴ h D−15 D−16 D−18 D−26 D−27 5LJコ h D−19 Ct Hs \(CHI),−So. K これらの染料は、乳剤屡、中間層、保護層、その他の親
水性コロイド層のいずれに添加しても良い.また、これ
らの化合物は任意の層に実質的に固定されても良い.こ
の場合乳剤層もしくは乳剤より外側の層に存在すること
が好ましい.これらの染料を固定化する媒染剤としては
、特公昭43−10254号、US−2.548,56
4号、US−2.882,156号、US−3.444
138号等に記載のものが使用される.また、US−7
3256号、WO−8804794に記載された染料固
体粒子微結晶分散体を用いることも出来る. また、本発明に有用な染料として特願昭62−4370
4号、同62−218648号に記載の現像液中で脱色
可能となる機能性染料がある.次にこれら機能性染料の
具体例を示す. D−29 し11111% D−32 D−33 D−30 D−31 D−34 D−35 し+61”I!3 D−36 これらの染料はモル吸光係数により異なるが、通常1
0−”g/m〜1 g/rdの範囲で添加される.好ま
しくは50■〜500■/dである.上記染料は適当な
溶媒〔例えば水、アルコール(例えばメタノール、エタ
ノール、プロバノールなど)、アセトン、メチルセロソ
ルブ、など、あるいはこれらの混合溶媒〕に溶解して本
発明の親水性コロイド層用塗布液中に添加することがで
きる。
吸収ピークを有する化合物としては、例えばアリール基
で置換されたペンゾトリアゾール化合物、4−チアヅリ
ドン化合物、ペンゾフエノン化合物、桂皮酸エステル化
合物、ブタジエン化合物、ペンゾオキサゾール化合物さ
らに紫外線吸収ボリマーを用いることができる. さらに特に好ましく用いられる染料としては下記一般式
(D−α)、(D−k))、(D−C)又は(D−d)
で表わされる化合物で吸収極大が300〜420flm
である化合物である.一般式〔D−α〕 X 式中、R+’は−OXまたは一Nぐ で表さY れる原子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基
、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルヰル
基または置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウ
ム・カリウム塩を表し、R2′とR,′は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、または前記の一〇X碁と同様の基を
表し、Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルポキシ
基、スルホ基、またはスルホアルキル基或はそのナトリ
ウム・カリウム塩で置換されたフエニル基またはスルホ
アルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアル
キルチオアルキル碁を、またLは置換されてもよいメチ
ン基を表すeR4 ″はアルキル基、カルボキシ基、
アルキルオキシ力ルボニル基或はアシル置換、非置換の
アミツ基を表す.mは整数1または2を、nは整数0ま
たは1をそれぞれ示す. 一般式(D−b) 式中Rs 、R& 、R* 、Re’及びRl.
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボ
キシル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩を表し、R,はアルキル基またはカルボキシル碁を
表す. 一般式(D−C) RI’3 R11 式中Rl1′及びRlffi″はアルキル基、置換アル
キル基、アリール基、アルコキシカルボニル基またはカ
ルボキシル基を表し、Rlff′及びR1,′はスルホ
ン酸基もしくはカルボキシル基で置換されたアルキル基
またはスルホンa2基もしくはカルボキシル基またはス
ルホン酸基で置換されたアリール基或はそのナトリウム
・カリウム塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン
鎮を表す.Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を
表し、lは0または1を表す. 一般式(D−d) 式中R,Ill、R%、R%、R,′はアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、ア
ルコキシ基及びスルホアルキル基を表す.RS′及びR
,#′はスルホン酸基、アルキルスルホンa基を表す. 以下に本発明で好ましく用いられる染料の具体的化合物
例を示すが本発明がこれに限定されるものではない. D−11 I CHx CH.SOs K D−4 D−5 D−6 D−7 D−14 CCHz)a SCh K ごUゴ h D−15 D−16 D−18 D−26 D−27 5LJコ h D−19 Ct Hs \(CHI),−So. K これらの染料は、乳剤屡、中間層、保護層、その他の親
水性コロイド層のいずれに添加しても良い.また、これ
らの化合物は任意の層に実質的に固定されても良い.こ
の場合乳剤層もしくは乳剤より外側の層に存在すること
が好ましい.これらの染料を固定化する媒染剤としては
、特公昭43−10254号、US−2.548,56
4号、US−2.882,156号、US−3.444
138号等に記載のものが使用される.また、US−7
3256号、WO−8804794に記載された染料固
体粒子微結晶分散体を用いることも出来る. また、本発明に有用な染料として特願昭62−4370
4号、同62−218648号に記載の現像液中で脱色
可能となる機能性染料がある.次にこれら機能性染料の
具体例を示す. D−29 し11111% D−32 D−33 D−30 D−31 D−34 D−35 し+61”I!3 D−36 これらの染料はモル吸光係数により異なるが、通常1
0−”g/m〜1 g/rdの範囲で添加される.好ま
しくは50■〜500■/dである.上記染料は適当な
溶媒〔例えば水、アルコール(例えばメタノール、エタ
ノール、プロバノールなど)、アセトン、メチルセロソ
ルブ、など、あるいはこれらの混合溶媒〕に溶解して本
発明の親水性コロイド層用塗布液中に添加することがで
きる。
これらの紫外線吸収剤は一穐以上組合せて用いることも
できる。
できる。
次に、本発明に使用される一般式(n)又は(III)
の化合物について説明する。
の化合物について説明する。
1)H/ i . o以下でGをr以上にするには、一
般式(II)又は/と(III)に示される化合物を、
感材中K含有させるのが好ましい。
般式(II)又は/と(III)に示される化合物を、
感材中K含有させるのが好ましい。
このG値の測定は、現像液のp Hが、pl{/ハコ以
下でらるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温
匿、時間はJf’Cで30秒間で行なわれる。Gは、濃
度0./と3.0を与える露光量の差(△logE)に
対する@度差であらわす。
下でらるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温
匿、時間はJf’Cで30秒間で行なわれる。Gは、濃
度0./と3.0を与える露光量の差(△logE)に
対する@度差であらわす。
一般式(II)
(式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
ら選ばれ九原子″1九は原子群よシなる一価の連ltf
基を畏わナ。Aはコ価の連結基を衣わす。Bはアミノ基
、アンモニウム基および含窒素へテロ環を賢わし、アミ
ン基は置換されていてもよい。mは/,一又は3を茨わ
し、nはO又Fi/を表わす。) Yが畏わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒累複
累環化曾物があげられる。
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
ら選ばれ九原子″1九は原子群よシなる一価の連ltf
基を畏わナ。Aはコ価の連結基を衣わす。Bはアミノ基
、アンモニウム基および含窒素へテロ環を賢わし、アミ
ン基は置換されていてもよい。mは/,一又は3を茨わ
し、nはO又Fi/を表わす。) Yが畏わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒累複
累環化曾物があげられる。
Yが含窒素複素環化合物を衣わす場合は一般式(n)の
化合物は下記一般式(II−a)で表わされる。
化合物は下記一般式(II−a)で表わされる。
一般式(n−a )
式中、ttFioまたはlを表わし、mは/,コまたは
3を茨わし、nは0または/を表わす。
3を茨わし、nは0または/を表わす。
((X+A−B) は前記一般式CI!)におけるそ
n m れと同義でろシ、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一極の原子から構成される!また
はt員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
n m れと同義でろシ、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一極の原子から構成される!また
はt員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
ていてもよい。
Qによって形成される複素環としては例えばそれぞれ置
換または無置換のインダゾール類、ペンズイミダゾール
類、ペンゾトリアゾール類、ペンズオキサゾール類、ペ
ンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール類、オ
キサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、アザ
インデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジy
類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等があげら
れる。
換または無置換のインダゾール類、ペンズイミダゾール
類、ペンゾトリアゾール類、ペンズオキサゾール類、ペ
ンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール類、オ
キサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、アザ
インデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジy
類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等があげら
れる。
Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウム原
子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルベ/ジルアンモニウム
基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたはアルカリ金属
原子となシうる基(例えばアセチル基、シアノエチル基
、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルベ/ジルアンモニウム
基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたはアルカリ金属
原子となシうる基(例えばアセチル基、シアノエチル基
、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアン基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロビル基、t−7’テル基、シア
ンエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール基(例えばフエニル基、グーメタンスル
ホンアミドフエニル基、グーメチルフエニル基、3et
t−ジクロル7エニル基、ナ7チル基、等〕、アルケ二
ル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基C例,lベ
ンジル基、μ−メチルベンジル基、フエネチル基、等〕
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等〕
、アリールオキシ基〔例えばフエノキシ基、弘一メトキ
シフエノキシ基、等〕、アルキルチオ基(例えばメチル
チオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、了り
ールチオ基(例えばフエニルチオ基)、スルホニル基(
例エばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−
}ルエンスルホニル基、等)、カルパモイル基(例えば
無宜換力ルパモイル基、メチルカルパモイル基、フエニ
ルカルパモイル!、等)、スルファモイル基(例えば無
置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フエ
ニルスルファモイル基、等)、カル〆ンアミド基(例え
ばアセトアミド基、ペンズアミド基、等)、スルホンア
ミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスル
ホンアミド基、p−}ルエンスルホンアミド基、等)、
ア7ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ペンゾイル
オキシ基、等)、スルホニルオ午シ基(例えばメタンス
ルホニルオキ7基、等〕、ウレイド基(例えば無置換の
ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フ
エニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例えば無置
換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、等)、ア
シル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等)、ヘテ
ロ環基(例えばl−モルホリノ基、/−ピベリジノ基、
一一ピリジル基、弘一ピリジル基、2ーチェニル基、l
−ピラゾリル基、l−,イミダゾリル基、λ−テトラヒ
ドロフリル基、テトラヒドロチェニルi、IF)、オキ
シカルlニル基(例えばメトキシカル〆ニル基、フエノ
キシカルボニル基、等)、オキシカルポニルアミノ基(
例えばメトキシカルゼニルアミノ基、フエノキシカルボ
ニルアミノ基、!−エチルへキシルオキシカルl二ルア
ミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジメ
チルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ基、
等)、カルゼン酸またはその塩、スルホン酸またはその
塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアン基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロビル基、t−7’テル基、シア
ンエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール基(例えばフエニル基、グーメタンスル
ホンアミドフエニル基、グーメチルフエニル基、3et
t−ジクロル7エニル基、ナ7チル基、等〕、アルケ二
ル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基C例,lベ
ンジル基、μ−メチルベンジル基、フエネチル基、等〕
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等〕
、アリールオキシ基〔例えばフエノキシ基、弘一メトキ
シフエノキシ基、等〕、アルキルチオ基(例えばメチル
チオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、了り
ールチオ基(例えばフエニルチオ基)、スルホニル基(
例エばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−
}ルエンスルホニル基、等)、カルパモイル基(例えば
無宜換力ルパモイル基、メチルカルパモイル基、フエニ
ルカルパモイル!、等)、スルファモイル基(例えば無
置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フエ
ニルスルファモイル基、等)、カル〆ンアミド基(例え
ばアセトアミド基、ペンズアミド基、等)、スルホンア
ミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスル
ホンアミド基、p−}ルエンスルホンアミド基、等)、
ア7ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ペンゾイル
オキシ基、等)、スルホニルオ午シ基(例えばメタンス
ルホニルオキ7基、等〕、ウレイド基(例えば無置換の
ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フ
エニルウレイド基、等)、チオウレイド基(例えば無置
換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、等)、ア
シル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等)、ヘテ
ロ環基(例えばl−モルホリノ基、/−ピベリジノ基、
一一ピリジル基、弘一ピリジル基、2ーチェニル基、l
−ピラゾリル基、l−,イミダゾリル基、λ−テトラヒ
ドロフリル基、テトラヒドロチェニルi、IF)、オキ
シカルlニル基(例えばメトキシカル〆ニル基、フエノ
キシカルボニル基、等)、オキシカルポニルアミノ基(
例えばメトキシカルゼニルアミノ基、フエノキシカルボ
ニルアミノ基、!−エチルへキシルオキシカルl二ルア
ミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジメ
チルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ基、
等)、カルゼン酸またはその塩、スルホン酸またはその
塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
Xが表わすλ価の遅結基としては例えば、結基はQとの
間に直鎖または分岐のアルキレy基(例えばメチレン基
、エチレ/基、′j′aピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レ7基、/−メチルエチレン基、等)を介して結合され
ていてもよい。R1、R2・P−3・R4・R5・R6
・几ハR8・R,およびRエ。け水素原子、それぞれ置
換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル碁、プロビル基、n−プチル基、等)、置換もしくは
無置換のアリール基(例えばフエニル基、コーメチルフ
エニル基、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(
例えばプロぱニル基、l−メチルビニル憂、等)、また
は置換もしくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル
基、フエネチル基、等)を我わす。
間に直鎖または分岐のアルキレy基(例えばメチレン基
、エチレ/基、′j′aピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レ7基、/−メチルエチレン基、等)を介して結合され
ていてもよい。R1、R2・P−3・R4・R5・R6
・几ハR8・R,およびRエ。け水素原子、それぞれ置
換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル碁、プロビル基、n−プチル基、等)、置換もしくは
無置換のアリール基(例えばフエニル基、コーメチルフ
エニル基、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(
例えばプロぱニル基、l−メチルビニル憂、等)、また
は置換もしくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル
基、フエネチル基、等)を我わす。
Aidl価の連結基を表わし、λ価の連結基としては直
鎖または分岐のアルキレ7基(例えばメチレン基、エチ
レン基、プロピレン基、フチレン基、ヘキシレン基、/
−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐のアルケニ
レン基(例えばビニレン基、/−メチルビニレン基、等
)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例えばペンジリ
デン基、等)1アリーレン基(例えばフエニレン、ナフ
チレン、等)等が挙げられる。Aで表わされる上記の基
はXとAFi任意の組合せで更に置換されていてもよい
。
鎖または分岐のアルキレ7基(例えばメチレン基、エチ
レン基、プロピレン基、フチレン基、ヘキシレン基、/
−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐のアルケニ
レン基(例えばビニレン基、/−メチルビニレン基、等
)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例えばペンジリ
デン基、等)1アリーレン基(例えばフエニレン、ナフ
チレン、等)等が挙げられる。Aで表わされる上記の基
はXとAFi任意の組合せで更に置換されていてもよい
。
Bの置換もしくは無置換のアミン基は一般式(n−b)
で表わされるものである。
で表わされるものである。
一般式(■一b)
(式中、R ,R は同一であっても異なってもよ
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数l〜3
0のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表
わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、n −ブチル基、n−オクチル基、ア
リル基、3−プテニル基、ベンジル基、/−ナフチルメ
チル基、等)、分岐(例えばisoプロビル基、t−オ
クチル゜基等)、または環状(例えばシクaヘキシル基
、等)、でもよい。
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数l〜3
0のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表
わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、n −ブチル基、n−オクチル基、ア
リル基、3−プテニル基、ベンジル基、/−ナフチルメ
チル基、等)、分岐(例えばisoプロビル基、t−オ
クチル゜基等)、または環状(例えばシクaヘキシル基
、等)、でもよい。
又%R <!:R12は連結して環を形成してもよく
、その中K7つまたはそれ以上のへテロ原子(例えば酸
素原子、硫黄原子、室素原子など)を含んだ飽和のへテ
ロ環を形成するように環化されていてもよく、例えばピ
ロリジル基、ピベリジル基、モルホリノ基などを挙げる
ことができる。又、Rll R12の置換基としては
例えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ノ・ロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。)、ヒドロキシ基、炭素数コO以下のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシ力ルボニル基、エトキシ力
ルボニル基、フエノキシカルボニル基、ペンジルオキシ
カルゼニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基(
例えば・メトキシ基、エトキシ基、ペンジルオキシ基、
フエネチルオキシ基など)、炭素数2θ以下の単環式の
了りールオキシ基(例えばフエノキン基、p一トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル暴、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メタル基など)、カルパモイル
基(例えばカルパモイル基、N,N−ジメチル力ルパモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ヒイリジノカルlニ
ル基など)、スルファモイル基(例えばスルファモイル
基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピベリジノスルホニル基など)、炭素数2
0以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ペンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基なト)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド
基、p一トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20
以下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド
基、フエニルカルボンアミド基など〕、炭素数20以下
のウレイド基(例えばメチルウレイド基、フエニルウレ
イド基など)、アミノ基などが挙げられる。
、その中K7つまたはそれ以上のへテロ原子(例えば酸
素原子、硫黄原子、室素原子など)を含んだ飽和のへテ
ロ環を形成するように環化されていてもよく、例えばピ
ロリジル基、ピベリジル基、モルホリノ基などを挙げる
ことができる。又、Rll R12の置換基としては
例えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ノ・ロ
ゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。)、ヒドロキシ基、炭素数コO以下のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシ力ルボニル基、エトキシ力
ルボニル基、フエノキシカルボニル基、ペンジルオキシ
カルゼニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基(
例えば・メトキシ基、エトキシ基、ペンジルオキシ基、
フエネチルオキシ基など)、炭素数2θ以下の単環式の
了りールオキシ基(例えばフエノキン基、p一トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル暴、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メタル基など)、カルパモイル
基(例えばカルパモイル基、N,N−ジメチル力ルパモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ヒイリジノカルlニ
ル基など)、スルファモイル基(例えばスルファモイル
基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピベリジノスルホニル基など)、炭素数2
0以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ペンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基なト)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド
基、p一トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20
以下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド
基、フエニルカルボンアミド基など〕、炭素数20以下
のウレイド基(例えばメチルウレイド基、フエニルウレ
イド基など)、アミノ基などが挙げられる。
Bのアンモニウム基は一般式(u−C)で表わされるも
のである。
のである。
一般式(ff−c)
eXRエ.
(7”),
(式中、R XR ,R は上述の一般式(u−
b )におけるR およびR と同様の基であり、Z
eはアニオンを表わし、例えば・・ライe e
θ ドイオン(FllえぱclBr I など)、ス
一般式( ■一m) ルホナートイオン(例えばトリフルオロメタンスルホナ
ート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナー
ト、パラクロロベンゼンスルホナートなど)、スルファ
トイオン(例えばエチルスルファート、メチルスル7ア
ートなど冫、ノ宿−クロラート、テトラフルオロゼラー
トなどが挙げられる。pは0または/を貴わし、化合物
が分子内塩を形成する場合はOでるる。) Bの含窒素へテロ環は、少なくとも1つ以上の窒素原子
を含んだ!またはt員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい。
b )におけるR およびR と同様の基であり、Z
eはアニオンを表わし、例えば・・ライe e
θ ドイオン(FllえぱclBr I など)、ス
一般式( ■一m) ルホナートイオン(例えばトリフルオロメタンスルホナ
ート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナー
ト、パラクロロベンゼンスルホナートなど)、スルファ
トイオン(例えばエチルスルファート、メチルスル7ア
ートなど冫、ノ宿−クロラート、テトラフルオロゼラー
トなどが挙げられる。pは0または/を貴わし、化合物
が分子内塩を形成する場合はOでるる。) Bの含窒素へテロ環は、少なくとも1つ以上の窒素原子
を含んだ!またはt員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい。
含窒素へテロ環としては例えばイミダゾリル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。
一般式(n)のうち好ましいものとしては、下記一般式
(n−m)、(It−n)、(II−0)または(II
−p)で表わされる化合物が挙げられる。
(n−m)、(It−n)、(II−0)または(II
−p)で表わされる化合物が挙げられる。
一般式(II−n)
一般式([[−o)
(X+−A−B
n
一般式(El−p)
?式中、% X+−A − B, M%mは前記一般式
(ItI)n のそれと同義でろる。Z■、z2およびZ3は前記一般
式Cm)におけるモX−)−A−Bと同義であn るか、又はハロゲン原子、炭素数20以下のアルコキシ
基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、ヒドelをシ
アミノ基、置換および未置換のアミノ基を表わし、その
置換基としては前記一般式(■−b)におけるRll
B12の置換基の中から選ぶことができる。但しz
1、z2及びz3の内の少なくとも1つは{X(A−B
と同義である。
(ItI)n のそれと同義でろる。Z■、z2およびZ3は前記一般
式Cm)におけるモX−)−A−Bと同義であn るか、又はハロゲン原子、炭素数20以下のアルコキシ
基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、ヒドelをシ
アミノ基、置換および未置換のアミノ基を表わし、その
置換基としては前記一般式(■−b)におけるRll
B12の置換基の中から選ぶことができる。但しz
1、z2及びz3の内の少なくとも1つは{X(A−B
と同義である。
n
またこれら複素環は一般式(n)の複累環に適用される
置換基で置換されてもよい。
置換基で置換されてもよい。
次に一般式(II)で表わされる化合物例を示すが本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
U−x
■ 一μ
[−/
■−!
n−4
[−7
■−r
B
■一タ
■ 一l4t
H
■一l !
H
I1−/J
1−io
H
■一l /
n−it
H
II−/ 9
H
一般式(■冫
式中、
R1
几2は各々水素原子又は脂肪族残
基を表わす。
R1とR2は互に結合して環を形成してもよい。
R3は二価の脂肪族基を表わす。
Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二両のへテロ環
を表わす。
を表わす。
nはOまたは/を表わす.Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
BIB2の脂肪族残基としては、各々炭素l〜/2のア
ル牟ル基、アルケニル基およびアルキニル基が好ましく
それぞれ適当な基で置換されていてもよい。アルキル基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロビル基、プ
チル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、イソブロ
ビル基、sec−ブチル基、シクロヘキシル基などであ
る。
ル牟ル基、アルケニル基およびアルキニル基が好ましく
それぞれ適当な基で置換されていてもよい。アルキル基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロビル基、プ
チル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、イソブロ
ビル基、sec−ブチル基、シクロヘキシル基などであ
る。
アルケニル基としては例えばアリル基、一一ブテニル基
、!−へキセニル基、コーオクテニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロパルギル基、コー投ンチニ
ル基などがある。置換基としてハ、フエニルi、amフ
エニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホ基、アルキルアミノ基、ア
ミド基等である。
、!−へキセニル基、コーオクテニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロパルギル基、コー投ンチニ
ル基などがある。置換基としてハ、フエニルi、amフ
エニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホ基、アルキルアミノ基、ア
ミド基等である。
R1とR2とで環を形成する場合としては、炭素又は窒
素・酸素の組合せからなる!員又はt負の炭素環又はへ
テロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあげられる。
素・酸素の組合せからなる!員又はt負の炭素環又はへ
テロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあげられる。
R1とR2として特に好ましいものは炭素原子数/〜3
のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
R3の二価の脂肪族基としては−R4一又は−R4 S
−が好ましい。ここでR は二価の脂肪族残基で、好ま
しくは炭素数/−Jの飽和及び不飽和のもので、例えば
一〇}1− −CH2C}12−−(CH2)3−
−(CH2)4− −(Cal2)6−Cl CH
=CHCH − −C}i CECCH2−R4の好
ましい炭素数としてはλ〜グのもので、R4としてさら
に好ましくは−eH2CH2一及び一CM2C}12C
f−12である。なお(X)nのniEOのときのR3
はーR4−だけを表わす。
−が好ましい。ここでR は二価の脂肪族残基で、好ま
しくは炭素数/−Jの飽和及び不飽和のもので、例えば
一〇}1− −CH2C}12−−(CH2)3−
−(CH2)4− −(Cal2)6−Cl CH
=CHCH − −C}i CECCH2−R4の好
ましい炭素数としてはλ〜グのもので、R4としてさら
に好ましくは−eH2CH2一及び一CM2C}12C
f−12である。なお(X)nのniEOのときのR3
はーR4−だけを表わす。
Xのへテロ環としては、窒素、酸素又は硫黄を含む!及
び乙員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい。
び乙員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい。
ペテロ環として好ましくは芳香族のもので例えば、γト
ラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジア
ゾール、イミダゾール九チアゾール、オキサゾール、ペ
ンズイミダゾール、ペンゾチアゾール、ペンズオキサゾ
ールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジア
ゾールが好ましい. Mのアルカリ金属としては、Na,K Li+などがある。
ラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジア
ゾール、イミダゾール九チアゾール、オキサゾール、ペ
ンズイミダゾール、ペンゾチアゾール、ペンズオキサゾ
ールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジア
ゾールが好ましい. Mのアルカリ金属としては、Na,K Li+などがある。
アルカリ土類金属としては、Ca ,Mg”++
などがらる。
Mの四級アンモニウム塩としては、炭素数≠〜?0から
なるもノテ、例えば(CH3)4Nの1(0285)4
Nes (04Hg)4NfBxC6H,CH2Ne
(CH3)3、C16H33Ne(CH3〕3などであ
る。四級ホスホニウム塩としては、(C489)4P6
3, C■6H3Pe(C}i3)3、C6H5CH
2Pe(CH3)などでるる。
なるもノテ、例えば(CH3)4Nの1(0285)4
Nes (04Hg)4NfBxC6H,CH2Ne
(CH3)3、C16H33Ne(CH3〕3などであ
る。四級ホスホニウム塩としては、(C489)4P6
3, C■6H3Pe(C}i3)3、C6H5CH
2Pe(CH3)などでるる。
一般式CIII)で衷わされる化合物の無槓酸塩として
は例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり、有機酸
塩としては酢酸塩、ブロピオン酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンス.ルホン酸L p−トルエンスルホン
酸塩などがある。
は例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり、有機酸
塩としては酢酸塩、ブロピオン酸塩、メタンスルホン酸
塩、ベンゼンス.ルホン酸L p−トルエンスルホン
酸塩などがある。
以下に一般式(Illf)で表わされる化合物の具体例
を挙げる。
を挙げる。
[7−/
■一一
m−3
■一グ
■一!
m−t
I[1−7
■一/3
ill−/ 弘
m−t j
トl
t
fir−/7
m−7
(}{(JCH2CH2)2NC}i2C}i2SR■
−2 m−l o ■一l / SR ■−/I II−/タ m−ro ■−ココ これらの一般式(II)及びCI!)で六わされる促進
剤は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが/.
O×/O A−0.1f/m ,好ましくはj
. OX/ 0−3〜0.397m2の範囲で用いるの
が望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(H20、メ
タノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、
ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)K溶解
して塗布液に添加される。
−2 m−l o ■一l / SR ■−/I II−/タ m−ro ■−ココ これらの一般式(II)及びCI!)で六わされる促進
剤は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが/.
O×/O A−0.1f/m ,好ましくはj
. OX/ 0−3〜0.397m2の範囲で用いるの
が望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(H20、メ
タノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、
ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)K溶解
して塗布液に添加される。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤の調製方法として
は、P,Glafkides著「chimieet P
hysique PhotographiqueJ (
PaulMontel社刊/タt7年)、G.F. D
u ffjn 署「Photographic Em
ulsion ChemistryJ( The F
ocal Press刊、/タ4A)、V. L.Ze
likrnan et a!著 jMaking
andCoating Photographic
EmulsionJ(The pocal Press
刊/タ6μ年)などに記載されている方法、米国特許第
一,!タコ,λj(I)号、同第μ,07j,0コO号
明細書などK記載されているコンバージョン法、英国特
許第/,027,/≠t号などに記載されているコア/
シエル乳剤p4製法を用いて調整することができる。
は、P,Glafkides著「chimieet P
hysique PhotographiqueJ (
PaulMontel社刊/タt7年)、G.F. D
u ffjn 署「Photographic Em
ulsion ChemistryJ( The F
ocal Press刊、/タ4A)、V. L.Ze
likrnan et a!著 jMaking
andCoating Photographic
EmulsionJ(The pocal Press
刊/タ6μ年)などに記載されている方法、米国特許第
一,!タコ,λj(I)号、同第μ,07j,0コO号
明細書などK記載されているコンバージョン法、英国特
許第/,027,/≠t号などに記載されているコア/
シエル乳剤p4製法を用いて調整することができる。
水溶性銀塩(硝酸銀水溶液)と水溶性ハロゲン塩を反応
させる形式としては、片側混合法、同時混合法、それら
の組合せのいずれを用いてもよい。
させる形式としては、片側混合法、同時混合法、それら
の組合せのいずれを用いてもよい。
同時混合法の一つの形式としてハロゲ/化銀の生成ざれ
る液相中のpAgを一定に保つ方法、すなbcyコント
ロールダブルジェット法金用いることもできる。
る液相中のpAgを一定に保つ方法、すなbcyコント
ロールダブルジェット法金用いることもできる。
ま九アンモニア、チオエーテル、四置換チオ尿素などの
いわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成させるこ
ともできる。
いわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成させるこ
ともできる。
コントロールダブルジェット法、およびハロゲン化銀溶
剤を使用した粒子形成方法では、結晶形が規則的で粒子
サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作ることが容易で
ある。
剤を使用した粒子形成方法では、結晶形が規則的で粒子
サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作ることが容易で
ある。
本発明に用いられる写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は、
比較的広い粒子サイズ分布を持つこともできるが、狭い
粒子サイズ分布を持クことが好ましく、特にハロゲ/化
銀粒子の重量′1.たけ数K関して全体の20%を占め
る粒子のサイズが平均粒子サイズの士弘64以内Kある
ことが好ましい(一般にこのような乳剤は単分散乳剤と
呼ばれる)。
比較的広い粒子サイズ分布を持つこともできるが、狭い
粒子サイズ分布を持クことが好ましく、特にハロゲ/化
銀粒子の重量′1.たけ数K関して全体の20%を占め
る粒子のサイズが平均粒子サイズの士弘64以内Kある
ことが好ましい(一般にこのような乳剤は単分散乳剤と
呼ばれる)。
本発明でもちいるハロゲ/化銀粒子は、微粒子(例えば
0.7μ以下)の方が好ましく、特にO.μμ以下が好
ましい。
0.7μ以下)の方が好ましく、特にO.μμ以下が好
ましい。
写真乳剤中のハログ/化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的な( regular)な結晶体を有するもの
でもよく、また球状、板状などのような変則的( ir
regular )な結晶を持つもの、あるいはこれら
の結晶形の複合形をもつものであってもよい。
な規則的な( regular)な結晶体を有するもの
でもよく、また球状、板状などのような変則的( ir
regular )な結晶を持つもの、あるいはこれら
の結晶形の複合形をもつものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と茨層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成したコ種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミクム塩、亜
硫駿塩、鉛塩、タリクム塩、イリジウム塩もしくはその
錯塩、ロジウム塩もしくはその錯壇などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミクム塩、亜
硫駿塩、鉛塩、タリクム塩、イリジウム塩もしくはその
錯塩、ロジウム塩もしくはその錯壇などを共存させても
よい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は化学増感されて
いてもいなくてもよい。化学増感の方法としては金増感
などがあシ、金増感にさらに硫黄増感、還元増感、貴金
属増感法など金組み合わせて用いることができる。
いてもいなくてもよい。化学増感の方法としては金増感
などがあシ、金増感にさらに硫黄増感、還元増感、貴金
属増感法など金組み合わせて用いることができる。
貴金属増感法のうち金増感法はその代羨的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、次と
えば白金、パラジウム、イリジクム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許コ,弘グr ,o
lIo号、英国特許t/If,06/号などに記載され
ている。
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、次と
えば白金、パラジウム、イリジクム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許コ,弘グr ,o
lIo号、英国特許t/If,06/号などに記載され
ている。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばテオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。具体例は米国特許/l!7弘,タp+号、同一
,J7F ,9147号、同一,tio,trP号、同
一, 7Jff .66r号、同J,!0/,J/3号
、同!,6!t,?Jj号に記載されたものである。
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばテオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。具体例は米国特許/l!7弘,タp+号、同一
,J7F ,9147号、同一,tio,trP号、同
一, 7Jff .66r号、同J,!0/,J/3号
、同!,6!t,?Jj号に記載されたものである。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジ/スルフイン酸、シラ/化合物などを用いることがで
き、それらの具体例は米国特許一,111’7 ,13
0号、2,!/I,Aタl号、一,タi3,toy号、
i.yr3,tio号、.2,≦24t,437号に記
載されている。
ジ/スルフイン酸、シラ/化合物などを用いることがで
き、それらの具体例は米国特許一,111’7 ,13
0号、2,!/I,Aタl号、一,タi3,toy号、
i.yr3,tio号、.2,≦24t,437号に記
載されている。
さらにこのハロゲン化銀乳剤は感度上昇および所望の波
長域Kg元性をもたせる目的で光学増感することができ
る。光学増感の方法としてはシア二/色素、メロシアニ
/色素等の増感色素が単独もしくは併用して使用され、
分元増感、強色増感がほどこされる。
長域Kg元性をもたせる目的で光学増感することができ
る。光学増感の方法としてはシア二/色素、メロシアニ
/色素等の増感色素が単独もしくは併用して使用され、
分元増感、強色増感がほどこされる。
これらの技術については、米国特許第一,6ff1,j
IIj号、同第一.タl一,3−タ号、同第3.327
,040号、同第J,t/J,431号、同@j,4
.2r,タtダ号、特公昭≠3一弘236号、同ダμ一
/41030号、特開昭JJ−JJOJO号等などに記
載されている。
IIj号、同第一.タl一,3−タ号、同第3.327
,040号、同第J,t/J,431号、同@j,4
.2r,タtダ号、特公昭≠3一弘236号、同ダμ一
/41030号、特開昭JJ−JJOJO号等などに記
載されている。
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばペン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、プロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトテアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリア
ゾール類、ペンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリア
ゾール類、メルカプトテトラゾール類(%に/−フエニ
ルー!−メルカフ}テトラゾール)など;メルカプトピ
リミジ/類:メルカプトトリアジ7類;たとえばオキサ
ドリ/テオンのようなチオケト化合物;アザインデン類
、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ/デ/1
1(’l?に参一ヒドロキシ置換(/,J,Ja,7)
テトラアザインデン類)、ハ冫タアザイ/デン類なト;
べ冫ゼンチオスル7オ/酸、べ/ゼ/スルフイ/酸、べ
/センスル7オン酸アミド等のようなカブリ防止剤また
は安定剤として知られた、多くの化合物を加えることが
できる。
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類、例えばペン
ゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベン
ズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、プロ
モベンズイミダゾール類、メルカプトテアゾール類、メ
ルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダ
ゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリア
ゾール類、ペンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリア
ゾール類、メルカプトテトラゾール類(%に/−フエニ
ルー!−メルカフ}テトラゾール)など;メルカプトピ
リミジ/類:メルカプトトリアジ7類;たとえばオキサ
ドリ/テオンのようなチオケト化合物;アザインデン類
、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ/デ/1
1(’l?に参一ヒドロキシ置換(/,J,Ja,7)
テトラアザインデン類)、ハ冫タアザイ/デン類なト;
べ冫ゼンチオスル7オ/酸、べ/ゼ/スルフイ/酸、べ
/センスル7オン酸アミド等のようなカブリ防止剤また
は安定剤として知られた、多くの化合物を加えることが
できる。
これらの中で、特に好ましいのはべ/ゾト,リアゾール
類(例えば!−メチルベンゾトリアゾール)及びニトロ
インダゾール類(例えば!−ニトロイ/ダゾール)であ
る。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよい
。
類(例えば!−メチルベンゾトリアゾール)及びニトロ
インダゾール類(例えば!−ニトロイ/ダゾール)であ
る。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよい
。
本発明の写真感元材料Kは、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョクノ《ン、酢酸クロムなど
)、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサー
ル、グルタールアルデヒドなど)、ヘーメテロール化合
物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダ/トイ
7など)、ジオキサ/訪導体(J,J−ジヒドロキシジ
オキサ/など)、活性ビニル化合物(/,J,j−トリ
アクリロイルーへキサヒドローs−fリアジ/、/ 3
−ビニルスルホニル一一一プロ/七ノールなど)、活性
ハロゲン化合物(J,4t−ジクロル−6−ヒドロキシ
ーa−トリアジンなト)、ムコノ\冒ケン散類(ムコク
ロル酸、ムコフエノキシクロル酸など)、などを単独ま
たは組み合わせて用いることができる。
)、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサー
ル、グルタールアルデヒドなど)、ヘーメテロール化合
物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダ/トイ
7など)、ジオキサ/訪導体(J,J−ジヒドロキシジ
オキサ/など)、活性ビニル化合物(/,J,j−トリ
アクリロイルーへキサヒドローs−fリアジ/、/ 3
−ビニルスルホニル一一一プロ/七ノールなど)、活性
ハロゲン化合物(J,4t−ジクロル−6−ヒドロキシ
ーa−トリアジンなト)、ムコノ\冒ケン散類(ムコク
ロル酸、ムコフエノキシクロル酸など)、などを単独ま
たは組み合わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層にF′i塗布助剤、帯電防止、ヌベ
リ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、徨々の
界面活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層にF′i塗布助剤、帯電防止、ヌベ
リ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、徨々の
界面活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ヌテロイド系)、アルキレンオキサイ
ド訪導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタ/エステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又社アミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルヌルフオ/酸塩、アルキル
ベンゼンヌルフオン酸塩、アルキルナ7タレンヌル7オ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシルーN−アルキルタクリン類、ヌルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルホリオキシエテレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエテレ/ア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基金含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホ/酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ/オキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミ/塩類、脂肪
族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジニク
ム、イミダゾリウムなどの複素環第弘級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
ド訪導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタ/エステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又社アミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルヌルフオ/酸塩、アルキル
ベンゼンヌルフオン酸塩、アルキルナ7タレンヌル7オ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシルーN−アルキルタクリン類、ヌルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルホリオキシエテレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエテレ/ア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基金含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホ/酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ/オキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミ/塩類、脂肪
族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジニク
ム、イミダゾリウムなどの複素環第弘級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭JJ′一74tlJ号公報に&FMされた分子量t
oo以上のポリアルキレンオキサイド類である。
公昭JJ′一74tlJ号公報に&FMされた分子量t
oo以上のポリアルキレンオキサイド類である。
本発明に用いる写真感光材料には、写真乳剤層その他の
親水性コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水
不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を含むことができ
る。例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシ
アルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル
(例えば酢酸ビニル〕、アクリロニトリル、オレフイン
、スチレンなどの単独もしくは組合せ、又はこれらとア
クリル酸、メタクリル酸、α,β一不飽和ジカルボン酸
、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ヌルホア
ルキル(メタ)アクリレート、スチレ/スルホン駿等の
組合せを単量体成分とするポリマーを用いることができ
る。
親水性コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水
不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を含むことができ
る。例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシ
アルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル
(例えば酢酸ビニル〕、アクリロニトリル、オレフイン
、スチレンなどの単独もしくは組合せ、又はこれらとア
クリル酸、メタクリル酸、α,β一不飽和ジカルボン酸
、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ヌルホア
ルキル(メタ)アクリレート、スチレ/スルホン駿等の
組合せを単量体成分とするポリマーを用いることができ
る。
本発明に用いる処理液としては現像主薬とじてジヒドロ
キシベンゼン系現像主薬を用い補助現像主薬としてp−
アミンフェノール系現像主薬又は3−ビラゾリド/系現
像主薬を用いるのが好ましい。
キシベンゼン系現像主薬を用い補助現像主薬としてp−
アミンフェノール系現像主薬又は3−ビラゾリド/系現
像主薬を用いるのが好ましい。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン系現像主薬として
はハイドロキノ/、クロロハイドロキノ/、プロモハイ
ドロキノン、イソプロビルハイドロキノ/、メチルハイ
ドロキノン、一,3−ジクロロハイドロキノ7、J,!
−ジブロモノ\イトロキノ7、2,J−ジメチルハイド
ロキノン等があるが、なかでも特にハイドロキノ/が好
”ましい。
はハイドロキノ/、クロロハイドロキノ/、プロモハイ
ドロキノン、イソプロビルハイドロキノ/、メチルハイ
ドロキノン、一,3−ジクロロハイドロキノ7、J,!
−ジブロモノ\イトロキノ7、2,J−ジメチルハイド
ロキノン等があるが、なかでも特にハイドロキノ/が好
”ましい。
補助現像主薬としての7−7エニルー3−ビラゾリドン
又はその訪導体の例としてVi/−7エニルー3−ビラ
ゾリドン、ノー7エニルー4I,u−ジメテル−3−ビ
ラゾリド/、ノー7エニルー≠一メチルー弘−ヒドロキ
シメチル−3−ビラゾリト7、/−7エニルー≠,≠−
ジヒドロキシメテル−3−ピラゾリ’r”:”、’−7
エニルー3−メチル−3−ピラノリド7、/−p−アミ
ノフエニルーク.弘一ジメチル−3−ビラゾリドン、ノ
ーp一トリルーl!L,ダージメチル−3−ピラゾリド
/などがある。
又はその訪導体の例としてVi/−7エニルー3−ビラ
ゾリドン、ノー7エニルー4I,u−ジメテル−3−ビ
ラゾリド/、ノー7エニルー≠一メチルー弘−ヒドロキ
シメチル−3−ビラゾリト7、/−7エニルー≠,≠−
ジヒドロキシメテル−3−ピラゾリ’r”:”、’−7
エニルー3−メチル−3−ピラノリド7、/−p−アミ
ノフエニルーク.弘一ジメチル−3−ビラゾリドン、ノ
ーp一トリルーl!L,ダージメチル−3−ピラゾリド
/などがある。
p−アミノフェノール系補助現像主薬としてはN−メチ
ルーp−アミノフェノール、p−7ミノフェノール、N
−(β−ヒドロキシエチル)一p−アミンフェノール、
N−(4C−ヒドロキシフエニル)グリシン、一−メチ
ルーp−アミノフエノ−k、p−べ/ジルアミノフェノ
ール等があるが、なかでもN−メテルーp−アミノフェ
ノールが好ましい。
ルーp−アミノフェノール、p−7ミノフェノール、N
−(β−ヒドロキシエチル)一p−アミンフェノール、
N−(4C−ヒドロキシフエニル)グリシン、一−メチ
ルーp−アミノフエノ−k、p−べ/ジルアミノフェノ
ール等があるが、なかでもN−メテルーp−アミノフェ
ノールが好ましい。
ジヒドロキシベ/ゼ/系現像主薬は通常0.0ノモル/
l−0.rモル/lの量で用いられるのが好ましい。ま
たジヒドロキシベ/ゼ/類と/一7エニルー3−ビラゾ
リドン類又はp−アミノーフェノール類との組合せを用
いる場合には前者を0.0jモル/l−0.jモル/t
lS 後者をQ.otモル/E以下の量で用いるのが好
ましい。
l−0.rモル/lの量で用いられるのが好ましい。ま
たジヒドロキシベ/ゼ/類と/一7エニルー3−ビラゾ
リドン類又はp−アミノーフェノール類との組合せを用
いる場合には前者を0.0jモル/l−0.jモル/t
lS 後者をQ.otモル/E以下の量で用いるのが好
ましい。
本発明K用いる亜硫酸塩保恒剤としては亜硫酸ナトリウ
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、メタ重亜硫酸カリクム、ホルムアルデヒド重亜硫
酸ナトリウム等がある。亜硫酸塩は0.3モル/l以上
用いられるが、余シに多量添加すると現傷液中で沈澱し
て液汚染を引き起こすので、上限は/.一モル/lとす
るのが好ましい。
ム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、メタ重亜硫酸カリクム、ホルムアルデヒド重亜硫
酸ナトリウム等がある。亜硫酸塩は0.3モル/l以上
用いられるが、余シに多量添加すると現傷液中で沈澱し
て液汚染を引き起こすので、上限は/.一モル/lとす
るのが好ましい。
本発明の現俸液には現像促進剤としてアミン化合物特に
米国特許第μ,コぶタ,タ一タ号K記載の化合物を含有
することができる。
米国特許第μ,コぶタ,タ一タ号K記載の化合物を含有
することができる。
本発明の現像液にはその他、ホウ酸、ホク砂、第三リン
醒ナトリクム、第三リン酸カリクムの如きpH緩衝剤そ
れ以外K特開昭60−23e33に記載のp}l緩衝剤
を用いることができる。
醒ナトリクム、第三リン酸カリクムの如きpH緩衝剤そ
れ以外K特開昭60−23e33に記載のp}l緩衝剤
を用いることができる。
臭化カリウム、沃化カリワムの如き現像抑制剤;エチレ
/グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、
ヘキシレンクリコール、エタノール、メタノールの如き
有機溶剤;J−ニトロインダゾール等のインダゾール系
化合物、一−メルカブトベンツィミダゾールー!−スル
ホン酸ナトリウム、J−メチルベンットリアゾールなど
のベ/ットリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ないし
は黒ポツ(black pepper )防止剤;を含
んでもよく、特に!−ニトロインダゾール等の化合物を
用いるときはジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸
塩保恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解して
おき使用時に両部分を混合して水を加えること等が一般
的である。さらK″!一二トロイ/ダゾールが溶解きれ
ている部分をアルカリ性にしておくと黄色〈着色し取扱
い吟に便利である。
/グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、
ヘキシレンクリコール、エタノール、メタノールの如き
有機溶剤;J−ニトロインダゾール等のインダゾール系
化合物、一−メルカブトベンツィミダゾールー!−スル
ホン酸ナトリウム、J−メチルベンットリアゾールなど
のベ/ットリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ないし
は黒ポツ(black pepper )防止剤;を含
んでもよく、特に!−ニトロインダゾール等の化合物を
用いるときはジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸
塩保恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解して
おき使用時に両部分を混合して水を加えること等が一般
的である。さらK″!一二トロイ/ダゾールが溶解きれ
ている部分をアルカリ性にしておくと黄色〈着色し取扱
い吟に便利である。
更に必要K応じて色調剤、界面活性剤、硬水軟化剤、硬
膜剤などを含んでもよい。現像液のpHとしては、好ま
しくはpHタ以上の高pHoもの、よシ好ましくはタ.
j〜//.コである。
膜剤などを含んでもよい。現像液のpHとしては、好ま
しくはpHタ以上の高pHoもの、よシ好ましくはタ.
j〜//.コである。
現像液のl)H//.一以上だと空気中のCO2によっ
てpHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着色
しやすくなる。pHy.t以下であると硬調になリKく
く、鮮明な画質がえられない。
てpHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着色
しやすくなる。pHy.t以下であると硬調になリKく
く、鮮明な画質がえられない。
定着剤としては一般に用いられている組成のものを用い
ることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシア
ン酸塩の#1か、定着剤としての効果が知られている有
機硫黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤
として水溶性アルミニワム塩、例えば硫酸アルミニウム
、明パンなどを含んでもよい。ここで水溶性アルミニウ
ム塩の量としては通常O〜3.ofAJl/I;である
。また酸化剤としてエチレンジアミン四酢醗Fe(II
I)錯塩を用いてもよい。
ることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシア
ン酸塩の#1か、定着剤としての効果が知られている有
機硫黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤
として水溶性アルミニワム塩、例えば硫酸アルミニウム
、明パンなどを含んでもよい。ここで水溶性アルミニウ
ム塩の量としては通常O〜3.ofAJl/I;である
。また酸化剤としてエチレンジアミン四酢醗Fe(II
I)錯塩を用いてもよい。
処理温度は通常ir’cからJo”cの間K選ばれるが
、/r”cよシ低い温度またはjo″cをこえる温度と
してもよい。
、/r”cよシ低い温度またはjo″cをこえる温度と
してもよい。
本発明の処理Kは自動現像機を用いるのが好ましいがそ
の場合、現像、定着、水洗、乾燥の工程をとおって、感
光材料を入れてから出てくるまでのトータルの時間が2
0秒〜/コθ秒という短い時間でも充分に超硬調のネガ
階調写真特性が得られる。
の場合、現像、定着、水洗、乾燥の工程をとおって、感
光材料を入れてから出てくるまでのトータルの時間が2
0秒〜/コθ秒という短い時間でも充分に超硬調のネガ
階調写真特性が得られる。
以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説明する。
実施同一l
〔ハロゲン化銀乳剤層の処方〕
コ/トロールダブルジェット法を用いて粒子サイズ0,
2Jμの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数/コ哄、
沃化銀0,Jモル一、ヨード分布は均一)を調製した。
2Jμの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数/コ哄、
沃化銀0,Jモル一、ヨード分布は均一)を調製した。
この沃臭化銀乳剤にはK31 rcl6t弘X/ 0−
7モk/AgtK−1−るよう添加し庚。
7モk/AgtK−1−るよう添加し庚。
この乳剤y&:7ロキュレーショ/法Kよシ脱塩を行な
いその後to’cに保ち増感色素として下記化合物を銀
/モル当力!jX/0−4モルと、銀/モル当j>lo
−3モルのヨク化カリ溶液を加えlJ分間経時させた後
降温した。
いその後to’cに保ち増感色素として下記化合物を銀
/モル当力!jX/0−4モルと、銀/モル当j>lo
−3モルのヨク化カリ溶液を加えlJ分間経時させた後
降温した。
増感色素
この乳剤に安定剤として弘一ヒドロキシ−6メチルー/
,J,Ja,7−テトラザインデン、!−メチルベ/ズ
トリアゾール、下記化合物(a)及び(b) ヒドラジ/化合物 (b) をそれぞれj〜/m 塗布される様添加した。ヒドラジ
ン化合物として下記化合物t−/Omy/m2Kなるよ
う添加した。
,J,Ja,7−テトラザインデン、!−メチルベ/ズ
トリアゾール、下記化合物(a)及び(b) ヒドラジ/化合物 (b) をそれぞれj〜/m 塗布される様添加した。ヒドラジ
ン化合物として下記化合物t−/Omy/m2Kなるよ
う添加した。
この乳剤K本発明の化合物H一タをr.ox/O−3モ
ル/モルAf添加したのちさらに染料を第7六のようK
添加した。また、平均分子量ぶ00のポリエチレングリ
コールt−7j〜/,, 2 KなるようK加え、さら
にポリエチルアクリレートの分散物を固型分で対ゼラチ
ン比JOwt%、硬膜剤トして/,3−ジビニルースル
ホニルーコープロパノール、を加えポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に銀J.jtf/m”になる様に塗
布した。この上に保護層としてゼラチンi..2y7m
,粒子サイズ約3μの不定型なS r 0 2マット
剤4tOキーm,メタノールシリカ0./f/m2、ポ
リアクリルアミド/00179/nt 、ハイドロキ
ノン一〇 〇 ’19 / fn とシリコーンオイ
ル及び塗布助剤として下記構造式で示されるフッ素界面
活性剤 とドデシルベンゼンスルポン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布した。
ル/モルAf添加したのちさらに染料を第7六のようK
添加した。また、平均分子量ぶ00のポリエチレングリ
コールt−7j〜/,, 2 KなるようK加え、さら
にポリエチルアクリレートの分散物を固型分で対ゼラチ
ン比JOwt%、硬膜剤トして/,3−ジビニルースル
ホニルーコープロパノール、を加えポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に銀J.jtf/m”になる様に塗
布した。この上に保護層としてゼラチンi..2y7m
,粒子サイズ約3μの不定型なS r 0 2マット
剤4tOキーm,メタノールシリカ0./f/m2、ポ
リアクリルアミド/00179/nt 、ハイドロキ
ノン一〇 〇 ’19 / fn とシリコーンオイ
ル及び塗布助剤として下記構造式で示されるフッ素界面
活性剤 とドデシルベンゼンスルポン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布した。
またバック層は次K示す処方Kて塗布した。
ゼラチン グ1/m2マット剤
ポリメチルメタアクリレート(粒子径!,0−弘.
0μ) io■/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート コf7m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルポン酸ナトリウ
ム 弘0 1197 fft 2 ゼラチン硬化剤 染料 染料〔2〕、〔 合物 染料(a) 染科(b) 染科(C) 染科(a) b〕、 !■/m2 //0キ/m2 及び(C)の混 zoyay7m2 700■/m2 j O q/ m 2 フッ素系界面活性剤 染料(b) 染料(C) (テスト方法) Z 目伸ばし画質の評価 (I)原稿の作成 富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナー8CA
NARTs o及び専用感材8F−/OOを使って網点
よシなる入物の透過画像及び網パーセントを段階的に変
えたステップクエツジを作成した。この時スクリーン線
数は/!O線/インチで行なった。
ポリメチルメタアクリレート(粒子径!,0−弘.
0μ) io■/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート コf7m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルポン酸ナトリウ
ム 弘0 1197 fft 2 ゼラチン硬化剤 染料 染料〔2〕、〔 合物 染料(a) 染科(b) 染科(C) 染科(a) b〕、 !■/m2 //0キ/m2 及び(C)の混 zoyay7m2 700■/m2 j O q/ m 2 フッ素系界面活性剤 染料(b) 染料(C) (テスト方法) Z 目伸ばし画質の評価 (I)原稿の作成 富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナー8CA
NARTs o及び専用感材8F−/OOを使って網点
よシなる入物の透過画像及び網パーセントを段階的に変
えたステップクエツジを作成した。この時スクリーン線
数は/!O線/インチで行なった。
(2)撮影
大日本スクリーン物社製 製版カメラC一attoに上
記原稿を目伸ばし倍率が等倍になる様にカットした後X
eランプを照射することKよシ評価サンプルに露光を与
えた。
記原稿を目伸ばし倍率が等倍になる様にカットした後X
eランプを照射することKよシ評価サンプルに露光を与
えた。
この時原稿のヌテツプウエッジの2JIGの部分がj%
となる様Kして露光金行なった。
となる様Kして露光金行なった。
(3)評価
(2)の様に露光量を調節して小点側(ハイライト部)
を7%に合わせたサンプルのシャドウ部の階調再現性(
網点のつぶれにくさ)の良いものから順tfcj段階評
価(3〜1)を行なった。
を7%に合わせたサンプルのシャドウ部の階調再現性(
網点のつぶれにくさ)の良いものから順tfcj段階評
価(3〜1)を行なった。
ユ コピードットの評価
(I) 原稿の作成
富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナー8CA
NARTJ(7及び専用ペーパー8P−/oowp@使
って網/餐一セントを段階的に変えたステップクエツジ
を作成した。
NARTJ(7及び専用ペーパー8P−/oowp@使
って網/餐一セントを段階的に変えたステップクエツジ
を作成した。
露光時のヌクリー/線数はito線/インチで行なった
。
。
(2)撮影
大日本スクリーン■社製 製版カメラC一6タO(オー
トコンパ二カ、キセノン光源)K上記原稿及び試料を所
定の位置KセットしXeランプを反射原稿に照射し撮影
した。
トコンパ二カ、キセノン光源)K上記原稿及び試料を所
定の位置KセットしXeランプを反射原稿に照射し撮影
した。
この時露光時間は、原稿上でステップウエッジのto囁
の部分がサンプル上で/O一となる様に調整し喪。
の部分がサンプル上で/O一となる様に調整し喪。
(3)評価
(2)に記載のごとく、露光時間を調節して小点側の網
パーセントが/O哄のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(網点のつぶれにくさ)t−j悪いものを/として!
段階の相対評価をおこなった。
パーセントが/O哄のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(網点のつぶれにくさ)t−j悪いものを/として!
段階の相対評価をおこなった。
よ 感度の評価
(I) 目伸ばし感度
目伸ばし原稿のステップウエッジのタj惨の部分がサン
プル上で!一となる時の露光時間を求め、比較サンプル
■の感度f/00とした時の相対値で宍わす。
プル上で!一となる時の露光時間を求め、比較サンプル
■の感度f/00とした時の相対値で宍わす。
(2) コピードットW&度
コピードット原稿のステップウエッジのrO一の部分が
サンプル上で/O一となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感匿を700とした時の相対値で賢わす。
サンプル上で/O一となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感匿を700とした時の相対値で賢わす。
又、現像液は下記処方を調裏して用いた。
処理液処方(I)
ハイドロキノ/ jO.OtNメチ
ルーpアミノフェノール 0.32//一硫酸塩 水酸化ナトリウム it . or!−
スルホサリチル酸 Jj.Of亜硫酸カリウ
ム iio.oyエチレンジアミン四酢
酸二ナ} /.0?リウム 臭化カリウム !−メチルベンゾトリアゾール 一メルカブトベンツイミダゾー ル!−スルホン酸 3−(J−メルカプトテトラゾ ール〕ぺ/ゼ/ヌルホン酸ナ トリウム N−n−ブチルジエタノールア ミン トルエンヌルホンrRfト’)’)ム 水を加えて 処理液処方(2) ハイドロキノン 4’−メfルー弘−ヒドロキシメ チルー/−7エニル−3−ビ ラゾリドン 亜硫酸カリウム エチレンジアミン四酢酸二ナト リウム /0.Of O .弘2 0 .3 2 0 .− 2 /J;.0? t.oy E / p}I //. 一 ! ,Q2 0.1t タo.oy 一 .02 臭化カリウム 3.0?!−メチ
ルベンゾトリアゾール O.−2コーメルカブトベ
ンツイミダゾ 0.3?−ルーj−スルホン酸 炭酸ナトリクム J0.Of水酸化ナ
トリクムを加えて pH=/0.7に合わせる。
ルーpアミノフェノール 0.32//一硫酸塩 水酸化ナトリウム it . or!−
スルホサリチル酸 Jj.Of亜硫酸カリウ
ム iio.oyエチレンジアミン四酢
酸二ナ} /.0?リウム 臭化カリウム !−メチルベンゾトリアゾール 一メルカブトベンツイミダゾー ル!−スルホン酸 3−(J−メルカプトテトラゾ ール〕ぺ/ゼ/ヌルホン酸ナ トリウム N−n−ブチルジエタノールア ミン トルエンヌルホンrRfト’)’)ム 水を加えて 処理液処方(2) ハイドロキノン 4’−メfルー弘−ヒドロキシメ チルー/−7エニル−3−ビ ラゾリドン 亜硫酸カリウム エチレンジアミン四酢酸二ナト リウム /0.Of O .弘2 0 .3 2 0 .− 2 /J;.0? t.oy E / p}I //. 一 ! ,Q2 0.1t タo.oy 一 .02 臭化カリウム 3.0?!−メチ
ルベンゾトリアゾール O.−2コーメルカブトベ
ンツイミダゾ 0.3?−ルーj−スルホン酸 炭酸ナトリクム J0.Of水酸化ナ
トリクムを加えて pH=/0.7に合わせる。
水を加えて / l現像液
処方(I)VipHが高く比較例用の処理液であシ、現
偉液処方(2)は本発明の試料に用いる現像液である。
処方(I)VipHが高く比較例用の処理液であシ、現
偉液処方(2)は本発明の試料に用いる現像液である。
ま九定着液としては富士写真フイルム■製定着液GR−
Fi@用い、大日本スクリーン■製自動m(I機LD−
,2 r/Q?用イ−’(、現(jlfjlt 0c3
0“の条件で処理した。
Fi@用い、大日本スクリーン■製自動m(I機LD−
,2 r/Q?用イ−’(、現(jlfjlt 0c3
0“の条件で処理した。
比較試料には染料として下記化会物d,e,fを使用し
九。
九。
比較化合物
結果t−安一/に示す。
賢一/よシ本発明の試料は感度低下が少なく目伸し、コ
ピードットが良好であることがわかる。
ピードットが良好であることがわかる。
palの高い処理液A/では画質が悪く4tコonmよ
シ長波の比較染料では感度低下が大であった。
シ長波の比較染料では感度低下が大であった。
実施例−2
実施例一/の試科16tK対しヒドラジ/化合物を本文
中の例示化合物のl−/I,I−/タ、■−!/}’C
かえ喪だけの試料を作成した。
中の例示化合物のl−/I,I−/タ、■−!/}’C
かえ喪だけの試料を作成した。
ヒドラジン化合物は茨一コ記載の添加量加え、さらKこ
れらの試料にはすべて染料化合物D−/タをioo1n
II7m Kなるよう共通K添加した。
れらの試料にはすべて染料化合物D−/タをioo1n
II7m Kなるよう共通K添加した。
これらの試料を実施的一/と同様に評価した。
結果を六一一に示す。
衣−一より本発明の試料は目伸し、コピート゛ットの画
質が良好であることがわかる。
質が良好であることがわかる。
ヒドラジン化合物を添加しない試料は極めて低感で画質
も悪く、処理液A/で処理したものは最適な感度になる
ようヒドラジン化合物の添カロ量を調節しても画質が本
発明の試料に及ばない。
も悪く、処理液A/で処理したものは最適な感度になる
ようヒドラジン化合物の添カロ量を調節しても画質が本
発明の試料に及ばない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有し、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層に、一
般式( I )のヒドラジン誘導体を有するネガ型感光材
料をpH11.2以下の現像液で処理してガンマ8以上
の硬調な黒白画像を形成する方法において、該ハロゲン
化銀写真感光材料が300nm〜420nmに吸収極大
を有する染料を少くとも一種含有することを特徴とする
画像形成方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R_
2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオ
キシカルボニル基を表わし、G_1はカルボニル基、ス
ルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、表等があ
ります▼基、又はイミノメチレン基を表わし、A_1、
A_2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方
が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアシル基を表わす。 2)ハロゲン化銀乳剤層又はその他の親水性コロイド層
中に、下記一般式(II)及び(III)で表わされる化合
物から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の画像形成方
法。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
ら選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
わす。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミノ基、アン
モニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、アミノ基は
置換されていてもよい。mは1、2又は3を表わし、n
は0又は1を表わす。) 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1、R^2は各々水素原子又は脂肪族残基を
表わす。 R^1とR^2は互に結合して環を形成してもよい。 R^3は二価の脂肪族基を表わす。 Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環
を表わす。 nは0または1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1116833A JP2887367B2 (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 画像形成方法 |
EP90108809A EP0397167B1 (en) | 1989-05-10 | 1990-05-10 | Method of forming images |
DE69025793T DE69025793T2 (de) | 1989-05-10 | 1990-05-10 | Verfahren zur Bildherstellung |
US07/742,559 US5200298A (en) | 1989-05-10 | 1991-08-08 | Method of forming images |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1116833A JP2887367B2 (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02294638A true JPH02294638A (ja) | 1990-12-05 |
JP2887367B2 JP2887367B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=14696755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1116833A Expired - Fee Related JP2887367B2 (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2887367B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5698385A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material |
EP1260858A3 (en) * | 2001-05-25 | 2003-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image formation process |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5662245A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | High-contrast photographic image forming method |
JPS63124045A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS63133145A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀感光材料 |
JPS63286840A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS63314541A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JPS6461744A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
-
1989
- 1989-05-10 JP JP1116833A patent/JP2887367B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5662245A (en) * | 1979-10-25 | 1981-05-28 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | High-contrast photographic image forming method |
JPS63124045A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS63133145A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀感光材料 |
JPS63286840A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS6461744A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
JPS63314541A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5698385A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material |
EP1260858A3 (en) * | 2001-05-25 | 2003-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image formation process |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2887367B2 (ja) | 1999-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5030547A (en) | Silver halide photographic material | |
JPH04136843A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料、およびそれを用いた画像形成方法 | |
JPS61122642A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02294638A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0816777B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JP2709647B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JPH02308156A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2813747B2 (ja) | 画像形成法 | |
JPH037928A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2694364B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法 | |
US5306598A (en) | Silver halide photographic emulsions and elements for use in helium/neon laser and light-emitting diode exposure | |
JPH0212236A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2663038B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02221953A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP3306536B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JP2717462B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
EP0797789B1 (en) | Novel dihydrazides as dot-promoting agents in photographic image systems | |
JPH0619034A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた写真画像形成方法 | |
JPH04166835A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JPH0359653A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH04161948A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02108043A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0563411B2 (ja) | ||
JPH0815800A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法 | |
JPH02251839A (ja) | 画像形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |