JPH02275289A - 真空中の連続熱処理装置 - Google Patents

真空中の連続熱処理装置

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JPH02275289A
JPH02275289A JP2064479A JP6447990A JPH02275289A JP H02275289 A JPH02275289 A JP H02275289A JP 2064479 A JP2064479 A JP 2064479A JP 6447990 A JP6447990 A JP 6447990A JP H02275289 A JPH02275289 A JP H02275289A
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ローレン　ペリシール
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    • C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
    • C21D1/773—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material under reduced pressure or vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/02—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity of multiple-track type; of multiple-chamber type; Combinations of furnaces
    • F27B9/028—Multi-chamber type furnaces

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の背景） 本発明は、全般的に制御された雰囲気における部品の処
理に関する。
多数の部品処理は、制御された雰囲気を必要とする。例
えば、金属部品の浸炭処理は、一般的に非常に低い気圧
中でこれを加熱することにより行なわれる。また、幾つ
かの金属部品の硬化処理は高圧下で不活性ガスの流れに
これらの金属部品を配置することにより得られる。他方
、しばしば、制御された雰囲気で幾つかの処理工程を逐
次実行すると共に、連続する２つの工程間で大気に金属
部品を露出させるのを避けるようにしなければならない
。
例えば、金属部品の浸炭処理に続いて硬化処理がある場
合は、金属部品は浸炭処理を実行する第１の室に入れ、
ついで硬化処理を実行する第２の室に転送する。この転
送の際に、金属部品を真空中に保持することにより、大
気に触れるのを防止する必要がある。
ドイツ連邦共和国ミュンヘン、２３２６ＨＴＭメルチラ
イ技術情報（ＨＴＭ　Ｍｉｒｔｅｒｅｉ−Ｔｅｃｈｎｉ
ｓｃｈｅ　Ｍｉｔ−ｔｅｉｌｕｎｇｅｎ　）　、第３５
巻（１９８０）第５号、第２４５頁〜第２５０頁の論文
は、制御された雰囲気下での連続的な部品処理を実行さ
せる施設を説明している。
この論文は、それぞれ下方の開口を有し、一つの円に従
って並列された複数の室を備え、かつ上下に移動可能で
あり、かつ室番号に等しい多数の部品位置を有する回転
テーブルを備えた施設を説明している。このテーブルは
、上方の位置で種々の室にすべての部品を搬送し、同時
にこれらの室を密閉する。各室における部品処理を完了
すると、各テーブルを下げ、かつ回転させて各室に連続
的に部品が進行できるようにする。これらの室のうちの
一つが部品の積み降ろしをする。
この型式の施設は多数の欠点を有する。
第１に、処理すべき部品が非常に重いとき、かつ多数の
処理室、例えば６室あるときは、テーブルの大きさは処
理する数に等しい部品と、これらの部品を回転させ、上
昇させるのに耐え得るように設計されなければならない
。このような施設は非常に太き（かつ高価になってしま
う。
また、同一施設が非常に低い圧力で動作させる第１の処
理室と、高圧で動作させる第２の処理室を備えていると
きは、テーブルを端に上昇させるだけでは、これらの処
理室を正しく閉成することは困難または不可能である。
他方、各部品は各処理室で最長の処理時間に対応した時
間留まる必要がある。これは、いくつかの室の利用を不
完全なものにする。い（つか応用、例えば通常１５分か
ら１６分の範囲にある浸炭処理の場合、及び５分から１
５分の範囲にある硬化処理の場合では、このような利用
が不完全なものが比較的に多い。
本発明は前記欠点を除去させるものである。
（発明の概要） 従って、本発明は、気密室と、前記気密室に固定され、
前記気密室と連通可能に、前記処理室から気密室に部品
を転送させる少なくとも一つの処理室と前記部品の積み
降ろしをする開口を有すると共に、積み降ろし室又は処
理室に吊下げた部品を保持するグリップ手段をそれぞれ
有し、前記部品を積み降ろしする開口により、部品を積
み降ろす少なくとも一つの室と、遠方位置から積み降ろ
し室を操作し、前記部品を積み降ろし室の開口の全部で
前記気密室上の結合位置に積み込み又は積み降ろしをし
て、前記処理室から気密室に転送させる手段と、前記気
密室内に配列され、前記気密室を介して転送される前記
部品を操作し、積み降ろし室から前記処理室に移動させ
る少なくとも一つの手段とを備え、制御された雰囲気下
で部品を処理する装置に関する。
本発明の一実施例において、各処理室は下に向く開口を
有し、前記気密室の上壁、前記上壁に配列された通路の
前方に固定される。
本発明の他の実施例では、少なくとも一つの処理室を低
圧下で熱処理を実行するように、かつ処理中に気密室と
連通ずるように設計する。
本発明の以上及び他の目的、特徴及び効果は付図に示す
以下の好ましい実施例の詳細な説明から明らかである。
（好ましい実施例の説明） 第１図は本発明による装置の主要部を示す。全体が平坦
な大地１上に、垂直軸３を有する機密室２が配置される
。気密室２は底４と、シリンダ状垂直壁５と、上面及び
水平壁６とを有する。水平壁６は幾つかの開口を有し、
第１図ではその内の開ロア及び８のみが見える。各熱処
理は特殊室内で実行される。第１図において、処理室ｌ
Ｏのみが示されている。この処理室１０は、その上部で
閉じられ、その下側で開放され、全般的にシリンダ状を
成す。処理室１０は開口８で機密室２に結合されている
ので、気密室２の内部と連通している。処理室ｌＯは気
密であり、かつ気密室２の水平壁６により搭載されてい
る。
本発明による装置は、縦軸回りを旋回可能な支柱１２と
、支柱により回転し、その先端で処理する部品を積み込
み及び積み降ろすように設計された積み降ろし室１５を
支持しているアーム１３とを備えている。積み降ろし室
１５は処理室ｌＯに類似しており、シリンダ状をなし、
かつ下方が開放されている。
大地１上に設置された基礎１６は本発明による一つの又
は幾つかの処理が行なわれる部品１７が配置されている
。
処理される部品１７は全体的にバスケット上に配列され
た一組の部品である。以下、「部品」なる用語は処理さ
れる部品を搭載したバスケットを表わすものと解釈すべ
きである。
部品１７の上部には突起１８が設けられている。部品１
７を処理したいときは、部品１７を基礎１６の上に配置
し、Ｔ支持棒１１を操作して積み降ろし室１５を部品１
７上に配置し、部品１７上に降下させる。グリップ手段
１９は室１５内の上部に配置され、突起１８を引っ掛け
て部品１７が積み降ろし室１５内に吊下げられると、Ｔ
　支持棒１１が回転して気密室２の上に積み降ろし室１
５を持って（る（点線により示す）。次いで、積み降ろ
し室１５を開ロアの全部の水平壁６上に配置する。積み
降ろし室１５と気密室２との間に弁２０が配置されてお
り、積み降ろし室１５と気密室２の内部との間には開放
又は気密部を形成可能にする。
積み降ろし室１５が気密室２上に配置されると、これに
密閉して固定される。気密室２の内部は第１のポンプ手
段（図示なし）により真空に保持される。このようにし
て積み降ろし室１５を結合すると、第２のポンプ手段（
図示なし）により積み降ろし室１５内を真空にし、弁２
０を開放する。
気密室２内では、リフト装置２１が処理する部品を操作
し、リフトを形成する。この操作する手段すなわちリフ
ト装置２１は、垂直軸３の回りを回転することができ、
積み降ろし室１５の前方に来る。
次いで、リフト装置２１は高い位置に設定されて、積み
降ろし室１５内に吊下げている部品１７の底を支持する
。グリップ手段１９を解除してリフト装置２１を降下さ
せ、部品を気密室２に搬入する。リフト装置２１を垂直
軸３を中心として回転させ、処理室１０のうちの一つの
前方に配置させる。この位置では、リフト装置２１を操
作させて部品１７を上昇させ、処理室１０内に配置させ
るようにする。把手手段２３は部品１７に接続された突
起１８を掴むことにより、部品１７を第１図に示すよう
に処理室１０内で出し入れをする。
この処理を終了すると、リフト装置２１は部品１７を再
び持ち上げて気密室２に戻し、他の処理室内に転送し、
次の処理を実行する。部品１７に所望の処理をすべて行
なうと、リフト装置２１により部品１７を気密室２に接
続されている積み降ろし室１５内に戻す。部品１７を積
み降ろし室１５に吊下げ、リフト装置２１を降下させる
と、弁２０を閉成して積み降ろし室１５内に大気圧を再
確立させて気密室２から引離し、積み降ろし室１５をＴ
支持棒１１により部品１７を配置する積み降ろし領域に
戻す。
積み降ろし室１５が積み込み位置又は積み降ろし位置に
部品１７を置くように、かつ部品１７を操作する手段を
構成し、更に気密室２に導入室を形成することにより、
この気密室２に侵入する空気を阻止している。
第２図〜第４図を参照して、他の特徴及び効果を示す本
発明の一実施例を説明しよう。
第２図〜第４図をでは、第１図のものと同一の機能を有
する要素は、同一の参照番号を付けである。
第２図は気密室２と、２つの処理室３０及び３１とを示
す。図面を読みやすくするために、２つの処理室のみを
示した。実際には第３図に示すように、この装置は５つ
の処理室３０．３１．３２．３３及び３４を備えている
。
第２図において、処理室３０は浸炭処理室である。処理
室３０は部品１７を約１０００℃の温度に部品１７を加
熱する加熱手段４０を備えている。浸炭処理ガスを導入
する装置（図示なし）は、処理室３０の周辺に設けられ
ている。浸炭処理ガスは、非常に低い圧力下で拡散する
ものであり、処理室３０に拡散して気密室２に侵入し、
気密室２のポンプ装置（図示なし）により排気される。
熱シールド４１゜４２は浸炭処理中に熱シールドを形成
して熱放射が気密室２に伝わってその温度を上昇させる
のを防止する。熱シールド４１．４２は処理室３０と気
密室２との間の開口を塞ぐことはな（、浸炭処理ガスは
処理室３０から気密室２への流れ、妨げられることはな
い。
浸炭処理が終了すると、浸炭処理ガスの注入を停止し、
処理室３０を空にするために代わって中性のガスが注入
される。次いで、熱シールド４１．４２を引っ込めてリ
フト装置２１を部品１７まで持ち上げ、装置４３が把手
手段２３を解除して、部品１７を離す。次いで、リフト
装置２１により部品・Ｉ７を気密室２内に降下させる。
気密室２内には、気密室２の対称軸に対応する垂直軸３
を有するシリンダ状壁４４が配置されている。シリンダ
状壁４４はその外周辺に案内リング４５を備えており、
リフト装置２１が垂直軸３を中心にして回転可能にして
いる。リフト装置２１は処理セル３１の前方で移動する
ことができる。
処理セル３１は効果（ガス冷却）処理を行なう。
一般に、ガス冷却は約２〜５バールの比較的に高い圧力
下で不活性ガスにより行なわれる。従って、この型式の
処理室では、処理セル３１と気密室２との間に弁４６、
又は開口８を閉じる他の手段を配置する必要がある。処
理セル３１に部品１７を積み込む前に、弁４６を閉じ、
ポンプ手段（図示なし）により処理セル３１を真空にし
、次いで弁４６を開放し、部品１７をリフト装置２１に
より導入して細手手段２３により引っ掛ける。次いで、
弁４６を再び閉じて、所望のガス圧を得る。このガスは
、例λば冷却水のヒート・シンクを介して循環させ、部
品１７に吹き付けることにより、硬化処理の効果が高め
られる。この閉成手段はキャップ・ドアにより構成され
ても良い。このキャップ・ドアは気密室２の水平壁６に
配置された開口８の周辺が両側の圧力差により押し付け
られている。弁４６は、少なくとも部分的な真空が処理
セル３１及び気密室２に確立したときにのみ、開放する
ことができる。この開放及び閉成処理は閉成手段の両側
の圧力差が小さいので、容易である。
部品１７は処理室内に吊下げられるので、部品１７の操
作とともに、この処理を容易にする。
部品１７を転送する前に、処理セル３１内を真空にし、
弁４６を開放すると、処理室３ｏから処理セル３１への
部品の転送を非常に迅速にすることができる。
可能な限り処理室の真空を保持させるために、もちろん
処理室が所定の処理のためにガスを閉じ込める必要があ
るときを除き、処理室と気密室との間の通路を開放した
ままにするのが好ましい。
種々の処理室の利用率を最適化するために、更に長い処
理を実行するように設計された多数の室を配置してもよ
い。例えば、第３図から明らかなように、一つの処理セ
ル３１に４つの処理室３０．３２゜３３及び３４が備え
られる。実際には、硬化時間は浸炭処理の時間よりずっ
と短い。更に、幾つかの積み落し室を備え、装置に部品
の幾つかの積み降ろし処理を同時に実行しても良い。
処理装置の利用率を更に増加させるために、気密室２に
幾つかの独立したリフト装置２１を備えてもよい。従っ
て、これら部品を同時に気密室２に移動させ、幾つかの
部品を第１室から第２室に転送させ、または気密室内の
待機位置に部品を残しても良い。
この一実施例に示すように、全体にシリンダ状の気密室
の場合には、この気密室の体積は、外部のシリンダ状壁
４８から内部のシリンダ状壁４４を分離する空間に限定
されてもよい。そのときは、大気圧による歪みと共に、
ポンプ処理する体積が制限される。この場合に、内部の
シリンダ状壁４４は、処理室に体積を制限すること、及
び１または幾つかのリフト装置２１の案内リング４５を
支持することの両方に用いる。
気密室２は必ずしもシリンダ状である必要はない。他の
形状も利用できる。例えば、細長い気密室及び整列され
た処理室を備えてもよい。この場合には、リフト装置２
１は気密室内を線形に移動して種々の室にアクセスする
ことができる。気密室が幾つかのリフト装置を囲んでい
るときは、回置を備え、一方のリフトが気密室を介して
部品を転送している間に、他方のリフトに対応させても
よい。
第４図は積み降ろし室１５を操作するように設計された
Ｔ支持棒１１を示す。Ｔ支持棒１１はその軸を中心にし
て回転可能な支柱５０と、支柱５ｏに固定して搭載され
たアーム５１とを備えている。積み降るし室１５はアー
ム５１の先端に固定されている。
第４図において、リフト装置２１は第４図に更に明確に
示されている。リフト装置２１は垂直滑りレール５２と
、エンジンにより駆動され、垂直滑りレール５２に沿っ
てスライドする部品５３と、これもエンジンにより駆動
され、部品５３内を垂直に滑る支柱５４と、部品１７と
を備えている。
本発明による装置は、一連の連続な熱処理を実行するた
めに工業的に用いることができ、自動化の可能性により
製造ラインに直接関連させることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の装置の概要断面図、 第２図は本発明の一実施例の第３図のＡ−Ａ線から見た
概要断面図、 第３図は本発明の同一実施例についての概要平面図、 第４図は本発明の一実施例の第３図のＢ−Ｂ線から見た
概要平面図である。 ２・・・気密室、　　３・・・垂直軸、６．７・・・水
平壁、８・・・開口 １０．３０．３１・・・処理室、 １５・・・積み降ろし室、 １７・・・部品、　　　１９・・・グリップ手段、２１
・・・リフト装置、２０．４６　・・・弁、４１．４２
　　・・・熱シールド、 ４４．４８　・・・シリンダ状壁、 ４５・・・案内リング。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）制御された雰囲気下で部品を連続的に熱処理する
    熱処理装置において、 気密室（２）と、 前記気密室に搭載され、前記気密室と連通可能にされた
    少なくとも一つの処理室（１０、３０、３１）であって
    、前記部品を当該処理室から前記気密室へ転送させる前
    記処理室と、 前記分品を導入又は引き出す開口を有し、それぞれ前記
    部品を掴んで前記処理室又は当該積み降ろし室に吊下げ
    た状態に保持する少なくとも一つの積み降ろし室（１５
    ）と、 前記積み降ろし室を、積み降ろし位置から前記積み降ろ
    し室の開口の前方における前記気密室の結合位置へ移動
    させて、前記部品を前記積み降ろし室（１５）から前記
    気密室（２）に転送させるように前記積み降ろし室（１
    ５）を操作する手段（１９）と、第１の処理室から気密
    室（２）を介して第２の処理室へ部品（１７）を転送す
    る少なくとも一つの転送手段（２１）と を備えていることを特徴とする熱処理装置。
  2. （２）請求項１記載の熱処理装置において、前記気密室
    （２）はほぼ上部が水平の上壁（６）を備え、 各積み降ろし室（１５）が下方を向く開口を有し、前記
    上壁（６）に配置された第１の通路（７）の前方で前記
    気密室（２）の上壁（６）に固定され、閉成手段（２０
    ）が各積み降ろし室（１５）と気密室（２）の内部との
    間の前記第１の通路（７）を開放又は密閉させる ことを特徴とする熱処理装置。
  3. （３）請求項２記載の熱処理装置において、各処理室（
    １０、３０、３１）は下方を向く開口を有し、前記上壁
    （６）に配置された第２の通路（８）の前方で前記気密
    室（２）の上壁（６）に固定されていることを特徴とす
    る熱処理装置。
  4. （４）請求項１記載の熱処理装置において、前記気密室
    （２）内を真空にするように第１のポンプ手段を備え、
    積み降ろし室（１５）から前記気密室の内部へ部品（１
    ７）を転送する気密室上に前記積み降ろし室（１５）を
    配置したときに前記積み降ろし室（１５）のそれぞれを
    真空にする第２のポンプ手段を備えたことを特徴とする
    熱処理装置。
  5. （５）請求項３記載の熱処理装置において、前記処理セ
    ル（３０）のうちの少なくとも一つを低圧下で熱処理を
    行ない、かつ熱処理中に前記気密室（２）と連通するよ
    うに設計したことを特徴とする熱処理装置。
  6. （６）請求項５記載の熱処理装置において、更に前記処
    理セル（３０）と前記気密室（２）の内部との間の前記
    第２の開口（８）の前方で引っ込み可能な熱シールド（
    ４１、４２）を備えたことを特徴とする熱処理装置。
  7. （７）請求項３記載の熱処理装置において、高圧下で処
    理を行なうように設計され、かつ処理中に前記第２の通
    路（８）を閉成する手段（４６）により前記気密室（２
    ）から切り放されていることを特徴とする熱処理装置。
  8. （８）請求項１記載の熱処理装置において、前記気密室
    （２）は全体的にシリンダ上の垂直軸（３）を有し、そ
    の有効空間はシリンダ上壁（４４）及び同一の垂直軸（
    ３）を有するシリンダ上壁（４８）により制限され、前
    記シリンダ上壁（４４）は前記少なくとも一つの転送手
    段（２１）を案内させるように案内リング（４５）を支
    持していることを特徴とする熱処理装置。
  9. （９）請求項１記載の熱処理装置において、前記気密室
    は全体的に細長い形状を有し、各転送手段は前記処理室
    の前方を連続的に通過することにより前記気密室内を線
    形に移動することを特徴とする熱処理装置。
  10. （１０）請求項１記載の熱処理装置において、前記転送
    手段は各処理室と揃うようにされた特殊手段と接続され
    たリフトを備えていることを特徴とする熱処理装置。
JP02064479A 1989-03-17 1990-03-16 真空中の連続熱処理装置 Expired - Fee Related JP3092136B2 (ja)

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DE (1) DE69010358T2 (ja)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001220659A (ja) * 2000-02-07 2001-08-14 Chugai Ro Co Ltd 間欠駆動式真空浸炭炉

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3935014A1 (de) * 1989-10-20 1991-04-25 Pfeiffer Vakuumtechnik Mehrkammer-vakuumanlage
US5516732A (en) * 1992-12-04 1996-05-14 Sony Corporation Wafer processing machine vacuum front end method and apparatus
JP3258748B2 (ja) * 1993-02-08 2002-02-18 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
US5378107A (en) * 1993-04-01 1995-01-03 Applied Materials, Inc. Controlled environment enclosure and mechanical interface
US6702540B2 (en) 1995-11-27 2004-03-09 M2 Engineering Ab Machine and method for manufacturing compact discs
US5924833A (en) * 1997-06-19 1999-07-20 Advanced Micro Devices, Inc. Automated wafer transfer system
US6157866A (en) * 1997-06-19 2000-12-05 Advanced Micro Devices, Inc. Automated material handling system for a manufacturing facility divided into separate fabrication areas
IT1293740B1 (it) * 1997-07-21 1999-03-10 Refrattari Brebbia S R L Impianto automatico per trattamenti termici di materiali metallici, in particolare acciai.
FR2771754B1 (fr) * 1997-12-02 2000-02-11 Etudes Const Mecaniques Installation de traitement thermique sous vide modulaire
ES2199416T3 (es) * 1998-10-23 2004-02-16 Pierre Beuret Instalacion para el tratamiento termico de una carga de piezas metalicas.
FR2809746B1 (fr) 2000-06-06 2003-03-21 Etudes Const Mecaniques Installation de cementation chauffee au gaz
JP2003183728A (ja) * 2001-12-14 2003-07-03 Jh Corp 真空熱処理装置
KR100605362B1 (ko) * 2004-10-27 2006-07-28 재단법인 포항산업과학연구원 대량 금속분말용 진공 열처리로 장치
DE102005029616B3 (de) * 2005-06-23 2006-11-16 Jrw Technology + Engineering Gmbh Vakuumschweißanlage mit Beladungsvorrichtung
EP2541179A3 (en) * 2005-11-23 2014-09-24 Surface Combustion, Inc. Gas generator for an atmospheric furnace for treating one or more articles
WO2010105967A2 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 Oc Oerlikon Balzers Ag Vacuum treatment apparatus
EP2607504B1 (en) * 2011-12-23 2018-02-28 Ipsen International GmbH Load transport mechanism for a multi-station heat treating system

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1610809A (en) * 1926-02-15 1926-12-14 Gen Electric Electric furnace
US2042521A (en) * 1935-04-06 1936-06-02 Libbey Owens Ford Glass Co Method and apparatus for case hardening glass sheets
US3399875A (en) * 1966-04-21 1968-09-03 Alco Standard Corp Heat treating furnace
US3778221A (en) * 1969-02-26 1973-12-11 Allegheny Ludlum Ind Inc Annealing furnace and method for its operation
US3652444A (en) * 1969-10-24 1972-03-28 Ibm Continuous vacuum process apparatus
FR2106656A5 (en) * 1970-09-18 1972-05-05 Inst Elektrotermicheskogo Obor Three chamber vacuum sintering plant - with two turn table mounted chambers
FR2426877A1 (fr) * 1978-05-23 1979-12-21 Physique Appliquee Ind Perfectionnements apportes aux fours a vide a dispositif incorpore de trempe en lit fluidise
FR2537260B3 (fr) * 1982-12-02 1985-11-22 Traitement Sous Vide Four multicellulaire pour le traitement thermique, thermochimique ou electrothermique de metaux sous atmosphere rarefiee
US4815912A (en) * 1984-12-24 1989-03-28 Asyst Technologies, Inc. Box door actuated retainer
SE456570B (sv) * 1986-01-20 1988-10-17 Applied Vacuum Scandinavia Ab Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess
FR2594102B1 (fr) * 1986-02-12 1991-04-19 Stein Heurtey Installation flexible automatisee de traitement thermochimique rapide
JPS62222625A (ja) * 1986-03-25 1987-09-30 Shimizu Constr Co Ltd 半導体製造装置
DE3912297C2 (de) * 1989-04-14 1996-07-18 Leybold Ag Katodenzerstäubungsanlage

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001220659A (ja) * 2000-02-07 2001-08-14 Chugai Ro Co Ltd 間欠駆動式真空浸炭炉
JP4537522B2 (ja) * 2000-02-07 2010-09-01 中外炉工業株式会社 間欠駆動式真空浸炭炉

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