JPH03207810A - 複数チャンバ真空装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、被処理物移送チャンバと該被処理物移送チャ
ンバに接合された複数の処理チャンバとを備えた複数チ
ャンバ真空装置に関する．（従来の技術） 適用用途としては，特に、処理対象物が真空中で時系列
的連続処理をされる，溶融鋳造装置や焼結装置等の熱処
理装置における使用が考えられる． その種の装置は、その内部を支配する雰囲気条件（圧力
、温度、及びガス組成）が種々様々なものとされ得る２
個またはそれ以上のチャンバを備えている．時系列的連
続処理が行なわれる場合には、複数の処理ステップが施
される処理対象物は個々のチャンバの内部で、夫々の処
理を次々と加えられるようになっている．それらのチャ
ンバの内部を支配している特殊な雰囲気条件を長時間の
運転時間に亙って保持し得るようにするためには、処理
対象物をチャンバ中の雰囲気から取出したり、或いは逆
にその雰囲気中へ入れる際に、気閘（エアロック）を介
してその処理対象物の出し入れを行なうようにする必要
がある． 気閘構造は高コストを伴なう構造である．気閘構造は，
高度の要求が課せられる弁機構を少なくとも２つ備えて
いなければならない．特に、真空領域のしかも高温中に
配設されることから、例えば材料の的確な選択や補助冷
却装置の付設等の、構成上な特別な手段を講じることが
必要とされる． （発明が解決しようとする課題） 本発明の課題は、気閘構造に付随する上述のコストを不
要とし、また、処理対象物を気閘を介して複数チャンバ
真空装置へ出し入れするための、簡明な構造のシステム
を提供することにある．（課題を解決するための手段） 以上の課題は、本発明によれば、１つの前記処理チャン
バを、処理チャンバとしての使用に加えて、処理対象物
を該複数チャンバ真空装置へ気閘を介して出し入れする
ための気閘チャンバとしても使用可能としたことによっ
て解決されている．請求の範囲の従属項には本発明の実
施態様の細部構成を記載してある． （作用） １つの既存の処理チャンバを，処理対象物を気閘を介し
て被処理物移送チャンバへ出し入れするための、気閘チ
ャンバとして使用するため、別に気閘構造を付加する必
要がなくなる．これによって、付加的な気閘構造を装備
することが必要な場合には余儀なくされる上述の欠点が
解消される．従って、装置全体としてその構成が簡明と
なり、その動作がより確実となり、またその運転操作が
より容易となる． （実施例） 以下に本発明を第１図及び第２図に関連させて実施例に
即して更に詳細に説明する． 第１図は、複数チャンバ真空装置の一部分を横断面図で
示したものである．第２図は同装置の全体の平面図を示
している．この装置は、図示例では４個の処理チャンバ
１〜４を備えており，それらの処理チャンバは、被処理
物移送チャンバ５を介して互いに接続されている．引用
符号４を付した処理チャンバは、本発明に従い、気閘チ
ャンバとしての役割をも併せて果たすものとしてある．
この処理チャンバ兼気閘チャンバ４は、下方部材４ａと
上方部材４ｂとから構成されている．下方部材４ａは被
処理物移送チャンバ５の内側に、また上方部材４ｂは被
処理物移送チャンバ５の外側に、夫々気密状態で、しか
も分離自在に接合されている．昇降揺動機構８が、上方
部材４ｂを持ち上げて側方へ揺動させることを可能とし
ている．そのようにした状態では、気閘チャンバ４に１
回分の被処理物６を装填することができる．気閘チャン
バ４の内部の圧力を調整した後に、昇降機構７によって
この被処理物６を被処理物移送チャンバ５内へと搬送す
ることができる．この後被処理物６は、不図示のそれ自
体は公知の搬送機構によって，他の処理チャンバ１〜３
の中へ移送されるようになっている．被処理物を気閘を
介して取り出す際には、同様の動作が逆の手順で実行さ
れる．１個の処理チャンバだけでなく、複数の処理チャ
ンバを気閘チャンバとして構成するようにしても良い．

【図面の簡単な説明】

第１図は，気閘チャンバが接合した状態の複数チャンバ
真空装置の一部分の横断面図、第２図は、第１図の複数
チャンバ真空装置の平面図である． １、２、３・・・処理チャンバ、 ４・・・処理チャンバ（気閘チャンノリ、４ａ・・・下
方部材、 ４ｂ・・・上方部材， ５・・・被処理物移送チャンバ、 ６・・・被処理物、 ７・・・昇降機構、 ８・・・昇降揺動機構．

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被処理物移送チャンバ（５）と該被処理物移送チャ
   ンバ（５）に接合された複数の処理チャンバとを備えた
   複数チャンバ真空装置において、１つの前記処理チャン
   バ（４）を、処理チャンバとしての使用に加えて、処理
   対象物を該複数チャンバ真空装置へ気閘を介して出し入
   れするための気閘チャンバとしても使用可能としたこと
   を特徴とする複数チャンバ真空装置。 ２、前記気閘チャンバ（４）が２つの部材（４ａ、４ｂ
   ）から構成されており、それらのうち下方部材（４ａ）
   は前記被処理物移送チャンバ（５）の内側に、また上方
   部材（４ｂ）は前記被処理物移送チャンバ（５）の外側
   に、夫々気密状態で接合されていることを特徴とする請
   求項１記載の複数チャンバ真空装置。 ３、前記気閘チャンバの前記下方部材（４ａ）が、該下
   方部材（４ａ）を前記被処理物移送チャンバ（５）の内
   部へ搬送可能な昇降機構（７）に連結されていることを
   特徴とする請求項２記載の複数チャンバ真空装置。 ４、前記気閘チャンバの前記上方部材（４ｂ）が、該上
   方部材（４ｂ）を側方へ揺動可能な昇降揺動機構（８）
   に連結されていることを特徴とする請求項２記載の複数
   チャンバ真空装置。