SE456570B - Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess - Google Patents

Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess

Info

Publication number
SE456570B
SE456570B SE8600228A SE8600228A SE456570B SE 456570 B SE456570 B SE 456570B SE 8600228 A SE8600228 A SE 8600228A SE 8600228 A SE8600228 A SE 8600228A SE 456570 B SE456570 B SE 456570B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
cassette
vacuum
articles
equipment
container
Prior art date
Application number
SE8600228A
Other languages
English (en)
Other versions
SE8600228L (sv
SE8600228D0 (sv
Inventor
J Nordlander
Original Assignee
Applied Vacuum Scandinavia Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Vacuum Scandinavia Ab filed Critical Applied Vacuum Scandinavia Ab
Priority to SE8600228A priority Critical patent/SE456570B/sv
Publication of SE8600228D0 publication Critical patent/SE8600228D0/sv
Priority to EP19870900912 priority patent/EP0283477A1/en
Priority to JP50078487A priority patent/JPS63502176A/ja
Priority to PCT/SE1987/000022 priority patent/WO1987004414A1/en
Publication of SE8600228L publication Critical patent/SE8600228L/sv
Publication of SE456570B publication Critical patent/SE456570B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Packaging For Recording Disks (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Description

10 15 20 25 30 35 456 570 _2- Enligt ett annat särskilt kännetecken för uppfinningen staplas alstren vid införandet i kassetten pâ varandra, vid staplingen place- ras mellan varje alster ett mellanlägg innefattande en magnetiserbar eller permanentmagnetisk kropp och i samband med urtagningen ur kassetten av alstren och transporten av dessa i vakuumprocessutrust- ningen utnyttjas ett pâ den med alstret i fråga samhörande kroppen verkande magnetiskt arbetande lyft- och transportorgan, varvid uppnås en särskilt effektiv och skonsam hantering av alstren.
En snabb och resurssnâl genomströmning av alster genom vakuumprocess- utrustningen âstadkommes enligt ytterligare ett särskilt kännetecken för uppfinningen därigenom att kassetten i inmatningsstationen ansluts till vakuumprocessutrustningen via en med denna avskiljbart kommunicerande slusskammare i vilken vid anslutningen av kassetten råder atmosfärtryck, att slusskammaren evakueras efter det kassetten tätande anslutits till densamma, att avskiljningen mellan slusskamma- ren och vakuumprocessutrustningen samt kassettens förslutning avlägs- nas dâ vakuum uppnåtts i slusskammaren varefter alstren styckvis förs ut ur kassetten-och med en stegvis vridrörelse transporteras genom processzonen till utmatingsstationen i vilken pâ motsvarande sätt som i inmatningsstationen, alstren matas ini den ursprungligen tomma kassetten och i vilken kassetten kopplas bort i väsentligen omvänd ordning relativt anslutningen.
Ett system för transport av skivformiga cirkulära eller i huvudsak cirkulära alster frân en styckvis utmatande maskin till och genom åtminstone en vakuumprocessutrustning inrättad att i en processzon utföra åtminstone ett processteg tillnärmelevis dammfritt under vakuum, pâ det sätt uppfinningen avser kännetecknas av att systemet innefattar en källa för tillnärmelsevis dammfri atmosfär; en vakuum- kålla; ett antal kassetter, var och en inrättad att ta emot resp mata ut ett förutbestämt antal alster och att anslutas till en in- resp en utmatningsstation av nämnda vakuumprocessutrustning i vilken alstren ett och ett tas ur en till inmatningsstationen ansluten kassett, transporteras via åtminstone en processzon i vilken processteget utföres och slutligen förs till och in i en till utmatningsstationen ansluten kassett. 10 15 20 25 30 35 i 456 570 _3- En väsentlig förutsättning för att det uppfinningsenliga sättet och systemet skall fungera väl är nämnda kassett vilken enligt ett annat särskilt kännetecken innefattar en lângsträckt behållare, vilken i sin övre ände har en öppning som är förslutbar med ett vakuumtätt lock_och en med en ventil förslutbar stos inrättad att anslutas till vakuumkållan alternativt källan för tillnärmelsevis dammfri atmosfär, i vilken behållare är anordnade organ för automatisk stapling av nämnda alster på eller bredvid varandra dâ dessa förs in i kassett- behållaren resp för automatisk, styckvis utmatning av alstren.
I samband med vakuumprocesser är alstren ofta ytterst känsliga för repning och andra liknande påkänningar. Dylika skador undviks enligt ett särskilt kännetecken därigenom att med nämnda behållare kommuni- cerar en andra för mellanlägg avsedd behållare i vilken är anordnade organ för automatisk införing av ett mellanlågg mellan varje alster vid staplingen av dessa i den förstnämnda behållaren.
En annan väsentlig förutsättning för god funktion hos det uppfin- ningsenliga sättet och systemet år att utrustningen innefattar en vakuumkammare, vilken har in-utmatningsstationer och ätminstone en processzon varvid nämnda stationer och processzon ligger pâ inbördes lika avstånd från varandra pâ en tänkt cirkel, för varje in-utmat- ningsstation en för anslutning av en kassett avsedd slusskammare vilken kommunicerar med vakuumkammaren och medelst en ventil kan avskiljas frân denna, vilka slusskamrar är inrättade att sättas under atmosfärtryck vid anslutning resp bortkoppling av en kassett till resp kammare samt att sättas under vakuum i samband med att alster förs in i resp tas ut ur resp kassett och att i vakuumkammaren är koncentriskt med nämnda cirkel anordnad en vridskiva, inrättad att kringvridas stegvis och därvid transportera alstren från inmatnings- stationen via processzonen till utmatningszonen.
För att uppnå en så hög verkningsgrad som möjligt är nämnda in- och utmatningsstationer hos efterbehandlingsmaskinen inbördes utbytbara.
Uppfinningen skall i det följande förklaras ytterligare med hänvis- ning till bifogade ritning pâ vilken fig 1 i en vy snett uppifrån och 10 15 2D 25 30 35 456 570 _[¿- från sidan i perspektiv visar ett utföringsexempel av en vakuumpro- cessutrustning, som arbetar pâ det sätt uppfinningen avser. Fig 2 år en planvy från sidan och delvis i sektion av utrustningen enligt fig 1. Fig 3 är en planvy rakt uppifrân av den med föregående ritnings- figurer visade utrustningen. Fig 4 visar i form av ett flödesschema med schematiska snitt genom delar av utrustningen hur alster trans- porteras pâ det sätt uppfinningen avser.Även om pâ ritningen och i den fortsatta beskrivningen dessa alster utgöres av skivor typ "Compact Disc", i det följande benämnd kompaktskiva, år det uppenbart att uppfinningen ej får anses begränsad till just detta slag av alster utan inom ramen för uppfinningstanken kan modifieras för andra skivformiga, cirkulära eller tillnärmelsevis cirkulära alster som exempelvis kiselskivor för tillverkning av integrerade kretsar.
Föreliggande uppfinning bygger pâ en uppfinningstanke som innebär att man, i motsats till vad som hittills varit brukligt vid processer vilka fordrar extremt ren miljö, nämligen att låta i stort sett hela verksamheten fortgå i ett högrent rum, i stället ser till att ren miljö alltid råder i alstrens omedelbara omgivning. Detta uppnås enligt uppfinningen därigenom att alstren när de befinner sig utanför själva processutrustningen är placerade i kassetter i vilka man upprätthåller en tillnärmelsevis dammfri miljö. I avseende pâ renhet hos miljön utanför kassetterna och processutrustningen behöver dår- igenom endast ställas sådana krav som gäller för uppställning av exempelvis styr- och reglerutrustningar.
Pâ ritningen betecknar 1 generellt en vakuumprocessutrustning och 2, 3 och 4 till utrustningen anslutbara kassetter, vilka var och en består av tvâ pâ hjulställ S anordnade, kommunicerande behållare 6, 7 med vakuumtätt slutande lock 8 resp 9.Kassetternas uppbyggnad och funktion kommer att förklaras i det följande i anslutning till fig 4.
Vakuumprocessutrustningen 1, i vilken kompaktskivorna fâr en speg- lande beläggning av aluminium, innefattar en vakuumkamare 10, som vilar pâ ett stativ 11 och i det pâ ritningen visade utförandet har tre in-utmatningsstationer 12, 13 och 14 för anslutning av kassetter- na 2-4, en vakuumpump 15 samt en processzon 16. För vakuumprocessens 10 15 20 25 30 35 456 570 -5- genomförande nödvändig styr-, mät- och reglerutrustning år inrymd i tvenne skåp 17a, 17b.Till varje in-utmatningsstation 12-14 hör en med vakuumkammaren 10 kommunicerande slusskammare 18, 19 resp 20, vilken kan avskiljas frân kammaren 10 medelst en ventil 21, 22 resp 23 samt en vakuumpump 24, 25 resp 26, medelst vilken vakuum kan åstadkommas i slusskamrarna. Varje slusskammare har en utåt-nedåt vänd öppning vilken år utformad så att en kassett vakuumtätt kan anslutas till densamma. I varje slusskammare 18-20 finns vidare organ 27 inrättade att automatiskt ta av resp sätta på locket 8 hos en kassett som anslutits till resp kammare så som kommer att förklaras ytterligare i anslutning till flödesschemat enligt fig 4.
Det är utmärkande för uppfinningen att en vakuumprocessutrustning enligt in-utmatningsstationerna 12-14 och processzonen 16 ligger med jämn delning utefter omkretsen av en tänkt cirkel i vars centrum är lagrad en vridskiva 28 för transport av kompaktskivor frân en inmat- ningsstation, via vakuumprocesszonen 16 till en utmatingsstation.
Vridskivan 28 är inrättad att kringvridas av en utanför kammaren 10 placerad stegmotor 29, som i det pâ ritningen visade utförandet åstadkommer vridningssteg på 90o_ En väsent¿ig fördel med att transporten sker genom en vridrörelse är att denna ger förhållandevis fâ nötningspartiklar, exempelvis jämfört med en linjär rörelse, vilka skulle kunna äventyra processen.
Med samma delning och pâ samma avstånd frân nämnda cirkels centrum som in-utmatningsstationerna och processzonen, finns pâ vridnings- skivan 28 och med denna samverkande organ 30, 31 med uppgift att från en inmatningsstation lyfta kompaktskivor en och en och genom vrid- skivans stegvisa vridning transportera kompaktskivorna via process- zonen till en utmatningsstation. Vridskivan kan, som visas exempelvis i fig 3 utgöras av stjärnformigt anordnade armar i vars fria yttre ändar nämnda lyftorgan år fixerade. Dessa är inbördes lika och i det föreliggande för hantering av kompaktskivor avsedda utförandet in- rättade att arbeta elektromagnetiskt, så som kommer att beskrivas i anslutning till fig 4.
En kassett enligt uppfinningen innefattar som nämnts tvâ lângsträckta 10 15 20 25 30 35 456 570 -¿- behållare 6, 7 vilka är anordnade upprättstâende på hjulstället 5 och vilka upptill är utbildade med en öppning, som vakuumtätt kan för- slutas med looken 8 resp 9. Behållarna omslutes av ett gemensamt hölje med handtag 36. I behållaren 6 kan ett förutbestämt antal kompaktskivor föras in och behållaren 7 är inrättad att hårbärgera ett motsvarande antal mellanlägg 34 (se fig 4) för kompaktskivorna, vilka i detta skede av tillverkningen är mycket känsliga för åverkan och absolut ej får komma i beröring med varandra.
I behållarna 6 och 7 finns inbördes synkroniserande organ för automa- tisk in-utmatning av kompaktskivor i resp ur behållaren 6 samt för automatisk överföring av mellanlägg från behållaren 7 till behållaren 6 och omvänt. Nämnda organ kan vara utförda på många olika sätt inom ramen för uppfinningen och arbetar på följande sätt: När behållaren 6 är tom, är behållaren 7 fylld med mellanlägg. I takt med att kompakt- skivor automatiskt förs in i behållaren 6, transporteras mellanlägg över från behållaren 7 till behållaren 6 och placeras under resp kompaktskiva. När det förutbestämda antalet skivor förts in i behål- laren 6 är denna fylld med skivor och mellanlägg medan behållaren 7 är tom.
I det för tillverkning av kompaktskivor ämnade utförandet av före- liggande uppfinning innefattar mellanlägget 34 en kropp av magne- tiserbart eller permanentmagnetiskt material, varvid vridskivans 28 lyft- och transportorgan 30, 31 är inrättade att medelst magnetfält attrahera resp repellera nämnda kroppar för att lyfta kompakt- skivorna ut ur en kassett resp för att släppa dem ned i en annan kassett.
Med hänvisning till fig 4 skall med hjälp av situationsbilder A-G, nu beskrivas det uppfinningsenliga sättet att transportera alster,i detta fall kompaktskivor, från en tillverkningsprocess och genom en efterbehandlingsprocess.
I ett utgångsläge är behållaren 6 tom och behållaren 7 fylld red mellanlägg 34.De kommunicerande behâllarna 6,7 är evakuerade och looken 8 resp 9 täcker vakuumtått behållaröppningarna. Via en stos 38 10 15 20 25 30 35 456 570 -7- med en i denna anordnad ventil 39, är kassetten ansluten till ett filter 40 genom vilket dammfri luft kan strömma in i kassettbehål- larna när ventilen 39 öppnas.
Med situationsbild A illustreras hur kompaktskivor 37 förs in i behållaren 6 efter det ventilen 39 öppnats så att atmosfårtryck erhållits i behållarna 6, 7 och det därigenom blivit möjligt att avlägsna locket 8. Skivorna kommer från en tidigare, på ritningen ej visad, tillverkningsprocess. I detta fall innebär denna pressning av skivorna att de samtidigt på ena sidan får ett informationsbärande mönster, vilket skall förses med en speglande yta i vakuumprocessen vilket slutligen skall täckas med lack i en annan efterbehandlings- process. Införandet av skivorna 37 i behållaren 6 sker automatiskt och likaså automatiskt hämtas från behâllarens 7 mellanlågg 34 och placeras under resp kompaktskiva 37.
När ett förutbestämt antal skivor 37 förts in i behållaren 6 sluts behållaren med locket 8, filtret 40 kopplas bort och kassetten an- sluts via stosen 38 till en vakuumpump 41. Behållaren 7 är nu tömd på mellanlägg, se situationsbild B i fig 4.
Efter det vakuum uppnåtts i kassetten, stängs ventilen 39 och vakuum- pumpen 41 kopplas bort från stosen 38. Kassetten rullas med hjälp av hjulstället 5 till vakuumprocessutrustningen 1, i vilken vakuumpro- cessen fortlöper kontinuerligt, situationsbild C. Detta innebär att kompaktskivor med mellanlägg transporteras stegvis av vridskivan 28 från en till en inmatningsstation ansluten kassett, via processzonen 16, där kompaktskivornas informationsbärande mönster beläggs med ett tunt aluminiumskikt, till en till en utmatningsstation ansluten kassett. Som tidigare nämnts råder ingen skillnad mellan in-utmat- ningsstationerna vilka är inbördes utbytbara. Det är den i skâpen 17a, 17b placerade styrutrustningens uppgift att avgöra vilken station, som under givna betingelser är in- resp utmatningsstation. g Det antages nu att kassetten ifråga är den som på övriga ritningar betecknats med 2 och som således skall anslutas till in-utmatnings- stationen 12. Detta åstadkommas därigenom att kassetten hissas upp så 10 15 20 25 30 35 456 570 _8- att dess överdel bringas att vakuumtätt ansluta till slusskammaren 18 i vilken nu råder atmosfärtryck. Ventilen 21 mellan kammaren 18 och kammaren 10 är stängd. Eftersom det râder vakuum i behâllarna 6, 7, kan locket 8 ej avlägsnas. För att möjliggöra detta, startas vakuum- pumpen 24 och när vakuum uppnâtts i slusskammaren 18, dvs det råder lika tryck i kammaren 18 och i behållaren 6, kan locket avlägsnas med hjälp av tidigare nämnda organ 27, se situationsbild D.
Senast när den kassett är tom, från vilken utmatning skett under det ovan beskrivna förloppet, öppnas ventilen 21. Detta kan ske utan hinder eftersom ju vakuum råder sâväl i vakuumkammaren 10 som i slusskammaren18 och kassetten 2.Med hjälp av tidigare nämnda in- utmatningsorgan i kassetten 2, matas kompaktskivorna i denna med sina mellanlägg till en bestämd position relativt vridskivans 28 lyft- och transportorgan 30, 31, se situationsbild E, medelst vilka skivorna lyfts upp en och en och av vridskivan i steg pâ 90° transporteras till processzonen 16 förbi denna och till utmatningsstationen 13 i vilken kassetten 3 är ansluten. Här förs de nu med aluminium belagda kompaktskivorna 37 med mellanlägg 34 in automatiskt en och en pâ liknande sätt som vid utmatningen men i omvänd ordning, se högra halvan av situationsbild C.
När kassetten 3 är fylld, är kassetten 2 tömd och kan nu fungera som mottagningskassett för kompaktskivor vilka kommer från kassetten 4, som anslutits till vakuumkammaren pâ samma sätt som beskrivits ovan i anslutning till kassetten 2.
Bortkopplingen av kassetten 3 från stationen 13, sker väsentligen i omvänd ordning relativt inkopplingen. Först stängs ventilen 22. Där- efter anbringas automatiskt medelst organet 27 locket 8 över behålla- rens 6 öppning och ventilen 39 öppnas sâ att dammfri luft kan nå in i slusskammaren 19 via filtret 40. Eftersom atmosfärtryck nu råder i slusskammaren, kan kassetten 3 utan hinder kopplas bort från denna, se situationsbild F. Vakuum råder fortfarande i kassetten 3, som alltså utan hinder skulle kunna anslutas till en annar vakuumprocess- utrustning eller ställas undan under längre eller kortare tid, exem- pelvis för att åstadkomma en jämn produktionstakt. 10 456 570 _9- I det i fig 4 visade fallet transporteras kassetten 3 nu till en avslutande efterbehandlingsprocess, i situationsbild G markerad med ett block 42, vilket exempelvis kan innebära att kompaktskivornas _aluminiumskikt täcks med ett lackskikt. För att åstadkomma en automa- tisk styckvis utmatning av skivorna, mäste först locken 8 och 9 avlägsnas, vilket lâter sig göras först då atmosfärtryck råder i kassetten. För detta ändamål öppnas ventilen 39 så att dammfri atmo- sfär kan strömma in via filtret 40. Vid utmatningen âterförs mellan- Låggen till behållaren 7.När behållaren 6 är tömd, är behållaren 7 fylld med mellanlägg och är klar att äter fyllas enligt situations- bild A.

Claims (1)

10 15 20 25 30 35 456 570 -g _10- Patentkrav
1. Sätt att transportera skivformiga, cirkulära eller i huvudsak Zl cirkulära alster frân en process till och genom en annan process innefattande åtminstone ett processteg vilket utföres tillnårmel- sevis dammfritt under vakuum, k ä n n e t e c k n a t därav, att alstren (37) frin den förstnämnda processen förs in i en kassett (2; 3; 4) med tillnârmelsevis dammfri atmosfär, att kassetten (2; 3; 4) då ett förutbeståmt antal alster C57) mottagits, försluts, evakueras och transporteras till en vakuumprocessutrustning (1) i vilket nämnda processteg utföres, att kassetten (2) ansluts till denna och öppnas under vakuum, att alstren (37) tas ur kassetten (2), ett och ett, och i utrustningen (1) förs via en processzon (16) in i en andra till utrustningen ansluten, ursprungligen tom kassett (3) och att denna, då det förutbestämda antalet alster (37) mottagits, försluts med bibehâllet vakuum och kopplas bort från vakuumprocessutrustningen (1). Sätt enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t därav, att sistnämnda frân vakuumprocessutrustningen (1) bortkopplade kassett (2) antingen ansluts till en annan vakuumprocessutrust- ning under vakuum eller fylls med tillnärmelsevis dammfri atmo- sfär och transporteras till ytterligare behandlingssteg (42) eller töms pâ alster (37). Sätt enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a d därav, att kassetten <2; 3; 4) i inmatningsstationen (12-14) ansluts till vakuumprocessutrustningen (1) via en med denna avskiljbart kommu- nicerande slusskammare (18~20) i vilken vid anslutningen av kassetten (2; 3; 4) råder atmosfärtryck, att slusskammaren (18- 20) evakueras efter det kassetten tätande anslutits till den- samma, att avskiljningen (21-23) mellan slusskammaren (18-20) och vakuumprocessutrustningen(1) samt kassettens förslutning (8) avlägsnas då vakuum uppnåtts i slusskammaren (18-20) varefter alstren styckvis förs ut ur kassetten (2; 3; 4) och med en steg- vis vridrörelse transporteras genom processzonen (16) till utmatningsstationen i vilken på motsvarande sätt som i *in f) 10 15 20 25 30 35 456 570 _11- inmatningsstationen, alstren (37) matas in i den ursprungligen tomma kassetten och i vilken kassetten kopplas bort i väsentligen omvänd ordning relativt anslutningen. Sätt enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n a t därav, att alstren (37) vid införandet i kassetten <2; 3; 4) staplas pâ varandra, att vid staplingen placeras mellan varje alster ett mellanlägg (34) innefattande en magnetiserbar eller permanent- magnetisk kropp och att i samband med urtagningen ur kassetten (2; 3; 4) av alstren (37) och transporten av dessa i vakuum- processutrustningen (1) utnyttjas ett pâ den med alstret i fråga samhörande kroppen verkande magnetiskt arbetande lyft- och transportorgan (30, 31). System för transport av skivformiga, cirkulära eller i huvudsak cirkulära alster (37) från en styckvis utmatande maskin till och genom åtminstone en vakuumprocessutrustning (1) inrättad att i en processzon utföra åtminstone ett processteg tillnärmelevis damm- fritt under vakuum, k ä n n e t e c k n a t därav, att systemet innefattar: en källa (40) för tillnärmelsevis dammfri atmosfär; en vakuumkålla (41); ett antal kassetter (2; 3; 4), var och en inrättad att ta emot resp mata ut ett förutbestämt antal alster (37) och att anslutas till en in- resp en utmatningsstation (12-14) av nämnda vakuum- processutrustning (1) i vilken alstren (37) ett och ett tas ur en till inmatningsstaticnen (12-14) ansluten kassett <2; 3; 4), transporteras via åtminstone en processzon (16) i vilket process- steget utföres och slutligen förs till och in i en till utmat- ningsstationen (12-14) ansluten kassett (2; 3; 4). System enligt patentkravet S, k ärin e te c klia d därav, att vakuumprocessutrustningen innefattar en vakuumkammare (10), vil- ken har in-utmatningsstationer (12-14) och åtminstone en pro- cesszon (16) varvid nämnda stationer (12-14) och processzon (16) ligger på inbördes lika avstånd från varandra på en tänkt cirkel för varje in-utmatningsstation (12-14), en för anslutning av en 10 15 20 25 456 570 _12. kassett (2; 3; 4) avsedd slusskammare (18-20) vilken kommunicerar med vakuumkammaren och medelst en ventil kan avskiljas frân denna, vilka slusskamrar år inrättade att sättas under atmosfär- tryck vid anslutning resp bortkoppling av en kassett (2; 3; 4) till resp kammare (18-20) samt att sättas under vakuum i samband med att alster (37) förs in i resp tas ut ur resp kassett (2; 3; 4) och att i vakuumkammaren är koncentriskt med nämnda cirkel anordnad en vridskiva (28), inrättad att kringvridas stegvis och därvid transportera alstren (37) från inmatningsstationen via processzonen (16) till utmatningsstationen. System enligt patentkravet 5, k ä n n e t e c k n a t därav, att nämnda in- och utmatningsstationer (12-14) är inbördes utbytbara. System enligt patentkravet 5, k ä n n e t e c k n a d därav, att nämnda kassett innefattar en lângsträckt behållare (6), vilken i sin övre ände har en öppning som är förslutbar med ett vakuum- tätt lock (8) och en med en ventil (39) förslutbar stos (38) inrättad att anslutas till vakuumkällan (41) alternativt källan (40) för tillnärmelsevis dammfri atmosfär, i vilken behållare (6) är anordnade organ för automatisk stapling av nämnda alster (37) på eller bredvid varandra då dessa förs in i kassettbehâllaren (6) resp för automatisk, styckvis utmatning av alstren (37). System enligt patentkravet 8, k ä n n e t e c k n a d därav, att med nämnda behållare (6) kommunicerar en andra för mellanlägg avsedd behållare (7) i vilken är anordnade organ för automatisk införing av ett mellanlägg (34) mellan varje alster (37) vid staplingen av dessa i den förstnämnda behållaren (6).
SE8600228A 1986-01-20 1986-01-20 Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess SE456570B (sv)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8600228A SE456570B (sv) 1986-01-20 1986-01-20 Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess
EP19870900912 EP0283477A1 (en) 1986-01-20 1987-01-20 Method of transporting products in a manufacturing process
JP50078487A JPS63502176A (ja) 1986-01-20 1987-01-20 製造工程における生成物の移送方法
PCT/SE1987/000022 WO1987004414A1 (en) 1986-01-20 1987-01-20 Method of transporting products in a manufacturing process

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8600228A SE456570B (sv) 1986-01-20 1986-01-20 Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE8600228D0 SE8600228D0 (sv) 1986-01-20
SE8600228L SE8600228L (sv) 1987-07-21
SE456570B true SE456570B (sv) 1988-10-17

Family

ID=20363148

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8600228A SE456570B (sv) 1986-01-20 1986-01-20 Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0283477A1 (sv)
JP (1) JPS63502176A (sv)
SE (1) SE456570B (sv)
WO (1) WO1987004414A1 (sv)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5308431A (en) * 1986-04-18 1994-05-03 General Signal Corporation System providing multiple processing of substrates
EP0246453A3 (en) * 1986-04-18 1989-09-06 General Signal Corporation Novel multiple-processing and contamination-free plasma etching system
US6103055A (en) * 1986-04-18 2000-08-15 Applied Materials, Inc. System for processing substrates
US4733631B1 (en) * 1986-09-30 1993-03-09 Apparatus for coating substrate devices
DE3827343A1 (de) * 1988-08-12 1990-02-15 Leybold Ag Vorrichtung nach dem karussel-prinzip zum beschichten von substraten
FR2621023B1 (fr) * 1987-09-24 1992-03-20 Stein Heurtey Installation automatique de traitement thermochimique rapide
US5156521A (en) * 1987-10-15 1992-10-20 Epsilon Technology, Inc. Method for loading a substrate into a GVD apparatus
US5092728A (en) * 1987-10-15 1992-03-03 Epsilon Technology, Inc. Substrate loading apparatus for a CVD process
US5435682A (en) * 1987-10-15 1995-07-25 Advanced Semiconductor Materials America, Inc. Chemical vapor desposition system
EP0322205A3 (en) * 1987-12-23 1990-09-12 Texas Instruments Incorporated Automated photolithographic work cell
US5076205A (en) * 1989-01-06 1991-12-31 General Signal Corporation Modular vapor processor system
FR2644567A1 (fr) * 1989-03-17 1990-09-21 Etudes Const Mecaniques Dispositif pour l'execution de traitements thermiques enchaines en continu sous vide
US5174827A (en) * 1989-07-26 1992-12-29 Consorzio Ce.Te.V Centro Tecnologie Del Vuoto Double chamber vacuum apparatus for thin layer deposition
US5713711A (en) * 1995-01-17 1998-02-03 Bye/Oasis Multiple interface door for wafer storage and handling container
US5882171A (en) 1996-10-01 1999-03-16 Balzers Aktiengesellschaft Transport and transfer apparatus
NL1027638C2 (nl) * 2004-12-01 2006-06-02 Ecim Technologies Bv Informatiedrager en werkwijze en inrichting voor de vervaardiging daarvan.

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4311427A (en) * 1979-12-21 1982-01-19 Varian Associates, Inc. Wafer transfer system
US4293249A (en) * 1980-03-03 1981-10-06 Texas Instruments Incorporated Material handling system and method for manufacturing line
GB2150098B (en) * 1983-11-24 1986-10-08 Dyna Pert Precima Limited Machine for placing electronic components on a substrate
NL8400658A (nl) * 1984-03-01 1985-10-01 Bok Edward Verbeterde installatie voor vacuum processing van substraten.
US4544317A (en) * 1984-04-16 1985-10-01 International Business Machines Corporation Vacuum-to-vacuum entry system apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
SE8600228L (sv) 1987-07-21
SE8600228D0 (sv) 1986-01-20
JPS63502176A (ja) 1988-08-25
EP0283477A1 (en) 1988-09-28
WO1987004414A1 (en) 1987-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE456570B (sv) Sett att transportera alster vid en tillverknings- och/eller efterbehandlingsprocess
US4717461A (en) System and method for processing workpieces
US5478195A (en) Process and apparatus for transferring an object and for processing semiconductor wafers
US5019233A (en) Sputtering system
KR100826404B1 (ko) 기판 처리 장치, 처리 챔버 및 코팅된 기판 제조 방법
CN104471697B (zh) 用于组合式静态和经过处理的系统体系结构
US4952299A (en) Wafer handling apparatus
US4944860A (en) Platen assembly for a vacuum processing system
US4795299A (en) Dial deposition and processing apparatus
US6083566A (en) Substrate handling and processing system and method
US4806057A (en) Automatic wafer loading method and apparatus
TW537998B (en) System for transporting substrates
US4588343A (en) Workpiece lifting and holding apparatus
US4857160A (en) High vacuum processing system and method
EP0367424A2 (en) Sealing apparatus for a vacuum processing system
CN106460164A (zh) 用于衬底的双面处理的系统及方法
JP2006143474A (ja) 工作物の移送装置及び処理方法
US6517691B1 (en) Substrate processing system
US6136168A (en) Clean transfer method and apparatus therefor
JP2000012650A (ja) 基体の移載装置
CN104851830B (zh) 衬底输送机器人和使用该衬底输送机器人的衬底处理设备
EP0161942B1 (en) A method of translating and orienting flat objects such as semiconductor wafers and an apparatus for transporting such objects
JPH07252656A (ja) 真空積層装置
EP1299571B1 (en) Apparatus for performing at least one process on a substrate
JP7303060B2 (ja) 真空処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8600228-4

Effective date: 19930810

Format of ref document f/p: F