JPH02184843A - 感光性ハロゲン化銀写真材料 - Google Patents

感光性ハロゲン化銀写真材料

Info

Publication number
JPH02184843A
JPH02184843A JP1306375A JP30637589A JPH02184843A JP H02184843 A JPH02184843 A JP H02184843A JP 1306375 A JP1306375 A JP 1306375A JP 30637589 A JP30637589 A JP 30637589A JP H02184843 A JPH02184843 A JP H02184843A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photographic material
group
layer
material according
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1306375A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2726720B2 (ja
Inventor
Elio Cavallo
エリオ　カバロ
Renzo Torterolo
レンゾ　トルテロロ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of JPH02184843A publication Critical patent/JPH02184843A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2726720B2 publication Critical patent/JP2726720B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/89—Macromolecular substances therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性ハロゲン化銀写真材料に関し、更に詳細
には前記の写真材料の少なくとも１層の親水性コロイド
層に非イオン性界面活性剤と、フッ素化有機塩化合物と
、水不溶注艶消剤の不連続粒子と、シリコーンポリマー
とコロイド状シリカの群から選択される水不溶性表面改
質剤の不連続粒子と全配合することによって得られる優
れた帯電防止特性を有する感光性／％　Ｃ１ｆン化銀写
真材料に関する。
〔従来の技術〕
感光性写真材料は、−船釣には支持体と、その−万の１
ｌｌｉｌ！ｆｃは両側にコーティングされた（１層以上
の）感光性２１０デン化銀乳剤層と所望ｌたは必要なら
ば下塗層、中間層、保護層、裏地層、防眩層等の他の非
感光性層ｔ−有する親水性コロイド層とから成る。支持
体の例には、ポリ−５−オレフィン（例えば、ポリエチ
レン、ポリスチレンなど）、ポリエステル（例えば、ポ
リエチレンテレフタレートなト）、セルロースエステル
（例、ｔば、セルローストリアセテートなど〕、紙、合
成紙または樹脂コーティングした紙などが挙げられる。
感光性写真材料の支持体は電気絶縁性を有するので、こ
の写真材料の製造および使用の際に、同種類の物質の表
面ｌたは異なるｍ類のｖＪＩＭの表面の接触摩擦電たは
分離により静電荷が生じることがしばしばある。蓄積さ
れた静電荷は各種の問題を引き起こすことがある。例え
ば、蓄積された静電荷は写真材料の現像の前に放電され
て、ハロゲン化鉄が感光性の元を生じたシ、写真材料の
現像後に（正のスタチックマークと呼ばれる）ドツト様
マークや（負のスタチックマークと呼ばれる）分校様マ
ークを形成する。これらのスタチックマークは写真材料
、特に医療および工業用のＸＭ材料に悪影響を与え、ス
タチックマークが危険な読み違えを起こすことがある。
更に、蓄積された静電荷は支持体の表面上に埃や他の粒
子を引き付けて、コーティング工程中に品質に悪影響を
及ばすことがある。
静電荷は、通常は抵抗率と荷電水準とに関する。
それ故、表面抵抗率を減少させたりまたは荷電水準を低
下させたシすることにより、静電荷の蓄積全防止するこ
とができる。
層の表面抵抗率は、この層に電気伝導率を増加し放電の
前に極めて短い時間で蓄積された電荷を放出する。当該
技術分野では、支持体および写真材料の表面層の電気伝
導率を向上させるため様々な方法が開示されておシ、多
くの吸湿性物質、水浴性の無機塩、界面活性剤、ポリマ
ーなどがこのために提案されてきている。例えば、米国
特許第２．８２２，１５７号、第２．８６１，０５６号
、第２．９７２，５３５号、第３．［Ｊ　６２．７８５
号、第３，１６９．９４９号、第３，２６０．７　［Ｊ
　６号、第３．２６２．８　［Ｊ　７号、第３，５１４
，２９１号、第３．５８９，９０８号、第３ｊ６０７．
２８６号、第３．６１５．５３１号明細書などに記載の
ポリマー英国特許第８６１．１３４号、第１．２８５，
６４７号、第１．２５９，３９８号、第１，３３０．３
５６号明細書など、および米国籍奸第２．９８２．６５
１号、第３．４２８，４５６号、第３．４５７．０７６
号、第３．４５４．６５２号、ｉＩ３，５５２，９７２
号、第３．５８９．９０６号、第３．６４０．７４８号
、第３，６５５．３８７号明細書などに記載の界面活性
剤、英国％許第２．０７５．２０８号明ａ書、および米
国特ｆｆ第３．（Ｊ　６２．７００号、第３．２５４，
８３３号、第６．５２５．６２１号、第４，２６４，７
０７号明細書などに記載の硝酸塩、金属酸化物、半導体
、コロイド状シリカ１７’Ｃはコロイド状アルミナなど
がこのために提案されている。前記の物質の中では、ポ
リオキシエチレン鎖を有する非イオン性界面活性剤は優
れた帯電防止特性を有するものとして記載されている。
静電荷の蓄積全防止するもう一つの方法は、例えば米国
特＃！Ｆ第３．８８８，６７８号明細書に記載されてい
るような写真材料の表面上に生じる摩擦電荷を調節する
ことによって荷電水準を低下式せ表面の摩擦および分離
によって起きる電荷発生を減少させる方法である。この
方法では、フッ素含有化合物、界面活性剤ポリマーなど
が、静電荷を減少させる物質として開示石れている。詳
縄には、フッ素含有界面活性剤が、上記の目的のために
、例えば上記の米国特許明細書、英国特許第１，３３０
．３５６号および第１，５２４，６３１号明細書、英国
特計出顔第２．［ｌ　９６．７８２号８Ａ細書、米国特
許第３．６６６．４７８号、第３．５８９，９０６号、
第３，８８４．６９９号および第４，３３０，６１８号
明細書、日本国特、ｆＦ第２６６８７／７７号および特
願昭４９−４６７３３号および５１−３２３２２号明細
書に記載されている。
しかしながら、電荷の蓄ａ全防止するためには、様様な
支持体、コーティングｍｍ物および材料の表面を肝が得
なければならないので単一の帯電防止剤金辿択すること
は困難である。それ故、例えば米国籍岬第３，８８４．
６９９号明細書（７ツ累化カチオン性またはアニオン性
界面活性剤と、非フツ素化ベタイン界面活性剤および／
またはＮ−オキシド界面活性剤との併用）、英国特許第
１．４９６．５３４号明細書（有機フッ素化化合物とカ
ルボキシ基含有有機化合物との併用）、米国特許第４，
０１３，６９６号明細書（カチオン性フッ素化アルキル
界面活性剤と非イオン性アルキルフェノキシボリプロビ
レンオキシド界面活性剤との併用）、米国特許第４．３
６７，２８３号明細書（ポリオキシエチレン基含有する
非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤およびフ
ッ素化アニオン性界面活性剤との併用）および米国奇計
ｉ　４．５９６，７６６号明細！（ポリオキシエチレン
基含有する非イオン性界面活性剤と表面層に所定量のフ
ッ素化有機化分物ｔ−有するフッ素化有機化合物との併
用）に記載されているような写真材料の帯電性全改良す
る方法が記載されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
電気伝導率を増加させ且つ電荷水準を低下させるため、
多数の方法および化合物が記ｇされてい抗率が十分減少
しないこと、高温および高湿度で写真材料自体の表面間
萱たはこの材料と他の材料表面との接触の問題が起こる
のである。写真材料の感度が一層高くな９処理速度が増
加すれば（例えば、写真材料を迅速処理装置に用いて、
フィルムを強い圧および摩擦作用が働くローラーまたは
他の表面によって高速匿で送るとき）、このような問題
は一層深刻になる。他方、良好な帯電防止特性を有する
化合物は、（感度、カブリ、コントラストのような）写
ＡＩ＃性、（粒状性、鮮鋭直のような）画像品質、上記
の帯電防止化合物が蓄積する処理化学、コーテイング品
質などの性能に悪影ｗを及ぼしたり、ｌたは写真材料の
保存中に経時的に帯電防止能力全喪失するので、これら
の化合物を用いることができない場会もある。
したがって、感光性写真材料への帯電防止化合物の応用
は極めて困難であシ、材料の他の特性に悪影響を及ばさ
ない改良された帯電防止組成物を提供することが依然と
して必要とされる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によれば、（ａ）ポリオキシアルキレン基を有す
る非イオン性界面活性剤と、■）ポリオキシアルキレン
アミン化合物と７ツ累化有機酸化合物との反応生成物で
あるフッ素化有機塩と、（ｃ）水不浴性艶消剤の不連続
粒子と、に）シリコーンポリマーと：１ｅ！イド状シリ
カの群から選択される水不溶性表面改質剤とを、感光性
ハロダン化銀写真材料の親水性コロイド表面層に用いる
ことによって、写真材料の写真特性に悪影響を及ばずこ
となく写真材料表面上の帯電性′ｔ−減少させることが
できることを見出だした。
写真材料の表面層における本発明の独特な組合せを有し
て成る写真材料は、静電荷全蓄積することによって生じ
る何んらの欠Ｖ４１なしに高速度輸送自動処理装置で処
理するのに好適である。
〔作用〕
本発明は、支持基材と、１層以上の親水性コロイド層で
あってその少なくとも１層がハロゲン化銀乳剤層である
ものとから成る感光性材料において、前記の材料の少な
くとも１ノーの親水性コロイド表面層が（ａ）ポリオキ
シアルキレン基を有する非イオン性界面活性剤と、（ｂ
）ポリオキシアルキレンアミン化合物とフッ素化有機酸
化合物との反応生成物であるフッ素化有機塩と、（ｃ）
水不溶性艶消剤の不連続粒子と、ハ）シリコーンポリマ
ーとコロイド状シリカの群から選択される水不溶性表面
改質剤とを含む感光性写真材料に関する。
本発明では、７ツ累化有機化合物を得るのに用イラれる
ポリオキシアルキレンアミン化合物は、アミノ基、好１
しくはポリオキシアルキレン鎖の末端に結合した第一級
アミノ基含有する。ポリオキシアルキレン鎖は、プロピ
レンオキシド、エチレンオギシドｌたけ混合エチレン／
プロピレンオキシド全基剤としている。ポリオキシアル
キレンアミン化合物は、分子量が約２００から約６．０
００の範囲のモノアミン、ジアミンおよびトリアミン化
合物とから成っている。詳細には、代表的なポリオキシ
アルキレンアミン化合物は、下記の一般式、 ＲＩ　　　　　ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＩＪ） ＣＨ。
（式中、Ｒは置換されていてもよいアルコキシ基好１し
くは１〜３個の炭素原子に’！する低級アルコキシ基、
例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、２−メトキシ
−エトキシなどで１）　り　ｓ　Ｒ１ｕ水素原子ｌたは
メチル基であり、ｎは１〜５０の整数であり、ｂは５〜
１５０の整数であり、ａとＣは同一または異なり、それ
ぞれ０〜５の整数であシ、ａ＋ｃは２〜５の整数であシ
、Ａは基ＣＨへＣＨ３ミ、ＣＨ３ＣＨ２Ｃミｌたは−ａ
Ｈ２−ａＨ−ａｎ、、−であシ、ｘｌｙおよび２は同一
でめるかまたは異なり、１〜３０の整数である）によっ
て表わされる化合物である。
本発明のフッ素化有機化合物を得るのに有用なポリオキ
シアルキレンアミン化合物の例は、下記の通りである。
ＣＨ３ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ （Ａ−５） （但し、ｂは約８．５であシ、ａ　＋　ｃは約２．５で
ある） （Ａ−６） （但し、ｂは約１５．５であジ、ａ　＋ｃ　Ｆｌ約２．
５でめる） ＣＨ３ ＣＨ３ （Ａ−２） ＣＨ３ ＣＨ３ （Ａ−７） ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ。
ＣＨ３ （Ａ−８） ＣＨ３ Ｈ３ ｌ ＣＨ。
（但し、 ｘ＋ｙ＋ｚは約５．６である ＣＨ３ （但し、 ！＋７＋１ｇは約６０である） ０Ｍ３ ポ リオキシアルキレンア ン化合物は、 テキテ コ・ケミカル・カンパニー裂のシェフアミン（Ｊθｆｆ
ａｍｉｎｅ　）　７Ｍポリオキシアルキレンアミンの名
称で市販されている。
好’！Ｌ＜は、ポリオキシアルキレンアミン（ｌｉ物と
反応するのに好適なフッ素化有機酸化合物は、ペルフル
オロアルキルスルホン＆化合物でアル。
好適ナベルフルオロアルキルスルホン酸化合物は、下記
の一般式 ％式％） （式中、Ｒｆは２〜１８１（２）の炭素原子、好讐しく
は５〜１０個の炭素原子を有する未置換または置換アル
キル基、ｌたは２〜１５個の炭素原子、好ｌしくは４〜
８個の炭素原子を有する未ｔＩｔ侠ｌたは置換アルケニ
ル基であって、水素原子は部分的ｌたは完全にフッ素原
子で置換されて少なくとも３個のフッ素原子を有するも
のを表わし、Ｂは二価の有機基であり、０は（ＪＪｆｃ
は１であり、ｐは１または２である）ｔ−有する。Ｂは
、好ｌしくにカルボニル、スルホニル、アミン、アルキ
レン基であって好ましくは１〜３個の炭素原子金有する
もの、アリーレン基（例えば、フェニレンまたはナフチ
レン）、酸素原子、または上記の基の２個以上から成る
基、例えばカルボニル−アミノ、スルホニルアミノ、ア
ミノカルボニル、アミノスルホニル、エステルまたはポ
リオキシアルキレン基であって、好゛よしくに２〜４０
個のオキシアルキレン単位を有するものである。
ペルフルオロアルキルスルホン酸の例ｋ、下記に示す。
０８Ｆｌフー５ｏ３Ｈ ＣＢ−１） ＣＨ３ Ｈ−（ｃＦ２）、−０Ｍ２００Ｃ−ＣＨ２Ｈ−（ｃｌＦ
３ン、−ＣＨ２００Ｃ−ＣＨ−８Ｏ３ＨＨ−（ｃＦ２）
８−ＣＨ２０−（ｃＨ２ＣＨ２０）３−ＱＣ−ＯＨ２１
（−（ｃＦ２）８−ＣＨ２０−（ｃＨ２ＣＨ２０）３−
ＱＣ−ＣＨ−８ｏ３ＨＣ，Ｆ、、８０２Ｎ−（ｃＨ２Ｃ
Ｈ２０）、−（ｃＨ２）、−８ｏ３ＨＣ３Ｈフ Ｃ１６Ｈ３３−ＣＨ−ＣＯＮ）Ｉ−（ｃＦ２）３−Ｈ星 ０３Ｈ （Ｂ−７） （Ｂ−８） （Ｂ−９） （Ｂ−ＩＱ） ３Ｈ７ Ｈ−（ｃＦ２）、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−８Ｏ３
Ｈ（Ｂ−４） Ｃ３Ｈフ Ｃ，Ｈ１３０−ＱＣ−ＣＨ２ Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２０−ＱＣ−ＣＨ−８Ｏ３Ｈ（Ｂ
−１２） ＨＯ，５−（ｃ’Ｆ２）４−８ｏ３Ｈ Ｃ，？９−８ｏ、Ｈ Ｃ７Ｆ１５−８Ｏ３Ｈ （Ｂ−１４） （Ｂ−１５） （Ｂ−１６） 上記のペルフルオロアルキルスルホン酸化合物は市場に
見出だしたりまたは通常の方法で製造することができる
。
本発明のフッ素化有機塩化合物は、好ましくは低沸点有
機廖媒、例えばメタノール、エタノール、アセトンなど
の存在にて前記のポリオキシアルキレンアミン化合物と
前記のフッ素化有機酸化合物を直接反応させ、当業界に
知られている技法でフッ素化有機塩化合物を分離するこ
とによって製造することができる。
本発明の目的に好適なフッ素化有機塩化合物の例を下記
に示す。
Ｈ２Ｏ−ＣＭ−ＮＨ２＊Ｃ８Ｆ’１フＳｏ　３Ｈ（但し
、ｂ＝８．５であシ、ａ　＋　ｃ　＝　２．５　テｅｌ
　ル）（但し、 ｂ＝１ ５．５であ）、 ａ＋ｃ＝２．５である） （但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝約５〜６である）ＣＨ３ＣＨ３ （但し、ｂ＝４０．５であ）、ａ＋ｃ＝２．５である）
ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ。
ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＨ３ ＣＩ（３ ＣＨ３ Ｃ３Ｈ） Ｃ３Ｈフ （但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝約６０である）。
フッ素化有機塩化合物と本発明で併用される非イオン性
界面活性剤は、例えば英国特許筒８６１．１５４号明細
書、米国特許筒２，９８２，６５１号、第５，４２８，
４５６号、第５．４５７，０７６号、第５．４５４．６
２５号、第３，５５２，９２７号、第５．６５５．６８
７号、第５．８５０．６４１号、第４．６６７，２８５
号、第４，５１８．５５４号および第４，５９６．７６
６号明細書、および特公昭５８−２０８．７４５号明細
書に記載されている。
本発明では、下記の一般式（■）で表わされるポリオ中
ジアルキレン鎖を有する非イオン性界面活性剤が非イオ
ン性界面活性剤として特に有効である。
Ｃ１□Ｈ２３ＣＯ○−（ｃＨ２ＣＨ２０）８−Ｉ（ｃ□
５Ｉ（３１Ｃ’０Ｏ−（ｃ’Ｈ２ＣＨ２０）１５−Ｈ０
υ 口 但し、Ｒ２は１〜６０個の炭素原子を有する未置換また
は置換アルキル基、１〜６０個の炭素原子を有する未置
換または置換アルケニル基または未置換または置換アリ
ール基（例えば、フェニルまたはナフチル）であ’）、
Ｒｓは水素原子またはメチル基であシ、Ｄは基−０−−
８−−ＣＯＯ−Ｒ，Ｒ，Ｒ４ 素原子または１〜１２個の炭素原子を有する未置換また
は置換アルキル基であり、ｑは０または１であり、ｒは
２〜５０の整数である。
本発明のフッ素化有機塩化合物と好ましく併用される非
イオン性ポリオキシアルキレン界面活性剤の例を下記に
示す。
Ｃｌ２Ｈ２５０−（ｃＨ２ＣＨ２０）　１０−Ｈ（９１
ＣＢＨ１７０−（ｃＨ２ＣＨ２０）？−ＨＱｌ）Ｃ８Ｈ
１７ＳＯ，−Ｎ−（ｃＨ２ＣＨ２０）２゜−ＨＣｒ５Ｈ
。
θＱ Ｃ□、Ｈ２ＷＯ４−Ｎ−（ｃＨ２Ｃ）（２０）、　ｏ−
ＨＣＨ３ Ｃ，２Ｈ２５０−（ｃＨＣ）Ｉ２０）３−（ｃ’Ｈ２Ｃ
Ｈ２０）】ｓ−ＨＣＨ３ ０呻 本発明に用いられる水不溶性艶消剤は、無機または有機
化合物のいずれでもよい。有用な艶消剤の例には、二酸
化チタン、酸価マグネシウム、酸価アルミニウム、スタ
ーチ、硫酸バリウム、セルロースプロピオネートアセテ
ートのようなセルロースエステル、エチルセルロースＯ
ヨウｆｌ　セルＣ１−スエーテル、アクリル酸訃よびメ
タクリル酸エステルのような合成樹脂、ポリビニルアセ
テートのようなポリビニル樹脂、ポリカーボネート、ス
チレンホモポリマーおよびコポリマーなどがある。
本発明の目的に最も好ましい艶消剤はポリメチルメタク
リレートである。艶消剤は層中に均一に分散した平均直
径が６〜６μｍの範囲の小さな粒子状で配合される。そ
れらは層中に直接分散してもよく、または水溶液或いは
層結合材料の水分散液に分散し、次いでコーティング組
成物に加えた後それ自体をコーティングしてもよい。艶
消剤の例および艶消剤の製造および層中への導入の方法
は、例えば米国特許第２，６２２．０６７号、第６，７
０１．２４５号、第６．４１　Ｃ９０７号および第６，
７５４．９２４号明細書に記載されている。
本発明に用いられる表面改質剤は、シリコーンポリマー
およびコロイド上シリカから成るクラスから選択される
。
シリコーンポリマーの好ましい例は、一般式（式中、Ｒ
５は１〜６個の炭素原子を有するアルキル基であり％　
Ｒ６は１〜６個の炭素原子を有するアルキル基または１
〜２個の炭素原子を有するアルコキシ基であシ、ｎはＯ
〜２０００の正の整数である）で表わされるポリマーで
ある。
有用なシリコーンポリマーは、市販されているジアルキ
ルポリシロキサンであって末端基がアルキルまたはアル
コキシであるシリコーン油、例えばジエチルポリシロキ
サン、ジエチルポリシロキサン、トリメトキシジメチル
ポリシロキサンおよびトリメトキシジメチルポリシロキ
サンが挙げられる。シリコーンポリマーは、−船釣には
層結合材料の水分散ｆ＆または水溶液の形状で写真材料
の表面層を形成するのに用いられるコーティング組成物
に加えられる。シリコーンポリマーの例、およびシリコ
ーンポリマー分散液の製造およびこの分散液の者真相へ
の導入方法は、例えば英国特許第９５５．０６１号およ
び第１，４１７．９１５号明細誓に記載されている。
コロイド状シリカは極めて小さなシリカ粒子のコロイド
状水分散液であって、本発明の写真材料の表面層を形成
するのに用いられるコーティング組成物に直接加えるこ
とができる。シリカ粒子は水アルカリ媒質に均一に分散
される小さな分散球体となり、シリカ表面と反応して負
の電荷を生じる。この負の電荷のため、粒子は互に反発
して安定な水分散液を構成する。コロイド状シリカはデ
ュポン・カンパニー　（Ｄｕｐｏｎｔ、　Ｃｏｍｐａｎ
ｙ）製のコロイドシリカがルドツクス（Ｌｕｄｏｘ）Ｔ
Ｍの名称で市販されている。
本発明の表面改質剤の粒子であるシリコーンポリマーま
たはコロイドシリカは、好ましくはｏ、ｏ　ｏ　ｉ〜１
μｍの範囲の平均直径で層中に均一に分散されている。
表面親水性コロイド層の上記化合物から成る本発明の感
光性ハロゲン化銀写真材料は、高速度で輸送され且つ異
なる表面と接触するときには、静電荷の種類を良好に制
御し、すなわち異なる使用条件下では負よシも正に帯電
して、表面に蓄積された電荷量を減少させ、他の材料と
の接触表面を減少させ、摩擦係数の増加によシ滑シ易さ
を減少し易くする。それ故、写真材料、就中放射線写真
に使用する材料の製造および使用中に静電荷によって惹
起される欠陥は実質的に減少する。
詳細には、本発明の改良された感光性写真材料は、 ｃ〜　支持基材と、 （ｂ）　　少なくとも１層の親水性コロイド状へロｒノ
化銀乳剤層と、 （ｃ）　　前記の乳剤層の少なくとも１層の親水性コロ
イド保護層と、（所望ならば） （ｄ）　　少なくとも１層の親水性コロイド裏地層から
成）、 保護および裏地親水性コロイド層の少なくとも１方の層
、好ましくは両層が、前記のように非イオン性界面活性
剤と、フッ素化有機塩と、水不溶性艶消剤の不連続粒子
と、シリコーンポリマーとコロイド状シリカの群から選
択される水不溶性表面改質剤から成る点を改良したもの
である。
更に詳細には、改良された感光性写真材料は、（ａ）　
　支持基材と、 （ｂ）　　この支持基材の両側にコーティングされた少
なくとも１層の親水性コロイド状ノ・ロデン化銀乳剤層
と、 （ｃ）　　それぞれの乳剤層にコーティングされた親水
性コロイド保護層とから成り、 少なくとも１層の親水性コロイド保護層、好ましくは両
保護層が、前記のように、非イオン性界面活性剤と、フ
ッ素化有機塩と、水不溶性艶消剤の不連続粒子と、シリ
コーンポリマーとコロイド状シリカの群から選択される
水不溶性表面改質剤から成る点を改良した放射線写真材
料である。
更に詳細には、改良された感光性写真材料は、（ａ）　
　支持基材と、 （ｂ）　　この支持基材の両側にコーティングされた少
なくとも１層の親水性コロイド状ハロゲン化銀乳剤層と
、 （ｃ）　　それぞれの乳剤層にコーティングされた親水
性コロイド保護層とから成シ、 少なくとも１層の親水性コロイド保護層、好ましくは両
保護層が、前記のように、非イオン性界面活性剤と、フ
ッ素化有機塩と、水不溶性艶消剤の不連続粒子と、シリ
コーンポリマーとコロイド状シリカの群から選択される
水不溶性表面改質剤から成シ、少なくとも１層の親水性
コロイドハロゲン化銀乳剤層、好ましくは両親水性コロ
イドハロゲン化銀乳剤層が非イオン性界面活性剤とフッ
素化有機塩とから成る点を改良した放射線写真材料であ
る。
非イオン性界面活性剤と、フッ素化有機塩と、艶消剤と
、表面改質剤は、帯電防止効果を提供するのに十分な量
で用いられる。非イオン性界面活性剤の好ましい意は約
１０〜約１０００１１１９／７ｍ”であ勺、更に好まし
い菫は約５０〜約２００■／、２である。フッ素化有機
塩の好ましい量は約０．５〜約１０００１Ｉｙ／肩２で
あ勺、更に好ましい量は約２．５〜約５００〜／ｎ＠２
である。艶消剤の好ｔ　Ｌイｆｔｔハ約５〜約２０００
Ｔｎ９／ｍ”であシ、更に好ましい葉は約５０〜約１０
００ダ／　ｍ２である。表面改質剤の好ましい量は約５
〜約５０００η／　ｍ２であシ、更に好ましい量は約５
０〜約２０００■／がである。勿論、これらの量は用い
られる支持基材、写真組成物、製造法および写真材料の
用途によって変わる。非イオン性界面活性剤と前記のフ
ッ素化有機塩を親水性コ筒イド組成物中に導入して、当
業者に知られているようにコーティングの際に溶液状の
写真層を形成することができる。好ましく用いられる溶
媒は水、アルコールおよびアセトンまたはそれらの混合
物或いは写真エマルションに損傷を生じない任意の他の
溶媒である。艶消剤と表面改質剤を親水性コロイド組成
物に導入して、コーティングの際に、前記のように小さ
な粒子としてこれらを含む水分散液の形態で写真層を形
成することができる。
本発明の写真層は、親水性コロイド結合剤を有して成る
かまたはこの結合剤から本質的に成る。
このような親水性コロイド結合剤は、好ましくはゼラチ
ンであるかまたは単独またはゼラチンと混合して通常の
写真材料の処理槽に浸透性の任意の他のフィルム形成性
結合剤である。
この親水性結合剤は疎水性ポリマー粒子を分散して含み
、層の物性を改良することができる。この種類の粒子は
、例えばラテックス状で得られるポリエチルアクリレー
トから成っている。
これらの層は、例えばホルムアルデヒド、グリオキゾー
ル、コハク酸アルデヒド、グルタルアルデヒド、レゾル
シンアルデヒド、ムコクロル酸、エポキシド、単独また
は組み合わせて用いられるジビニルスルホンのような当
業者に周知の硬化剤で硬化することができ、当業者に周
知の任意の他のコーティング材料を含むことができる。
写真エマルションの場合には、これらの層はハロゲン化
銀例えば臭化物、ヨウ化物および塩化物またはそれらの
混合物と、これらと組み合わせてカプリ防止化合物およ
び安定剤を分散させて含む。
このハロゲン化銀は、当該技術分野に周知の方法で化学
的および分光学的に増感することができる。
カラーエマルションの場合には、これらの層は、例えば
、シー・イー・ケネス・メース（ｃ，Ｅ。
Ｋｅｎｎｅｂｈ　Ｍｅｅａ　）およびティー・エイチ・
ジェイムス（Ｔ、Ｈ，Ｊａｍｅｓ）著「写真法の理論（
Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆｈｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａ
ｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓす」６版に記載されているより
に、ｐ−）二二レンジアミンを用いるカラー現像時に黄
色、マゼンタおよびシアン色素を生じるカゾラーを含む
こともできる。この乳剤層は、アニオン性の非フツ素化
界面活性剤を好ましくは１０〜１０００〜／、２　　更
に好ましくは５０〜２００ｍ９／ｍ２の量で含むことが
できる。
本発明を下記の実施例について更に詳細に説明する。
〔実施例〕
実施例１ ６ａＴ類の異なるヨウ−臭化銀乳剤をブレンドしてコン
トロール写真材料（フィルムＡ）を製造して、所望なセ
ンシトメトリー曲ＭＡを得た。これらの６種類の乳剤は
、それぞれヨウ化銀が１．９．２．２および１．５モル
チであシ、平均粒度が１．６５．０．６５および０．４
μｍであシ、銀含量に対して１９チ、４８％および６６
％の割合でブレンドした。
この乳剤混合物に、上塗シ、緑色分光増感色素およびホ
スタブ＃　（Ｈｏｓｈａｐｕｒ）７ＭＳＡｓ９６（ヘヤ
スト・アー・ｒ　−（Ｈｏｅｃｈｓ　ｂ　ＡＧ）　Ｍ　
Ｏアルカンスルホン酸ナトリウム塩型の７ニオン性界面
活性剤）２．４　ｇ１モルを加えた。この乳剤混合物を
、ポリエチレンテレフタレートの透明基材の両側に総銀
コーティング重量が５．１ｇ／Ｆｌｕ”でコーティング
した。それぞれの乳剤層に乾燥厚みが０−９　ｔｍのゼ
ラチン保護層を塗布した。この保護層は、ゼラチンの溶
液に艶消剤として平均粒度が４．５μｍのポリメチルメ
タクリレ−）　（ＰＭＭＡ）ビーズ、テルギトール（Ｔ
ｅｒｇｉｔｏｌ）７Ｍ４　（ｚ　ニオｙ　１１　、／７
−ハイド社（Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｌｄｅ　Ｃｏ、）製
の、式ＣＨ＠−ＣＨ−（ｃＨ３）　。
ＣＨ−８Ｏ３Ｎａ ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ−Ｃｄ（５ ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ３ ティベタイン（Ｔｅｇｏｂｅｔａｉｎｅ）ＴＭＬ　７　
（テーバ−・イールドシュミット・アープ−（Ｔｈ、　
Ｇｏｌｄａｃｈｍｊｄｌ。
ＡＣ））製の、式 ％式％ （式中、Ｒは１２〜１７個の炭素原子を有するアルキル
鎖である）を有するベタイン界面活性剤〕、化合物Ａ〔
スリーエム・カンパニ（６Ｍ　Ｃｏｍｐａｎｙ）製の、
式 ％式％ を有するカチオン性フッ素化化合物〕および硬化剤を加
えたものから製造した。
本発明の放射線写真材料は、（５）ホスタプル（Ｈｏｓ
ｔ、ａｐｕｒ）ＴＭ８ＡＳの代わ９にそれぞれの乳剤層
が銀１モル幽た）テルギトール（Ｔｅｒｇｉ　ｔｏｌ）
′ＩＩＭＮＰＸ（ユニオン・カーバイド社（Ｕｎｉｏｎ
　Ｃａｒｂｌｄａ　Ｃｏ、）製のノニルフェニルポリエ
チレンクリコール−エーテル型の非イオン性界面活性剤
）　０．８１／と、銀１モル当たシ化合物１（式、 Ｈ２Ｏ−ＣＨ−ＮＦ２−ＣＢＦｌ、５Ｏ３ＨＨ３ ＣＨ。
（式中、ｂ＝８．５であシ、ａ　＋　ｃ　＝　２−５で
ある）を有するフッ素化塩を含み、（ｂ）それぞれの保
護層が平均粒度が４．５μｍのＰＭＭＡビーズと、テル
ギト−ル（Ｔｅｒｇｉ　ｔ、ｏｌ）′ｒＭＮＰＸと、化
合物１とダウ・コーニング・コーポレーション（Ｄｏｗ
　Ｃｏｒｎｌｎｇ　Ｃｏｒｐｏ−ｒａＬｌｏｎ）製の平
均粒度が０．２μｍのポリジメチルシロキサ７８Ｓ９６
／１００を有して成ること以外は、前記の材料と同じ方
法で製造した。
下記の表−１に、それぞれの保護層の組成を示す。数字
は、ゼラチン１ｇ当たシのｙ数である。
表−１ ゼラチン　　　　　　　　　１．０　　１．ＯＰＭＭＡ
　　　　　　　　　　　　Ｏ，０５４０，０４４チルａ
Ｐ　）−／ＬＴＭ４　　　　　　　０．０６ｆル！　ト
−ｈ　ＴＭＮＰＸ　　　　　　　　　　　Ｏ，０２７テ
ーｒへｆｉ　インＴＭＩ、　７　　　　　　Ｑ、Ｑ４化
合物Ａ　　　　　　　　　　　　０．００２７化合物１
　　　　　　　　　　　　　　　　０．００７ポリジメ
チルシロキサン　　　　　　　　　０．０６４これらの
フィルムの試料を５０℃で１５時間保存した後、シーメ
ンス（Ｓｉｅｍｅｎｓ）社製の６種類の異なるトラマー
）　（Ｔｈｏｒａｍａす’ｒＭ迅速フィルム交換装置（
Ｒａｐｌｄ　Ｆｌｌｍ　Ｃｈａｎｇｅｒａ）で使用した
。フィルムが装置を通過した後、フィルムに存在する電
荷をファラデー・ケージ中でフィルム自体をまとメチ、
電位計で測定した。これらのフィルムの別の試料を前記
の６種類の装置を通過させ、９０“でのＸ線フィルムに
対する標準的処理法で処理し、学校用等級尺度を用いて
、１０を最良（スタチックマークなし）とし、１を最悪
（全評面上にスタチックマークあり）とし、中間の値は
中間の状態を表わすものとすることによってスタチック
マークの存在を評価した。
下記の表−２に、それぞれのフィルムに対応する試料で
得られた結果を示す。
表−２ 電荷ｊｔ　（ＫＶ／ｍ） フィルムＡ　　２−５（−）　　５２（−）　　８（＋
）フィルムＢ　　１５　（＋）　　２２（−）１５（＋
）（−）＝負のスタチックマーク （＋）＝正のスタチックマーク スタチックマーク 戎記の結果は、本発明のフィルムは常に（大きな分校様
スタチックマークを生じる負の電荷よシも危険性の少な
い）正の電荷を生じ且つ実質的にスタチックマークを生
じないことを示している。
実施例２ コントロールＸ線材Ｈ（フィルムｃ）ｉ、実施例１のフ
ィルム１と同様に製造した。
本発明のＸ＠材料（フィルムＤ）は、実施例１のフィル
ムＢと同様に製造した。
次に、それぞれの保護層にゼラチン１ｇ当たシテルヤト
ールＴＭＮＰＸ　０．０２７　ｇ、化合物Ｓ０．００７
ｙ１実施例１のＰＭＭＡ　Ｏ，０４４１１およびデュポ
ン（ＤｕＰりｎ　ｔ、）社製のルドックｘ　（Ｌｕｄｏ
ｘ）　ｐｄＤ　（平均粒度が０．０１２　ａｍのコｏイ
ドシリカ）　０．６２　ｇを含有させること以外は実施
例１のフィルムＢと同様に本発明のＸ線材料を製造した
。
これら６種類のフィルムの試料を５０°Ｃで１５分間処
理した。
試料を２１℃および２５％ＲＨで１５時間コンディショ
ニングした後、これらの写真フィルム上の電荷量および
スタチックマークの発生を下記の方法で測定した。
（ａ）　　発生したスタチックマークの測定５．５　ｘ
　２９　ｃｍオよび７．９Ｘ２４ｃＩＲの寸法の試料を
前記のフィルムから切シ取シ、適当な安全光条件下にて
２５％ＲＨｊ？よび２１℃でコンディショニングした。
次に、試料を異なる材料で作られたローラーを通過させ
て電気特性を評価した。低速試験では、７．９Ｘ２４（
ｉｌｌの寸法の試料をスチールとイムが対向したローラ
ーの間を通過させた。固定スチールローラーの直径は１
６（ｍであシ、電動モーターによって可変速度で駆動さ
れた。対向したイムローラーの直径は２．４ｃｒＲであ
り１．５ｋｇ釣合重りでスチールローラーに対して諸定
位置に固定されていた。スチールローラーは、フィルム
速度が１０ｒＩＬ／分となる速度で駆動された。迅速試
験では、スチールローラーを、直径が１６ｃＩｎの固定
ゴムで被覆したスチールローラーに替えた。対向したス
チールローラーの直径は２．４　ＣＩｎであシ、６ｋｇ
の釣合重りで諸定位置に固定した。フィルム速度は６０
０　ｍ７分であった。それぞれのフィルム試料をローラ
ーの間を６回通過させ、Ｘ線フィルムの標準的な９０″
法で処理した。学校用等級尺度でろって８を良好（スタ
チックマークの発生なし）とし、１が悪い（全表面にス
タチックマーク）として、中間値が中間的状態を表わす
ものを用いて、スタチックマークの菫を計価し友。
フィルムが異質材料と接触する際に発生する電荷ｊｔｋ
測定するため、それぞれ６．５ｃＩ１１幅の試料を直径
が１６ｃ！１１のポリテトラフルオロエチレン樹脂の表
面に固定した。直径が２．４ＣＩ＆の異質材料のローラ
ー（ゴム、スチール、および標準Ｘ線増感スクリーンで
被覆したローラー）を、１ｋｇの釣合重りによって試料
と接触させた。フィルムの速度は１０ｒＩＬ／分であっ
た。発生した電荷量、ゼロ速度から出発して６０“の間
隔で測定したピーク値としてフィルムの表面から１ｃＩ
ＩＩ離して設置した￥Ｍ、位計で測定した。
下記の表−６に、それぞれのフィルムに対応する試料の
結果を示す。
表−６ スタチックマーク 低速試験　　迅速試験 フィルムｃ２（−）８ フィルムＤ　　　　７（＋）　　　　　５．５（＋）フ
ィルムｙ　　　　７（＋）　　　　　６−５（＋）（＋
）＝正のスタチックマーク、 （−）＝負のスタチックマーク、 （ａ）＝ゴムローラー （ｂ）＝スチールローラー 電荷値 （ａ）　　　　（ｂ） −５，５＋１．５ ＋４．８　　＋１．５ ＋５．８　　＋２．７

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）支持基材と、１層以上の親水性コロイド層であつ
    てその少なくとも１層がハロゲン化銀乳剤層であるもの
    とから成る感光性材料において、前記の材料の少なくと
    も１層の親水性コロイド表面層が（ａ）ポリオキシアル
    キレン基を有する非イオン性界面活性剤と、（ｂ）ポリ
    オキシアルキレンアミン化合物とフッ素化有機酸化合物
    との反応生成物であるフッ素化有機塩と、（ｃ）水不溶
    性艷消剤の不連続粒子と、（ｄ）シリコーンポリマーと
    コロイド状シリカの群から選択される水不溶性表面改質
    剤とを含む感光性写真材料。
  2. （２）前記のポリオキシアルキレンアミンが、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒは置換されていてもよいアルコキシ基であり
    、Ｒ＿１は水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜５
    ０の整数であり、ｂは５〜１５０の整数であり、ａ＋ｃ
    は２〜５の整数であり、Ａは基ＣＨ≡、ＣＨ＿３≡、Ｃ
    Ｈ＿３ＣＨ＿２Ｃ≡または−ＣＨ＿２−ＣＨ−ＣＨ＿２
    −であり、ｘ、ｙおよびｚは同一であるかまたは異なり
    、１〜３０の整数である）の一つによつて表わされる、
    請求項１に記載の感光性写真材料。
  3. （３）前記のフッ素化有機酸が、一般式 ｛Ｒ＿ｆ−（Ｂ）＿ｏ｝−（ＳＯ＿３Ｈ）＿ｐ（VI）（
    式中、Ｒ＿ｆは２〜１８個の炭素原子を有する未置換ま
    たは置換アルキル基または２〜１５個の炭素原子を有す
    る未置換または置換アルケニル基であつて、水素原子は
    部分的または完全にフッ素原子で置換されて少なくとも
    ３個のフッ素原子を有するものを表わし、Ｂは二価の有
    機基であり、ｏは０または１であり、ｐは１または２で
    ある）を有する、請求項１に記載の感光性写真材料。
  4. （４）前記の非イオン性界面活性剤が、一般式▲数式、
    化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ｒ＿２は１〜３０個の炭素原子を有する未置換
    または置換アルキル基、１〜３０個の炭素原子を有する
    未置換または置換アルケニル基または未置換または置換
    アリール基であり、Ｒ＿３は水素原子またはメチル基で
    あり、Ｄは基−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼または▲数式、化学式、表等があります▼であり
    、Ｒ＿４は水素原子または１〜２０個の炭素原子を有す
    る未置換または置換アルキル基であり、ｑは０または１
    であり、ｒは２〜５０の整数である）によつて表わされ
    る、請求項１に記載の感光性写真材料。
  5. （５）前記の艶消剤の平均粒度が２〜６μｍである、請
    求項１に記載の感光性写真材料。
  6. （６）前記の艶消剤がポリメチルメタクリレートである
    、請求項１に記載の感光性写真材料。
  7. （７）前記の表面改質剤の平均粒度が０．００１〜１μ
    ｍである、請求項１に記載の感光性写真材料。
  8. （８）前記のシリコーンポリマーが、一般式▲数式、化
    学式、表等があります▼（VIII） （式中、Ｒ＿５は１〜３個の炭素原子を有するアルキル
    基であり、Ｒ＿６は１〜５個の炭素原子を有するアルキ
    ル基または１〜２個の炭素原子を有するアルコキシ基で
    あり、ｎは０〜２０００の正の整数である）を有する、
    請求項１に記載の感光性写真材料。
  9. （９）前記の非イオン性界面活性剤を写真材料１ｍ＾２
    当り１０〜１０００ｍｇの量で用いる、請求項１に記載
    の感光性写真材料。
  10. （１０）前記のフッ素化塩を写真材料１ｍ＾２当り０．
    ５〜１０００ｍｇの量で用いる、請求項１に記載の感光
    性写真材料。
  11. （１１）前記の艶消剤を写真材料１ｍ＾２当り５〜２０
    ００ｍｇの量で用いる、請求項１に記載の感光性写真材
    料。
  12. （１２）前記の表面改質剤を写真材料１ｍ＾２当り５〜
    ５０００ｍｇの量で用いる、請求項１に記載の感光性写
    真材料。
  13. （１３）前記の親水性コロイド層の親水性コロイドがゼ
    ラチンである、請求項１に記載の感光性写真材料。
  14. （１４）前記の表面親水性コロイド層が保護コロイドで
    ある、請求項１に記載の感光性写真材料。
  15. （１５）前記の少なくとも１層の親水性コロイド層が裏
    地層である、請求項１に記載の感光性写真材料。
  16. （１６）（ａ）支持基材と、 （ｂ）前記の支持基材の両側にコーティングした少なく
    とも１層の親水性コロイド状ハロゲン化銀乳剤層と、 （ｃ）それぞれの乳剤層にコーティングした親水性コロ
    イド保護層とから成る感光性写真材料において、 請求項１〜１６のいずれか１項に記載されているよりに
    、少なくとも１層の親水性コロイド表面層が（ａ）ポリ
    オキシアルキレン基を有する非イオン性界面活性剤と、
    （ｂ）ポリオキシアルキレンアミン化合物とフッ素化有
    機酸化合物との反応生成であるフッ素化有機塩と、（ｃ
    ）水不溶性艶消剤の不連続粒子と、（ｄ）シリコーンポ
    リマーとコロイド状シリカの群から選択される水不溶性
    表面改質剤を有する、感光性写真材料。
JP1306375A 1988-11-25 1989-11-24 感光性ハロゲン化銀写真材料 Expired - Lifetime JP2726720B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT22737A/88 1988-11-25
IT8822737A IT1227930B (it) 1988-11-25 1988-11-25 Materiali fotografici agli alogenuri d'argento sensibili alla luce.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02184843A true JPH02184843A (ja) 1990-07-19
JP2726720B2 JP2726720B2 (ja) 1998-03-11

Family

ID=11199866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1306375A Expired - Lifetime JP2726720B2 (ja) 1988-11-25 1989-11-24 感光性ハロゲン化銀写真材料

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4975363A (ja)
EP (1) EP0370404B1 (ja)
JP (1) JP2726720B2 (ja)
DE (1) DE68920416T2 (ja)
IT (1) IT1227930B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005509054A (ja) * 2001-11-05 2005-04-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 撥水および撥油性帯電防止組成物

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04127142A (ja) * 1990-06-22 1992-04-28 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
US5204233A (en) * 1990-10-09 1993-04-20 Konica Corporation Photographic silver halide element having coated particles
US5254448A (en) * 1991-01-08 1993-10-19 Konica Corporation Light-sensitive silver halide photographic material
US5378577A (en) * 1992-10-30 1995-01-03 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5300411A (en) * 1992-10-30 1994-04-05 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5288598A (en) * 1992-10-30 1994-02-22 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
EP0603431B1 (en) * 1992-11-25 1998-03-25 Agfa-Gevaert N.V. Radiographic film package for non-destructive testing purposes
JPH0713291A (ja) * 1993-06-24 1995-01-17 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
DE69316006T2 (de) * 1993-09-17 1998-07-16 Agfa Gevaert Nv Photographisches lichtempfindliches Material mit konservierten antistatischen Eigenschaften
GB9319790D0 (en) * 1993-09-24 1993-11-10 Kodak Ltd Antistatic composition
EP0655646A1 (en) * 1993-11-29 1995-05-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiographic material with improved antistatic properties
US6171707B1 (en) * 1994-01-18 2001-01-09 3M Innovative Properties Company Polymeric film base having a coating layer of organic solvent based polymer with a fluorinated antistatic agent
EP0693709A1 (en) * 1994-07-18 1996-01-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fluoropolymers and fluorochemical surface active agents for improving the antistatic behaviour of materials and light sensitive material having improved antistatic behaviour
US5612431A (en) * 1994-09-21 1997-03-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Leaching of precious metal ore with fluoroaliphatic surfactant
US5468603A (en) * 1994-11-16 1995-11-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photothermographic and thermographic elements for use in automated equipment
US5595862A (en) * 1995-02-01 1997-01-21 Eastman Kodak Company Photographic elements containing matte particles of bimodal size distribution
US5550011A (en) * 1995-02-01 1996-08-27 Eastman Kodak Company Photographic elements containing matte particles of bimodal size distribution
US5536627A (en) * 1995-03-21 1996-07-16 Eastman Kodak Company Photographic elements with improved cinch scratch resistance
US6025111A (en) * 1996-10-23 2000-02-15 Eastman Kodak Company Stable matte formulation for imaging elements
US5750260A (en) * 1996-11-22 1998-05-12 Imation Corp Development/transport rollers having a fluorocarbon coating for use in automated thermal development equipment
US6509100B1 (en) * 1999-08-18 2003-01-21 The University Of Houston System Fluorinated hydrogn bond stabilized surface modifying agents, articles made therefrom, methods for making and using the same
US6372829B1 (en) * 1999-10-06 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Antistatic composition
US20030054172A1 (en) * 2001-05-10 2003-03-20 3M Innovative Properties Company Polyoxyalkylene ammonium salts and their use as antistatic agents
US6740413B2 (en) 2001-11-05 2004-05-25 3M Innovative Properties Company Antistatic compositions
US6699648B2 (en) * 2002-03-27 2004-03-02 Eastman Kodak Company Modified antistatic compositions and thermally developable materials containing same
US6762013B2 (en) 2002-10-04 2004-07-13 Eastman Kodak Company Thermally developable materials containing fluorochemical conductive layers
US7122294B2 (en) 2003-05-22 2006-10-17 3M Innovative Properties Company Photoacid generators with perfluorinated multifunctional anions
US7115359B2 (en) 2003-07-25 2006-10-03 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Photothermographic material
EP2139971A4 (en) * 2007-04-13 2011-09-21 3M Innovative Properties Co ANTISTATIC TRANSPARENT SELF-ADHESIVE ADHESIVE

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56109336A (en) * 1980-02-01 1981-08-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JPS59138267A (ja) * 1983-01-29 1984-08-08 Nitto Funka Kogyo Kk 樹脂用帯電防止剤
JPS62249145A (ja) * 1986-04-21 1987-10-30 Konika Corp 滑り性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPS62264046A (ja) * 1986-05-12 1987-11-17 Konika Corp 帯電防止性能の改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPS638642A (ja) * 1986-06-28 1988-01-14 Konica Corp 帯電防止能および耐接着性に優れたハロゲン化銀写真感光材料

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2832697A (en) * 1956-04-30 1958-04-29 Dow Chemical Co Method for applying antistatic agents to polymeric substances and destaticized articles thereby obtained
US3118784A (en) * 1961-02-13 1964-01-21 Du Pont Reducing static-electricity buildup on a synthetic resin by applying a discontinuousnitrogen containing polymer thereon
GB1293189A (en) * 1970-06-04 1972-10-18 Agfa Gevaert Photographic silver halide element
IT966734B (it) * 1972-07-24 1974-02-20 Minnesota Mining & Mfg Metodo per ridurre la caricabilita statica di strati fotografici e di elementi fotografici strati fotografici ed elementi fotografici ottenuti con tale metodo
US4013696A (en) * 1973-07-25 1977-03-22 Eastman Kodak Company Element comprising a coating layer containing a mixture of a cationic perfluorinated alkyl and an alkylphenoxy-poly(propylene oxide)
JPS589408B2 (ja) * 1974-02-13 1983-02-21 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料
JPS5623142B2 (ja) * 1974-07-01 1981-05-29
JPS53100226A (en) * 1977-02-14 1978-09-01 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material with film physical property improved
US4313978A (en) * 1978-12-20 1982-02-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic compositions and treatment
JPS5711341A (en) * 1980-06-25 1982-01-21 Fuji Photo Film Co Ltd Photographic sensitive material
JPS5974554A (ja) * 1982-10-21 1984-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd 写真感光材料
US4649102A (en) * 1983-10-03 1987-03-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic light-sensitive material
JPS6080849A (ja) * 1983-10-07 1985-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS6142653A (ja) * 1984-08-07 1986-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS6142654A (ja) * 1984-08-07 1986-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
DE3782963T2 (de) * 1986-04-21 1993-04-22 Konishiroku Photo Ind Photographisches silberhalogenidmaterial mit antistatischen eigenschaften.
JPH0619523B2 (ja) * 1986-06-25 1994-03-16 コニカ株式会社 スタチツクマ−クの発生及び折り曲げカブリの発生の防止されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH0690447B2 (ja) * 1986-09-12 1994-11-14 コニカ株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
IT1228436B (it) * 1987-07-24 1991-06-17 Minnesota Mining & Mfg Materiali fotografici agli alogenuri d'argento sensibili alla luce

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56109336A (en) * 1980-02-01 1981-08-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JPS59138267A (ja) * 1983-01-29 1984-08-08 Nitto Funka Kogyo Kk 樹脂用帯電防止剤
JPS62249145A (ja) * 1986-04-21 1987-10-30 Konika Corp 滑り性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPS62264046A (ja) * 1986-05-12 1987-11-17 Konika Corp 帯電防止性能の改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPS638642A (ja) * 1986-06-28 1988-01-14 Konica Corp 帯電防止能および耐接着性に優れたハロゲン化銀写真感光材料

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005509054A (ja) * 2001-11-05 2005-04-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 撥水および撥油性帯電防止組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0370404A3 (en) 1990-09-19
EP0370404B1 (en) 1995-01-04
JP2726720B2 (ja) 1998-03-11
US4975363A (en) 1990-12-04
EP0370404A2 (en) 1990-05-30
IT8822737A0 (it) 1988-11-25
DE68920416T2 (de) 1995-05-18
DE68920416D1 (de) 1995-02-16
IT1227930B (it) 1991-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02184843A (ja) 感光性ハロゲン化銀写真材料
EP0772080B1 (en) Photographic element useful as a motion picture print film
GB1593332A (en) Antistatic articles
JPH04501324A (ja) 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料
US5318878A (en) Cross-linked conductive polymers and antistat layers employing the same
JP2823206B2 (ja) 感光性写真材料
EP0098281A1 (en) ELECTRICALLY CONDUCTIVE COMPOSITIONS AND THEIR USE.
EP0127820B1 (en) Antistatic photographic base, method for preparing it and photographic element comprising said base
US5674671A (en) Light senitive material having improved antistatic behavior
JPH0756268A (ja) 改良した帯電防止性を有するハロゲン化銀写真材料
US5962207A (en) Motion picture film
JPS60258542A (ja) 写真用帯電防止組成物を塗布した要素
EP0530317A1 (en) CROSSLINKED CONDUCTIVE POLYMERS AND ANTISTATIC COATINGS CONTAINING THEM.
US6004735A (en) Stain resistant protective overcoat for imaging elements
US5866285A (en) Auxiliary layer for imaging elements containing solvent-soluble fluoropolymer
JPH0634120B2 (ja) Ｘ線フイルムとの使用のための帯電防止鉛スクリーン
US6107015A (en) Photographic element having a stain resistant electrically conductive overcoat
US6130030A (en) Photographic element having a stain resistant protective overcoat
JPH0327100B2 (ja)
EP0935169B1 (en) Stain resistant protective overcoat for imaged photographic elements
JPH08319361A (ja) 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分
JPS6147948A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0915788A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0642052B2 (ja) 写真感光材料
JPH0954387A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料