JPS6080849A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は写真感光材料に関するものであり、特に、すぐ
れた帯電防止性を付与した写真感光材料に関する。

（従来技術） 写真感光材料は電気絶縁性を有する支持体および写真層
から成っているって写真感光材料の製造工程中ならびに
ｆ用時に同種または異種物質の表面との間の接触摩擦ま
たは剥離をうけることにょつて静電電荷が蓄積されるこ
とが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害を引起
す。例えば現像処理前、の写真フィルムに於てはこの蓄
積された静電電荷が放電することによって感光性乳剤層
が感光し写真フィルムを現像処理した際に点状スポット
又は樹枝状や羽毛状の線速音生ずる。られがいわゆるス
タチックマークと呼ばれているもので写真フィルムの商
品価値を著しく損ね場合によっては全く失なわしめる。

例えば医療用又は玉条用Ｘ−レイフィルム等に現われた
場合には非常に危険な判断につながることは容易に認識
されるであろう。この現象は現像してみて初めて明らか
になるもので非常に厄介な問題の一つである。またこれ
らの蓄積された静電電荷はフィルム表面への塵埃の付Ｎ
を招きその後の塗布工程での不均一故障などの第２次的
な故障を誘起せしめる原因にもなる。

かかる静電電荷は前述したように写真感光材料の製造お
よび使用時にしばしば蓄積されるのであるが例えば製造
工程に於ては写真フィルムとロ−ラーとの接触摩擦ある
いは写真フィルムの巻取り、巻戻し工程中での支持体面
と乳剤面の分離等によって発生する。また仕上シ製品に
於ては写真フィルム全接着を起すほどの高湿度で巻取り
切換えを行なった場合のベース面と乳剤面との剥離によ
って、またはＸ−レイフィルムの自動撮影機中での機械
部分あるいは螢光増感紙との間の接触分離等が原因とな
って発生する。その他包装材料との接触などでも発生す
る。かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光
材料のスタチックマークは写真感光材料の感度アップお
よび処理速度の増加によって一層顕著となる。

これらの摩擦帯電ないし剥離帯電は接触物質分子間のイ
オン的相互作用に起因するものと考察されるがいかなる
物質が正に、またいかなる物質が負に帯電するかは現時
点では構造化学的に充分なる予想をつけることは困難で
ある。しかし帯電量を減少させること又は物質表面上の
電気伝導度を増加させて電荷の蓄積による部分放電が起
る前に静電電荷を極めて短時間に逸散せしめるようにす
るとこのような帯電を防止しうるであろうことは容易に
考えられる。それ故に従来から写真感光材料の支持体や
各種塗布表面層の導電性を向上させる方法が考えられ種
々の吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、
ポリマー等の利用が試みられてきた。例えば米国特許第
２９ｇどｊ、／ｊ７号、同２．７７２　、！３ｊｆ号、
同３．θｔλ。

７ｔｊ号、同３，２Ａ、２．♂０７号、同３．ｊ／≠、
２り７号、同３．ｔ／！、３３／号等に記載されている
ようなポリマー、例えば英国特許第ｒ１１．１３１７号
、米国特許第λ、り、！’、２　、　ｌ、６１号、同３
１弘２１．≠よ６号、同３．≠１７，０７を号、同３．
≠ｊ≠、Ａ２ｊ号、同ｊ　、　ｊｊｆ２　。

？７２号、同３．乙！！　、３ｇ７号等に記載されてい
るような界面活性剤、例えば米国特許第３゜ＯＡ２，７
００号、同３．２’ｌｊ、１３３号、同Ｊ　ｊ、２ｊ、
＆、２／号に記載されているような酸化亜鉛、半導体、
コロイドシリカ等が知られている。

特に、これらの化合物の中でも７分子中に７個のポリオ
キシエチレン鎖を有するノニオン界面活性剤は、優れた
帯電防止性を有することが知られている。

これらの方法により、写真感光材料の支持体や塗布表面
層の導電性を向上させることで電荷の蓄積をかなυ抑え
ることができるが、材質の異なる種々のローラーや増感
紙との摩擦に対してスタチックマークの発生を無くする
ことは困難である。

一方、含フツ素化合物を用いて写真感光材料の支持体や
塗布層の摩擦帯電量ないし剥離帯電量を低下させ得るこ
とが知られておシ、ある種の界面活性剤、ポリマー等の
利用が試みられてきた。例えば、特公昭≠ｔ−４！３，
１３０号、特開昭タフ−／≠ｔ、２≠に号等に記載され
ているような界面活性剤、特開昭ｊｊ−７ｇ、１３弘号
等に記載されているよう汝ポリマー等の利用が試みられ
た。

この際、摩擦あるいは接触・剥離は表面に関する現象で
あることから、添加した含フツ素化合物のうち、帯電量
を変化させるのに関与するのは、表面近傍に存在するも
のであろうと考えられる。

これは、例えばある種の含フツ素界面活性剤を一定量塗
布表面層に加えても、塗布乾燥条件・併用する各種添加
剤・保存条件等の影響でその写真感光材料の帯電量は大
きく変化することで明らかである。

父、含フツ素化合物による帯電調整は、摩擦又は接触・
剥離の相手が一種類である時には、帯電量を少なくする
ことができるが、複数の相手物質のどれに対しても帯電
量を少なくすることは困難である。

（発明の目的） 本発明の目的は種々のゴム、ナイロン、金属、増感紙等
に対してスタチックマークの発生が無い写真感光材料を
提供することである。

（発明の構成） 本発明の目的は写真感光材料の構成ｊ脅の少なくとも一
層にポリオキシエチレン基を有するノニオン界面活性剤
と含フッ素系ｆヒ合物をさ有せしめ、Ｘ線光電子分光法
で調べた表面の元素組成が、Ｆｉｓビーク強１ｆ／Ｃｉ
　ｓビーク強度比で０．３からλ、Ｏの範囲に入るよう
にしたハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。

Ｆｉｓピーク強度／　Ｃｉ　ｓビーク強度比としては、
特にｏ、ｒ〜／、Ｊの範囲に入るようにすることが好ま
しい。

表面の含フッ素系化合物の量を調節して、Ｘ線光電子分
光で調べた表面の元素組成が上記範囲に入るようにする
方法は、大きく分けて２通υの方法がある。

１つ目の方法は、含フツ素化合ｖＩＪを含む塗布液を写
真感光材料の保護層のさらに上にオーバーコートする方
法である。この際には、オーバーコートする塗布液中の
含フツ素化合物の量および保護層内への拡散性の違いに
よシ表面の含フツ素化合物の量は変化する。それゆえ、
オーバーコートする場合には含フツ素化合物の敢および
拡散性全考慮して、表面の元素組成が上記範囲に入るよ
うにすれば良い。

λつ目の方法は、保護層、乳剤層又はバック層の塗布液
中に８フッ素化合物を添加する方法である。

この第２の方法で、表面の元素組成が上記範囲に入るよ
うにするには次の≠つの因子を考えなければならない。

（１）　含フッ素系化合物の種類としては、界面活性剤
およびポリマーが好んで用いられるが、ポリマーに比べ
て界面活性剤の方が表面への吸着性が強い。

又、含フッ素系界面活性剤の中では、アニオンおよびカ
チオン性のものがノニオンおよびベタインに比べて表向
への吸着性が強い。

（１１）　表面の含フツ素系化合４勿の址は、塗布液中
に摩加する含フッ素系化合物の量にほぼ比輿１して変化
する。その際表面への吸着性の強い含フッ素系化合物を
使用すれば少量の添加で表面の量は大きく増加し、逆に
表面への吸着性の弱い含フッ素系化合物（ｉ−１吏用す
ると表面の量は少ししか増加しない。

（１１ｔ）含フッ素系化合物と共に塗布液中に添加する
化合物、特に非フツ素系界面活性剤の種類および量によ
って表面の含フッ素系界面活性剤の量は影響を受ける。

例えば、非フツ素系界面活性剤として表面への吸着性の
強いものを多量使用すれば、表面の含フッ素系界面活性
剤の量は減少する。

（Ｉｖ）　乾燥条件：含フツ素化合物およびポリオキシ
エチレン基を有するノニオン界面活性剤を含む写真感光
材料は、塗布後の乾燥条件によって表面の含フツ素化合
物の量が変化する。したがって例えば、アニオン性含フ
ツ素界面活性剤を使用する時、３分間で乾燥する方法を
標準とすると、よシ短時間で乾燥する方法をとった場合
には表面の含フ素系界面活性剤は減少する。

本発明に用いられるノニオン界面活性剤としては、下記
一般式［Ｉ−／）、〔■−コ〕又は〔■−３〕で表わさ
れる化合物を挙げることができる。

一般式［ｓ−／〕 Ｒ１−Ａ−（−ＣＨ２ＣＨ２０ｈｉＨ 一般式Ｃｌ−３］ 式中、Ｒ１は炭素数ｌ〜３０の置換又は無置換のアルキ
ル基、アルケニル基又はアリール基金、Ａは一〇−基、
−８−基、−ＣＯＯ−基、−Ｎ−Ｒ１ｏ基、−ＣＯ−Ｎ
−ＲＩＱ基、１ 一８Ｏ２Ｎ−ＲＩ　Ｏ基（ここでＲｔｏは、水素原子、
置換又は無置換のアルキル基を示す。）を表わす。

Ｒ２１Ｒ３＃Ｒ７１Ｒ９は水素原子、置換もしくは無置
換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン
原子、アシル基、アミド基、スルホンアミド基、カルバ
モイル基或いはスルファモイル基を表わす。

又式中Ｒ６及びＲ８は、置換もしくは無置換のアルキル
基、了り−ル基、アルコキシ基、ノ・ロゲン基、アシル
基、アミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基或い
はスルファモイル基を表わす。

一般式（Ｔ−、？）でフェニル環の置換基は左右非対称
でもよい。

Ｒ４及びＲ５は、水素原子、置換もしくは無置換のアル
キル基、又はアリール基を表わす。Ｒ４とＲ５、Ｒ６と
Ｒ７，及びＲ８とＲ９は、互いに連結して置換もしくは
無置換の環を形成してもよい。

ｎｎｎ　及びＲ４は酸化エチレンの平均１％２％３ 重合度であって２〜１０の数である。

又、ｍは平均重合度であり、コ〜ｊ′Ｏの数である。

本発明の好ましい例を以下に記す。Ｒ１は好ましくは炭
素数弘〜２≠のアルキル基、アルケニル基、アルキルア
リール基であり、％に好ましくはヘキシル基、ドデシル
基、イソステアリル基、オレイルａ、ｔ−１−ｙ−ルフ
ェニル基、２　、　ＩＩ−’）　−ｔ−ブチルフェニル
基、コ、弘−ジーｔ　Ｏメチルフェニル；Ｌｐ−）’テ
シルフェニルａ、ｍ−’ンタデカフェニル基、ｔ−オク
チルフェニル基、λ、≠−ジノニルフェニル基、オクチ
ルナフチル基等である。Ｒ　２　ｓ　Ｒ　３、Ｉｔ　６
、Ｉｔ　７、Ｒ８及びＲ９は好ましくはメチル、エチル
、ｉ−プロピル、ｔ−ｉ−ｙ−ル、ｔ−アミル、ｔ−ヘ
キシル、ｔ−オクチル、ノニル、テシル、ドデシル、ト
リクロロメチル、トリクロロメチル、／−フェニルエテ
ル、λーフェニルーコープロビル等の炭素数／〜２０の
置換又は無置換のアルキル −クロロフェニル基等の置換又は無置換のアＩＪ　−ル
基、−ＯＲ．、（ここでＲ１１は炭素数／〜コＯの置換
又は無置換のアルキル基又はアリール基全表わす。以下
同じである）で表わされる置換又は無置換のアルコキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、’　Ｏ　Ｒ
　１　１で表わされるアシル基、−ＮＲ１２ＣＱＲ１１
（ここＫＲ．２Ｕ水素原子又は炭素数／〜，１０のアル
キル基を表わす。

以下同じ）で表わされるアミド基、 −ＮＲＩ　２ＳＯ２Ｒ１　ｔで表わされるスルホンアれ
るスルファモイル基であシ、又Ｒ　２　、Ｒ　３、Ｒ　
７　、Ｒ　＊は水素原子であってもよい。これらのうち
Ｒ　６　、Ｒ　８は好ましくはアルキル基又はノ・ログ
ン原子であシ、特に好ましくは、かさ高いｔ−ブチル基
、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基等の３級アルキル基で
ある。Ｒ　７　、Ｒ　９は特に好ましくは水素原子であ
る。すなわち、コ，４ｃｍジ置換フェノールから合成さ
れる一般式ＣＩ−ｊ）の化合物が特に好ましい。

ＰＬ４、Ｒｓは、好ましくは水素原子、メチル基、エチ
ル基、ｎ−ｉロビル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ヘプチル
＆、’ーエチルアミル基、ｎ−ウンデシル基、トリクロ
ロメチル基、トリクロロメチル基等の置換もしくは無置
換のアルキル基、α−フリル基、フェニル基、ナフチル
基、ｐ−クロロフェニルｉ、ｐ−メ）キシフェニル基、
ｍ−ニトロフェニル晶等の置換もしくは無置換のアリー
ル基である。又Ｒ４とＲ５、Ｒ６とＲ７及びＲ８とＲ９
は互いに連結し−〔置換もしくは無置換の環を形成して
も良く、例えはシクロヘキシル環でちる。

これらのうちＲ４とＲ５は特に好ましくは、水素原子、
炭素数／−Ｊ’のアルキル基、フェニル基、フリル基で
ある。ｎ工、ｎ　２、ｎ　３及びｎ　４　＆：Ｉ　％に
好ましくは、ｊ〜３θの数である。Ｒ３とＲ４は同じで
も異なっても良い。

これらの化合物は、例えば米国特許２，り１２。

６１１号、同３　、　’７２　Ｊ’　、　ｌ／−ｊ　１
号、同３，４１１７．０７６号、同Ｊ　、　１Ｉｊ４ｔ
、６２１号、同３゜！３２　、り７．２号、同３．ｔｊ
ｊ、３ｇ７号、特公昭ｊ／−２６ｉｏ号、特開昭ｊ３−
２２７／ｊ号、特開昭ｔｐ−ｒり６．２を号、特願昭３
７−１５７Ｊ≠号、特願昭ｊ７−タＯりＯり号、堀口博
著「新界面活性剤」（三共出版ｌり７ｊ年）等に記載さ
れている。

次に本発明に好ましく用いられるノニオン界面活性剤の
具体列金示す。

化合物例 Ｔ−／ Ｃ１１Ｈ２ａＣＯＯ−（−ＣＨ２ＣＨ２０ｔｙＨ■−２ Ｃ１ｓＨｓｔｃＯＯ＋ｃＨ２ｃＨ２０ｔＸＴＨ−ｊ Ｃ１７Ｈ３ａｃＯＯ＋ｃＨ２ｃＨ２０ｔ７７ＨＣｓＨｔ
７０−（−ＣＨ２ＣＨ２０すＴＨ■−ｊ Ｃ１２Ｈ２５０（−ＣＨ２ＣＨ２０＋−；Ｈ−ｘ Ｃ１ａＨａａｏ＋ｃＨ２ｃＨ２０＋ＴＴＨ−７ Ｃ１ｓＨ３ｓＯ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋ＴＴＨ１−，ｒ Ｃ２２Ｈ４ｓ　Ｏ＋ＣＨ２ＣＨ２０ｈＢＨＩ−タ −１０ ■−／／ −１２ ■−／３ Ｉ−／　≠ −１ｔ １−／Ａ Ｈ３ ｃ１３Ｈ２７ＣＯＮ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ＋ｒＴＨ−７７ ａ　＋　ｂ　＝　２０ Ｉ−／Ｉ Ｊ−／　タ Ｃｌ２ＨｓＳ＋ＣＨ２ＣＨ２０−）ＴＴＨＩ−コＯ ＣＨ３ （−２≠ −２１ ０＋　ＣＨ２ＣＨｚ　Ｏ＋Ｔ５Ｈ ■−２７ ０−Ｃ−ＣＨｚＣＨ２０ｔ７７Ｈ ■−λｔ ｏ＋ｃＨ２ＣＨ２０＋ＴＴＨ Ｔ−，２Ｆ Ｃ４Ｈ９−ｔ　Ｃ４Ｈｇ−ｔ −３０ ■−３７ ■−３＋２ ■−３３ ■−３Ａ ■−３７ （４Ｈ０−ｔ（４Ｈ１７−ｔ −３１ｒ Ｊ−Ｊり ■−≠０ Ｃ１２Ｈ２５しｘ２ｔｔｚｓ ■−４／ ■−≠２ Ｃ９Ｈ１９Ｃ９Ｈ１９ ■−弘３ ＣｓＨ１７−ｔ　Ｃ６Ｈ１３−ｔ ■−グ≠ ■−弘６ ゜５Ｈ１１−ｔ”’”−“ ■−弘ざ Ｃ４Ｈ９−ｔ　Ｃ４Ｈ９−ｔ ｉ−弘り Ｃｌ２Ｈ２５Ｃｌ２Ｈ２５ １−ｓ。

Ｃ３Ｈ１７−ｔ　Ｃ３Ｈ１７−ｔ −ｔｉ −１２ Ｃ５Ｈ１０−ｔ　Ｃ８Ｈ１７ｊ ■−３３ （−３６ Ｃ５Ｈ１，−ｔ Ｃ３Ｈ１１−ｔ　し５）ｉｔｉ　ｔ ■−ｊり Ｃ３Ｈ１ｌ−１Ｃ５Ｈ１ｌ　’ −ＡＪ １−＋４Ａ Ｃ３Ｈ１？　ｔ　Ｃ３Ｈ１，−１ １−＋ｔ （：Ｈ３ −Ａｇ Ｏｃ３Ｈ０７０Ｃ３Ｈ１□ −６７ ｌ−４１ 本発明の一般式（Ｉ−／）、＜１−、ｚ）及び（１−３
）で表わされるノニオン界面活性剤の使用量は、写真感
光材料の／、２当シｊ−Ｊ−００■で良く特に１０〜３
θｏｎｒｇが好ましい。

本発明に用いられる含フツ素化合物は、少なくとも３ケ
のフッ素原子を含んだ化合物であり、界面活性剤であっ
ても良く又ポリマーであっても良い。これらの化合物は
、父親水性基として、ノニオン系、アニオン系、カチオ
ン系、ベクイン系の官能基を含有していても良い。

本発明で用いられる含フツ素化合物は、列えば宴国特許
第１，２り３，７１２号、同／、２ｊり。

３りざ号、米国特許第３．ｊざり、りθを号、同３　、
　ＡＡＡ　、≠７ｊ号、同３，７．を弘、り２１号、同
３，７７１．）、、３を号、同３．ざ、ｆｏ、１弘θ号
、特開昭！を一弘了ｊコＯ号、同Ｊｚ−／／グ。

りｌ≠号、ｊθ−／ｌ／、２３乙号、同ｊ／−／ｒ／／
λ７号、同！０−ｊ９０２ｊ号、同ＳＯ−／／３．λ２
／号、同ｊＯ−タタｊ、２！号、特公昭弘Ｊ’−４ｔ３
／３０号、同！７−乙ｊ７７号、特願昭ｔ７−ｇＪｓｌ
ｓＡ号、同！７−４０７７３号、特開昭３３−ｆ弘７７
．２号、同ｊ７−Ｊ弘２１ｒ号、Ｉ＆ＥＣＰｒｏｄｕｃ
ｔ　Ｒｅ５ｅｒｃｈ　ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｏｎｔ　
／（３）（／り乙２．り）油化学−ｂメー（１２）（／
りＡ３）ｐ６ｊＪ〜ハ―、等に記載されている含フッ素
系界面活性剤、あるいは特開昭ｊ≠−／タ♂、２２λ号
、同ｊコー／コタ。

６．２０号、特公昭４４７−２３　、　ｆ２ｇ＠、英国
特計礪／、３３−２．デフｊ号、同ｌ、≠り７，２３６
号、米国特許第Ｖ、０１７．３り弘号、同グ。

０／Ａ、１２３号、同３．２４ｔＯ，ｔθグ号、同ｊ　
、６７９．≠ｌ１号、同Ｊ　、３４ｔＯ，２１を号、同
３，６３２．Ｓ３≠号、％開昭≠ｔ−３０９弘θ号、特
開昭１２−／２２３２０号、米国特許第３．７１３．７
１を号等に記載の含フツ素系ポリマー等が好ましく用い
られる。

特に好ましく用いられる含フッ素系化合物は、含フッ素
系界面活性剤であり、下記一般式で表わされる。

一般式（’［）　Ｒｆ−Ａ−Ｘ 式中Ｒｆは少なくとも３個のフッ素原子を含有する部分
フッ素イヒ又は全フッ素化された置換、無置換のアルケ
ル基、アルケニル基、もしくはアリール基を表わす。Ａ
Ｖｉ二価の連結基金表わし、Ｘは水溶性基を表わす。

人は、好ましくはアルキル基、アリール基及びアルキル
アリール基を表わし、これは酸素、エステルムアミド基
、スルホニル基、硫黄の如き異種原子で中断された二価
の置換、無置換の連結基であっても良い。

Ｘは親水性基であり、例えは一般式 ＋　Ｂ　−０＋Ｅ−１（□３のポリオキシアルキレン基
（ここでＢは　−ＣＨ２ＣＨ２−１ −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−又は Ｈ リオキシアルキレン基の平均重合度を表わし、ｌ〜！Ｏ
の数である。又ＴＬｉａは置換、無置換のアルキル基、
アリール基を表わす）で表わされるノニオン基、親水性
ベタイン基例えば １５ １５ ／−７の区級アルキレン基例えばメチレン、エチレン、
プロピレン、ブチレン金＆わし、Ｒ１４１Ｒ１５は炭素
数７〜ｔの置換、無直換のアルキル基、アリール基、例
えばメチル基、エチル基、はンジル基等を表わす）およ
び親水性カチオン基、Ｒ１６ （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は前記Ｒ１４と同義で
あり、Ｙｅは陰イオンを表わし、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン基、硫酸基、炭酸基、過塩素酸基、有機カルボン酸基
、有機スルホン酸基、有機硫酸基等を表わす）であシ、
および好ましくは親水性アニオン基例えば　−ｓ　ｏ　
３　ｋ／ｉ、−０Ｓ　Ｏａ　Ｍ。

−、Ｃ００Ｍ。

０−Ａ−’ａｆ 等が挙げられる。ここでＭは無機又は有機の陽イオンを
表わし、好ましくは水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、アンモニウム、低級アルキルアミン等である
。Ａ及びＲｆは前記と同義である。

本発明の代表的なきフッ素化合物の具体例を以下に示す
。

［−／ Ｃ７Ｆ１５ＣＯＯＨ −２ Ｈ−（−ＣＦ２ｈＣＨｚＣＯＣＮＨ４ ’［−Ｊ ０８ＦエフＳＯ３に ■−≠ Ｃ３ｌ（７ Ｃ８Ｆエフ５Ｏ２Ｎ−ＣＩ−１２ＣＯＯＫ−ｓ Ｈ＋ＣＦ「１ＣＯＯＣＨｚＣＨｚＣＨｚＳＯａＮａＩＩ
　−７ＣＨ３ Ｃ７Ｆ１５ＣＯＮ　ＣＨｚＣＨｚＳＯａＮａ３に ■− Ｃ３Ｈ７■・ ＩＩ　−１０ＣｇＦｌ　７Ｓｏ　２Ｎ＋ＣＨ２ＣＨ２Ｏ
＋−１５−＋ＣＨ２＋τ５０３Ｎａｐ：平均≠ Ｃ３Ｈ７、［− １）−／　／　Ｃ８Ｆ　□７ＳＯ２Ｎ＋ＣＨ２ＣＨ２０
−）７戸−ＣＨ２ｈＳ　０３　Ｎ　ａｐ：平均７ ＩＦ−’−２Ｃ１ｏＦ２１ＣＨ２ＣＨ２０＋ＣＨ２ＣＦ
Ｉ２０甲（−”Ｈ２＋７ＳＯ３Ｎａ　ＩＩ−ｐ：平均６ Ｃ３Ｈ７０ １１ ３Ｈ７ 一／ｊＣ８Ｆ□７ＳＯ□Ｎ−ＣＨ２ＣＨ２０ＳＯ３Ｎａ
−ｌｔ　Ｈ＋ＣＦ２−）−８ＣＨ２０＋ＣＨ２ＣＨ２寸
１茜１Ｈｎ５：ｌＯ −／　７　Ｃ８Ｆ、　７ＣＨ２ＣＨ２０＋ＣＨ２ＣＨ２
０−）−旺Ｈｎ５：／、２ ３Ｈ７ −ｌｌ　Ｃ３Ｆ１□５Ｏ２Ｎ＋ＣＨ２ＣＨ２０１７−Ｈ
ｎ５　：ｌｌ （：Ｒ３ 屯　凸 ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ Ｑ（３ Ｃ）Ｉ３ ｐ：平均≠ ｊ　ベ ｅ４　へ １１ １：ｌ：Ｉ＃ 工　匡 Ｕ　リ 本発明で使用される含フッ素系化合物の使用量は一般に
写真感光材料の７ｍ　当りｏ、ｉ〜ｉｇでよく、特にＯ
ｏよ〜３００■が好ましい。゛本発明のノニオン界面活
性剤及び含フツ素化合物の添加場所としては、親水性コ
ロイド層なら特に制限はないが表面保護層又はパック側
表面層であることが好ましい。

Ｘ線光電子分光法による表面の元素組成の測定には、励
起用Ｘ線源としてＭｇ−にα線を用い、真空度はｚｘｉ
ｏ　Ｐａ以下で光電子の検出は試料面に対して垂直の方
向で行なう。

Ｃｉｓ電子の検出には結合エネルギーが３０θｅｖから
２７０ｅｖの範囲をスキャンスピードＯ０，２６ｙ　７
秒以下で測定し、Ｆｉｓ電子の検出には結合エネルギー
が７００ｅｖからｔ８θｅｖの範囲をスキャンスピード
Ｏ０λｅｖ／秒以下で測定する。この際に、励起用Ｘ線
の照射でＦｉｓ電子の信号は急激に減衰するため、Ｘ線
の照射からＦｉｓピークの測定終了までの所要時間がｊ
Ｏ秒を越えないようにする必要がある。ピーク強度は、
ベースラインからピークの最大値までの間隔を測定する
ことによりめられる。

この方法でめｆｃＦｉｓピーク強度／ＣＩＳピーク強度
比は、試料表面近傍のフッ素と炭素の組成比を表わすも
のである。

次に本発明の写真感光材料のその他の構成について簡単
に記載する。

写真乳剤中のノ・ロゲン化銀粒子は、立方体、八面体の
ような規則的（ｒｅｇｕｌａｒ）な結晶体を有するもの
でもよく、また球状、板状などのような変則的（ｉｒｒ
ｅｇｕｌａｒ）な結晶形をもつもの、あるいはこれらの
結晶形の複合形をもつものでもよい。種々の結晶形の粒
子の混合から成ってもよい。

これらの写真乳剤はＰ　、Ｇｌａｆｋｊｄｅｓ著Ｃｈｉ
ｍｉｅ　ｅｔ　Ｐｈｙｓｉｑｕｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐ
ｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ　Ｍｏｎｔｅ１社刊、／りＡ７年
）、Ｇ、Ｆ。

Ｄｕｆｆｉｎ著Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｅｍｕｌｓ
ｉｏｎＣｈｅｍｉｓｔｒｙ　（Ｔｈｅ　Ｆｏｃａｌ　Ｐ
ｒｅｓｓ刊、ｌり４ｇ年）、Ｖ、Ｌ、Ｚｅｌｉｋｍａｎ
　ｅｔ　ａｌ　著Ｍａｋｉｎｇ　ａｎｄ　Ｃｏａｔｉｎ
ｇ　ＰｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃＥｍｕｌｓｉｏｎ（Ｔｈ
ｅ　Ｆｏｃａｌ　Ｐｒｅｓｓ　刊、／りを弘年）などに
記載された方法を用いて調製することができる。すなわ
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく
、−ｉた可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形
式としては片側混合法、同時混合法、それらの組合せな
どのいずれを用いてもよい。

写真層のバインダーとしてはゼラチン、カセインなどの
蛋白質；カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース等のセルロース化合物；寒天、アルギン酸
ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導体；合成親水性コロ
イド例えばポリビニルアルコール、ポＩＪ　−Ｎ−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸共重合体、ポリアクリル
アミドまたはこれらの誘導体および部分加水分解物等を
併用することも出来る。

ここに言うゼラチンはいわゆる石灰処理ゼラチン、酸処
理ゼラチンおよび酵素処理ゼラチンを指又、本発明の写
真感光材料は、写真構成層中に米国特許第３．μｉｉ、
り７１号、同３．≠／／。

り７２号、特公昭≠！　−４３３／号等に記載のアルキ
ルアクリレート系ラテックスを含むことが出来る。

ハロクン化銀乳剤は、化学増感を行なわないで、いわゆ
る未後熱（Ｐｒｉｍｉｔｉｖｅ　）乳剤のまま用いるこ
ともできるが、通常は化学増感される。化学増感のため
には、前記ＧｌａｆｋｉｄｅｓまたはＰｒｏｚｅｓｓｅ
　ｍｉｔ　Ｓｉｌｂｅｒｈａｌｏｇｅｎｉｄｅｎ（Ａｋ
ａｄｅｍｉｓｃｈｅ　Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃ
ｈａｆｔ。

ｌり６ｇ）に記載の方法を用いることができる。

すなわち、銀イオンと反応し得る（ｐｆｔ黄を含む化合
物や活性セラチンを用いる硫黄増感法、還元性物質を用
いる還元増感法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金
践増感法などを単独または組合せて用いることができる
。硫黄増感剤としては、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チア
ゾール類、ローダ、＝ン類、その他の化合物を用いるこ
とができ、それらの具体例は、米国特許／、！；７１１
．り≠ｊ号、２、≠１０，４１り号、コ、２７ｇ、タグ
７号、２．７２１．Ａｔ１号、３　、　ｔｉｔ　、２３
３号に記載されている。還元増感剤としては第一すう塩
、アミン類、ヒドシジン訪導体、ホルムアミジンスルフ
ィン酸、７ラン化合物などを用いることができる。

本発明の感光材料にはカブリ防止剤または安定剤として
種々の化合物を含有させることができる。

すなわちアゾール知友とえはベンゾチアゾリウム塩、ニ
トロインダゾール類、トリアゾール類、ベンゾトリアゾ
ール類、ベンズイミダゾール類（特許ニトロ−またはハ
ロゲン置換体）；ヘテロ環メルカプト化合物類たとえは
メルカプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール
類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプトチア
ジアゾール類、メルカプトテトラゾール類（％にｌ−フ
ェニル−ｊ−メルカプトテトラゾール）、メルカプトピ
リジン類；カルボキシル基やスルホン基などの水溶性基
を有する上記のへテロ環メルカゾト化合物類；チオケト
化合物たとえはオキサゾリンチオン；アザインデン類り
とえばテトラアザインゲン類；（特に≠−ヒドロキシ置
換（’　＋　３＋　３８　＋７）テトラアザインゲン類
）；ベンゼンチオスルホン酸類；ベンゼンスルフィン酸
；などのようなカブリ防止剤または安定剤として知られ
た多くの化合物を加えることができる。

これらの更に詳しい具体例及びその使用方法については
、たとえば米国特許第３．りｊ≠、≠７≠号、同第３．
りざλ、り≠７号、同第μ、０．２／１．２≠ｒ号各明
細省−または特公昭ｊλ−２ｇ。

ｔｔｏ号公報の記載を参考にできる。

硬ｊ摸剤としてす：１ムコクロル酸、ムコブロム酸、ｌ
・コツエノキシクロル酸、ムコフェノキシブロム酸、ホ
ルムアルデヒド、ジメチロール尿素、トリメチロールメ
ラミン、グリオキサール、七ツメチルグリオキザール、
ユ、３−ジヒドロキシー／、≠−ジオキサ／、λ、３−
ジヒドロキ７−３−メチル−／、弘−ジオキサン、サク
シンアルデヒド、２゜！−ジメトキシテトラヒドロフラ
ン、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物；ジ
ビニルスルホン、メチレンビスマレイミド、ｊ−アセチ
ル−７，３−ジアクリロイル−へキサヒドロ−５−トリ
アジ：／、／、３．！−）リアクリロイル−ヘキサとド
ローｓ−トリアジン、１，３．！−）リビニルスルホニ
ルーへキサヒドロ−３−トリアジンビス（ヒニルスルホ
ニルメチル）ニーデル、ｌ。

３−ビス（ヒニルスルホニルメチル）プロパノ−、ヒス
（α−ビニルスルホニルアセトアミド）エタンの如き活
性ビニル±化合物；２．≠−ジクロロ−６−ヒドロキシ
−Ｓ　−）リアジン・ナトリウム塩、コ、≠−ジクロロ
ー２−メトキシ−ｓ　−）リアジン、λ、参−ジクロロ
ーｘ−（４ｔ−スルホアニリノ）　−Ｓ　−）リアジン
・ナトリウム塩、２１グージクロロ−４−（，２−スル
ホエチルアミノ）　−ｓ−）リアジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
（２−クロロエチルカルバミル）ピはブタンの如き活性
ハロケン系化合物；ビス（２，３−エポキシソロビル）
メチルプロピルアンモニウム＋ｐ−トルエンスルホン酸
塩、／　、　４’−ビス（λ／　、　３　／−エポキシ
プロピルオキシ）ブタン、／、３．ｊ−トリグリシジル
イノゾアヌレート、ｌ、３−ジグリシジル−ｔ−（γ−
アセトキシーβ−オキシプロピル）イソシアヌレートの
如きエポキシ系化合物；２，４４．６−）ジエチレンイ
ミノ−Ｓ−トリアジン、／、ｔ−へキサメチレン−Ｎ、
Ｎ’−ビスエチレン尿素、ビス−β−エチレンイミノエ
チルチオエーテルの如きエチレンイミン系化合物；／、
２−ジ（メタンスルホンオキ／）エタン、／。

弘−ジ（メタンスルホンオキシ）ブタン、ｉ、ｓ−ジ（
メタンスルホンオキシ）ハンタンの如きメタンスルホン
酸エステル系化合物１さらに、カルボジイミド系化合物
；インオキサゾール系化合物；及びクロム明パンの如き
無機系化合物を挙げることができる。

本発明の感光材料の写真乳剤層または他の構成層には塗
布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止
および写真特性改良＜ｆＣとえは現像促進、硬調化、増
感）など種々の目的で本発明以外の界面活性剤を含んで
もよい。

たとえばサポニンなどの非イオン性界面活性剤；アルキ
ルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベ
ンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン
酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステ
ル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン酸、スルホコ
ハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルリン酸エステル類などのようなカルボキシ基、スル
ホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の
酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノ
アルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシド類な
どの両性界面活性剤；アルキルアミン塩類、脂肪族ある
いは芳香族箱μ級アンモニウム塩類、ピリジニウム、イ
ミダゾリウムなどの複素環第１級アンモニウム塩類、お
よび脂肪族または複素環を含むホスホニウムまたはスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。

次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

（実施例） 実施例−１ （１）試料の調製； 下塗りを施し比厚さ／１０μのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体の上に、下記組成のハロゲン化銀乳
剤層を塗布し、更にその上に下記組成の保護層を塗布し
、乾燥して白黒ハロゲン化銀感光材料を調製した。保護
層は一ト記に示す組成及び塗布量で塗布した。

（乳剤層） 厚さ：約ｊμ 組成 ｉ、ｚモル％の沃化銀を含む沃臭化銀ゼラチン乳剤（ハ
ロケン化銀粒子の平均サイズ７．３μ）をハロゲン化銀
１モル当りｏ、ｔ■の塩化金酸および３．弘ダのチオ硫
酸す）　ＩＪウムを加えて６００Ｃで１０分間加熱し熟
成を行なった。得られた乳剤に安定剤として弘−ヒドロ
キシ−ｔ−メチル−／、３．３ａ、７−テトラザインデ
ンを加えた。

（保護層） 厚さ：約ｌμ 組成及び塗布量 ゼラチン　／、！；９／ｍ２ コ、６−ジクロル−を− ヒドロキシ−ｌ、３゜ ｊ−）リアジンナトリ ラム塩　７０■／ｍ” ドデシル硫酸ナトリウム　１０■／ｍ２及び第７表に示
す如き一般式［ＩＩ−／）、〔■−２〕、Ｃｌ−３１又
は［ＩＩ］で表わされる化合物 （２）乾燥条件の設定 乾燥条件Ａ：Δ１＝１Ｄ−１ｗ−乾燥風の乾球温度−乾
燥風 の湿球温度 △ｔを上記に示すように規定した 時 △舎＝１０’にア９−弓町μ→μ）−者一−乾燥条件Ｂ
：△ｔ＝ｌｔ０Ｃを表わす。

（３）表面の元素組成の測定法 島津製作所■製　ＥＳＣＡ７ｊＯ型Ｘ線光電子型光線光
電子分光装置中に記載の方法で測定した。

（４）帯電防止能の判定法 帯電防止能はスタチックマーク発生の測定によって決め
た。スタチックマーク発生試験は、ウレタンゴムシート
、ネオプレンゴムシート、ナイロン樹脂板、及び化成オ
プトニクス■製ハイスクリーン（スタンダード）の上に
未露光感光材料の帯電防止剤を含む表面を下向きにして
、上からゴムローラーで圧着後、剥離することによりス
タチックマークを発生させる方法によった。

スタテックマーク発生試験は、２ｊ０Ｃ１２！％ＲＨで
行々つた。なお、試料の試験片の調湿は、前記条件で一
昼夜行なった。

スタチックマークの評価は次のｊ段階の規準に従った。

Ａ：諷タチツクマークの発生が望められない。

Ｂ：スタチックマークが少し発生する。

Ｃ：スタチックマークが相当発生する。

Ｄ：スタチックマークが著しく発生する。

Ｅ：スタチックマークが全面に発生する。

（５）現像処理方法 スタテックマークの発生程度を調べるために、現像液と
してＲＤ　ＩＩＩ　ｆ　Ｒｉ士写真フィルム■製）を用
い、自動現像機・富士ＲＮ（富士写真フィルム■製）で
り０秒現像処理をした。

得られた結果を第１表に示す。

第１表の試料Ａ／から≠、ざからＩＯでわかるように、
含フツソ系界面活性剤の塗布量を増加するとＦｉｓ／Ｃ
ｉｓ比も増加する。

ま＊、Ｆｉｓ／Ｃ４ｓ比は、使用するポリオキシエチレ
ン基を有するノニオン界面活性剤の種類量によっても変
化することが、試料７ｆＬ乙、７、／３．１４ｔかられ
かる。また、使用する塗布助剤の種類・量によっても変
化することが、試料７１１１／　’　％１２かられかる
。

添加する素材及び添加量が同じであっても、その乾燥方
法を変えることによりＦｉｓ／Ｃｉｓ比が変化すること
が試料Ａ２、Ｓかられかる。

以上のように、含フツソ系界面活性剤、ポリオキシエチ
レン基を有するノニオン界面活性剤、塗布助剤の種類と
量、及び乾燥条件によってＦｉｓ／Ｃｉｓ比が変化する
が、種々の素材に対していずれもスタチックマークが発
生しないのは、Ｆｉｓ／Ｃｉｓ比が０．３がらＪ、（２
０粍［ｅｆ＋にある試料たけである。

特許出願人　富士写真フィルム株式公社手続補正書 昭和！を年りコ月〃日 特許庁長官殿　后り １、事件の表示　昭和！を年特願第１ｒ１．２３０号２
、発明の名称　ハロゲン化銀写真感光材料３、補正をす
る者 事件との関係　特許出願人 名　称（５２０）富士写真フィルム株式会社４、補正の
対象　明細書 ５、補正の内容 明細書の浄書（内容に変更なしンを提出いたします。

手続補正書 昭和より年々０４７日 特許庁長官殿 １、事件の表示　昭和ｊ１年特願第１１＃２ＪＯ号２、
発明の名称　ハロゲン化銀写真感光材料３、補正をする
者 事件との関係　特許出願人 性　所　神奈川県南足柄市中沼２１０番地名　称（５２
０）富士写真フィルム株式会社方式　串 ４、補正の対象　明細書の「特許請求の範囲」の欄、「
発明の詳細な説明Ｊ の欄 ５、補正の内容 明細書の「特許請求の範囲」の項の記載を別紙−コの通
シ補正する。

明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。

（１）第６頁２０行目の ｒＦ　ｉ　ｓピーク強度／　Ｃｉ　５ピ一ク強度」を ｒＦ１ｓピーク強度／　Ｃ１５ピ一ク強度」と補正する
。

（２）第７頁２〜３行目の ｒＦ　ｉ　ｓピーク強度／　Ｃｉ　ｓピーク強度Ｊを ｒＦ１ｓピーク強度／Ｃ１ｓピーク強度」と補正する。

（３）第３０頁 「■−ｉｓ Ｊ−ｚｚ １ と補正する。

（４）第３７頁 ｌ−４４ 「ｉ−、ｔ＆ 」 と補正する。

（５）第３３頁 ｌｌ−７弘 １ 「■−６弘 （６）第３ダ頁 ｒｌ−＋ｘ 」 を ｒ４−ａ＋ 」 と補正する。

（７）第≠Ｏ頁！行目の ｒＨ＋ｃＦ２）ｓｃＨ２ｃＯｃＮＨ４ＪをｒＨ＋ｃＦ２
）ｓｃＨ２ｃＯＯＮＨ４Ｊと補正する。

（８）第≠３頁／行目の 「 ＣＨ３Ｊ を ■ ＣＨａ　Ｊ を挿入する。

（９）第１項 ｒｎ−，２り 」 を 「■−λり Ｃ）Ｉ３ 」 を挿入する。

００）第４Ａｔ頁 「■−３３ 」 （［−３３ を挿入する。

Ｑｌｌ　第≠２頁 ［■−３≠ ［■−３≠ を挿入する。

０２）第φｇ頁 ［■−３ｒの右半分 ＯＨ１ 「 （′″−Ｏ と補正する。

０■　第≠７頁 １［−Ｊ　Ａ左半分の −（−ＣＨ２−ＣＨ＋・　ヤ を挿入する。

Ｑ→　第Ｊ／頁λ行目の 「Ｏ５ｌＮ１ｇ」を ［０，／ｍｙ〜／ｊｉＪ と補正する。

Ｃ９第！１頁ｌコ行目の １”Ｃ１５Ｊを 「Ｃ１５Ｊ と補正する。

αｅ　第！／頁ｌ参行目の ｒＦｉｓＪを ｒＦｉｓＪ と補正する。

αＤ　第ｓｉ頁７７行目の ｒＦ　ｉ　ｓ　Ｊを ｒＦｉｓＪ と補正する。

（１８第ｚｉ頁ｌり行目の ｒＦｉｓｊを ｒＦｉｓＪ と補正する。

（１傷　第ｊ／頁２θ行目の 「を越えないように」の後に ［スキャンの範囲を必要に応じてｉｉｌ、ＩＩ整」を挿
入する。

（至）第！コ頁３行目の ｒＦｊｓピーク強度／　Ｃｉ　ｓピーク強度」を ｒＦｉｓビーク強度／強度／Ｃ−Ｓピーク強度正する。

Ｑυ　第６≠頁第７表の ｒＦｉｓピーク強度 を Ｃｉｓピーク強度」 ｒＦ１ｇピーク強度 Ｃ１ｓピ一ク強度」 と補正する。

（２２第６ｊ頁を行目の ｒＦｉｓ／Ｃ１５Ｊを ｒＦｉｓ／Ｃ１５Ｊ と補正する。

（ハ）第Ａｔ頁７行目の ｒＦｉｓ／Ｃ１５Ｊを ｒＦ１ｓ／Ｃ１５Ｊ と補正する。

（２４）第６５頁ｌ参行目の ［Ｆｉｓ／Ｃ１５Ｊを ｒＦ１ｓ／Ｃ１５Ｊ と補正する。

（２５１第６６頁１行目の ｒＦｉｓ／Ｃ１５Ｊを ｒＦｕｓ／Ｃ１，ＢＪ と補正する。

（イ）第ｔ６頁３行目の ｒＦ　ｉ　ｓ／Ｃｉ　ｓ　Ｊを ｒＦｘｓ／Ｃ１５Ｊ と補正する。

（５）第４＆頁ｊ行目の １だけである。」の後に 「別紙−７」 を挿入する。

別紙−／ 「実施例−２ （１１試料の調整 下塗シを施した厚さｌざｏＨのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体の上に、下記組成のハロゲン化銀乳
剤Ａ及びＢを順次塗布（支持体に近い層に組成Ａの乳剤
を、支持体から離れた層に組成りの乳剤を用いる）シ、
更にその上に保護層を塗布し、乾燥して白黒ハロゲン化
銀写真感光材料を調整した。

（乳剤層） 組成及び塗布量 乳剤Ａは、１．！モル係の沃化銀を含む沃臭化銀ゼラチ
ン乳剤（ハロゲン化銀粒子の平均サイズ／、０μ）に、
ハロゲン化銀１モル当たＢｏ、ｔｍｇの塩化金酸および
３．４Ａ〜のチオ硫酸ナトリウムを加えて、６００Ｃで
１３分間加熱し熟成を行った。乳剤Ｂは乳剤Ａと同様の
方法で、１．！モル嗟の沃化銀を含む沃臭化銀ゼラチン
乳剤（ハロゲン化銀粒子の平均サイズ／、３μ）にハロ
ゲン化銀１モル当たｔ）ｏ、ｔ■の塩化金酸および３゜
≠■のチオ硫酸す）　ＩＪウムを加えてｔｏ　０ｃで５
０分間加熱し熟成を行った。得られたそれぞれの乳剤に
安定剤として、弘−ヒドロキシ−ｔ−メチル−／、３，
３ａ、７−テトラザインデンを加え、さらに下記に示す
化合物イ）を／　Ｘ　／　Ｏｒｎｏ／／／ｍｏｌｌｋＥ
添加した。

でき上がった乳剤Ａの相対感度を６０とすると、乳剤Ｂ
の相対感度はｉｏｏであった。

得られた試料の塗布銀量は、乳剤Ａ層：／、３ｇ／ｒｒ
Ｌ２乳剤Ｂ層：２．硯４２ 塗布ゼラチン量は、乳剤Ａ層二〇ｏ♂ｇｈＬ２乳剤Ｂ層
：　ｉ　、　ｇ９／ｍ２ であった。

化合物イ） （保護層） 厚さ：約ｌμ 組成及び塗布量 ゼラチン　１．！ｇ／ｍ２ コ、ｔ−ジクロル−６− ヒドロキシ−１，３゜ ｊ−）リアジンナトリ ラム塩　ｌＯ■／ｍ２ ドデシル硫酸ナトリウム　１０ｍｙ／ｍ２及び第１表に
示す如き一般式ＣＩ−／）、ＣＩ−一〕、ＣＩ−Ｊ）又
は〔■〕で表わされる化合物（６）スクリーン汚染度の
測定： 試料片及び大日本塗料製スクリーンＬＴ−ｎを３θ０ｃ
ＸｒｏチＲＨにて１日訓湿し、同一条件下でＬＴ−１ｉ
を使用したカセツテに試料片を１００枚通した後Ｘ線撮
影を行ない濃度ムラの出具合を調べた。

スクリーン汚染度の評価は次のｔ段階の規準に従った。

Ａ：濃度ムラの発生が認められない。

Ｂ：濃度ムラが少し発生する。

Ｃ：濃度ムラが相当発生する。

Ｄ二濃度ムラが著しく発生する。

得られた結果を第２表に示す。

第２表の試料Ａ／−≠でわかるように、Ｆ１ｓ／Ｃ１Ｂ
比が０．３〜２．０の範囲にあれば、ポリオキシエチレ
ン基を有するノニオン界面活性剤の種類にかかわらず種
々の素材に対していずれもスタチックマークが発生しな
い。

一方、スクリーン汚染および相対感度はポリオキシエチ
レン基を有するノニオン界面活性剤の種類によって変化
し、一般式ＣＩ−ｊ）で表わされる化合物が最も良い性
能を示し、〔■−λ〕ＣＩ−／］の順にやや悪化する傾
向を持つ。

別紙−λ 「写真感光材料の構成層の少なくとも一層にポリオキシ
エチレン基を有するノニオン界面活性剤と含フッ素系化
合物を含有し、表面の元素組成をＸ線光電子分光法で調
べた時に、ＦＩＳピーク強度／Ｃ１３ピーク強度比が０
．３から２．Ｏの範囲に入ることを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。」

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 写真感光材料の構成層の少なくとも一層にポリオキシエ
   チレン基を有するノニオン界面活性剤と含フッ素系化合
   物を含有し、表面の元素組成をＸ線光電子分光法で調べ
   た時に、Ｆｉｓビーク強度／　Ｃｉ　Ｂビーク強度比が
   ０．３から２．０の範囲に入ることを特徴とするハロゲ
   ン化銀写真感光材料。