JPH0193733A - 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料

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JPH0193733A
JPH0193733A JP25189787A JP25189787A JPH0193733A JP H0193733 A JPH0193733 A JP H0193733A JP 25189787 A JP25189787 A JP 25189787A JP 25189787 A JP25189787 A JP 25189787A JP H0193733 A JPH0193733 A JP H0193733A
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silver halide
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JP25189787A
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Akinori Matsushita
哲規 松下
Morio Yagihara
八木原 盛夫
Kazunobu Kato
加藤 和信
Hisashi Okada
久 岡田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/061Hydrazine compounds

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料、より詳
しくは明室用感光材料に適した超硬調ネガ型与真感光材
料に関するものである。
(従来技術) グラフィック・アークの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマを10以上)の写真
特性を示す画像形成システムが盛装である。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特別な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含ミ、そノ伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常0.1モル/It以下)しである。そのためリ
ス現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保
存に耐えらfLないという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第≠、λ−2弘、4!07号、同
第≠、/lsr、り77号、同第j、lAA、7φλ号
、同第弘、3//、71/号、同第41,272,40
4号、同第1A、2//、137号、同第≠1.2μ3
173り号等に記載されているヒドラジン誘導体を用い
る方法がある。この方法によれば、超硬調で感度の高い
写真特性が得ら汎、更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を
加えることが許容さnるので、現像液の空気酸化に対す
る安定性はリス現1象液に比べて飛躍的に向上する。
しかしながらこれらヒドラジン化合物を用いて超硬調な
画像を作る場合、処理疲労や空気疲労によるpHの変動
、現像主薬の低下、抑制剤の蓄積などによシ濃度の低下
や階調の軟調化といった問題があシ、ヒドラジンによる
硬調化を促進し友りする手段が強く望まれておシ、特開
昭4/−/67り3りにはホスホニウム塩化合物、特開
昭A/−/りI/弘7にはジスルフィド化合物、特開昭
60−/≠03≠Oにはアばン系化合物が硬調化剤とし
て開示されている。しかしこれら化合物を用いても、処
理時の軟調化を防止することは不十分であった。
一部ヒドラジン化合物を用いて低感度の明室用感光材料
を得ようとする場合、例えば特開昭6O−r3o3rお
xび同Ao−tA2,2ti6t<は水溶性ロジウム塩
を含むハロゲン化銀感光材料が開示されている。しかし
ながら感度を下げるのに充分な量のロジウムを添加する
と、ヒドラジン化合物による硬調化が阻害され、所望の
充分硬調な画像が得られなかった。
又、特開昭jター117,433にはハロゲン化銀1モ
ル当p10  ’〜1O−5モルの水溶性ロジウム塩お
よびポーラログラフの陽極電位と陰極電位の和が正であ
る有機減感剤を宮むハロゲン化銀写真乳剤の製造方法が
開示さnている。しかしながら、この方法では確かに感
度が低くはなるが、本発明が目的とする産業分野で利用
するのに充分な硬調画像を得ることはできない。むろん
、特開昭!ター/!7,1.JJにはヒドラジン化合物
を用いることについて側ら示唆されていない。
従来、ヒドラジン化合物を含む硬調なハロゲン化銀感光
材料では、感度を下げるために有機減感剤を併用するこ
とは技術的に非常に大きな困難さがあつ九。なぜならば
、ヒドラジン化合物は、現像過程で関与してそのハロゲ
ン化銀に対する電子供与性によって造核伝染現像を起し
、硬調な画像をも友らす原動力であるが、他方、有機減
感剤は光電子の受容体であり画像露光の際に光電子を受
容し、潜像形成を妨害することにより感度を低める作用
をするが、また一方では現(家処理時にヒドラジン化合
物のような電子供与体から供与された電子をも受容し、
造核伝染現像をも妨害するので硬調な画像が得らnなく
なってしまうものと考えらnる。
ま九、特開昭jをAコ、λ≠jにテトラゾリウム化合物
の存在下に現像し、テトラゾリウム化合物によって特性
曲線の足の部分の現像を抑制することによ!D6iI調
画像を得る方法が開示さnている。しかしながらテトラ
ゾリウム化合物を含むハロゲン化銀感光材料は保存中に
劣化し、軟調な画像しか得られなくなること、テトラゾ
リウム化合物の現像処理での反応生成物がフィルム中に
一部残り汚染となる9と、現像ムラが生じやすいなどの
問題がある。
この様に、ヒドラジン化合物を用いた硬調化法において
は、ランニング処理時の軟調化やロジウム塩や有機減感
剤を用いて低感な画像を得ようとするときなど、常に軟
調化するという間聰が生じた。つまシ、ヒドラジン化合
物を用いた超硬調な画像を、硬調さを維持しつつ低感化
することは非常に困難なことであった。
又ヒドラジン化合物を、硬調化のために多量に加えるこ
とがあシそのため乳剤膜の強度を弱めたり、保存性を悪
化させ−7’Cシランニング処理時に現像液中へ多量に
溶出したシすることで混用する他感材へ影響することが
あシ、少ないヒドラジン化合物でf&調化を促進する方
法も望まれていた。
一方、アミン基又は、アンモニウム基をMするカブリ防
止剤の中には、造核促進作用を示すものもあったが、そ
れらを直接超@!調ネガ型写真感光材料に含有した場合
には、硬膜を阻害し次9、保存中の感光材料の写真特性
(感度、階調、カブリ等)を変化させたり、特に低感度
の明室用感光材料に含Mし友場会には感度を高めてしま
うものもあり、さらに改良が望まれていた。
(発明の目的) 従って、本発明の目的は 第1に、ヒドラジン化会物を用い次系において、硬調化
を促進する手段を提供することである。
第2に、ヒドラジン化会物を用いた糸において、硬膜を
阻害することなく、硬調化を促進する手段を提供するこ
とである。
第3に、低感な明室用写真感光材料において、例えばロ
ジウム十減感剤を用いた明室用写真感光材料を用い必要
な低感度を維持してかつ硬調化を促進する手段を提供す
ることである。
第Vに、超硬調化を促進するため、写真感光材料中に、
安定な形で造核促進剤を金屑させ、かつ処理時に十分な
造核促進機能を発現させるブロックされた造核促進剤を
提供することである。
(発明の構成) 本発明の上記の目的は、 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層をMし
、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒドラジン
訪導体を少なくとも一種類と下記−数式(I)であられ
される化会物を少なくとも一種類含むことを特徴とする
超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真材料によって達成された
−数式(I) −B Aは処理時に造核促進剤を放出可能なブロック基を表わ
し、Bはヘテロ原子を介してAに結合している造核促進
剤を表わす。
ブロック基としては既に知られているいくつかのものを
挙げることができる。例えば、特公昭μを一タ、P4f
号、特開昭12−4.r、2r号、PI37−4.2.
1311号、米国特許J 、J// 。
≠76号、特公昭4(7−≠≠、gos号(米国特許J
、l、/j、l、/7号)に記載されているアシル基、
スルホニル基等のブロック基を利用するもの:特公昭j
j−/7,3≦2号(米国特許3゜III、677号)
、同11−1.4Pj号(米国特許j 、79/ 、1
30号)、同jJ−−j4’。
タコ7号(米国特許≠、00り、022号)、特開昭j
4−77、lr!J号(米国特許It、307゜173
号)、同jター101.6弘コ号、同jター10!、A
≠O号に記載のいわゆる逆マイケル反応を利用するブロ
ック基:特公昭j4cmJり。
727号、米国特許第J、A74!、弘7を号、同第3
.932.1710号、同第3.99J、At1号、特
開昭217−/31.ハリ号、同j7−/3j、91I
Lj号、同j7−/JA、t≠θ号に記載の分子内電子
移動によりキノンメチド又はキノンメチド類化合物の生
成を利用するブロック基;特開昭!!−j!、JJO号
、同!デー2/l。
IIJり号に記載の分子内閉環反応を利用するもの:特
開昭37−71a、j≠7号(米国特許参、33!lコ
00号)、同j7−/Jj、り≠2号、同!7−/7り
、?弘λ号、同!ター137.2≠j号、同jターlダ
O0≠≠j号、同jターコ/り、7≠1号、同60−≠
1.03弘号に記載のj員又は6員の環開裂を利用する
もの:あるいは特開昭jターコ01.Oj7号、同61
−≠3゜775F、同t/−タ!、3弘7に記載の不飽
和結合への求核剤の付加を利用するブロック基を挙げる
ことができる。
一般式(I)はさらに詳しくは一般式(It)で表わす
ことができる。
一般式〔■〕 式中、DはDのヘテロ原子を介してXlに結合している
造核促進剤を表わし、Xlはxlのヘテロ原子を介して
人に結合しているコ価の連結基を表わし、mlはOまた
はlを表わす。
−数式(It)のDで表わされる造核促進剤は、−膜化
u[I)で表わされる。
一般式(■) 式中りはヘテロ原子をMするハロゲン化銀に吸看できる
部位を表わし、Eは2価の連結基を表わし、Mはアミノ
基、アンモニウム基、および含窒素ヘテロ環基を表わし
、11はo−4友はlを表わし、12は/、コま7′c
は3を表わし、Lはヘテロ原子を介してAと直接結合し
ていても(m1=O)、あるいは、Xlを介して結合し
ていても(mt=/)よく、写真処理(現像、漂白、定
着等)することで、Aから脱離可能なものである。
Lで表わされるハロゲン化銀に吸着できる部位としては
、含窒素複素環基、メルカプト基、及びチオアミド基な
どが挙げられる。
一般式(II)で表わされるxlは2価の連結基を表わ
し、xlのヘテロ原子を介して人と結付てておシ、処理
時にXl−Dとして開裂した後、速やかにDを放出する
基を表わす。
この様な連結基としては、特開昭j弘−7弘よ13I号
明細書(英国特許公開コ、oto、rtrA号)、米国
特許第≠、コ≠r、り6コ号、同≠、弘0り、323号
、英国特許第2.Qり6゜7rJ号に記載の分子内閉環
反応によシDを放出するもの、英国特許第一、+772
.jAj号、特開昭17−/Jμ、23弘号明細書等号
明細書分子内電子移動によってDを放出するもの、特開
昭j7−/7り、r4!2号等に記載の炭酸ガスの脱離
を伴ってDを放出するもの、あるいは特開昭jデータ3
≠22号に記載のホルマリンの脱離を伴ってDを放出す
るもの等の連結基を挙げることができる。以上述べ次代
表的X1−について、それらの構造式’kDと共に次に
示した。
−0CH2−D  、    −0−C−OCH2−D
2H5 CH2−D CH30 Xlとして、どのようなものを用いるかはDの種類、放
出のタイミング、及び速度などに応じて選択される。
本発明に使用さnるブロックされた造核促進剤として好
ましいものはンc=c′基、;C= O基、\ 少なくともl′)をMし、該官能基の炭素原子上への求
核性物質(代表的なものとしてはOHeイオン)の攻撃
とそれに続く反応によって造核促進剤を放出する化合物
であり、その中でも特に好ましい化合物としては、下記
−数式uV)で表わさnるものを挙けることができる。
一般式(■) 式中、R1,R2及びR3は水素原子又は置換可能な基
を表わし、R1とR2及びR1とR3は結合して、戻素
環、筐たは複素環を形成していてもよい。
/ \  t はニトロ基(ここで、R4、R5、R6、R7およびR
8は水素原子または置換可能な基を表わす。)を表わし
、Xlおよびmlは前記−数式(ll)におけるそれと
同義である。
一般式([)で表わされる化合物は、写真処理(現像、
漂白、定着、漂白定着等)の際、処理液中の求核剤(例
えばOH−イオン、S03  イオン、ヒドロキシルア
ミン等)の不飽和結合への付加によシ、Dで表わされる
造核促進剤の脱離が可能なものである。
このような不飽和結合への求核剤の付加を利用する活性
基のブロック法として、特開昭jターλ0/、0!7号
、特開昭61−≠3.732号、特開昭A/−タj、3
弘7号を用いることができる。
次に一膜化U/)について詳しく説明する。
R1は水素原子又は置換可能な基金表わし、置換可能な
基としてはアルキル基(好ましくは炭素数l〜、20の
もの)、アルケニル基(好1しくに炭素数2〜コOのも
の)、アリール基([’L<は炭素数6〜コOのもの)
、アルコキシ基(好ましくは炭素数/〜20のもの)、
アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20のもの)
、アルキルチオ基(好ましくは炭素数/ −20のもの
)、アリールチオ基(好筐しくは炭素数z〜、20のも
の)、アミン基(無置換アミン、好ましくは炭素数l−
コOのアルキル基または炭素数6〜−20のアリール基
で置換した2級または3級アミ7基)、ヒドロキシ基な
どを表わし、これらの置換基は以下の置換基を1個以上
石してもよく、置換基が一個以上あるときは同じでも異
ってもよい。
ここで、具体的置換基としては、ハロゲン原子(フッ素
、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数/−2
0のもの)、アリール基(好ましくは炭素数6〜λOの
もの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数l−コOのも
の)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜コOの
もの)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1−20の
もの)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20の
もの)、アシル基(好ましくは炭素数λ〜20のもの)
、アシルアミノ基(好ましくは炭素数7−λOのアルカ
ノイルアミノ基、炭素数6〜20のベンゾイルアミノ基
)、ニトロ基、シアノ基、オキシカルボニル基(好まし
くは炭素数/−20のアルコキシカルボニル基、炭素数
6〜20のアリールオキシカルボニル基)、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、スルホ基、ウレイド基(好ましくは
炭素数l〜20のアルキルウレイド基、炭素数6〜コO
のアリールウレイド基)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数/〜λOのアルキルスルホンアずド基、炭素数
6〜20のアリールスルホンアミド基)、スルファモイ
ル基(好ましくは炭素数l〜20のアルキルスルファモ
イル基、炭素数6〜λOのアリールスルファモイル基)
、カルバモイル基(好ましくに炭素数1−20のアルキ
ルカルバモイル基、炭素数6〜20のアリールカルバモ
イル基)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数/ −2
0のもの)、アミノ基(無置換アi)、好ましくは炭素
数/ −20のアルキル基、1fcは炭素数6〜−〇の
アリール基で置換した2級または3級のアばノ基)、炭
酸エステル基(好ましくは炭素数l−コOのアルキル炭
酸エステル基、炭素数6〜20のアリール炭酸エステル
基)、スルホン基(好ましくは炭素数l〜コOのアルキ
ルスルホン基、炭素数6〜コOのアリールスルホン基)
、スルフィニル基(好1しくに炭素数/ −20のアル
キルスルフィニル基、炭i数a〜20(D71)−ルス
ルフイニル基)を挙げることができる。
さらに、R1はR2又はR3と納会して炭素環′1−f
cは複素環(例えばj〜7員環)を形成してもよい。R
2、R3は同一でも異なってもよく、各々水素原子また
は置換可能な基を表わし、置換可能な基としてはハロゲ
ン原子(フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(好ましく
は炭素数/ 、20のもの)%アリール基(好筐しくに
炭素数6〜20のもの)、アルコキシ基(好1しくは炭
素数l〜コOのもの)、アリールオキシ基(好ましくは
炭素数6〜20のもの)、アルキルチオ基(好ましくは
炭素数l−コOのもの)、アリールチオ基(好ましくは
炭素数6〜20のもの)、アシルオキシ基(好ましくは
炭素数−2〜20のもの)、アミノ基(無置換アミノ、
好ましくは炭素数l−コOのアルキル基、または炭素数
6〜20のアリール基で置換し九コ級または3級のアi
)基)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数/ −2
0のアルキルカルボンアばド基、炭素数6〜20のアリ
ールカルボンアミド基)、ウレイド基(好1しくは炭素
数l−コOのアルキルウレイド基、炭素数6〜コOのア
リールウレイド基)%カルボキシ基、炭酸エステル基(
好ましくは炭素数/−−20のアルキル炭酸エステル基
、炭素数6〜20の713−ル炭Rエステル基)、オキ
シカルボニル基(好ましくは炭素数/〜λOのアルキル
オキシカルボニル基、炭素数6〜−〇のアリールオキシ
カルボニル基)%カルバモイル基(好ましくは炭素数l
〜λOF)アルキルカルバモイル基、炭素数乙〜λOの
アリールスルフィニル基)、アシル基(好ましくは炭素
数l−コOのアルキルカルボニル基、炭素数6〜20の
アリールカルボニル基)、スルホ基、スルホニル基(好
ましくは炭素数1−20のアルキルスルホニル基、炭素
数AS−20のアリールスルホニル基)、スルフィニル
!(好tL<u炭素数/〜20のアルキルスルフィニル
基、炭素c14〜20のアリールスルフィニル基)、ス
ルファモイル基(好1しくに炭素数/−−20のアルキ
ルスルファモイル基、炭素数t〜−20+7)713−
ルスルファモイル基)、シアン基、ニトロ基を表わす。
これらのR2、R3で示される置換基は1個以上の置換
基を肩してもよく、置換基が2個以上あるときは同じで
も異ってもよく、具体的rfj、換基としては前記R1
の置換基と同じものを挙げることができる。″ (11=Oの場合 シアノ基′!たはニトロ基ヲ表わし
、R4、R5、R6、R7及びR8はたがいに同一でも
異なってもよく、各々水素原子または置換可能な基を表
わし、具体的置換基としてはアルキル基(好ましくは炭
素数/−20のもの)、アルケニル基(好ましくは炭素
数2〜20のもの)、アリール基(好ましくは炭素数6
〜20のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1−
20のもの)アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜
−〇のモノ)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜
20のもの)、アミノ基(無置換アミノ基、好ましくは
炭素数/ −20のアルキル基、または炭素数6〜20
のアリール基で置換しfcλ級または3級アミノ基)、
カルボンアミド基(好ましくは炭iff/−20のアル
キルカルボンアずド基、炭素数6〜20のアリールカル
ボンアミド基)、ウレイド基(好筐しくは炭素数l−コ
Oのアルキルウレイド基、炭素数6〜20のアリールウ
レイド基)、オキシカルボニル基(好ましくは炭素数/
−20ノアルキルオキシ力ルボニル基、炭素数6〜20
のアリールオキシカルボニル基)、カルバモイル基(好
ましくは炭素数/〜20のアルキルカルバモイル基、炭
素数6〜20のアリールカルバモイル基)、アシル基(
好ましくは炭素数1−20のアルキルカルボニル基、炭
素数6〜20のアリールカルボニル基)、スルホニル基
(好ましくは炭素数l〜20のアルキルスルホニル基、
炭素数6〜20のアリールスルホニル基)、スルフィニ
ル基(好ましくに炭素数l−コOのアルキルスルフィニ
ル基、炭素数6〜20のアリールスルフィニル基)、ス
ルファモイル基(好筐しくに炭素数l〜20のアルキル
スルファモイル基、炭素数6〜20のアリールスルファ
モイル基)、シアノ基、ニトロ基を表わす。このうちR
7、usの好ましい置換基としては、オキシカルボニル
基、カルバモイル基、アシル基、スルホニル基、スルフ
ァモイル基、スルフィニル基、シアノ基、ニトロ基ヲ挙
げることができる。これらの置換基は1個以上の置換基
を有してもよく、置換基が2個以上あるときは同じでも
異ってもよく、具体的置換基としては前記R1の置換基
と同じものを挙げることができる。
Lが含窒素複素環基の場合、Dは、下記−数式%式% 一般式(V) 、、、l−・、 式中←E 丈M 〕1□ は、前記−数式(III)に
おけるそれと同義であシ、Qは炭素原子、窒素原子、酸
素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子の少なくと
も一種の原子から構成される!または6員の複素環を形
成するのに必要な原子群を表わす。またこの複素環は炭
素芳香環または複素芳香環と縮会していてもよい。
Qによって形成される複素環としては例えば置換または
無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾール類、ベン
ゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、ベンズチア
ゾール類、ベンズセレナゾール類、ペンズテルラゾール
類、イミダゾール類。
チアゾール類、セレナゾール類、オキサゾール類、テト
ラゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、オキサ
ゾリン類、イミダシリン類、チアゾリン類、セレナゾリ
ン類、インドレニン類、アザインデン類、ピラゾール類
、インドール類、等があげられる。含窒素複素環として
好ましくはベンゾトリアゾール類、トリアゾール類、ア
ザインデン類であり、最も好ましくはベンゾトリアゾー
ル類である。
また、これらの複素環にニトロ基、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、をブチル基、シアノエ
チル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、等)
、アリール基(例えばフェニル基、≠−メタンスルホン
アミドフェニル基%弘−メチルフェニルi、j 、≠−
ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル基、≠−メチルベンジル基、フェネチル基、等)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、弘−メトキシフ
ェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ基)、スルホニル基(例、
tばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−1
ルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えば無
置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェニル
カルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えば無置
換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えば
アセトアミド基、ベンズアミド基、等)、スルホンアば
ド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホ
ンアミド基、p−1ルエンスルホンアミド基、等)、ア
シルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基、等)、スルホニルオキ7基(例えばメタンスル
ホニルオキシ基、等)。
ウレイド基(例えば無置換のウレイド基、メチルウレイ
ド基、エチルウレイド基、フェニルウレイド基、等)、
チオウレイド基(例えば無置換のチオウレイド基、メチ
ルチオウレイド基、等)、アシル基(例えばアセチル基
、ベンゾイル基、尋)、ヘテロ環基(例えばl−モルホ
リノ基、l−ピペリジノ基、コーピリジル基、≠−ピリ
ジル基、λ−チェニル基、/−ピラゾリル基、/−イミ
ダゾリル基、2−テトラヒドロフリル基、テトラヒドロ
チエニル基、等)、オキシカルボニル=ル基(例えばメ
トキシカルボ゛ニル基、フェノキシカルボニル基、等)
、オキシカルボニルアミノ基(例えばメトキンカルボニ
ルアミノ基、フエノキシカル〆二ルアi)基、コーエチ
ルへキシルオキシカルボニルアミノ基、等)、アミノ基
(例えば無置換アミ7基、ジメチルアミノ基、メトキシ
エチルアミノ基、アニリノ基、等)、カルボン酸″!た
はその塩、スルホン酸またはその塩、ヒドロキシ基など
で置換されていてもよい。
Eが表わす二価の連結基としては炭素原子、窒素原子、
酸素原子、硫黄原子から選ばれた原子または原子群よシ
なる二価の連結基であシ、例えば直鎖または分岐のアル
キレン基(例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン
基、メチレン基、ヘキシレン基、l−メチルエチレン基
、等)、[8または分岐のアルケニレン基(例えばビニ
レン基、l−メチルビニレン基、等)、厘鎖筐たは分岐
のアラルキレン基(例えばベンジリデン基、等)、直鎖
または分岐のアルキニレン基(例えば−CH2−CミC
−CH2−等)、アリーレン基(例エバフェニレン、ナ
フチレン、等)、−0−1R9−CO−1−〇C−1 R13R14R15R16R17 基の任意の組付せで連結基金形成してもよい。
R9、R1o%R11、R12、Rts、R14、Rt
s%R1s、R17およびR18は水素原子、それぞれ
置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、n−ブチル基、等)、置換もしく
は無置換のアリール基(例えばフェニル基、λ−メチル
フェニル基、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基
(例えばプロペニル基、l−メチルビニル基、等)、ま
たは置換もしくは無置換のアラルキル基(例えばベンジ
ル基、フェネチル基、等)を表わす。
Mで表わされる置換もしくは無置換のアミン基は一般式
1)で表わされるものである。
−数式([) (式中、R19、R20は同一であっても異なってもよ
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数l〜3
0のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基を表わし
、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、n−
プロピル基、 n−メチル基、n−オクチル基、アリル
基、3−ブテニル基、ベンジル基、l−ナフチルメチル
基、等)、分岐(例工ばisoプロピル基、をオクチル
基、等)、または環状(例えばシクロヘキシル基、等)
でもよ<、t*アリール基(例えばフェニル基、等)で
もよい。
又、R19と120は連結して環を形成してもよく、そ
の中に1つまたはそn以上のヘテロ原子(例えば酸素原
子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和のヘテロ環
を形成するように環化されていてもよく、例えばピロリ
ジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙げること
ができる。又、R19、R20の置換基としては例えば
、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子
(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。)、
ヒドロキシ基、炭素数−〇以下のアルコキシカルボニル
基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、フェノキンカルボニル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチル
オキシ基など)、炭素数2Q以下の単環式のアシルオキ
ン基(例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基など)
、炭素数20以下のアシルオキシ基(例えばアセチルオ
キシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭素数コO以下
のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベン
ゾイル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えばカ
ルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、モル
ホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基など)、
スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N、N−
ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、
ピペリジノスルホニル基など)、炭素数20以下のアジ
ルアばノ基(例えばアセチルアi)基、プロピオニルア
ミノ基、ペンシイルアミノ基、メシルアミノ基など)、
スルホンアミド基(エチルスルホンアミド基、p−トル
エンスルホンアずド基など)、炭素数コO以下のカルボ
ンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基、フェニル
カルボンアミド基など)、炭素数−θ以下のウレイド基
(例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基など)
、アばノ基(−役式([)と同義のもの)、アンモニウ
ム基(−数式(■)と同義のもの)などが挙げられる。
Mで表わさnるアンモニウム基は置換基をMしていても
よく、好ましくは一般式(■)で表わされるものである
一役式(■) (式中、R21、R22、R23は上述の一般式(■)
におけるR19およびR20と同様の基であシ、Zeは
アニオンを表わし、例えばハライドイオン(例工1rl
cle、 B rθ、■eなど)、スルホナートイオン
(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パラトルエ
ンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラクロロベ
ンゼンスルホナートなど)、スルファトイオン(例えば
エチルスル7アート、メチルスルフアートなど)、パー
クロラート、テトラフルオロボラートなどが挙げられる
。pは011%2または3を表わし、化会物が分子内塩
を形成する場@−は0である。) MT:表わされる含窒素ヘテロ環は、少なくとも1つ以
上の窒素原子を含んだjlfCは6員環であシ、それら
の環は置換基をMしていてもよく、ま九個の環と縮合し
ていてもよい。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾ
リル基、ピリジル基、チアゾリル基、トリアゾリル基な
どが挙げられる。
−数式(V)は、含窒素複素環基内の窒素原子を介して
一般式uV)の炭素原子(Mを1のとき)ま7’cuX
1(M□=lのとき)に給仕している。
Lで表わされるハロゲン化銀に吸着できる部位がメルカ
プト基又はチオアミド基を宍わす場会、Dは下記−数式
(■)、uK)1次は(■′ )で表わされる。
一般式(■)     −数式([) −数式(■′) ! 式中、−++E丙IM〕j’2は前記−数式1)におけ
るそれと同義であり、Wは、酸素原子、イオウを表わし
、Rは水素原子、脂肪族基もしくは、芳香族基を表わし
、それぞれ置換基tVしていてもよい、Q′は窒素原子
、およびWと連結して、!員環、もしくは6員環を形成
するのに必要な原子団を表わし、また形成した環は芳香
族環と縮環していてもよい。
一般式、(■)、および(■′ )でWが−N−! のものが好ましい。
式([)、(■′)においてQ′によって形成さ扛るj
員環ま7’Cは6員環の例として、置換あるいは無置換
のメルカプトアゾール類、(例えば、!−メルカプトテ
トラゾール、3−メルカプト−1,2,≠−トリアゾー
ル、コーメルカブトー/。
3、弘−チアジアゾール、−一メルカブトベンツイミダ
ゾール、λ−メルカプトベンゾチアゾール、コーメルカ
ブトーl、3.≠−オキサジアゾール、など)、置換、
あるいは無置換のメルカプトアザインデン類(例えば、
≠−メルカプトー/、3゜3a、7−チトラザインデン
、など)、置換あるいは無置換のメルカプトピリミジン
類(例えばコーメルカブトー≠−ヒドロキシピリミジン
など)などが挙げられる。好ましくは、!−メルカプト
テトラゾール、である。
次に一般式(I)で表わされる化会物例を示すが本発明
は、これに限定されるものではない。
(−ノ ヘレ1 )I        XC2H5 一般式CI)のBで表わされる造核促進剤部分の曾成は
ベリヒテ・デア・ドイツチェン・ヘミツシエン・ゲゼル
シャフト(Berichte  derDeutsch
en Chemischen Ge5ellschaf
t)xt、y7(trys)、特開昭J−0−J7uJ
6号、同11−323/号、米国特許39.2り!。
り76号、米国特許3,371s、、310号、ベリヒ
テ・ドイツチェン・へばツシエン・ゲゼルシャフト(B
erichte  der  DeutschenCh
emischen Ge5ellschaft)22、
j6r(trry)、同色ヱ、xtltJ(trY& 
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・オブ・ジ・アメリカン・ケずカル・ソサイアティ(J
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 c e 。
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ン・ケミカル・ソサイアテイ(J、Am、Chem、S
oc、)≠!、コ3り0(/9λ3)、へずシア、ベリ
ヒテ(Chemische Berichte)ヱ、4
′6j(trt4)、特公昭440−2111−96号
、特開昭jO−49031fi号、米i1%許J 、/
 06.4’t7号、1IilJ、弘20.470号、
同λ、J7/ 。
ココタ号、同3./37.!7f号、同j、/4Cr、
ott号、(rs)3.!//、1sAJ号、同3゜o
iao、o、2を号、同J、27/、/!参号、同!、
21/、Aり1号、同!、!PI、!タタ号、同3.l
≠r、ott号、特公昭弘3−11/3!号、米国特許
J、l、t!、AI6号、同3.≠λ0.66参号、四
J、07/、≠65号、同一。
弘びり、tOS号、同λ、1す、606号、同2.4A
I111.l、07号、同一、y3j、pop号、特開
紹!7−λOコ、j3/号、同j 7− / A 7 
023号、同57−/l14!、737号、同to−r
o、rsy号、同!I−/J−2,235号、同j7−
/II、134号、同jター/ 4.2 %74’、4
号、同40−/30.7J/号、同1.0−/31゜S
at号、同!r−13.r!2号、同jを/jり、j2
り号、同!ター/J’り、162号、同60−2/7.
J!lr号、向A/−10,231号、特公昭60−.
2F、390号、回1sO−2F。
3り1号、同1sO−/33.06/号、同A/−l、
≠J1号等に記載されている方法や以下に示した代々的
な合成例に準じて会成できる。
合成例1 例示化会物(1)の合成法 6−カルポキシメチルー≠−ヒドロキン−l。
JmJa、7−チトラアザインデンlり、4!tとN、
N−ジエチルトリメチレンシアずンl≠、3tにジメチ
ルホルムアミド−jOrdを加え室温下ジシクロへキン
ルカルボジイビドコλ、Aft滴下した。そのま1j時
間か〈拌し、析出した結晶を戸別し、F液を減圧上乾固
I−た。得られ几固体をメチルアルコール/アセトン:
///の混会溶媒弘00m1で再結晶して6−(3−ジ
エチルアミノプロピルカルバモイルメチル)−≠−ヒド
ロキシー/、!、3a、7−チトラアザインデン/If
oyを得た。
融点21参〜λ1r0c 次に6−クロロ−/、!−ジメチルウラシルをLieb
igs Ann、Chem、Bd、6 /2 、/ A
 /(lりjt)記載の以下の方法によシ合成した。
t、s−//メチル尿素27&?(J、/弘モル)とマ
ロン酸374?(J、42モル)を氷酢酸6oOmll
lcAO〜700(:において溶解する。次いで無水酢
酸lコ!O祷を加え、徐々にりOoCまで昇温する。を
時間かく拌したのち室温にて一晩放置し、氷酢酸および
無水酢酸を減圧)で留去する。残渣を熱いうちにエタノ
ール!、00rtrlに注ぎ、析出する結晶を戸別し、
濃塩酸J r 0rtrlおよび水≠00rtilにて
2時間加熱還流し友後、水冷下で6時間放置する。析出
する結晶を戸別し、少量のエタノールで洗浄し、メ、3
−ジメチルバルビッール酸3toyを会成し友。
この/、!−ジメチルバルビッール酸/10fに水32
−を加え、更にオキシ塩化リンroomtを徐々に滴下
する。1時間半加熱還流した後、オキシ塩化リンを常圧
下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ。析出する結晶
を炉別し、PRをクロロホルムにて抽出(Xj)(、、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。次いでクロロホルムを
留去し、得られる残渣を先の結晶と会わせ、水よシ再結
晶することで6−クロロ−/、!−ジメチルウラシルt
oyy&:会成した。
この6−クロロ−/、J−ジメチルウラシルλ/fのア
セトニトリル浴液70−に氷冷下(内温j’C)N−ク
ロロサクシイミド/lfを添加した。同温が徐々に上昇
し、Jl 0Cに達した後、さらに1時間かく拌し九。
反応液に水70m1を加え析出した結晶をろ取し、冷ア
セトニトリルit祷、水lr1の混合溶媒で洗い、乾燥
するとよ。
6−ジクロロ−/、!−ジメチルウムラシ/Ifを得た
次に、A−(s−ジエチルアズノプロビルヵルパモイル
メチル)−≠−ヒドロキシー/、J、Ja、7−チトラ
アサインデン10fのアセトニドIJ/l液3ONに、
/、r−ジアザビシクロ〔夕。
μ、O〕ウンデセン−7(、D B’U ) A gの
アセトニトリル溶液20m1を滴下し、室温で70分か
く拌した後、5.6−ジクロロ−/、J−ジメチルウラ
シルb、ryのアセトニトリル溶液/Jmlを滴下し、
室温で2時間かく拌した。減圧下、アセトニトリルを除
さ、rIk塙瞭λa1水100m1を加え、酢酸エチル
100祷で2回抽出し友。有機層を集め、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下、酢酸エチルを除き、残
渣に、n−へキサン、酢酸エチルの混合溶媒を加え、再
結晶すると、目的とする例示化合物(1)がl≠、Jt
得られた。
融点/!P2〜lりjoC @数例2 例示化合物(3)の会成 j−フェノキ7カルポニルベンゾトリアゾールto、o
tvcyセトニトリに! 00ynlトN 、 N −
ジエチルエチレンジアミンJ2,0fを加え≠時間加熱
還流した。反応後反応液を水冷上攪拌し、析出した結晶
をF取し、メチルアルコール≠001で再結晶してj−
(2−ジエチルアミンエチルカルバモイル)ベンゾトリ
アゾールsA、/l’に得友。
融点16μ〜/6j0C: 次に、j−(j−ジエチルアミノエチルカルバモイル)
ベンゾトリアゾールJtOfのアセトニトリル溶液to
mtに、/、?−ジアザビシクロ〔j。
≠、O)ウンデセン−7(DBU ) /≠1のアセト
ニトリル溶液2!1ntを滴下し、室温でかく拌した。
70分後、5.6−ジクロロ−/、J−ジメチルウラシ
ル/Afのアセトニトリル溶液somtを滴下し、室温
Tm時間かく拌しt0減圧下、アセトニトリルを除き、
製塩rR6継、水70−を加え、酢酸エチル200m1
で2回抽出した。7に機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下、酢酸エチルを除き、残渣にn−へ
キサン、酢酸エチルの混合溶媒を加え、再結晶すると、
例示化合物(3)が3/、弘?得られた。
融点tr/ 〜tru0(: 合成例3 例示化合物(4)の曾成 !−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール23、り
tにアセトニトリル200−とN、N−ジエチルトリメ
チレンジアミンIQ−0Jfff加えμ時間加熱還流し
た。反応後反応液を水冷下かく拌し、析出した結晶を戸
数し、アセトニトリル/エチルアルコール=:///の
混合溶媒200m1から再結晶してj−(J−ジエチル
アミノプロピルfJルパモイルベンゾトリアゾールxs
、offt得た。
融点1044〜1010C 次に蒸留器具のついfiJOOILlの反応容器にλ−
エチルへキジルアミニ/109.カルバミン酸メチルコ
タF、)ルエン100m1を入れ、触媒量O0l?のジ
ブチルスズオキサイドを加え、加熱、かく拌した。反応
生成するメタノールを除き、還流温度が710°C(ト
ルエンの沸点)になったら蒸留器具をはずし、代わりに
還流器具をつけ、さらに30分かく拌したのち、放冷し
た。減圧下、トルエンを除き残渣をn−ヘキサンで洗い
、ろ取し、N−(コーエチルヘキシル)尿素1./f得
た。
得られfcN7.(2−エチルヘキシル)尿素s。
f、−roン酸36t、酢酸100rLl溶液を、t。
0Cに加熱し弘時間かく拌した。放冷後、減圧下酢酸を
除き、水/ 00ml、クロロホルムzoo1を加え抽
出した。
肩機層を飽和炭酸水素す) IIウム浴液、ついで飽和
食塩水で洗い、無水@酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下、クロロホルムを除き、残渣をn−ヘキサンで洗い
、戸数する(!−N−(2−エチルヘキシル)バルビッ
ールrR6弘tを得几。
得うれ九N−(J−エチルヘキシル)バルビッール酸μ
O21にオキシ塩化りン/20111を加え更に水3μ
を徐々に滴下する。2時間加熱還流し友後、オキシ塩化
リンを常圧下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ。さ
らにクロロホルムコ00μで3回抽出し、肩機層を集め
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
次いで、減圧下、クロロホルムを除き、得られる残渣に
n−ヘキサンを加え、析出した結晶をろ取した。酢酸エ
チルで再結晶し、6−クロロ−3−(2−エチルヘキシ
ル)ウラシル32ttJR色結晶として得た。
得うれた6−クロロ−J−(、,2−エチルヘキシル)
ウラシル20fのジメチルホルムアiド!O祷溶液に、
//fの炭酸カリウムを加え、さらに/2./fのヨー
ドメチルを加え室温下1時間半かく拌した。反応液を濾
過し、p液を水にあけ、クロロホルムlOOゴで一回抽
出した。1機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し友後、減圧下、クロロホルムを除き、油状
物として6−クロロ−J−(J−エチルヘキシル)−l
−メチル−ウラシル2/fを得た。
得うれ次6−クロロ−3−(コーエチルヘキシル)−/
−メチル−ウラシル20fのアセトニトリル溶液jOr
nlにN−クロロサクシイミドf、4?を加え、μQ0
Cに加熱し2時間かく拌した。
放冷後、減圧下、アセトニトリル金線き、残渣に水を加
え、クロロホルム100m1で抽出した。1機層を飽和
食塩水で洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥し次後、減圧
下クロロホルムを除き、残渣をシリカゲルクロマドグ2
フイで精製し、油状物とシテj 、 A−ジクロロ−3
−(コーエチルヘキシル) −/−メチルウランルコλ
tを得友。
次に、j−(J−ジエチルアミノプロビル力ルパモイル
)ベンゾトリアゾール/39のアセトニトリル浴液zo
rtttに、/、r−ジアザビシクロ(1,+、O)ウ
ンデセ”−7(DBU)r、Jtのアセトニトリル浴液
を滴下し、室温でかく拌した。10分後、j、A−ジク
ロロ−3−(コーエチルヘキシル)/−メ+ルウラVル
/4.7?のアセトニトリル溶液JOMを滴下し、室温
下、2時間かく拌した。減圧下、アセトニトリルを除き
、m塩酸Jml、水jOmlを加え、クロロホルム10
0rhtで2回抽出した。1機層を集め、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下、クロロホルムを除き、残渣
に、n−ヘキサンを加え、析出した結晶をP取すると、
目的とする例示化合物(4)が27、!?得られに0 融点l≠コ〜lダ弘oC 台成例弘 例示化合物(6)の合成 j−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾール23、り
tにアセトニトリル200m1と1−(3−アミノプロ
ビル)−2−メチルイばダゾールlj、Jfを710え
参時間加熱還流した。反応後反応液を水冷下かく拌し、
析出し次結晶をメチルアルコール200rnlから再結
晶してj−(J−(λ−メチルイミダソ′イル)プロピ
ルカルバモイルベンゾトリアゾールlj、りtを得た。
融点コ31〜233°C ジメドン100t(0,71モル)のクロロホルム−〇
〇d溶液に三塩化りン2/Wを加え、3時間加熱還流す
る。反応液に氷水を加えて反応を停止し、クロロホルム
を減圧下で留去し、水層を62エチルで抽出する。1機
層を無水硫酸す) IJウムで乾燥した後、減圧下で濃
縮し、残渣を減圧蒸留によシ精製し、3−クロロ−j、
j−ジメチル−2−シクロヘキセン−l−オン≠jtt
g成した。
収率aO俤、沸点りJ−0C//I北11fj−(J−
(2−メチルイごダシイル)プロピルカルバモイルベン
ゾトリアゾール10fのアセトニトリルJON溶液に/
、I−ジアザビシクロ〔!、≠、0〕ウンデセン−7(
DBU)A、4’tのアセトニトリル溶液10m1を滴
下し、室温で10分かく拌した後、3−クロロ−5,J
′−ジメチル−コーンクロヘキセン−lオン1.、/l
のアセトニトリル溶液/!wtlを滴下し、室温下%2
時間かく拌し九。減圧下、アセトニトリル溶液キ、m塩
酸3−1水jOmlを加えクロロホルム10ONで抽出
し九。1機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
、クロロホルムを除き、残渣にジエチルエーテルを加え
、析出した結晶を戸数し、n−ヘキサンから再結晶する
と、目的とする例示化合物a9が2.rr得られfc。
融点/IF 〜/Ly2 °C せ成例j 例示化合物(8)の会成 !−アごノベンゾトリアゾール2塩酸塩6コ。
12にジメチルアセトアミド500m1を加え水冷下ト
リエチルアミン13.7rnlf滴下した。さらにピリ
ジン2 / 、 0m1−f滴下した後、!0C以下を
保つようにクロル炭酸フェニル442.Jfを滴下し、
室温下2時間かく拌した。反応後反応液を水21におけ
晶析、戸数しj−フェノキシカルボニルアミノベンゾト
リアゾール6o、ryを得た。
得られたよ一フェノキシカルボニルアミノベンゾトリア
ゾールj、/fにアセトニトリル≠01を加え≠s O
(でかく拌する中へN、N−ジエチルエチレンジアミン
λ、A9を滴下し、そのまま2時間かく拌した。氷冷し
て析出した結晶を戸数しメチルアルコール/アセトニト
リル=//!の混合溶媒tovttから再結晶して!−
(2−ジエチルアミ/エチルウレイレン)−ベンゾトリ
アゾール3、rtを得た。
融l弘り〜/jrO°C 次に、j−(コージエチルアミノエテルウレイレン)ベ
ンゾトリアゾール!t、アセトニトリル/jrnj溶液
に/、I−ジアザビシクロ(j、4A。
O〕タウンセン−7(I)BU)J、jrのアセトニト
リル溶液10mtを滴下し、室温下で10分かく拌した
後、!、4−ジクロロー/、J−ジメチルウラシルJ、
rtのアセトニトリル溶液lj継を滴下し、室温で2f
kjP間かく拌した。減圧下、アセトニトリルを除き、
濃塩酸2m1.水100ゴを加え、クロロホルム100
ytlで2回抽出した。M機層を集め、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下、クロロホルムを除き、残
渣に、ジエチルエーテルを加え再結晶すると、目的とす
る例示化合物(8)がJ 、rt得られた。
融点/27〜/290(: 合成例t 例示化合物(7)の会成 会成法jで合成し7’1−j−フェノキシカルボニルア
ミノベンゾトリアゾール7.6Fにアセトニトリル≠O
ゴ全加え、弘O0Cでかく拌する中へN。
N−ジメチルエチレンジアミン3.29f滴下し、その
まま1時間かく拌した。反応後反応液を水冷して析出し
た結晶を戸数し、メチルアルコール/ジメチルホルムア
ミド==10/Jの混合溶媒/JOrtrlから再結晶
してよ−(2−ジメチルアミノエチルウレイレン)ベン
ゾトリアゾールu、iyを得た。
融点コ07〜コ100(: 次いでマロノニトリル6.6f(o、iモル)のテトラ
ヒドロフラン100M溶液に、水冷下、含N 率40重
量パーセントの水素化す) IJウム弘。
09(0,1モル)を加えたのち、をクロロ−/、3−
ジメチルウラシル/79(0,1モル)を添加し、室温
下に5時間かく拌し友。水100Mを加えa塩酸にて中
和後、酢酸エチル200m1で抽出した。無水@酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し析出する結晶を
戸別し、≦−ジ7ア/メチルー/、3−ジメチルウラシ
ル/コ。
タグ(63%)を得た。
この6−ジシアツメチルー/、J−ジメチルウラシルi
p、1t(o、o3モル)に水i、rゴを加え、更にオ
キシ塩化リン弘0rnlを徐々に滴下する。1時間半加
熱還流したのちオキシ塩化リンを常圧下で留去し、残渣
を氷に注いだ。析出する結晶を戸別し、F液をクロロホ
ルムにて抽出(×3)し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。次いでクロロホルムを留去し、得られる残渣を先の
結晶と会わせ、水−メタノールより再結晶することで6
−クロロ−l 3−ジメチル2−オキンー亭−ジシアノ
メチレンピリミジン1.、/iff合成した。
次いで、j−(2−ジメチルアミノエチルウレイレン)
ベンゾトリアゾールjt1アセトニトリル/jmJ溶液
に/、I−ジアザビシクロ(’ +弘。
O〕タウンセン−7(DBtJ)j、jrのアセトニト
リル溶液lQdを滴下し、室温で10分かく拌した。次
に6−クロロ−l、3−ジメチル−2−オキンーグージ
シアノメチレンビリごジンl。
3t・のアセトニトリル浴液/j−を滴下し、室温下1
時間半かく拌した。減圧下、アセトニトリルを除き、a
塩酸3ゴ、水30ゴを加え、クロロホルム100.ml
で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下クロロホルムを除き、残渣にジエチルエーテルを
加え析出した結晶を戸取すると、目的とする例示化付物
(7)かび、jf得られ友。
M点/IF〜/17°C 台成例7 例示化付物(I5Jの合成 j−メルカプト−1−(2−ジエチルアミノエタン)−
テトラゾール2tのメタノール溶液に、窒素気流下、ナ
トリウムメトキシド(メタノール21%溶g、)i 、
り11加え室温で10分間、かく拌した後、濾過した。
戸液を減圧下、濃縮、乾固したものにアセトニトリル2
0m1に浴ML、滴下ロートよt)j、をジメチル−/
、J−ジメチルウラシル、2?がアセトニトリル201
1Llに溶解している系中へ、室温にて滴下した。反応
混合物を3時間力・〈拌しt後、濾過し友。p液を減圧
下、濃縮し、シリカケルカラムクロマトグラフィで精製
すると目的とする例示化付物α9が/ 、l、f得らn
f?:、。
融点/9/〜tqa0c せ成例? 例示化付物α9の甘酸 j−アばノース−メルカプトベンゾイミダゾールj、4
.4pとピリジン/ 7.7mlにN、N−ジメチルア
セドアごトコ!Omlを加え、室温下フェニルクロロホ
ルメート3弘、弘7を滴下し之。そのまま室温下1.!
時間かく拌しfc後、氷冷/。
jA!に加えると結晶が析出した。得られた結晶をF取
し、アセトニトリルから再結晶して、2−メルカプト−
!−フェノキシカルボニルアiノペンゾイミダゾール≠
7.72を得友。
得られた2−メルカプト−!−フエノキシカルボニルア
ごノベンゾイばダゾールr、61にアセトニトリルlO
O耐を加え4tj 0Cに加熱かく拌し、N、N−ジメ
チルアミノエチレンジアミンt≠、jpを滴下し次。4
cj’Cで/、3時間かく拌し、析出した結晶を戸数し
た後、N、N−ジメチルホルムアミドとメチルアルコー
ルの1会溶媒かう再結晶しλ−メルカプトーよ−(2−
ジメチルアミノエチルウレイレン)ベンシイごダゾール
t、2f(収率7弘係)を得た。
次に、2−ベンゾイル−3−クロロシクロへキセノン−
2をChem、Pharm、Bull  25’(51
/J/J−/320(t91/ )記載omm下方方法
よシ会成した。
シクロヘキサン−/、J−ジオンtu3y、クロロホル
ム700ml溶液にピリジンlO2を加え、さらにベン
ゾイルクロライドlIfを滴下し友。室温でμ時間かく
拌した後、反応混合物を氷水にあけた。有機層を希塩6
!、次いで飽和炭酸水素ナトリウム溶液、次に食塩水で
洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、濃
縮乾固すると3−ベンゾイルオキシシクロヘキセノン−
2が粗生物として得られた。得られ几3−ベンゾイルオ
キシシクロへキセノン−24精製することなく、無水塩
化アルばニウムJOf、ジクロロエタン320m1の溶
液に加えた。室温で17時間かく拌した後、反応混合物
を冷塩酸水(10%)にあけ、M磯#を分は水層をジク
ロロエタンで2回抽出した。
有機層を渠め、食塩水で洗い有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下、ジクロロエタンを除い次残
渣に浴解しうる最少蓋のジエチルエーテル、/N水酸化
ナトリウム溶液を加え友。
水層を@@酸で酸性にした後、ジエチルエーテルで抽出
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、
ジエチルエーテルを除いた。残渣にn−ヘキサン大願え
再結晶すると2−ベンゾイルシクロヘキサン−/、Jジ
オンが/Jf得らnた。
得られたλ−ベンゾイルシクロヘキサンーl。
3ジオンjtにオキザリルクロライド≠成を水冷下加え
、3時間かく拌し友後、過剰のオキサシリルクロライド
を減圧下除去した。反応混合物は減圧上蒸留しり、2f
の2−ベンゾイル−3−クロロシクロヘキセノン−2を
得た。
bp、  / I j 〜/ 96  ’C/ 0.7
HH?次に、窒素気流下1.2−メルカプ)−4−(,
2−ジメチルアミノエチルウレイレン)ベンゾイミダゾ
ールjt、アセトニトリル/jrrtlの溶液に、l、
をジアザビシクロ(’+μ、O〕ウンデセン−7(DB
U)J、jfのアセトニトリル浴液10m1を滴下し、
室温で5分かく拌しfc後、λ−ベンゾイルー3−クロ
ロンクロヘキセノン−λ≠、22のアセトニトリル溶液
10rdを加え、室温下2時間かく拌した。次いで減圧
下、アセトニトリルを除き、塩酸31、水JOmBを加
え、クロロホルム100vUで抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗い無水5A酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下クロロホルムを除き、残渣に酢酸エチルを加え、析
出した結晶を枦取すると、目的とする例示化f物(19
カJ 、J f得らt” fc 。
融点/J7〜/39 °C ゾール/7..2fにエチルアルコールを加え、室温下
N 、 N−ジエチルエチレンシアずン6.2tを滴下
した。部下後j00Cで30分かく拌した恢、室温まで
冷却すると、結晶が析出した。析出した結晶を戸数し、
N、N−ジメチルホルムアミドとアセトニトリルの混会
浴媒から再結晶し、2−メルカプ)−j−(2−ジエチ
ルアぐノエチルウレイレン)ベンゾオキサゾールtJ、
J?(収率7タチ)を得た。
融点2IO’C以上(分解) A            B シクロヘキサノン20?(0,2モル)とキ咳エチルエ
ステル/49(0,2モル)1i1エーテルti−oo
−に溶解し、水浴にて冷却しながら、NaH(jO%含
i)/A?(0,44モル)を1時間かけて加える。添
加終了後6時間、室温にてかくはんする。反応混合物(
Bが沈澱する)を再び水浴にて冷却しながらPCl3 
27t(o、2そル)のエーテル溶液l!O成を滴下す
る。滴下終了後室温にて3時間かくはんし、生成し几沈
澱物を減圧P去する。母液を濃縮すると油状物が3/f
得らnる。精製することなくこの油状物をアセトニトリ
ル100m1に溶解し、滴下ロートより2−メルカプト
−4−(2−ジエチルアミノエチルウレイレン)ベンゾ
オキサゾールj6tとトリエチルアずンμ≠tがアセト
ニトリルJOORIに溶解している系中へ、室温にて滴
下した。反応混合物を6時間かく拌した後、減圧下、ア
セトニトリルを除い友。残渣に塩酸!ゴ、水20011
Ltを加え、300m1クロロホルムで2回抽出した。
M機1曽を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、ク
ロロホルムを留去すると粗結晶sstが得られた。
これをアセトニトリルで再結晶すると目的とする例示化
合物QυがJ9f得られた。
融点/71−/l/ ’C 会成例10  例示化合物(40の会成コージメチルア
ミノエタンチオール塩酸tIAry、メタノールIjm
jfg液に、窒素下、ナトリウムメトキシド(2Irq
bメタノール溶液)2弘rを滴下し、室温で10分間か
く拌した後、濾過した。F液を減圧下、濃縮乾固したも
のをアセトニトリルtzrntに溶解し滴下ロートよp
、s、をジクロロ−/、J−ジメチルウラシル//、r
tがアセトニトリル20m1に溶解している系中へ、室
温にて滴下し次。
反応混合物を2時間かく拌した後、濾過した。
F液を減圧下、濃縮した。残渣にエタノール20d%2
0−塩酸エタノール溶液/21R1を加えた後、減圧下
、エタノールを除き、残渣に酢酸エチルを加え、析出し
た結晶をF取し、例示化合物(4Gの塩酸塩/J、29
を合成した。
融点/43−764°C 本発明の一般式CI)で表わされる化合物の含有tは、
好ましくはハロゲン化銀1モル当ptx10−5〜/x
10−1%ル、より好ましくはl×1O−4〜jxlO
−2モルである。
本発明において、−膜化CI)で表される化合物を写真
感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層
に含有させるのが好ましいがぞれ以外の非感光性の親水
性コロイド#(例えば保護層、中間層、フィルター層、
ハレーション防止層など)に含有させてもよい。具体的
には使用する化合物が水浴性の場曾には水溶液として、
また難水溶性の場会にはアルコール類、エステル類、ケ
トン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親
水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤
層に添加する場会は化学熟成の開始から塗布前までの任
意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の
間に添加するのが好ましい。特に塗布のために用意され
た塗布液中に添加するのがよい。
ここで、−膜化(I)の化付物はヒドラジン化合物と同
一層であってもよいし、また異なった層に含有させても
よい。
本発明で用いられるヒドラジンとしては下記の一般式(
X)で示されるものが好ましい。
−役式(X) I  A2 式中、Yは脂肪族基、芳香族基−!たはヘテロ環基を表
わす。A1、A2はともに水素原子または一方が水素原
子で他方にスルフィン酸残基まfcニアシル基を表わ丁
。Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基またはカルバモイル
基を表わす。
Gflカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、ホ
スホリル基またはイばノメチレン基を表わす。
本発明の一役式(X)において、Yで表わされる脂肪族
基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基
また−はアルキニル基である。
Yで表わされる芳香族基とじてな、単環又はλ環のアリ
ール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基があげら
れる。
Yのヘテロ環としては、N、0、又はS原子のうち少な
くともひとつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和の
ヘテロ環であシ、これらは単環であってもよいし、さら
に他の芳香環もしくにヘテロ環と縮会環を形成してもよ
い。ヘテロ環とじて好1しくに、!ないし6員の芳香族
ヘテロ環基であり、例えば、ピリジン基、イミダゾリル
基、ピリミジル基、ピラゾリル基、インキノリニル基。
チアゾリル基、ベンズチアゾリル基などが好ましい。
Yは置換基で置換されていてもよい。置換基としては、
例えば以下のものがあげられる。こnらの基は更に置換
されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミ7基、
アジルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アリール基、アルキルチオ基、アルキルチ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、
アリールオキシカルボニル晶、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アラルキル基、スルホンアずド基、ニトロ
基などである。
これらの基は可能なときは互いに連結して環を形成して
もよい。
Yとして好ましいのは、芳香族基、更に好ましくはアリ
ール基である。
Rで表わされる基のうち好筐しいものは、Gがカルボニ
ル基の場会には、水素原子、アルキル基(例エバメチル
基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基
、3−メタンスルホンγでドプロビル基など)、アラル
キル基(例えば0−ヒドロキシベンジル基など)、アリ
ール基(例えばフェニル基、3.j−ジクロロフェニル
基、0−メタンスルホンアミドフェニル基、クーメタン
スルホニルフェニル基なト)、アルコキシカルボニル基
(例えばエトキシカルボニル基など)、アリールオキシ
カルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基など)、
カルバモイル基(例えばカルバモイル基、メチルカルバ
モイル基など)、などであり、特に水素原子が好ましい
まfcGがスルホニル基の場会には、Rはアルキル基(
例えばメチル基など)、アラルキル基(例えはo−ヒド
ロキシフェニルメチル基なト)、アリール基(例えばフ
ェニル基など)または置換アばノ基(例えばジメチルア
i)基など)などが好ましい。
Gがスルホキシ基の場e、好ましいRはシアノベンジル
基、メチルチオベンジル基などでアリ、Gがホスホリル
基の場会には、Rとしてはメトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく特にフ
ェノキシ基が好適である。
GがN−置換または無置換イずノメチレン基の場会、好
ましいRはメチル基、エチル基、置換ま友は無置換のフ
ェニル基である。
Rの置換基としては、Yに関して列挙し7′ct換基が
適用できる。
これらの置換基は更にこれらの置換基で置換されていて
もよい。また可能な場会は、これらの基が互いに連結し
友環を形成してもよい。
Y又はR1なかでもYは、その中にカプラー等の不動性
写真用添加剤において常用されているパラスト基を含む
ものが好ましい。バラスト基はj以上の炭素数を庸する
写真性に対して比較的不活性な基であシ、アルキル基、
フェニル基、エーテル基、アずド基、ウレイド基、ウレ
タン基、スルホンアばド基、チオエテール基などの一つ
以上の組合せからなるものである。
Y又はRがバラスト基′@:肩する場会、YとRの炭素
数の総和は好ましくは13以上であシ、よシ好ましくに
20ないし10である。
Y又はRは一般式(X)で表わされる化会物がハロゲン
化銀粒子の表面に吸着するのを促進する基 XotLo
%o  を有してもよい。
ここでXoはハロゲン化銀への吸着促進基であり、Lo
に二価の連結基である。mQはo−1fcはlである。
Xoで表わされるハロゲン化銀への吸着促進基の好まし
い例としては、チオアミド基、メルカプト基、ジスルフ
ィド納会を有する基まfcはよないしt員の含窒素ヘテ
ロ環基があげられる。
XQであられされるチオアミド吸着促進基は、−C−ア
ずノーで表わされる二価の基であシ、環構造の一部であ
ってもよいし、また非環式チオアミド基であってもよい
。M用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特許≠、
030.?コj号、同47,031,727号、同ti
、orO,207号、向≠、ハリ、037号、同≠、 
2J−! 、 711号、同≠、241.,0/J号、
及び同≠、27A、34≠号、ならびに[リサーチ・デ
ィスクロージャーJ (Research Discl
osure)誌第1j/巻&/j/1,2(1976年
11月)、及び同第176巻/x / 7426 (7
971年12月)に開示さnているものから選ぶことが
でなる。
非環式チオアミド基の具体例としては1例えばチオウレ
イド基、チオウレタン基、ジチオカルバミン酸エステル
基など、ま丸環状のチオアミド基の具体例としては1例
えはφ−チアゾリンーコーチオン、参−イミダゾリン−
コーチオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオ
バルビッール酸、テトラン°りンーj−チオン、/、2
.44−トリアゾリン−3−チオン、/、J、≠−チア
ジアゾリンー2−チオン、/、3.≠−オキサジアゾリ
ンー2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベ
ンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチアゾリン−
コーチオンなどが挙げられ、これらは更に置換されてい
てもよい。
Xoのメルカプト基は脂肪族メルカプト基、芳香族メル
カプト基やペテロ環メルカプト基(−3R基が結合し九
炭素原子の隣シが窒素原子の場会は、これと互変異性体
の関係にちる環状チオアミド基と同義であシ、この基の
具体例は上に列挙したものと同じである)が挙げられる
Xoで表わされるj艮ないし、を負の含窒素ヘテロ環基
としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組会せからなる
!負ないし6員の含窒素ヘテロ環があけられる。これら
のうち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ペンズイ
iダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾ
ール、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、テアジアゾ
ール、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる
。これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい
置換基としては、Yの置換基として述べたものがあげら
れる。
XOで表わさnるもののうち、好ましいものは環状のチ
オアミド基(すなわちメルカプト置換含窒素ヘテロ環で
、例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカ
プト−1,2,弘−トリアゾール基、j−メルカプトテ
トラゾール基、2−メルカプト−/、3.II−オキサ
ジアゾール基、コーメルカブトベンズオキサゾール基な
と)、又は含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンシト+7ア
ゾール基、ペンズイズダゾール基、インダゾール基なと
)の場会である。
又、X o tL o %。基は、2個以上置換されて
いてもよく、同じでも異っていてもよい。
L、で表わされる二価の連結基としては、C1N、S、
Oのうち少なくとも1種を含む原子又は原子団である。
具体的には、例えばアルキレン基、アルケニレン基、ア
ルキニレン基、アリーレン基、−〇−1−S−1−NH
−1−N=、−CO−1−so2−(これらの基は置換
基をもっていてもよい)、等の単独またはこれらの組会
せからなるものである。
具体例としては、例えば −CONH,−NHCONH−1SO2NH−1−CO
O−1−CHzCHzSO2NH−1−CHzCH2C
ONHなどが挙げられる。
これらは、さらに適当な置換基で置換されていてもよい
。置換基としてUYの置換基として述べたものが挙げら
nる。
A1、A2は、水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好筐しくに)
二ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−
0,3以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好筐しくにベンゾイ
ル基、又ハハメットの置換基定数の和が−0,3以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基([換
基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホン
アばド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、
スルホン酸基が挙げらnる。)でhL Al、A2で表
わさnるスルフィン酸残基は具体的には米国特許第弘、
≠7?、り21r号に記載されているものを表わす。
AI、A2としては水素原子が最も好ましい。
−膜化(X)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
一般式(、X)で表わされるもののうち、好ましいもの
は一般式([)で表わすことができる。
−膜化(xI) 式中Y′は一般式(X)のYから水素原子1個を除い九
季のである。ここでR,Y’ またはLOのうち少なく
とも1個II’S p K a l、 g上の陰イオン
に解離し得る基あるいはアばノ基をMする。pKat以
上の陰イオンに解離し得る基のうち、好ましいものはp
Kaf−/Jの陰イオンに解離しうる置換基で、中性あ
るいは弱酸性の媒質中ではほとんど解離せず現像液のよ
うなアルカリ性水溶液(好1しくはpHto、5−t2
.3)中で十分に解離するものであnばよく、特定のも
のである必要はない。
例えば、水酸基、−8O2NH−で表わされる基1、O
H ヒドロキシイミノ基(、C=N   )、活性メチレン
基、又は活性メチン基(例えば−UH2COO−1−C
H2CO−1−ch−coo−a (!’ > すどが
挙げらnる。
又、アば〕基は1級、2級、またな3級のいすnでもよ
く、好塘しくは共役縁のp K aが1.0以上のもの
が好ましい。
AI、A2、G、R%Lo%XoおよびmQは一般式(
I)で説明したものと同義である。
−膜化(、X)で表わしたもののうち、特に好ましいも
のは一般式(Xll)で表わされるものである。
−膜化(刈) 式中、L′oは一役式(X)および(XI)のり。
と同義であシ、yoは一役式(X)のYの置換基として
挙げ0次ものと同義であシ、nQはO又は/、toはO
%l、又は2−jj1表わし、1.がλのときはyoは
同じでも異ってもよい。
A1、A2、G%RおよびXOは一般式(X)で説明し
友ものと同義である。
さらに好ましくは XO+L’oi。SO2NHahヒ
ドラジノ基に対し、0位又Up位に置換したものである
また−膜化(X)においてYまたはRは、−膜化(X)
で表わされる化合物がハロゲン化銀粒子の表面に吸着す
るのを促進する基をMするt゛のが最も好ましい。
本発明において、−牧式(X)で表わされる化合物を写
真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤
層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親
水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルター層
、ハレーション防止層など)に含有させてもよい。具体
的には使用する化付物が水溶性の場合には水溶液として
、また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、
ケトン類などの水と混和しうるM機溶媒の溶液として、
親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳
剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの
任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前
の間に添加するのが好ましい。特に塗布の友めに用意さ
れた塗布液中に添加するのがよい。
本発明の一般式(X)で衣わされる化合物の含有にはハ
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含Mさせる層とハロゲン化銀乳剤
層の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の
輩を選択することが望しく、その選択のための試験方法
は当業者のよく知るところである。通常は好ましくはハ
ロゲン化銀/モ/L当#)/X10 ’モル&いL/X
/(7”モル、特に/x10−5ないし弘×1o−2モ
ルの範囲で、用いられる。
一般式(X)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
X−/ X−/A X−/7 X−/r X−2/ X−2I C4H9 X−3/ COOH0 X−3! Nf(NHCHO −Jlr n−C12H25−NHNHCHO X−jり H3 X−≠3 X−≠弘 X−弘j −4ta X−≠7 X−≠r X−ゲタ α X−j≠ ”8H17 X−乙O 本発明に用いらnる一役式(X)で表わされる化合物の
合成法は例えば特開昭j3−20.り21号、同13−
20,922号、lWI夕J−IA。
732号、同よ3−20,371号、同j6−67 、
 r4!3号、同42−/71,21A6号、同62−
/10,36/号、%願昭A/−261,244?号、
声1t2−sr、jtJ号、同42−17゜jot号、
同42−47,109号、同62−130.179号、
同42−/1fi3.4Lt?号、米国特許第≠、≠よ
?、3≠7号、同弘、’771゜921号、間係、よ6
0,431号などに記載されている。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7.μ以下)の方が好ましく、特に0
.2μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制
限にないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単
分散とは1址もしくに粒子数で少なくともそのり!チが
平均粒子サイズの±≠O%以内の大きさを待つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体、菱1
2面体、14L面体のような規則的(regular)
な結晶体をMするものでもよく、ま友球状、平板状など
のような変則的(irregular )な結晶を持つ
もの、あるいはこれらの結晶形の複曾形を待つものであ
っても工い。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相から成っていてもよい。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
せ物、主として金錯tjl−用いる。全以外の貴金属、
九とえは口金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許第2.弘≠r、
oto号、英国特許第67r、0//、号などに記載さ
nている。硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる
硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫
酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用
いることができる。
上記においてに、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理熟
成終了前とくに粒子形成時にイリジウム塩もしくはロジ
ウム塩を用いることが好ましい。
本発明においてハロゲン化銀乳剤層は特願昭6O−61
t/99号、特願昭1.0−232016号に開示され
ているような平均粒子サイズの異なる二種類の単分散乳
剤を含むことが最高濃度(Dmax)上昇という点で好
ましく、小サイズ単分散粒子は化学増感されていること
が好ましく、化学増感の方法は硫黄増感が最も好ましい
。大サイズ単分散乳剤の化学増感はさnていなくてもよ
いが、化学増感されていてもよい。大サイズ単分散粒子
は一牧に黒ボッが発生しやすいので化学増感を行なわな
いが、化学増感するときは黒ボッが発生しない程度に浅
く施すことが特に好ましい。ここで「浅く施す」とは小
サイズ粒子の化学増感に較べ化学増感を施す時間を短か
くしfcシ、温度を低くし九り化学増感剤の添加量を抑
えたシして行なうことである。大サイズ単分散乳剤と小
サイズ単分散乳剤の感度差には特に制限はないが△lO
gEとして0、/〜i、o、よシ好1しくは0.2〜0
.7であシ、犬サイズ単分散乳剤が高い方が好ましい。
ここで、各乳剤の感度はヒドラジン誘導体を含Mづせ支
持体上に塗布し、亜硫酸イオンを0.7!tモル/1以
上含むpH/ 0 、!〜12.3の現像液を用いて処
理したときに得られるものである。
小サイズ息分散粒子の平均粒子サイズは、大サイズのハ
ロゲン化銀単分散粒子の平均サイズの90−以下であり
、好ましくは10%以下である。ハロゲン化銀乳剤粒子
の平均粒子サイズは、好1しくに0.02μ〜/、0μ
より好ましくは0./μ〜O1Sμでこの範囲内に大サ
イズと小サイズ単分散粒子の平均粒子サイズが含まれて
いることが好ましい。
本発明においてサイズの異なつ友2種以上の乳剤を用い
るとき小サイズ単分散乳剤の塗布銀量としては、総塗布
銀量に対して、好ましくはμO〜90wtチ、より好ま
しくは!0−rOwt% である。
本発明において粒子サイズの異なる単分散乳剤を導入す
る方法としては、同一乳剤に導入してもよく、あるいは
別々の層に導入してもかまわない。
別々の層に導入するときは、大サイズ乳剤を上層に、小
サイズ乳剤を下層にするのが好ましい。
なお、総塗布銀量としては、/ t / @ 2〜C?
/1rL2が好ましい。
本発明に用いられる感光材料には、感度上昇を目的とし
て特開昭jよ一520jO号第≠j頁〜!3頁に記載さ
れた増感色素(例えばシアニン色素、メロシアニン色素
など。)を添加することができる。これらの増感色素は
単独に用いてもよいが、それらの組会せを用いてもよく
、増感色素の組会せは特に、強色増感の目的でしはしは
用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用
を47’Cない色素あるいに可視光を実質的に吸収しな
い物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んで
もよい。有用な増感色素、強色増感を示す色素の組会せ
及び強色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ
ー(ResearchDisclosure) / 7
 &巻/7A!J(/?7f年12月発行)第23頁■
の5項に記載さnている。
本発明の感光材料にに、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能全
安定化させる目的で、檀々の化会物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインタゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アばノドリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トビリごジン類;メルカプトトリアジン類二九とえはオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化会物ニアザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に≠−ヒドロキシfl換(1,3,jat7)
テトラザインデン類)、インタアザインデン類など:ベ
ンゼンチオスルフオン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベン
ゼンスルフォン酸アずド等のようなカブリ防止剤ま几は
安定剤として知られ次多くの化会物を加えることができ
る。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾ
ール類(例えば、!−メチルーベンゾトリアゾール)及
びニトロインダゾール類(例えば!−二トロインダゾー
ル)である。また、これらの化会物を処理液に含有させ
てもよい。
本発明の硬調化を促進する手段は、写真乳剤層もしくは
その他の親水性コロイド層に、無機もしくは有機の減感
剤を含む写真感光材料において、特にその効果が発揮さ
れる。
無機の減感剤として、ハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化
銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯塩、
イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させることが
できる。
特に好ましいのはロジウム塩である。
ロジウム塩としては、−塩化ロジウム、二塩化ロジウム
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくに水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲノ錯化付物例えばヘキサクロロロジウム(m
>tsもしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウム塩
、カリウム塩なと)である。
これらの水浴性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀1モ
ル当り/、0x10   モル〜/、0X10  ’モ
ルの範囲で用いられる。好しくは、l。
0x10−7−Elk 〜A、0X10−5%ルである
本発明に用いられる有機減感剤は、そのボー20グラフ
半波電位、即ちポーラログラフイーで決定される酸化還
元電位によシ規定され、ポーラロ陽極電位と陰極電位の
和が正になるものである。
ポーラログラフの酸化還元電位の測定法についてに例え
は米画特許第J 、JrO/ 、307号に記載されて
いる。有機減感剤には少なくとも1つ水溶性基含有する
ものが好ましく、具体的にはスルホン酸基、カルボン酸
基、スルホン酸基などが挙げられ、これらの基は有機塩
基(例えは、アンモニア、ピリジン、トリエチルアごン
、ピペリジン、モルホリンなど)ま九にアルカリ金属(
例えばナトリウム、カリウムなど)などと塩を形成して
いてもよい。
有機減感剤としては、以下に具体例をあげるものの他特
願昭A/−210991号の第55頁〜第72頁に記載
された一般式1)〜(V)で表わされるものが好ましく
用いられる。
(減感剤構造式) cooH ■ O2 本発明における有機減感剤にハロゲン化銀乳剤層中に/
、0X10−8〜/、0X10  ’モhWL2、特に
/ 、0X10−7〜/ 、O×70−5モル/m2存
在せしめることが好ましい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるtめの
染料、好ましくは、゛ハロゲン化銀の固M感度域に分光
吸収極大e!する紫外線吸収剤や、明室感光材料として
取り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高め
る几めの、主としてJ r Onm〜AOOnmの領域
に実質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち支持体に関して
ハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロイド
層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好まし
い。
紫外線吸収剤のモル吸光係数によシ異なるが、通常1O
−2t/m” 〜/f/m2の範囲で添加される。好ま
しくはj 0m9〜j 0011uj/7F12 テロ
る。
上記紫外線吸収剤は適当な溶媒〔例えば水、アルコール
(例エバメタノール、エタノール、フロパノールなど)
、アセトン、メチルセロンルブ、など、あるいはこれら
の混会溶媒〕に溶解して金高液中に添加することができ
る。
紫外線吸収剤としては、例えば、アリール基で置換され
たベンゾトリアゾール化合物、≠−チアゾリドン化会物
、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化会物、ブタ
ジェン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線
吸収ポリマーを用いることができる。
紫外線吸収剤の具体例は、米国特許j 、!33 。
79弘号、同3.31ダ、79≠号、向3,3j2.4
1/’P;、特開昭4’A−2711A号、米国特許j
 、701.101号、同3,707,371号、同≠
、Oμ!、229号、同J 、 700 、弘jj号、
同31弘タデ、762号、西独特許出願公告/、!17
7、It、3号などに記載されている。
フィルター染料としては、オキソノール染料、へiオキ
ソノール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シタ
ニン染料およびアゾ染料が包含される。現像処理後の残
色を少なくする意味から、水溶性もしくは、アルカリや
亜硫酸イオンによって脱色する染料が好ましい。
具体的には、例えば米国特許第2.2711−.7♂2
号に記載のピラゾロンオキソノール染料、米国特許第2
.9j6,179号に記載のジアリールアゾ染料、米国
特許第3.≠23,207号、同第3,3r弘、参j7
号に記載のスチリル染料やブタジェニル染料、米国特許
第2.327 、 jrJ号に記載のメロシアニン染料
、米国特許第3゜μft、197号、同第J、A!2.
21≠号、SmJ、7/r、≠72号に記載のメロシア
ニン染料やオキソノール染料、米国特許第J 、 ??
4 。
44/号に記載のエナミンへごオキソノール染料及び英
国特許第sr弘、609号、同第1./77.1129
号、特開昭!r−1!/30号、同弘?−991,20
号、filター//≠弘20号、米国特許第2.!3J
、≠72号、同第3./ダざ。
117号、同第3,777.071号、同第3゜2’1
7,127号、同第J、j’IO,117号、同第3.
!71.70≠号、同第J、l、13.9or号、に記
載の染料が用いられる。
染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えばメタ
ノール、エタノール、プロノノールなど)、アセトン、
メチルセロソルブなど、あるいはこれらの混会溶媒〕に
溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用塗布液
中に添加さnる。
具体的な染料の使用量は、一般にIOf/TrL2〜l
t/m2、特に/ 0 3 f / m 2〜0 。
! f / WL2の範囲に好ましい量を見い出すこと
ができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含Mしてよい。
例えばクロム塩、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、ゲ
ルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物(ジ
メチロール尿素など)、活性ビニル化合物(/、J、J
’−4リアクリロイル−へキサヒドロ−S −)リアジ
ン、l、3−ビニルスルホニル−2−プロパツールナト
)、活性ハロケン化e物(2,≠−ジクロルー6−ヒド
ロキシー8−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類など
を単独または組み会わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。特に本発明において好1しく用
いられる界面活性剤は特公昭よr−2弘12号公報に記
載された分子xtoo以上のポリアルキレンオキサイド
類である。ここで帯電防止剤として用いる場曾には、フ
ッ素を含有した界面活性剤(詳しくは米国特許第! 、
20/ 、116号、特開昭to−t。
!参′9号、同!9−7グjよ≠号)が特に好ましい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、at化マグネシ
ウム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこ
とができる。
本発明の写真乳剤には寸度安定性の改良などの目的で水
不溶−!友は難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アル
コキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、などの単独もしくは組会わせ、また
はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せ
を単量体成分とするポリマーを用いることができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を肩する化合物を含有することが好筐しい
。酸基金Mする化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として肩するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭6O−61s/7り号、同6o
−41173号、同4O−IAJrjt号、及び同AO
−/95611号明細書の記載を参考にすることができ
る。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子
化合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物と
してはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼン
の如き2個以上の不飽和基をMする架橋性モノマーから
なるコポリマーの水分散性ラテックスである。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2.弘/ 9.973号に記載され*pH/jに近い高
アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用
いることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0./!モル/1以上含み、pH
10,j−/2.!、特にp )l /7.0−/2.
0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ること
かで色る。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼンI[−/−7エールー3−ピラゾリドン類の組会
せ1几はジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノー
ル類の組付せを用いる場合もある。現像主薬は通常0.
O!モル/l、0.tモル/lの量で用いられるのが好
ましい。またジヒドロキシベンゼン類とl−フェニル−
3−ピラゾリドン類又はp−アi)−フェノール類との
組付せを用いる場合には前者を0.0jモル/l〜0.
jモル/l、後者を0.06モル/l以下の量で用いる
のが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸[はO0φ0弘/!以上、特に0.2モル/!以上が
好ましい。
本発明の現像液にに銀汚れ防止剤として特開昭56−2
弘、j4!7号に記載の化合物を用いることができる。
現像液中に添加する溶解助剤として特願昭40−109
,71t3号に記αの化合物を用いることができる。さ
らに現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭4O−YJ
、弘33号に記αの化合物あるいは特願昭61−コr 
、’yor号に記載の化合物を用いることができる。
次に実施例により、本発明の詳細な説明する。
なお、実施例に於ては、下記処方の現像液を用い九。
現像液 ハイドロキノン         弘s、orN・メチ
ルP・アミノフェノ− ル//2硫酸塩        o、rt水酸化ナトリ
ウム        /1.Of水酸化カリウム   
     sj、oyj−スルホサリチル酸     
弘s、otホウ酸           2!、Of亜
硫酸カリウム       /10.0?エチレンシア
ばン四酢酸 二ナトリウム坦         /、0f2−メルカ
ブトベンツイξダゾ ール!スルホン酸        0.32臭化カリウ
ム            6.0tjメチルベンゾト
リアゾール    0.Afn・プチルジエタノールア
はン  it、of水を加えて           
 /1(pH=//、6) 〔実施例−7〕 ≠OOCに保つ九ゼラチン水溶液に銀1モル幽シj、0
X70 5モルの(Nu−14)3Rhα6の存在下で
硝酸銀水浴液と塩化ナトリウム水溶液全同時に混会した
のち、当業界でよく知られ九方法にて、可溶性塩を除去
したのちにゼラチン全顎え、化学熟成せずに安定化剤と
してλ−メチルー≠−ヒドロキシー/、J、Ja、7−
チトラアザインデンを添加した。この乳剤は平均粒子サ
イズが00orμの立方晶形をした単分散乳剤であった
この乳剤に次のヒドラジン化合物と 7に■/m2 表−lに示すように本発明の化合物および比較化合物と
、ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラ
チンJ Ow t%添加し、硬膜剤として、l、3−ビ
ニルスルホニル−2−フロ/ξノールを加え、ポリエス
テル支持体上に3 、r S’/m2のAgiになる様
に塗布した。ゼラチンは1.rt/m2であった。この
上に保護層としてゼラチン/、jt/m2の層を塗布し
た。
比較試料a −e H1比較例であシ、本発明の化合物
の代りに、ブロック基でブロックされていない次の比較
化合物音用いたものである。
比較化合物−2 こnらの各試料は、ttto 0C1湿度jj%REl
に16時間保存し友のち、このサンプルに大日本スクリ
ーン■製明室プリンターp−607で、光学ウェッジを
通して露光し3r 0C20秒現像処理し、定着、水洗
、乾燥し比。
得られ次写真性の結果を表−tに示した。
相対感度は濃度1.jを与える露光量AtogB値の相
対値を比較試料eを基準にして示した。階調(γ)は特
性曲線の濃度0.3と濃度!、0を結ぶ亘ねの傾きであ
る。膨潤厚みは、塗布膜を水に浸漬し膨潤し次厚みを測
定し、(膨潤厚み/乾燥膜厚み)X/ 00で示した。
ウェット膜強度は、試料を先に示し次組酸の現像液にJ
r’Cで20秒浸漬し、濡れ次まま、直径o 、tmの
ステンレス針で種々の荷重で表面を引掻いたときの強度
である。値に、傷がつき始め文荷重を示したもので、大
きな値はど膜強度が強いことを示す。
i−/の結果から、本発明の試料は、高rと、強いウェ
ット膜強度が得られることがわかる。それに対して、比
較化付物を用い友サンプル−b〜eでは、硬膜が阻害さ
れるため、膨潤度が犬きく、ウェット膜強度が低くなり
好ましくない。
〔実施例−コ〕
実施例−lに用いたと同じ乳剤を用いて、次のヒドラジ
ン化合物(7≠■/rrL2)と、次の7に機成感剤(
J −0Tn9/m2)および造核促進剤を表−2に示
すように添加し、 有機減感剤 O2 さらに、ポリエチルアクリレートラテックスをゼラチン
に対して30wt%添加し、硬膜剤として/、J−ビニ
ルスルホニル−コープロバノールを加え、ポリエステル
支持体上に3.191m2のAg、FMになる様に塗布
した。ゼラチンな/、If/m2であった。この上に保
護層として、ゼラチン(/、Jr/m2)次の染料、お
よび、マット剤トしてポリメチルメタクリレート(平均
粒径コ。
jμ)tj5’1t19/m2含む層を窪布L7’C0
比較試料f〜hは、比較例であシ、本発明の造核促進剤
に代えて、ブロック基でブロックされていない次の比較
化合物を用い次。
比較化合物−3 (染料) 0aNa 700 m9/ m2 こnらの各試料を実施例−lと同様に現像処理し、写真
性を評価し友。セーフライト安全性は、セーフライトの
UVカット螢光灯〔東芝■FLR−弘03W−DLX−
NU/M)でUOOルクスの下での安全時間をテストし
た。強制経時性は、各試料をso ’C7j%RHで3
日間強制経時し友のち、同様に現像処理して、感度変化
で評価した。ΔS=(強制経時後の感度)−(強制経時
前の感度)結果を表−2に示した。
表−一の結果から、本発明の試料は、添加量の増加とと
もにγが高くなるが、感度変化が少なく、かつセーフラ
イト安全性の悪化も少ないのに対し、比較試は感度変化
が大きくセーフライ)%食性の悪化が大きいことがわか
る。ま友、強制経時したとき、比較試料は大きく感度が
変化するが、本発明の試料は、わずかしか変動しなかっ
た。
本発明の好ましい実施態様は以下の如し。
!、ヒドラジン誘導体がハロゲン化銀に吸着する基を肩
することを特徴とする特許請求の範囲の感光材料。
λ、ヒドラジン誘導体が一般式(X)で表わされること
を特徴とする上記1orf&光材料。
3、ヒドラジン誘導体が一般式([)で表わされること
を特徴とする上記lの感光材料。
弘、ヒドラジン誘導体が一般式(Xll)で表わされる
ことを特徴とする上記lの感光材料。
j、−膜化(1)で表わされる造核促進剤プレカーサー
がさらに下記−役式(■)′で表わされることを特徴と
する特許請求の範囲の感光材料。
但し R1、R2、R3、Yl、Xx、mt、及び01
は本文記載の一般式([)における定義と同義である。
L−D’ は−膜化(■)のDと同義である。
但しLがメルカプト基又はチオアミド基をMしている場
会は、−L−D’は ■ O で表わさnる。
6、−膜化(■)′において−L−D’はベンゾトリア
ゾール基又はメルカプトテトラゾール基金含有すること
を特徴とする上記jの感光材料。
7、造核促進剤プレカーサーが本文記載の化付物例11
1〜(411でるることを特徴とする特許請求の範囲の
感光材料。
t、ハロゲン化銀乳剤層中に石積減感剤及び/又はロジ
ウム塩を含有することを特徴とする特許請求の範囲の感
光材料。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 1、事件の表示    昭和を一年特願第2zirり7
号2、発明の名称   超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真
感元材料3、補正をする者 事件との関係       特許出願人任 所  神奈
川県南足柄市中沼210番地4、 補正の対象  明細
書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
1)第3を頁il+の構造式を 」 と補正する。
2)第32頁(9)の構造式を [ 」 と補正する。
3)第j!頁2行目の 「ウムラシ」を 「ウラシル」 と補正する。
4)第7/頁l!行目の 「献上後」を 「滴下後」 と補正する。
5)第り1頁X−J弘の構造式を 「 」 と補正する。
7)第131頁/l〜/λ行目の 「造核促進剤プレカーサー」を 「ブロックされた造核促進剤」 と補正する。
8)第136頁下から3行目の 「造核促進剤プレカーサー」を 「ブロックされた造核促進剤」 と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
    有し、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層に、ヒド
    ラジン誘導体を少なくとも1種類と下記一般式〔 I 〕
    で表わされる化合物を少なくとも1種類含むことを特徴
    とする超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式〔 I 〕 A−B 式中、Aは処理時に造核促進剤を放出することができる
    ブロック基を表わし、Bはヘテロ原子を介してAに結合
    している造核促進剤を表わす。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02285344A (ja) * 1989-04-26 1990-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料
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US7695234B2 (en) 2001-12-04 2010-04-13 Rorze Corporation Device for temporarily loading, storing and unloading a container
US8925405B2 (en) 2008-12-19 2015-01-06 Kawabuchi Mechanical Engineering Laboratory, Inc. Linear-motion telescopic mechanism and robot arm having linear-motion telescopic mechanism

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