JPH02161422A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、特に写真製版工程において有用な超硬調ネガ画像を安
定な処Fi!液を用いて形成することができるハロゲン
化銀写真感光材料に関するものである。
、特に写真製版工程において有用な超硬調ネガ画像を安
定な処Fi!液を用いて形成することができるハロゲン
化銀写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
グラフィック・アークの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマを10以上)の写真
特性を示す画像形成システムが必要である。
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマを10以上)の写真
特性を示す画像形成システムが必要である。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特別な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く (通常0゜1モル/l以下)しである。そのためリ
ス現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保
存に耐えられないという重大な欠点を持っている。
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く (通常0゜1モル/l以下)しである。そのためリ
ス現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保
存に耐えられないという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4
.168,977号、同第4,166.742号、同第
4,311,781号、同第4,272,606号、同
第4. 211. 857号、同第4,243.739
号等に記載されているヒドラジン誘導体を用いる方法が
ある。この方法によれば、超硬調で感度の高い写真特性
が得られ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えるこ
とが許容されるので、現像液の空気酸化に対する安定性
はリス現像液に比べて飛躍的に向上する。
方法としては米国特許第4,224,401号、同第4
.168,977号、同第4,166.742号、同第
4,311,781号、同第4,272,606号、同
第4. 211. 857号、同第4,243.739
号等に記載されているヒドラジン誘導体を用いる方法が
ある。この方法によれば、超硬調で感度の高い写真特性
が得られ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸塩を加えるこ
とが許容されるので、現像液の空気酸化に対する安定性
はリス現像液に比べて飛躍的に向上する。
しかしながらこれらヒドラジン化合物を用いて超硬調な
画像を作る場合、処理疲労や空気疲労によるpHの変動
、現像主薬の低下、抑制剤の蓄積などにより濃度の低下
や階調の軟調化といった問題、あるいは、黒ボッと呼ば
れる故障が発生しやすくヒドラジンによる硬調化を促進
したりする手段が強(望まれており、特開昭61−16
7939にはホスホニウム塩化合物、特開昭61〜19
8147にはジスルフィド化合物、特開昭60−140
340、同62−222.241、同62−250.4
79にはアミン系化合物、同62−187.340、同
63−142.349にはアリールカルビノール化合物
が硬調化剤として開示されている。
画像を作る場合、処理疲労や空気疲労によるpHの変動
、現像主薬の低下、抑制剤の蓄積などにより濃度の低下
や階調の軟調化といった問題、あるいは、黒ボッと呼ば
れる故障が発生しやすくヒドラジンによる硬調化を促進
したりする手段が強(望まれており、特開昭61−16
7939にはホスホニウム塩化合物、特開昭61〜19
8147にはジスルフィド化合物、特開昭60−140
340、同62−222.241、同62−250.4
79にはアミン系化合物、同62−187.340、同
63−142.349にはアリールカルビノール化合物
が硬調化剤として開示されている。
ここで黒ボッとは、非画像部(例えば網点と網点の間)
に生しるスポット状の黒い斑点を指しくブラックベラバ
ー)、現像液が終時により疲労して一般に保恒剤として
使用されている亜硫酸イオンが減少したり、液のI)
Hが高くなったときに顕著に発生し、写真品質を損なう
ものである。
に生しるスポット状の黒い斑点を指しくブラックベラバ
ー)、現像液が終時により疲労して一般に保恒剤として
使用されている亜硫酸イオンが減少したり、液のI)
Hが高くなったときに顕著に発生し、写真品質を損なう
ものである。
一方ヒドラジン化合物を用いて低感度の明室用感光材料
を得ようとする場合、例えば特開昭6083038およ
び同60−162,241Eには水溶性ロジウム塩を含
むハロゲン化銀感光材料が開示されている。しかしなが
ら感度を下げるのに充分な量のロジウムを添加すると、
ヒドラジン化合物による硬調化が阻害され、所望の充分
硬調な画像が得られなかった。
を得ようとする場合、例えば特開昭6083038およ
び同60−162,241Eには水溶性ロジウム塩を含
むハロゲン化銀感光材料が開示されている。しかしなが
ら感度を下げるのに充分な量のロジウムを添加すると、
ヒドラジン化合物による硬調化が阻害され、所望の充分
硬調な画像が得られなかった。
また、特開昭59−157,633にはハロゲン化if
f 1モル当り10−+1〜10−’モルの水溶性ロジ
ウム塩およびポーラログラフの陽極電位と陰極電位の和
が正である有機減感剤を含むハロゲン化銀写真乳剤の製
造方法が開示されている。しかしながら、この方法では
確かに感度が低くはなるが、本発明が目的とする産業分
野で利用するのに充分な硬調画像を得ることはできない
。
f 1モル当り10−+1〜10−’モルの水溶性ロジ
ウム塩およびポーラログラフの陽極電位と陰極電位の和
が正である有機減感剤を含むハロゲン化銀写真乳剤の製
造方法が開示されている。しかしながら、この方法では
確かに感度が低くはなるが、本発明が目的とする産業分
野で利用するのに充分な硬調画像を得ることはできない
。
このようなロジウムやf(機減怒剤を用いた低感度の明
室用感光材料の硬調化剤としては特開昭63−124,
045、同63−133,145に記載の吸着性アミン
化合物が開示されている。
室用感光材料の硬調化剤としては特開昭63−124,
045、同63−133,145に記載の吸着性アミン
化合物が開示されている。
これら従来より知られているアミン系化合物、アリール
カルビノール系化合物は処理時の濃度低下や軟調化防止
の点では不十分であり、又、硬調化のためには比較的多
量に添加する必要があり、そのため乳剤膜の強度を弱め
たり、保存性を悪化させる問題もある。一方、吸着性ア
ミン化合物は高い硬調化促進効果をもち、処理時の濃度
低下や軟調化防止の点でかなりの改善がみられるものの
、黒ボッが発生しやすい等の欠点がある。
カルビノール系化合物は処理時の濃度低下や軟調化防止
の点では不十分であり、又、硬調化のためには比較的多
量に添加する必要があり、そのため乳剤膜の強度を弱め
たり、保存性を悪化させる問題もある。一方、吸着性ア
ミン化合物は高い硬調化促進効果をもち、処理時の濃度
低下や軟調化防止の点でかなりの改善がみられるものの
、黒ボッが発生しやすい等の欠点がある。
したがって、処理時の濃度低下や軟調化防止にすぐれ、
黒ボツ発生のない、高い硬調化促進効果をもつ硬調化剤
の出現が望まれていた。
黒ボツ発生のない、高い硬調化促進効果をもつ硬調化剤
の出現が望まれていた。
(発明の目的)
本発明の目的は、ヒドラジン化合物を用いた系において
硬調化を促進する手段を提供することであり、 第2の目的は処理時の濃度低下や軟調化がなく、かつ黒
ボツ発生がない硬調化促進手段を提供することであり、 第3の目的はロジウム塩や有機減感剤を用いた系での硬
調化促進手段を提供することであり、第4の目的は超硬
調ネガ画像を形成できるハロゲン化銀写真感光材料を提
供することであり、第5の目的は低感な明室用写真感光
材料を提供することである。
硬調化を促進する手段を提供することであり、 第2の目的は処理時の濃度低下や軟調化がなく、かつ黒
ボツ発生がない硬調化促進手段を提供することであり、 第3の目的はロジウム塩や有機減感剤を用いた系での硬
調化促進手段を提供することであり、第4の目的は超硬
調ネガ画像を形成できるハロゲン化銀写真感光材料を提
供することであり、第5の目的は低感な明室用写真感光
材料を提供することである。
(発明の構成)
本発明の上記の目的は支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層又はその他の親水性コ
ロイド層に、ヒドラジン3’RR体を少なくとも一種類
と下記一般弐〇)で表わされる化合物を少なくとも一種
類含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層又はその他の親水性コ
ロイド層に、ヒドラジン3’RR体を少なくとも一種類
と下記一般弐〇)で表わされる化合物を少なくとも一種
類含むことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
一般式(I)
%式%
式中、Aばアリーレン基を表わし、R1,Rffはそれ
ぞれ水素原子又は置換可能な基を表わし、Yはハロゲン
化銀への吸着促進基であり、Lは2価の連結基を表わし
、l、mはそれぞれ0又は1、nは0.1.2.3又は
4を表わす。
ぞれ水素原子又は置換可能な基を表わし、Yはハロゲン
化銀への吸着促進基であり、Lは2価の連結基を表わし
、l、mはそれぞれ0又は1、nは0.1.2.3又は
4を表わす。
一般式(I)においてAで表わされるアリーレン基は具
体的にはフェニレン基、ナフチレン基を表わし、置換基
で置換されていてもよい。
体的にはフェニレン基、ナフチレン基を表わし、置換基
で置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、置換アミノ基、アミルアミノ基、スルホニルア
ミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、シアン基、スルホ基やカルボ
キシル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキルもしく
はアリールオキシカルボニル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、及びニトロ基などである。
ール基、置換アミノ基、アミルアミノ基、スルホニルア
ミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、シアン基、スルホ基やカルボ
キシル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキルもしく
はアリールオキシカルボニル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、及びニトロ基などである。
これらの基は可能なときには互いに連続して環を形成し
てもよい、mは0又はlを表わし、■がより好ましい。
てもよい、mは0又はlを表わし、■がより好ましい。
R’ SR”で表わされる置換可能な基としては例えば
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基
、ヒドロキシ基などを表わし、これらの基は可能ならさ
らに置換されていてもよい。置換基としてはAの置換基
として挙げたものと同義である。
アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基
、ヒドロキシ基などを表わし、これらの基は可能ならさ
らに置換されていてもよい。置換基としてはAの置換基
として挙げたものと同義である。
Yはハロゲン化銀への吸着促進基であり、Lは2価の連
結基である。1は0または1である。Yで表わされるハ
ロゲン化銀への吸着促進基の好ましい例としては、チオ
アミド基、メルカプト基、ジスルフィド結合を有する基
または5ないし6員の含窒素へテロ環基があげられる。
結基である。1は0または1である。Yで表わされるハ
ロゲン化銀への吸着促進基の好ましい例としては、チオ
アミド基、メルカプト基、ジスルフィド結合を有する基
または5ないし6員の含窒素へテロ環基があげられる。
Yであられされるチオアミド吸着促進基は、I
C−アミノ−で表わされる二価の基であり、環構造の一
部であってもよいし、また非環式チオアミド基であって
もよい。有用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特
許4,030,925号、同4,031,127号、同
4.080,207号、同4,245.037号、同4
.255.511号、同4,266.013号、及び同
4.276.364号、ならびに、「リサーチ・ディス
クロージャーJ (Research Disclo
sure)誌第151巻隘15162 (I976年1
1月)、及び同第176巻隘1?626 (I978年
12月)に開示されているものから選ぶことができる。
部であってもよいし、また非環式チオアミド基であって
もよい。有用なチオアミド吸着促進基は、例えば米国特
許4,030,925号、同4,031,127号、同
4.080,207号、同4,245.037号、同4
.255.511号、同4,266.013号、及び同
4.276.364号、ならびに、「リサーチ・ディス
クロージャーJ (Research Disclo
sure)誌第151巻隘15162 (I976年1
1月)、及び同第176巻隘1?626 (I978年
12月)に開示されているものから選ぶことができる。
非環式チオアミド基の具体例としては、例えばチオウレ
イド基、チオウレタン基、ジチオカルバミン酸エステル
基など、また環状のチオアミl”基の具体例としては、
例えば4−チアゾリン−2チオン、4−イミダシリン−
2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオ
バルビッール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.
4−トリアゾリン−3−チオン、1,3.4−チアジア
ゾリン−2−チオン、1,3.4−オキサジアゾリン−
2−チオン、ベンズイミダシリン−2〜チオン、ベンズ
オキサゾリン−2−千オン及びベンゾチアゾリン−2−
チオンなどが挙げられ、これらは更に置換されていても
よい。
イド基、チオウレタン基、ジチオカルバミン酸エステル
基など、また環状のチオアミl”基の具体例としては、
例えば4−チアゾリン−2チオン、4−イミダシリン−
2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオ
バルビッール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.
4−トリアゾリン−3−チオン、1,3.4−チアジア
ゾリン−2−チオン、1,3.4−オキサジアゾリン−
2−チオン、ベンズイミダシリン−2〜チオン、ベンズ
オキサゾリン−2−千オン及びベンゾチアゾリン−2−
チオンなどが挙げられ、これらは更に置換されていても
よい。
Yのメルカプト基は脂肪族メルカプト基、芳香族メルカ
プト基やペテロ環メルカプト基(−3H基が結合した炭
素原子の隣りが窒素原子の場合は、これと互変異性体の
関係にある環状チオアミド基と同義であり、この基の具
体例は上に列挙したものと同じである)が挙げられる。
プト基やペテロ環メルカプト基(−3H基が結合した炭
素原子の隣りが窒素原子の場合は、これと互変異性体の
関係にある環状チオアミド基と同義であり、この基の具
体例は上に列挙したものと同じである)が挙げられる。
Yで表わされる50ないし6員の含窒素へテロ環基とし
ては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員
ないし6貝の含窒素へテロ環があげられる。これらのう
ち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、トリ
アゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダ
ゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾール
、ペンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾール
、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる。
ては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員
ないし6貝の含窒素へテロ環があげられる。これらのう
ち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、トリ
アゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダ
ゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾール
、ペンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾール
、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、への置換基として述べたものがあげら
れる。
れる。
Yで表わされるもののうち、好ましいものは環状のチオ
アミド基(すなわちメルカプト置換含窒素へテロ環で、
例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプ
ト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテト
ラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール基、2−ミルカブトヘンズオキサゾール基など)
、又は含窒素へテロ環基(例えば、ヘンヅトリアゾール
基、ヘンズイミダゾール基、インダゾール基など)の場
合であるゆ Y(LトIV基は2個以上置換していてもよく、同しで
も異なっていてもよい。
アミド基(すなわちメルカプト置換含窒素へテロ環で、
例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプ
ト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテト
ラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾール基、2−ミルカブトヘンズオキサゾール基など)
、又は含窒素へテロ環基(例えば、ヘンヅトリアゾール
基、ヘンズイミダゾール基、インダゾール基など)の場
合であるゆ Y(LトIV基は2個以上置換していてもよく、同しで
も異なっていてもよい。
して表わされる二価の連結基としては、C,N、S、O
のうち少なくとも1種を含む原子又は原子団である。具
体的には、例えばアルキレン基、アルケニレン基、アル
キニレン基、アリーレン基、0− −3− −NH
−−N= −G。
のうち少なくとも1種を含む原子又は原子団である。具
体的には、例えばアルキレン基、アルケニレン基、アル
キニレン基、アリーレン基、0− −3− −NH
−−N= −G。
〜Sot (これらの基はU till Mをもって
いてもよい)等の単独またはこれらの組合せからなるも
のである。
いてもよい)等の単独またはこれらの組合せからなるも
のである。
具体例としては、例えば
−CON HN HCON H−S O! N +−1
−−COO−−NHCOO C1lz CHz C0NHPot NHなどが
挙げられる。
−−COO−−NHCOO C1lz CHz C0NHPot NHなどが
挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されて17)でもよ
い。置換基としてはへの置換基として述べたものが挙げ
られる。
い。置換基としてはへの置換基として述べたものが挙げ
られる。
以下に一船式(I)で表わされる化合物の具体例を挙げ
る。
る。
S
!−13)
次に一般式([)の化合物の合成法につき代表的なもの
についての合成例を挙げて説明する。
についての合成例を挙げて説明する。
合成例!。
化合物r−2)の合成
5−フェノキシカルボニルベンズトリアゾール11.9
g (0,05モル)と4−ヒドロキシエチルアニリン
7.5g (0,055モル)をジメチルアセトアミド
5 Qmffに溶解し、窒素気流下120℃に加熱反応
し7た。5時間後反応温度を25゛Cに下げ、反応液を
水500m7!に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥したのら、酢酸エチルを減圧下に
留去し残油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し目的物l−2)を7.2g (51,3%)
を得た。 融点 220〜1℃ 合成例2゜ 化合物1−14)の合成 5−フェノキシカルボニルベンズトリアゾール23.8
g (0,1モル)とモノエタノールアミン6.7g
(0,11モル)をジメチルアセトアミド100ml
に溶解し、窒素気流下、120°Cに加熱反応した。2
時間後反応温度を25゛Cに下げ、この反応液にアセト
ニトリル200mff1を注ぎ、30分間撹拌し、結晶
を析出した。この結晶をアセトニトリル−メタノールよ
り再結晶し目的物1−14)12.7g (61,6%
)を得た。
g (0,05モル)と4−ヒドロキシエチルアニリン
7.5g (0,055モル)をジメチルアセトアミド
5 Qmffに溶解し、窒素気流下120℃に加熱反応
し7た。5時間後反応温度を25゛Cに下げ、反応液を
水500m7!に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥したのら、酢酸エチルを減圧下に
留去し残油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し目的物l−2)を7.2g (51,3%)
を得た。 融点 220〜1℃ 合成例2゜ 化合物1−14)の合成 5−フェノキシカルボニルベンズトリアゾール23.8
g (0,1モル)とモノエタノールアミン6.7g
(0,11モル)をジメチルアセトアミド100ml
に溶解し、窒素気流下、120°Cに加熱反応した。2
時間後反応温度を25゛Cに下げ、この反応液にアセト
ニトリル200mff1を注ぎ、30分間撹拌し、結晶
を析出した。この結晶をアセトニトリル−メタノールよ
り再結晶し目的物1−14)12.7g (61,6%
)を得た。
融点 214〜5°C
一般式(I)の化合物は、化合物の種類によって最適添
加量が異なるが1.0XIO−3〜05g/ポ、好まし
くは5.0XIO′□3〜0.1g/ボの範囲で用いる
のが望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(水、メタ
ノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジ
メチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解し
て塗布液に添加される。これらの添加剤は複数の種類を
併用してもよい。
加量が異なるが1.0XIO−3〜05g/ポ、好まし
くは5.0XIO′□3〜0.1g/ボの範囲で用いる
のが望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒(水、メタ
ノールやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジ
メチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解し
て塗布液に添加される。これらの添加剤は複数の種類を
併用してもよい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、下記一
般式([1)で表わされる化合物をあげることができる
。
般式([1)で表わされる化合物をあげることができる
。
一般式(n)
R,−N−N−G、 −R。
AlA2
式中、R8は脂肪族基または芳香族基を表わし、R7は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G。
はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、り
P−基、又はイミノメチレン基を表わし、Al 、A2
はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換
もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もし
くは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは
無置換のアシル基を表わす。
はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換
もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もし
くは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは
無置換のアシル基を表わす。
−C式(II)において、R8で表される脂肪族基は好
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化
されていてもよい。またこのアルキル基は、了り−ル基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化
されていてもよい。またこのアルキル基は、了り−ル基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(II)においてR1で表される芳香族基は単環
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の了り−ル
基と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
または2環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環の了り−ル
基と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R,とじて特に好ましいものはアリール基である。
R+ のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の東環または21i2のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭″X数
1〜30を持つもの)などがある。
ていてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の東環または21i2のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたア
ミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30
を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1
〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭″X数
1〜30を持つもの)などがある。
−C式(It)においてR2で表わされるアルキル基と
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって
、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、
アルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していても
よい。
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって
、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、
アルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していても
よい。
R2で表されるアリール基は単環または2環のアリール
基が好ましく、例えばヘンゼン環を含むものである。こ
のアリール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シ
アノ基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されてい
てもよい。
基が好ましく、例えばヘンゼン環を含むものである。こ
のアリール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シ
アノ基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されてい
てもよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1−10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。カルバモイル基と
しては無W10カルバモイル基、及び炭素数1〜10の
アルキルカルバモイル基、了り−ルカルバモイル基が好
ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。カルバモイル基と
しては無W10カルバモイル基、及び炭素数1〜10の
アルキルカルバモイル基、了り−ルカルバモイル基が好
ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、了り−ルオキシ力ルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシカルボニル基、了り−ルオキシ力ルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、Gがカルボ
ニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メ
チル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、ア
ラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベンジル基など)
、了り−ル基(例えば、フェニル基、3.5−ジクロロ
フェニル基、0−メタンスルホンアミドフェニル基、4
メタンスルホニルフエニル基など)などであり、特に水
素原子が好ましい。
ニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メ
チル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピ
ル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、ア
ラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベンジル基など)
、了り−ル基(例えば、フェニル基、3.5−ジクロロ
フェニル基、0−メタンスルホンアミドフェニル基、4
メタンスルホニルフエニル基など)などであり、特に水
素原子が好ましい。
またG、がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
G、がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
G1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
RfのWIA基としては、RIに関して列挙した置換基
が適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、ア
ルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニ
ル基、アルキニル基ヤニトロ基なども適用できる。
が適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、ア
ルキルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニ
ル基、アルキニル基ヤニトロ基なども適用できる。
−i式(U)のGIとしてはカルボニル基が最も好まし
い。
い。
又、R2はG + Rz部分を残余分子から分裂させ
、 GRz部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、具体的には
一般式(a)で表すことができるようなものである。
、 GRz部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、具体的には
一般式(a)で表すことができるようなものである。
一般式(a)
−R3Z
式中、ZlはGlに対し求核的に攻撃し、OR3−Z+
部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR2
から水素原子1個除いたもので、ZIがG、に対し求核
攻撃し、G1、R3、Zl′?111M式構造が生成可
能なものである。
部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR2
から水素原子1個除いたもので、ZIがG、に対し求核
攻撃し、G1、R3、Zl′?111M式構造が生成可
能なものである。
さらに詳細には、Zlは一般式(H)ヒドラジン化合物
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R−N=N−GI R3ZI Rl −N=N基をGIから分裂させうる基であり、具
体的には0HSSHまたはNHR,(R,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−COR5゜または−3ot
R5であり、R1は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表す)、C0OHなどのように0
1と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H、S II 、N I(Ra、C0OHはアルカリ等
の加水分解によりこれらの基を生成するように一時的に
保護されていてもo N−Rf よい)、あるいは、−(、−R6、−〇 Rb(R6
、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオンや亜
硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG1と反
応することが可能になる官能基であってもよい。
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R−N=N−GI R3ZI Rl −N=N基をGIから分裂させうる基であり、具
体的には0HSSHまたはNHR,(R,は水素原子、
アルキル基、アリール基、−COR5゜または−3ot
R5であり、R1は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表す)、C0OHなどのように0
1と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H、S II 、N I(Ra、C0OHはアルカリ等
の加水分解によりこれらの基を生成するように一時的に
保護されていてもo N−Rf よい)、あるいは、−(、−R6、−〇 Rb(R6
、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基またはへテロ環基を表す)のように水酸イオンや亜
硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG1と反
応することが可能になる官能基であってもよい。
また、G2、R3、ZIで形成される環としては5員ま
たは6員のものが好ましい。
たは6員のものが好ましい。
一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式(b)
式中、R5−R5は水素原子、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい
。Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成
するのに必要な原子であり、m、nはOまたは1であり
、(n+m)は1または2である。
炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜12のもの)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい
。Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成
するのに必要な原子であり、m、nはOまたは1であり
、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員たまは6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、へンゼン環、ナフ
クレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、へンゼン環、ナフ
クレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Zlは一般式(a)と同義である。
−m式(C)
fNYτ−プc Re Rc−)−−Z+式中、Rc、
Rcは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基またはハロゲン原子などを表し、同しでも異なっても
よい。
Rcは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基またはハロゲン原子などを表し、同しでも異なっても
よい。
Rcは水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール基を表す。
リール基を表す。
pはOまたは1を表し、qは1〜4を表す。
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
成してもよい。
RC,Rcは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、また
はアルキル基であり、Rcは好ましくはアルキル基また
はアリール基である。
はアルキル基であり、Rcは好ましくはアルキル基また
はアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpはOまた
はlを、qが2のときpはOまたはlを、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のときCRcR
cは同一でも異なってもよい。
はlを、qが2のときpはOまたはlを、qが3のとき
pは0または1を表し、qが2または3のときCRcR
cは同一でも異なってもよい。
Zlは一般式(a)と同義である。
A1、A2は水素原子、炭素数20以下のアルキ/L/
スルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくは
フェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が
−0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはヘンジ
イル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上
となるようにff1Aされたヘンジイル基、あるいは直
鎖又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基
(置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。))A+、Azとし
ては水素原子が最も好ましい。
スルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくは
フェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が
−0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはヘンジ
イル基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上
となるようにff1Aされたヘンジイル基、あるいは直
鎖又は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基
(置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、ス
ルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキ
シ基、スルホン酸基が挙げられる。))A+、Azとし
ては水素原子が最も好ましい。
−m式(II)のR7またはRtはその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキン基、
アルキルフェノキシ基などの中からjλふことができる
。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキン基、
アルキルフェノキシ基などの中からjλふことができる
。
一般式(II)のR5またはR2はその中にハロゲン化
銀粒子左面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプ1M素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4゜385.108号、同4.,4
59,347号、特開昭51−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201.045号、同
59201.046号、同59−201,047号、同
59−201.048号、同59−201,049号、
特開昭61−170,733号、同61−270,74
4号、同61−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載された基があげられる。
銀粒子左面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプ1M素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4゜385.108号、同4.,4
59,347号、特開昭51−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201.045号、同
59201.046号、同59−201,047号、同
59−201.048号、同59−201,049号、
特開昭61−170,733号、同61−270,74
4号、同61−948号、特願昭62−67.508号
、同62−67.501号、同62−67.510号に
記載された基があげられる。
一般式(II)で示される化合物の具体例を以下に示す
。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない
。
■−15)
■
SI■
C,O。
■
N″〜
C1h CIIz C11z Sll
■
■
■
■
211s
IT−27)
■
IT−35>
■−36)
■−37)
Tl−43)
[1−40)
II−44)
[[−45)
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
I tem23516 (I983年11月号、P、
346)およびそこに引用された文献の他、米国特許4
゜080.207号、同4,269,929号、同4.
276.364号、同4,278.748号、同4,3
85,108号、同4,459.347号、同4,56
0.638号、同4. 478. 928号、英国特許
2.011,391B、特開昭60−179734号、
特開昭61−170,733号、同61−270.74
4−号、同62−948号、BP217.31C1号、
特願昭61−175.234号、同61−251.48
2号、同61−268.2/19号、同61−276.
283号、同62−67.508号、同62−6752
9号、同62−67.510号、同62−58.513
号、同62−130,819号、同62−143,46
9号、同62−166.117号に記載されたものを用
いることができる。
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
I tem23516 (I983年11月号、P、
346)およびそこに引用された文献の他、米国特許4
゜080.207号、同4,269,929号、同4.
276.364号、同4,278.748号、同4,3
85,108号、同4,459.347号、同4,56
0.638号、同4. 478. 928号、英国特許
2.011,391B、特開昭60−179734号、
特開昭61−170,733号、同61−270.74
4−号、同62−948号、BP217.31C1号、
特願昭61−175.234号、同61−251.48
2号、同61−268.2/19号、同61−276.
283号、同62−67.508号、同62−6752
9号、同62−67.510号、同62−58.513
号、同62−130,819号、同62−143,46
9号、同62−166.117号に記載されたものを用
いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化!艮エモル当たりlXl0−”〜5X104モル
、特にlXl0−’〜I X 10−”モルであること
が好ましい。
ゲン化!艮エモル当たりlXl0−”〜5X104モル
、特にlXl0−’〜I X 10−”モルであること
が好ましい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい、フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくはハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収
極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取り
扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高めるた
めの、主として380Bm〜600 nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい、フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくはハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収
極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取り
扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高めるた
めの、主として380Bm〜600 nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
紫外線吸収剤のモル吸光係数により異なるが、通常10
−”g/n(〜Ig/mの範囲で添加される。
−”g/n(〜Ig/mの範囲で添加される。
好ましくは50■〜500mg/rdである。
上記紫外線吸収剤は適当な溶媒〔例えば水、アルコール
(例エバメタノール、エタノール、プロパツールなど)
、アセトン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれら
の混合溶媒〕に溶解して塗布液中に添加することができ
る。
(例エバメタノール、エタノール、プロパツールなど)
、アセトン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれら
の混合溶媒〕に溶解して塗布液中に添加することができ
る。
紫外線吸収剤としては、例えば、アリール基で71換さ
れたヘンシトリアゾール化合物、4−チアゾリドン化合
物、ヘンシフエノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブ
タジェン化合物、ヘンジオキサゾール化合物さらに紫外
、rM吸収ポリマーを用いることができる。
れたヘンシトリアゾール化合物、4−チアゾリドン化合
物、ヘンシフエノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブ
タジェン化合物、ヘンジオキサゾール化合物さらに紫外
、rM吸収ポリマーを用いることができる。
紫外線吸収剤の具体例は、米国特許3.533゜794
号、同3,314.794号、同3.352.681号
、特開昭46−2784号、米国特許3,705,80
5号、同3,707.375号、同4,045.229
号、同3,700,455号、同3,499.762号
、西独特許出願公告1.547,863号などに記載さ
れている。
号、同3,314.794号、同3.352.681号
、特開昭46−2784号、米国特許3,705,80
5号、同3,707.375号、同4,045.229
号、同3,700,455号、同3,499.762号
、西独特許出願公告1.547,863号などに記載さ
れている。
フィルター染料としては、オキソノール染料、ヘミオキ
ソノール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シア
ニン染料およびアゾ染料が包含される。現像処理後の残
色を少なくする意味から、水溶性もしくは、アルカリや
亜硫酸イオンによって脱色する染料が好ましい。
ソノール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シア
ニン染料およびアゾ染料が包含される。現像処理後の残
色を少なくする意味から、水溶性もしくは、アルカリや
亜硫酸イオンによって脱色する染料が好ましい。
具体的には、例えばピラゾロンオキソノール染料、ジア
リールアゾ染ネ:I、スチリル染料やブタジェニル染料
、メロシアニン染料、メロシアニン染料やオキソノール
染料、エナミンへミオキソノール染料。
リールアゾ染ネ:I、スチリル染料やブタジェニル染料
、メロシアニン染料、メロシアニン染料やオキソノール
染料、エナミンへミオキソノール染料。
これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。
本発明の染料は、明室取扱いを可能にするに必要な量用
いられる。
いられる。
具体的な染料の使用量は、−船に10−’g/m〜Ig
/rrr、特に10−”g/rd 〜0. 5 g/r
+(の範囲に好ましい量を見い出すことができる。
/rrr、特に10−”g/rd 〜0. 5 g/r
+(の範囲に好ましい量を見い出すことができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわないが
、60モル%以上、とくに75モル%以上が塩化銀から
なるハロゲン化銀が好ましい。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわないが
、60モル%以上、とくに75モル%以上が塩化銀から
なるハロゲン化銀が好ましい。
臭化銀を0〜5モル%含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化銀
が好ましい。
が好ましい。
本発明のハロゲン化銀乳剤は云わゆる「表面潜像型J乳
剤であることが好ましい。「表面潜像型」乳剤の定義に
関しては、たとえば米国特許第4166742号第7〜
8欄の記載を用いることができる。
剤であることが好ましい。「表面潜像型」乳剤の定義に
関しては、たとえば米国特許第4166742号第7〜
8欄の記載を用いることができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子−数で少なくともその9594
が平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群
から構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子−数で少なくともその9594
が平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群
から構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular )な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gular )な結晶を持つもの、あるいはこれらの結
晶形の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular )な結晶体を有するもので
もよく、また球状、板状などのような変則的(irre
gular )な結晶を持つもの、あるいはこれらの結
晶形の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
ロジウム塩としては、−塩化ロジウム、二塩化ロジウム
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲノ錯化合物例えばヘキサクロロロジウム(I
I[)酸もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウム
塩、カリウム塩など)である。
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲノ錯化合物例えばヘキサクロロロジウム(I
I[)酸もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウム
塩、カリウム塩など)である。
これらの水溶性ロジウム塩の添加層はハロゲン化銀1モ
ル当り0モル−1,0XIO”’モルの範囲で用いられ
る。好ましくは、1.0X10−’モルー6.0X10
−’モルである。
ル当り0モル−1,0XIO”’モルの範囲で用いられ
る。好ましくは、1.0X10−’モルー6.0X10
−’モルである。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばカルボキシメチルセ
ルロース、等の如きセルロース誘導体、デキストリン、
澱粉誘導体などのV!誘導体、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き
多種の合成IL水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばカルボキシメチルセ
ルロース、等の如きセルロース誘導体、デキストリン、
澱粉誘導体などのV!誘導体、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き
多種の合成IL水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよい。
チンを用いてもよい。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうら金増公法はその代表的なもので金化
合物、主として金tIY塩を用いる。全以外の貴金属、
たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有
しても差支えない。
合物、主として金tIY塩を用いる。全以外の貴金属、
たとえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有
しても差支えない。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種lの硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、種lの硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一ずず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
でき、る。ずなわちアゾール類たとえばヘンヅチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロヘンズイミダヅ
ール頽、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチア
ゾール類、ミルカブトヘンゾチアヅール類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ヘンゾチア
ヅール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカ
プトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン類(特に4−ヒドロキシ置換(I,3,3a、7)
テトラザインデンin)、ペンクアザインデン類、チオ
クト酸のようなジスルフィド頚など;ヘンゼンチオスル
フオン酸、ヘンゼンスルフイン酸、ベンゼンスルフオン
酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知
られた多くの化合物を加えることができる。これらのも
のの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類(例えば
、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニトロインダ
ゾール類(例えば5−ニトロインダゾール)である。ま
た、これらの化合物は、乳剤層だけでなく、保護層にも
添加してもよいし、さらに処理液に含有させてもよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
でき、る。ずなわちアゾール類たとえばヘンヅチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロヘンズイミダヅ
ール頽、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチア
ゾール類、ミルカブトヘンゾチアヅール類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ヘンゾチア
ヅール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカ
プトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン類(特に4−ヒドロキシ置換(I,3,3a、7)
テトラザインデンin)、ペンクアザインデン類、チオ
クト酸のようなジスルフィド頚など;ヘンゼンチオスル
フオン酸、ヘンゼンスルフイン酸、ベンゼンスルフオン
酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知
られた多くの化合物を加えることができる。これらのも
のの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類(例えば
、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニトロインダ
ゾール類(例えば5−ニトロインダゾール)である。ま
た、これらの化合物は、乳剤層だけでなく、保護層にも
添加してもよいし、さらに処理液に含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム塩、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、
ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物、
活性ビニル化合物(I3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−Sトリアジン、1.3−ビニルスルホニル−
2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合物(2,4
ジクロル−6−ヒドロキシ−3−トリアジンなど)、ム
コハロゲン酸類、エポキシ化合物などを単独または組み
合わせて用いることができる。
ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物、
活性ビニル化合物(I3,5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ−Sトリアジン、1.3−ビニルスルホニル−
2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合物(2,4
ジクロル−6−ヒドロキシ−3−トリアジンなど)、ム
コハロゲン酸類、エポキシ化合物などを単独または組み
合わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増悪)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増悪)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘4体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン酸、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルヘタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダブリラムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
ド誘4体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン酸、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルヘタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダブリラムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58−9412号公仰に記載された分子N600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
公昭58−9412号公仰に記載された分子N600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
又本発明には、マット剤としてSingやポリメチルメ
タアクリレート、などを保護層に含有させることができ
る。
タアクリレート、などを保護層に含有させることができ
る。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたp H13に近い高アルカリ
現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いること
ができる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたp H13に近い高アルカリ
現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いること
ができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/2以上含み、pl
(I0,5〜12.3、特にpH11,0〜12.0の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。
しての亜硫酸イオンを0.15モル/2以上含み、pl
(I0,5〜12.3、特にpH11,0〜12.0の
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを承独あるいは
組み合わせてもちいることができる。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを承独あるいは
組み合わせてもちいることができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/1.3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は
0.06モル/β以下の範囲で併用される。
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/1.3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は
0.06モル/β以下の範囲で併用される。
また米国特許4269929号に記載されているように
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはヘンシトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはヘンシトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトヘンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトヘンズイミダゾール
スルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通18℃から50℃
の間に選ばれる。
の間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
でくるまでの1−一タルの処理時間を90秒〜120秒
に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得
られる。
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
でくるまでの1−一タルの処理時間を90秒〜120秒
に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得
られる。
本発明の現像液にはi艮汚れ防止剤して特開昭56〜2
4.347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤して特願昭60〜109,7
43号に記載の化合物を用いることができる。さらに現
像液に用いるpl+緩衝剤として特開昭60〜93,4
33号に記載の化合物あるいは研特4631に記載の化
合物を用いることができる。
4.347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤して特願昭60〜109,7
43号に記載の化合物を用いることができる。さらに現
像液に用いるpl+緩衝剤として特開昭60〜93,4
33号に記載の化合物あるいは研特4631に記載の化
合物を用いることができる。
以下実施例により、本発明の詳細な説明する。
なお実施例に於ては下記処方の現像液を用いた。
現像液
ハイドロキノン
N・メチルp・アミノフェノール
1/2硫酸塩
水酸化ナトリウム
水酸化カリウム
5−スルホサリチル酸
ホス酸
亜硫酸カリウム
エチレンジアミン四酢酸二ナト
リウム塩
臭化カリウム
5メチルヘンシトリアゾール
n・ブチル・ジェタノールアミ
水を加えて
1、0g
6.0 g
o、 6g
ン 15.og
(pH=11. 6)
45、 0g
0゜
1 B。
55゜
45゜
25゜
110゜
実施例1
30℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り5.0X
10−’モルの(NH4)J Rh(I6の存在下で硝
酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合したの
ち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を除去し
たのちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化剤とし
て2−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チ
トラアザインデンを添加した。この乳剤は平均粒子サイ
ズが0゜08μの立方晶形をした単分散乳剤であった。
10−’モルの(NH4)J Rh(I6の存在下で硝
酸銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合したの
ち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を除去し
たのちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化剤とし
て2−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チ
トラアザインデンを添加した。この乳剤は平均粒子サイ
ズが0゜08μの立方晶形をした単分散乳剤であった。
この乳剤に次のヒドラジン化合物と表−1に示した本発
明の化合物と、 に塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤、および紫外
線吸収剤を含む保護層を塗布し、乾燥した。
明の化合物と、 に塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤、および紫外
線吸収剤を含む保護層を塗布し、乾燥した。
界面活性剤
CH2COOCs H+j
CHCOOC,H+3
0sNa
Co F + t S Ot N Ctl !
COOK5Ht 37弯/d 2.5■/M 安定剤 チオクト酸 2.1■/イ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3Qwt%添加し、硬膜剤として、13〜ビニルスル
ホニル−2−プロバノールヲ加工、ポリエステル支持体
上に3:sgrrrのAg量になる様に塗布した。ゼラ
チンは1.8g/rdであった。この上に保護層として
ゼラチン1.5g/dと、マット剤として、ポリメチル
メタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3g/n
f、さら比較例として、本発明の化合物の代わりに、次
の比較化合物を用いたサンプルを作成した。
COOK5Ht 37弯/d 2.5■/M 安定剤 チオクト酸 2.1■/イ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3Qwt%添加し、硬膜剤として、13〜ビニルスル
ホニル−2−プロバノールヲ加工、ポリエステル支持体
上に3:sgrrrのAg量になる様に塗布した。ゼラ
チンは1.8g/rdであった。この上に保護層として
ゼラチン1.5g/dと、マット剤として、ポリメチル
メタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3g/n
f、さら比較例として、本発明の化合物の代わりに、次
の比較化合物を用いたサンプルを作成した。
比較化合物
Δ
比較化合物
このサンプルに大日本スクリーンG1J製明室プリンタ
ーp−607で、光学ウェッジを通して露光し次の現像
液で38℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥した。
ーp−607で、光学ウェッジを通して露光し次の現像
液で38℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥した。
得られた写真性の結果を表−1に示した。
本発明のサンプルは、高い硬調性が得られ、かつ、膜強
度の低下が少ないことがわか゛る。
度の低下が少ないことがわか゛る。
〔表
1〕
侑低感である。
現像液
実施例2
50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4XIF
’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアンモ
ニアの存在下で、硝酸銀水?fj t&と沃化カリウム
臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間の
pAgを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0,
28μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単
分散乳剤を調製した。
’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアンモ
ニアの存在下で、硝酸銀水?fj t&と沃化カリウム
臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間の
pAgを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0,
28μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単
分散乳剤を調製した。
この乳剤をフロキュレーション法により、脱塩を行いそ
の後に、銀1モル当り40gの不活性ゼラチンを加えた
後50℃に保ち増感色素として55′−ジクロロ−9−
エチル−3,3′−ビス−(3−スルフオブロピル)オ
キサカルボシアニンと、i艮1モル当り104モルのK
l?容l&に力Iえ、15分分間時させた後降温した。
の後に、銀1モル当り40gの不活性ゼラチンを加えた
後50℃に保ち増感色素として55′−ジクロロ−9−
エチル−3,3′−ビス−(3−スルフオブロピル)オ
キサカルボシアニンと、i艮1モル当り104モルのK
l?容l&に力Iえ、15分分間時させた後降温した。
この乳剤を、再ン容解し、40℃にて、メチルハイドロ
キノンを0゜02モル/銀モル、及びヒドラジンFzm
体(イ)を0.2X10−’モル/ A gモルおよび
本発明の化合物(表−2に示す)を加え、更に4−ヒド
ロキシ−13,32,7−チトラザインデン、下配化合
物(ロ)及びポリエチルアクリレートの分物及びゼラチ
ン硬化剤として下記化合物(ハ)を添加し、塩化ビニリ
デン共重合体からなる下塗層(0,5μ)を有するポリ
エチレンテレフタレートフィルム(I50μ)上に銀星
3.4g/mとなるように塗布した。
キノンを0゜02モル/銀モル、及びヒドラジンFzm
体(イ)を0.2X10−’モル/ A gモルおよび
本発明の化合物(表−2に示す)を加え、更に4−ヒド
ロキシ−13,32,7−チトラザインデン、下配化合
物(ロ)及びポリエチルアクリレートの分物及びゼラチ
ン硬化剤として下記化合物(ハ)を添加し、塩化ビニリ
デン共重合体からなる下塗層(0,5μ)を有するポリ
エチレンテレフタレートフィルム(I50μ)上に銀星
3.4g/mとなるように塗布した。
界面活性剤
Cfh COOC6HI3
CHCOOCb H13
O3Na
Cs F l 7 S Oz N CHz CO
OK37呵/d C3H? 2.5 mg/ m(ロ) H CHz =Ct(SOz CILz CIICI
Iz SO2CH=CH2ごの」:に保3(i層とし
て、ゼラチン1.5g/m、ポリメチルメタクリレート
粒子(平均粒径2.5μ) 0. 3 g/rtr、次
の界面活性剤を含む層を塗布した。
OK37呵/d C3H? 2.5 mg/ m(ロ) H CHz =Ct(SOz CILz CIICI
Iz SO2CH=CH2ごの」:に保3(i層とし
て、ゼラチン1.5g/m、ポリメチルメタクリレート
粒子(平均粒径2.5μ) 0. 3 g/rtr、次
の界面活性剤を含む層を塗布した。
比較例として、本発明の化合物の代りに比較化合物A、
B、Cを用いて、その他は、同様にして比較サンプルを
作成した。
B、Cを用いて、その他は、同様にして比較サンプルを
作成した。
これらの試料を、3200’にのタングステン光で光学
クサビを通して、露光後、実施例−1の現像液で34℃
30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
クサビを通して、露光後、実施例−1の現像液で34℃
30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
得られた感度および階調を表−2に示した。比較例−〇
、「およびhに比べて本発明のサンプルは高い硬調性と
感度が得られる。
、「およびhに比べて本発明のサンプルは高い硬調性と
感度が得られる。
次に、現像液20I!を使って、約51c+oX51c
mの露光済の前記サンプルを毎日0枚、もしくは40枚
ずつ処理していった時の2週間後の写真性能を試験した
。0枚処理の液では、感度がわずかに増加したが、サン
プルによって黒ボッが著るしく増加した。40枚処理し
た液では感度が低下し、階調(γ)が軟調した。これら
の結果を表−2に示した。
mの露光済の前記サンプルを毎日0枚、もしくは40枚
ずつ処理していった時の2週間後の写真性能を試験した
。0枚処理の液では、感度がわずかに増加したが、サン
プルによって黒ボッが著るしく増加した。40枚処理し
た液では感度が低下し、階調(γ)が軟調した。これら
の結果を表−2に示した。
比較例−〇、rおよびhに比べて本発明のサンプルは疲
労液でも高い硬調性を維持すること、また、比較例gに
比べて黒ボッが少ない。
労液でも高い硬調性を維持すること、また、比較例gに
比べて黒ボッが少ない。
手続補正書
4゜
補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」
の欄
5゜
補正の内容
明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
補正する。
1゜
事件の表示
昭和A3年特特許3/73コO号
1)第12頁10行目の
[
2゜
発明の名称
ハロゲン化銀写真感光材料
3゜
補正をする者
事件との関係
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有し
、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にくヒドラジ
ン誘導体を少なくとも一種類と下記一般式( I )で表
わされる化合物を少なくとも一種類含むことを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Aはアリーレン基を表わし、R^1、R^2はそ
れぞれ水素原子又は置換可能な基を表わし、Yはハロゲ
ン化銀への吸着促進基であり、Lは2価の連結基を表わ
し、l、mはそれぞれ0又は1、nは0、1、2、3又
は4を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31732088A JPH02161422A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31732088A JPH02161422A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02161422A true JPH02161422A (ja) | 1990-06-21 |
Family
ID=18086894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31732088A Pending JPH02161422A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02161422A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04258951A (ja) * | 1990-10-17 | 1992-09-14 | Eastman Kodak Co | バラスト化疎水性イソチオ尿素含有高コントラスト写真要素 |
WO2017047594A1 (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 国立大学法人岐阜大学 | ヌクレオシド誘導体及びその利用 |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP31732088A patent/JPH02161422A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04258951A (ja) * | 1990-10-17 | 1992-09-14 | Eastman Kodak Co | バラスト化疎水性イソチオ尿素含有高コントラスト写真要素 |
WO2017047594A1 (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 国立大学法人岐阜大学 | ヌクレオシド誘導体及びその利用 |
JPWO2017047594A1 (ja) * | 2015-09-14 | 2018-10-11 | 国立大学法人岐阜大学 | ヌクレオシド誘導体及びその利用 |
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