JPH01503178A - 流体中に分散される粒子の粒子サイズ分布測定方法および装置 - Google Patents

流体中に分散される粒子の粒子サイズ分布測定方法および装置

Info

Publication number
JPH01503178A
JPH01503178A JP63506274A JP50627488A JPH01503178A JP H01503178 A JPH01503178 A JP H01503178A JP 63506274 A JP63506274 A JP 63506274A JP 50627488 A JP50627488 A JP 50627488A JP H01503178 A JPH01503178 A JP H01503178A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
size distribution
particle size
signals
composite
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63506274A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0545898B2 (ja
Inventor
ボット，スティーブン　イー
Original Assignee
クールター　エレクトロニクス　オブ　ニュー　イングランド，インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by クールター　エレクトロニクス　オブ　ニュー　イングランド，インコーポレイテッド filed Critical クールター　エレクトロニクス　オブ　ニュー　イングランド，インコーポレイテッド
Publication of JPH01503178A publication Critical patent/JPH01503178A/ja
Publication of JPH0545898B2 publication Critical patent/JPH0545898B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
    • G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/44—Raman spectrometry; Scattering spectrometry ; Fluorescence spectrometry
    • G01J3/4412—Scattering spectrometry
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
    • G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
    • G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
    • G01N2015/0222—Investigating a scatter or diffraction pattern from dynamic light scattering, e.g. photon correlation spectroscopy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
Ｂ、ｍの１組の測定条件の関連する条件下でなされるｍの測定、およびｎの１組 の測定条件の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、前記サンプルにより 前記光ビームから散乱される光強度を検出し、ここに■は　ｌに等しいかそれよ り大きい整数であり、ｎは０に等しいかそれより大きい整数であり、ｌとｎとの 和は２に等しいかそれより太き（、前記謡◆ｎの測定条件の少なくとも２つは相 違しているものとする、 該検出段階が、 ａ、前記１組の１の測定条件の対応する１つの測定条件下で、前記散乱光の検出 された強度を時間の関数として各々表わすｍの強度信号を発生し、 ｂ、前記１組のｎの測定条件の対応する１つの測定条件下で、検出された前記散 乱光の平均強度を各々表わすｎの平均信号を発生する ことを含み、そしてさらに、 Ｃ１前記強度信号の対応するものの自己相関関数を各々表わし、かつ前記分布ｖ （ｒ）の関連する変換に各々等しいｍの相関信号を発生し、 Ｄ、前記相関信号および前記平均信号に応答して、ａ、前記間の相関信号をブリ 処理して、複合相関信号を発生し、 ｂ、前記複合相関信号および前記ｎの平均信号から複合散乱光信号を発生し、 Ｃ０前記の関連する変換および前記ｎの平均信号に関係づけられる複合変換演算 子Ｊ−１を決定し、ｄ、前記の決定された複合変換演算子Ｊ−’に従って前記複 合散乱光信号を変換して、前記分布ｖ（ｒ）を表わす寸法分布信号を発生し、そ して Ｅ、前記強度信号が相互に独立であり、前記平均信号が相互に独立であるように 前記の■◆ｎの測定条件を制御する 諸段階を含むことを特徴とする粒子寸法分布測定方法。 （３９）前記１のブリ処理する段階が。 ａ、前記の相関信号に応答して、該■の相関信号の零番目のモーメント以外の各 相関信号のモーメントの少なくとも１つを表わす簡のモーメント信号を発生し、 ６、前記−のモーメント信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に対応する 重み付けされた直接和信号を発生することを含む特許請求の範囲第３８項記載の 粒子寸法分布測定方法。 （４０）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応している特許請求の範囲第３８項記載の粒子寸法分布測定方法。 （４１）前記のブリ処理する段階が、 ａ、前記■の相関信号に応答して、前記ｌの相関信号の対応するものの単位標準 化形式を各々表わす簡の単位標準化相関信号を発生し、 ｂ、前記単位標準化相関信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に対応する 直接和信号を発生することを含む特許請求の範囲第３８項記載の粒子寸法分布測 定方法。 （４２）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応している特許請求の範囲第４１項記載の粒子寸法分布測定方法。 （４３）前記のブリ処理する段階が、前記■の相関信号の直接和を表わしかつ前 記複合相関信号に対応する直接和信号を発生することを含む特許請求の範囲第３ ８項記載の粒子寸法分布測定方法。 （４４）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応する特許請求の範囲第４３項記載の粒子寸法分布測定方法。 明　細　書 流体中に分散される粒子の粒子 ズおよび
【技術分野］ 本発明は、光散乱用機器に関し、特定すると流体中に分散された粒子の寸法分布 を測定するための光分散システムに関する。 【技術背景】
光散乱を使用することにより、試料中の粒子寸法の分布を測定する従来技術には 、従来数種のものがある。一般に、例えば流動する液体またはガス流内の個々の 粒子の寸法を測定するために、金粒子試料は一定の光源により照明され、粒子に より散乱される光の強度が検出される０粒子は、その粒子に直接関係づけられる 量により光を散乱する。一般に、より大きな粒子は、小さな粒子よりもより多（ の光を散乱する。散乱量と粒子寸法との間の関係は、理論的計算または較正法の いずれかにより決定できる。一時に単一の粒子の場合、この関係の情報を用いれ ば、検出された散乱光強度によって粒子寸法の直接的測定値が提供される。試料 内の粒子寸法の分布は、試料内の各粒子を個々に、または試料の適当な部分を散 乱光検出装置中を通し１種々の粒子寸法を表にまとめることによって決定できる 。実際に、この方法は、０．５ミクロンより大きい粒子に制限される。さらに、 この方法は、粒子が個々に検出されねばならないから、比較的緩速である。この 技術は、従来技術において光粒子計数法（ＯＰＣ）　と称される。 光散乱による粒子寸法測定の第２の従来技術は、静的、または「クラシック」光 散乱法（ＣＬＳ）と称される。 この方法は、被寸法測定粒子を含む試料の照明およびそれに続く種々の予定され た角度における散乱光強度の測定に基づく０分子内の破壊的干渉のため、粒子か ら散乱される光強度は１粒子の寸法および組成、ならびに測定がなされる角度に 依存する。散乱強度の角度的浮性に基づくこの粒子寸法測定方法は１個々の粒子 に限定される上述の第１の方法に比して、一群の粒子の寸法分布を測定するのに 使用できる。 ＣＬＳ測定方法を実施するためには、流体内に分散される粒子試料が、入力軸線 に沿って照明され、散乱光の強度が、数種の予定された角度で測定される。各角 度における散乱光強度は、複数の検出装置を用いて同時に、あるいは単一の検出 器を試料の回りに動かして、各所望角度において強度の測定を可能にすることに より連続的に測定できる。 例えば、１ミクロンより大きい直径を有する大粒子の場合、散乱光束は、入力軸 線に関して前方に集中する。 大粒子の寸法測定のための機器は、レーザ回折装置と称される０例えば０．２ミ クロン程度の直径を有する小寸法粒子の寸法測定の場合、散乱光束は、入力軸線 に関してより低い角度およびより高い角度にて相当の大きさを有する。小さい粒 子で使用される角度的強度測定は、総積分または平均強度測定と称せられ、ジム （Ｚｉｍｍ）プロットとして周知の形式で表示される。 光散乱により粒子寸法を測定するための第３の従来技術は、ダイナミック光散乱 法（ＤＬＳ）であるが、これは光子相関分光法（ＰＣＳ）または準弾性光散乱法 （ＱＥＬＳ）としても知られているａ　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ　 Ｉｎｃ、、　二ｚ−ヨーク所在、　１９８３年発行、のＢ、Ｅ、Ｄａｈｎｅｋｅ 著ｒ　Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｏｆ　５ｕｓｐｅｎｄｅｄ　Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ 　ｂｙ　Ｑｕａｓｉ−Ｅｌａｓｔｉｃ　ＬｉｇｈｔＳｃａｔｔｅｒｉｎｇＪ参照 、この技術は、流体中に拡散する、すなわち溶媒分子およびその他の粒子との衝 突に起因してランダムに移動する一群の粒子を含む照明された試料から散乱され た光強度の時間に関する変動を測定することに基づく０例えば、粒子は液中に溶 解された高分子とし得るが、この場合高分子は、少数の荷電原子の損失によって イオン化され得る。 ＤＳＬ技術に従うと、散乱光強度は、照明入力軸線に関する選択された角度にて 時間の関数として測定される。 検出器により任意の瞬間に検出される光強度は、拡散領域における各照明粒子か ら散乱される光間の干渉に依存して変わる０粒子はけ溶液中をランダムに拡散す るから１粒子から散乱する光の干渉は変化し、したがって検出器における強度は 変動する０粒子は、小さいほどより速く拡散するから、比較的小粒子の運動から 生ずる変動は、大粒子の運動から生ずる変動よりも速く変わる。かくして、検出 器にて散乱光変動の時間変動を測定することによって、粒子寸法の分布を表わす 情報が利用可能となる。さらに詳述すると、測定された強度の自己相関関数は、 流体中の粒子寸法の分布に関係づけられる。　Ｃｏｕｌ−ｔｅｒ　Ｅｌｅｃｔｒ ｏｎｉｃｓ　Ｉｎｃ、　Ｆｌｏｒｉｄａ　ｆＨＨｉａｌｅａｈ所在、により製造 されＮ４型光子相関スペクトロメータのような従来のＤＬＳ測定機器は、０．０ ０３ミクロン程度の粒子寸法を含む分布を測定するのに適当な被検出強度に対し て自己相関信号を供給する。したがって、この種のデバイスは。 上述の個々の粒子方法およびＣＬＳ法よりかなり下に延びる寸法測定範囲を有す る。 周知のＤＬＳ技術による粒子寸法測定は、一般に次の態様でなされる。被寸法測 定粒子は、流体中に分散または溶解されて、試料すなわちサンプルを形成する。 試料は、入力軸線に沿って送られるレーザビームによって照明」される、ビーム を発生するためには一般にレーザが使用されるが、代わりに非コヒーレント光源 を使用してもよい。 試料内の粒子から分散された光は、予定された角度に位置づけられた光電子増倍 管のような光検出器により検出される。特定の角度は、操作者により選択できる が、普通、一時には１つの角度のみが測定される。光検出器は、該検出器上に入 射する散乱光強度が変化するにつれて時間とともに変化する信号を生ずる。この 時間変化信号は、光検出器信号の自己相関関数を計算するため、自動相関器分析 器に供給される。自己相関器は、普通。 １００程の離散時間点にて検出された散乱光の自己相関関数の値を計算する。こ の自己相関関数は、検出された散乱光の変動についての情報を含んでおり、この 情報から試料内の特定の寸法の分布についての情報を抽出できる。かくして、自 己相関関数（ａｃｆ）は、ＤＬＳ測定値の生データである。大抵の従来のＤＬＳ 測定は、この自己相関ステップを使って遂行されるが、強度信号の自己相関関数 は、その信号のパワスペクトルのフーリエ変換に対応することが知られている。 したがって、自己相関関数に内在するのと同じ粒子寸法分布情報を含むバワース ベクを発生するため、自己相関器に代えてスペクトル分析器を使用してもよい、 パワースペクトル信号に内在する周波数領域情報は、粒子寸法分布を決定するの に使用できる。 従来技術においては、自己相関関数から粒子寸法を抽出するのに数種の技術があ る。これらの技術で使用する場合、自己相関関数と寸法分布間の関係は、次のよ うに表わすことができる。すなわち、 ｇ（ｔ）　＝　Ｋ（ｘ（ｒ））　（１）ここで、ｇ（ｔ）は自己相関関数（また は自己相関関数に密接に関係する関数、ｘ（ｒ）はめられる粒子寸法分布（Ｘは ｒ、すなわち粒子半径の関数）、モしてＫは粒子寸法を自己相関関数に関係づけ る関数（または演算子、直線または非直１１）である、かくして、Ｋの正確な型 が与えられると、粒子寸法の任意の分布ｘ（ｒ）から生ずる自己相関関数が知ら れることになる。 自己相関関数ｇ（ｔ）は実際上は実際に測定されたものであるから、上述の関係 は粒子寸法を生ずるように反転されねばならない、すなわち、 ｘ（ｒ）　＝　Ｋ−’　（ｇ（ｔ））　（２）したがって、粒子サンプルに対す る測定された自己相関関数に対して、これらの粒子に対する寸法分布は、測定さ れた自己相関関数ｇ（ｔ）に対して演算子に−１を適用することにより抽出でき る。演算子に−１は、演算子にの一般化された逆数である。しかしながら、実際 には、自己゛相関関数は複雑怪奇であるから、反転を遂行するための多数の周知 の技術はあるが、反転プロセスは一般に困難で複雑である。 １つの特に一般に使用される従来形式の抽出技術に対する型に−１の例は、次の 如くである。すなわち、３・（！！’Ｍ＋α！り−’に’ｇ　（３）この例にお いて、匹はベクトルで、その成分は各寸法の粒子の割合を表わし、２はベクトル で、その成分は自己相関器Ｋにより計算されるところの、異なる時点における自 己相関関数の値を表わし％丘は３をｇに関係づけるマトリックス、そして■は反 転の条件付けを増すマトリックスである　Ｋ　ｔはマトリクスｈの転置である。 アルファ（α）は、解の際に課される条件付けの量を制御する。この場合の反転 演算子に−は、次のように書くことができる。すなわち、 Ｋ−’　＝　（４’４＋　ａｉｊ）−’に’ここで、αは従来通りに決定される 平滑パラメータである０反転は、普通、解に課される若干の非負の制約を伴って 遂行される。これらの制約は、形式上、反転演算子に−１の一部である。他の周 知の反転法は、柱状グラフ（ヒストグラム）法、単一値分解法、デルタ関数法お よびキュービックスプライン法である。 この抽出または反転法で表わされる寸法分布ｘ（ｒ）は、ｘ（ｒ）が包含する連 続分布として（この場合、分布は任意の寸法の粒子に対して画定される）、ある いはベクトル場合、粒子寸法の分布は、ある設定数の粒子寸法のみにて画定され る）のいずれかにて表わすことができる。ベクトルとは、それぞれ寸法ｒｌ、ｒ １．−−−−−＋ｒａの粒子からの分散光強度の相対割合を与える一部の数（ｘ （ｒ、）、ｘ（ｒ−）、−−−−−、ｘ（ｒ、））を表わす０寸法分布ｘ　（ｒ ）は、以下において寸法ヒストグラム３として言及される。 寸法分布ｘ（ｒ）および寸法ヒストグラム３は、各寸法の粒子からの散乱強度の 相対量により特徴づけられる粒子の相対割合を表わすから、「強度重み付け」関 数である。しかしながら、これらの強度重み付は関数は、散乱光の測定がなされ る角度に依存する。すなわち、異なる寸法の粒子の散乱光強度分布により表わさ れる各寸法の粒子の見掛けの割合は、測定がなされる角度に依存して変わる。そ れゆえ、異なる角度にて得られた寸法分布は、強度重み付は分布ｘ（ｒ）または ヒストグラム３を使用して直接比較できない。 従って、散乱角度の関数である単位粒子当り散乱される光の量は、理論的計算を 通じて、あるいは実験的方法により既知であれば、各角度における強度重み付は 寸法分布ｘ（ｒ）およびヒストグラム匹は、これらの関数を、対応する質量、体 積および数重み付は寸法分布にまず変換することにより直接比較できる０例えば 、強度重み付はヒストグラム３は、下式に従って変換できよう、すなわち、 ｙ″ら この式において、！は、質量、体積または数重み付は寸法ヒストグラム、Ｃは、 強度重み付はヒストグラム匹および質量、体積または数重み付はヒストグラムｙ 間の変換マトリックスである。同様に、寸法分布ｘ（ｒ）は、対応する質量、体 積または数分布関数ｖ（ｒ）に変換し得る。これらの変換ヒストグラムおよび分 布関数は、すべて寸法粒子分布についての所望の角度依存情報を提供するから、 これらは一般的に下ではそれぞれ！およびｖ（ｒ）として言及される。 体積重み付はヒストグラムおよび分布関数は、サンプル中における粒子の総体積 の割合の測定値を粒子寸法の関数として提供する０例えば、粒子サンプルの体積 の５０％は、寸法０．１ミクロンの粒子に由来し、残りの５０％は寸法０．３ミ クロンの粒子に由来する。同様に、質量重み付はヒストグラムおよび分布は、サ ンプル中の質量の測定値を寸法の関数として提供し、数重み付はヒスドグラメお よび分布は、サンプル中の粒子数の測定値を寸法の関数として提供する。同じ密 度の粒子に対して、質量および体積重み付はヒストグラムおよび関数は同じであ る０体積、質量および数重み付は寸法ヒストグラムおよび分布は、一般に、対応 する強度重み付は寸法ヒストグラムまたは分布よりも有用である。何故ならば、 前者は、他の手段により直接測定できる量に関係するからである。 従来形式の光分散測定技術は、すべて、分解能が低（、再現性に乏しい特徴を有 し、これがこの種の方法の主たる欠陥であった。　ＤＬＳ寸法測定に関しては、 分解能を増そうとする努力がなされてきた０分解能を増すために使用される一般 的方法は、長期間にわたりまたは多数の短期間にわたり強度データを収集し、つ いで結果を平均することによって、あるいは数種の角度にて収集された強度デー タを使用することによって、測定値の信号対雑音比を改善使用とするものである 。 後者の方法の場合、異なる角度にて収集されたデータは実質的に独立であり、そ れゆえ１つの角度にて収集されたデータは、他の角度にて収集されたデータを補 足する０例えば、低散乱角度で収集されたデータは、一般に、サンプル中の大粒 子の存在により敏感であり、逆に大散乱角度で収集されたデータは、小粒子の存 在により敏感である。それゆえ、大寸法および小寸法の両者を含むサンプルは、 ２またはそれ以上の角度からのデータを使用することによって精確に寸法測定で きる。この場合、比較的低い角度は大粒子についての情報を与え、比較的高い角 度は小粒子についての情報を与える。これに比して、単一の低角度における測定 は、小粒子について比較的小さなそして恐らく曖昧な情報しか与えず、したがっ て寸法測定の分解能は乏しくなろう。 寸法測定の分解能を増すための数種の角度を使用する従来の方法は、単に２また はそれ以上の角度で測定をなし、２またはそれ以上でなされた測定から得られた 体積重み付はヒストグラムを平均することを含む、記号を用いて表わすと、結果 を平均することにより数種の分散角度で得られた情報を結合する方法は、次のよ うに表わすことができる。 ！＋　＝　Ｋ−’　（ｇ＋　（ｔ）　、θＩ）ここで、添字１，２．−＝−、ｍ は分散角θ、ないしθｍでなされた測定をいう、演算子に一部の独立変数として θを含むことは、反転プロセスすなわち演算子に−１が、分散角度に依存するこ とを指示する０ｍの強度重み付はヒストグラムＭ　Ｉ　Ｈ−−−−−１！　ＩＩ の各々は、角度非依存性の体積重み付はヒストグラム！　、、−−−−−、ｙ、 に変換され、ついでｍの体積重み付はヒストグラムが、「向上された」分解能結 果ｙを生ずるように平均化されよう、すなわち、ｖ　＝　（１／ｍ）　［Ｘ、＋ 　Ｖ、＋　＋＋＋＋＋　＋Ｘ１ｍ１しかしながら、この体積重み付は分布！は、 必ずしもすべてのデータにもっともよ（適合された解ではない。 単一の角度にて単一の測定に対して得られる寸法の分解能は、相当に低く、した がっである寸法の粒子の存在は、ある角度では検出できないことがある。かくし て、強度ヒストグラムが体積ヒストグラムに変換されてさえ、異なる角度で得ら れるヒストグラムは、非常に異なる明らかに矛盾する情報を与えることがある。 簡単に述べると、米国特許出願第８１７．０４８号に開示される発明は、ＣＬＳ 測定およびＤＬＳ測定の最適の組合せに基づいて流体中に分散される粒子の寸法 分布の測定値を提供し、それにより比較的高い分解能の粒子寸法測定を特徴とす る測定をもたらす装置および方法を提供している。さらに詳述すると、その発明 に従うと、サンプルについて複数の角度における散乱光の検出された自己相関関 数を表わすＤＬＳデータ、すなわちパワースペクトルが、それらの角度における 平均の縁検出強度を表わすＣＬＳデータと最適の態様で結合され、角度非依存性 の高分解能寸法分布ｖ（ｒ）を与える０寸法分布は、連続関数ｖ（ｒ）またはヒ ストグラム！で表わすことができ、質量、体積、数、表面積またはその他の測定 値によって重み付けされた分布を表わすことができる。 例示として、ＤＬＳおよびＣＬＳデータを結合するに際して、角度非依存性体積 重み付はヒストグラムは、下式により決定できる。すなわち、 ｙ　＝Ｊ−’（ｇ＋（ｔＬｇｘ（ｔ）ｅ−−−−−＋ｇｍ（ｔ）；ｉ（θ、）、 −−−−−、ｉ（θ、）、ｉ（θ＋ａ＊Ｉ）１−−−−−１（θゎ））ここでｇ ＋（ｔ）、、、、、ｇ、ｍは、■の分散角θｌ＋−−−＋θ１において検出され た光強度から決定された自己相関関数。 ｉ（θ、）、−−−−−ｉ（θ、）、ｉ（θｍ＋ＩＬ−−−−−、ｌ（θ１０． ）は、簡の分散角θＩ＋−−−−−＋θ、ならびにｎの追加の角度θ１．．。 −＋　＋　＋　＋、θｓａｍｅにおける検出された平均強度、ここで節は１に等 しいかそれより大きい整数、ｎは０に等しいかそれよりおおき整数である。この 発明のこの形式において、ＤＩＳ測定はｌの角度にてなされ、ＣＬＳ測定は、Ｄ ＬＳがなされたのと同じ角度を含むｍａｎの角度でなされる。 Ｊ″１は、すべてのデータに「最良の適合」をなすように自己相関関数および平 均強度値に同時に作用する単一の演算子である。これは、上述の式（４）に記載 されるｍの別個のに−１の演算子（各角度に対して１つ）と対照をなしている。 この発明の語形式においては、自己相関関数および強度測定は、異なる角度でな く、同じ角度で、ただし難しい条件下、例えば温度、流体力学的溶液特性または 偏光角度、でなされ、これらがセンサに独立の強度特性を設定する。 この発明に従うと、演算子Ｊ−１は、ＣＬＳ測定からの情報ならびにＤＬＳ測定 からの独立的情報を、異なる分散状態で測定された自己相関関数を適当に標準化 するように合体する。簡単にするため、以下の記述は、θ、で表わした角度でな されるものとして種々の測定を表わすが、測定は独立の強度特性をもたらす条件 下でなされることしか必要としない。 単一の手続きにおいて同時に行われる自己相関関数および古典的分散強度のＪ− 変換に基づいて得られる分布ｙは、自己相関関数または古典的分散強度の両方で なくそのいずれか似基づ〈従来技術に比して、決定される粒子分布の寸法測定の 分解能の増大をもたらす。 簡単に述べると、米国特許出願第８１７．０４８号に開示される発明に従うと、 流体サンプルに分散される粒子の寸法分布ｖ（ｒ）　（ここにｒは粒子寸法を表 わす）を測定するためのシステムが提供される。システムは、入力軸線に沿って 送られる光ビームでサンプルを照明する手段を備える。コヒーレントまたは　非 コヒーレント光源いずれでも使用できる。 光検出器が設けられており、複数の角度θｌ　＋−−−＋θ１にて前記入力軸線 から角度的に分散された腹の点にて光ビームからの光強度を検出する（ここでｍ は１に等しいかそれより大きい整数である）、検出器は、■の強度信号を発生す る。しかして、各強度信号は、ｍの点の対応する点における光ビームからの光の 検８された強度を時間の関数として表わす、この発明は１種々の形式において、 ホモダインまたはヘテロゲイン形態で具体化できる。ホモダイン形式においては 、強度信号測定中、唯一の散乱光のみが鳳の点において検出され、ヘテロゲイン 形式においては、ビームの一部が■の点において検出器に直接入射するから、強 度信号は、光ビームの散乱および非散乱部分から生ずるビート信号に対応する。 １形式として、自己相関プロセッサは、強度信号の対応する信号の自己相関関数 を各々表わすｍの相関信号を発生する。相関信号の各々は、分布ｖ（ｒ）、ここ にｉ＝１゜−−−、ｍ　、の関連する変換Ｊ１に等しい、変換は、直線的または 非直線的である０強度信号に対する自己相関関数は、これらの信号のパワースペ クトルのフーリエ変換であり、自己相関プロセッサは、この発明の１形式におい ては、腸の相関信号を墓の時間領域自己相関信号ｇ＋（ｔ）、ここにｔは時間、 ｉ　＝　１．−−一、＋ｓである、として直接発生する自己相関器である。自己 相関プロセッサは、他の形式においては、閣の相関信号をｍの周波数領域パワー スペクトル信号ａｔ（ｆ）　、ここにｆは周波数、ｉ　＝　１．−−−、ｍとし て発生するスペクトル分析器を含む、パワースペクトル信号は、自己相関信号の フリエ変換であるから、パワースペクトル信号ａ、（ｆ）は、自己相関信号ｇ＋ 　（ｔ）と同じ情報を提供するのに使用できる。 光検出器はまた、園の点ならびに入力軸線から角度的に変位されたｎの追加の点 、ここにｎは０に等しいかそれより大きな整数である、にて光ビームからの散乱 光の時間平均強度を検出する。後者の検出器は、それぞれの脂◆ｎの点において 検出される散乱光の強度の時間平均を表わす平均時間を発生する。 サイズプロセッサが、相関信号および平均信号に応答して、分布ｖ（ｒ）を表わ す信号を発生する。サイズプロセッサは、■の相関信号の重み付けされた直接和 を表わす複合相関信号を発生する。サイズプロセッサは、変換Ｊ。 およびｎの平均信号に関係づけられた複合変換演算子Ｊ″１を決定する。 サイズプロセッサは、決定された複合変換演算子に従って複合相関信号を変換し 、それによりＣＬＳおよびＤＬＳ°両デー少データズ分布情報を合体し、寸法分 布ｖ（ｒ）を表わす合成信号を供給する。この発明に従えば、複合相関信号また は複合変換演算子のいずれかが、鳳の点の対応する点における散乱光の平・均強 度に実質的にスケーリングないし基準化される。このスケーリングないし標準化 によって、複合相関信号により表わされるＤＬＳデータは、平均信号により表わ されるＣＬＳデータと最適な態様で結合されることが可能となる。 この発明の１形式において、変換ハは直線変換であり、複合変換演算子Ｊ−’は 、関連する変換Ｊｌに対する演算子の直接和に対応する演算子の一般化された逆 数である。逆変換演算子Ｊ−’は、関連する変換島の直接和に対応するマトリッ クスの逆数に対応し得る０代わりに、演算子Ｊ−１は、次式に対応してもよい、 すなわち、［、！’！！＋α■］−１！！− ここで、シは、関連する変換Ｊ、に対応するマトリクスの直接和に対応するマト リクスであり、Ｖはマトリッスノの転置であり、■は条件づけマトリクスであり 、アルファ（ａ）は平滑化パラメータである０分布ｖ（ｒ）を表わすベクトルの 全成分は、０に等しいかそれより大きく抑制することができる。 他の形式において、関連する変換は非直線的であり、寸法分布はｖ（ｒ　ｌ　Ｒ ）により特徴づけられる。ここで、Ｐは、ｋ成分を宵する特徴化パラメータベク トルである。 この形式において、複合変換演算子Ｊ−１は、下式に対する２解法アルゴリズム である。すなわち、ここでｉは整数１　＋−−−１ｌＩ−ｊは整数１．−−−、 ｑ％ｉは整数１、−−−、に、ｐ！２はｐの２番目の整数、　ｇ＋（ｔＪ）は、 ｊ番目の時間間隔ににおける前記角度のｉ番目に対する強度信号の自己相関関数 、そしてＪｌ、は関連する変換に関係づけれた演算子である。モデル寸法分布ｖ （ｒ、ｐ）は、例えば、パラメータ［およびσ、すなわちそれぞれ実際の寸法分 布の平均粒子寸法および実際の寸法分布の標準偏差により表わすことができる。 ｐρに対する解法アルゴリズムは、種々の自己相関関数のｇｉに対して種々の時 点１゜に対する残分、＋ｔＪ［ｖ（ｒ４）］−ｇ＋（ｔＪ）の平方を最小にする 。 さらに詳述すると、ｖ（ｒ、ｐ）は下式な有し得る。すなわちここでＪｌ、演算 子は下式な有する、すなわち、ここで、ｒ　（ｒ、θ１）は下式な有する。すな わち、ここで％ｎはサンプルの屈折率、λはサンプルを照明する光の波長、Ｋ、 はボルツマン定数、ηはサンプルの粘度そしてＴは絶対温度である。 他の形式においては、複合相関信号演算子は、単位標準化されるべき■の相関信 号の重み付は直接和を制御し、そして複合変換演算子は、Ｉの点のそれぞれの点 において光ビームから散乱された光の平均強度に実質的にスケーリングされる。 さらに他の形式においては、複合相関信号発生器は、■の相関信号の重み付は直 接和を、鳳の点のそれぞれの点において光ビームから散乱される光の平均強度に 実質的にスケーリングされるように制御する。 この発明の他の形式においては、２またはそれ以上の分散角における測定値から 抽出される情報を使用する一般的方法は、ガウスのコイルを含め、ロッド状、楕 円型またはその他の型である粒子についての寸法および形状情報を決定するよう に応用できる。 その発明の他の形式においては、２またはそれ以上の分散角におけるＣＬＳおよ びＤＬＳ測定をなす代わりに、この種の測定を、異なる条件組合せ、例えば異な る温度または流体力学的溶液特性または光ビームの偏光下で１つの角度で行い、 広範囲の種類のダイナミック系に対して向上された粒子特性分解能を生ずるよう に処理される相補的情報を提供することができる。 米国特許出願第８１７．０４８号に開示される発明の重要な側面は、複数の分散 角度からのＣＬＳ　（古典的光分散）データおよびＤＬＳ　（ダイナミック光分 散）データを結合することにより、粒子寸法測定の分解能および再現性が、従来 のＣＬＳまたは単一角度ＤＬＳ測定よりも改善され得るということである。　Ｃ ＬＳデータおよびＤＬＳデータを結合することは困難であり％　ＣＬＳおよびＤ ＬＳデータが単一かつ同時の分析において結合できる条件を決定することは複雑 なプロセスである。特に、２つの形式の光分散測定を結合する上における１つの 主たる問題は、異なる角度で得られたＤＬＳデータを適正に標準化することにあ る。 簡単に言うと、「標準化」とは、異なる角度における自己相関関数（ａｃｆ）の 振幅をＣＬＳデータに関して調節し、全ＤＬＳ角度からのデータが１つの包括的 モデル内において分析し得るようにすることである。 ＤＬＳデータのＣＬＳデータに対する標準化は、下記の点を考えると重要である 。単一角度におけるＣＬＳ測定値は、各寸法の粒子により散乱される光強度によ り重み付けされた、測定中サンプル内の全寸法の粒子から分散された光の平均値 である。特定の寸法の粒子から特定の角度で分散された光の量は、粒子の寸法お よび散乱角度に依存して変わる。　ＣＬＳデータのみを使用して粒子寸法測定（ すなわち多数の角度における平均強度測定）をなすために、選択された角度にお ける測定がなされ、ついで、角度分散強度の測定されたパターンに対応する粒子 寸法分布を見出すための分析手続きが使用される０選択される分布は、各角度に おいて、各寸法の粒子により散乱される光の角度依存強度で重み付けされた、分 布中のすべての粒子寸法から分散される光が、その角度における平均分散強度の 測定値に近いことを要する。 かくして、ＣＬＳデータは°、ＤＬＳデータの部分集合である。何故ならば、特 定の角度におけるＣＬＳ強度の大きさは、単に、その角度におけるホモダインＤ ＬＳ自己相関関数（ａｃｆ）の零時点の値であるカラーである。　ＣＬＳデータ と　ＤＬＳデータとの間の関係は、カーテシアン（Ｘ−Ｙ−Ｚ）座標においてＣ ＬＳデータのプロットを考慮することによって理解できよう、しかして、この座 標において、Ｘ軸は分散角度（例えば０〜１８０°）を表わし、Ｙ軸は分散強度 を表わす、この種の座標において、所与の粒子分布はＸ−Ｙ平面において曲線と して表わされよう、任意の点における曲線の高さは、その点に対応する角度にお ける分散強度となろう、この曲線またはこの曲線に沿う少なくともある数の点は 、ＣＬＳ測定値に対応する。 Ｚ軸は、散乱強度自己相関関数の時間遅延を表わす、一般に、自己相関関数は、 減衰指数関数（または減衰指数関数の和）の型を有する。　ＣＬＳ曲ＩＩ（ＸＹ 平面内にある）に沿う多数の離散点が、ＤＬＳ測定をなし得る角度に対応する。 各点（または角度）に対するＤＬＳデータは、Ｙ−２平面に平行な平面内に曲線 を画定する。これらの自己相関関数（１または複数の角度における）は、ＤＬＳ データである。各角度における自己相関関数の形状は、一般に、すべての粒子が 同じでない限り、若干異なるであろう、それゆえ、米国特許出願第８１７，０４ ８号に記載される形式の測定においては、自己相関関数データのマトリクスが使 用される。従来技術においては、粒子寸法分布（低分解能）を得るのに、Ｘ−Ｙ 平面のみにおける曲線のみまたは自己相関関数のただ１つだけしか分析されない であろう、米国特許出願第８１７．０４８号のシステムは、すべての遅延時間お よび全分散角度におけるおける自己相関関数の全値が存在する二次元「測定」平 面を利用する粒子分布測定を可能にするものである。この平面とＸ−Ｙ平面との 交叉線が、ＣＬＳデータ曲線である６図示されるデータマトリックスを分析する ために、測定表面、より詳しくは、実際の測定がなされる測定表面上の離散点が 、粒子寸法分布のパラメータ（例えばヒストグラムビン高さ）が変わるときどの ように変わるかを記述するモデルが作られる。しかる後、特定の測定がなされる とき、測定される測定表面にもっとも近い測定表面をもたらす粒子寸法分布が、 真の粒子分布の最良の評価値となる。最良の評価値は、非負の最小二乗（ＮＮＬ Ｓ）アルゴリズムのような曲線適合化アルゴリズムにより見出される。このプロ セスに対する標準化の重要な点は、曲線適合化を遂行するため、自己相関関数の 振幅、すなわち零時間値が自己相関関数が測定される角度にて正確にＣＬＳデー タ曲線の振幅となるように、被測定自己相関関数（それらの絶対高に拘りなしに 普通に測定される）が標準化される必要があることである。この標準化が企画さ れないと、測定された測定表面は一般にモデル測定表面から異なる。何故ならば 、モデル測定表面においては、時間零における全自己相関関数がＣＬＳデータ曲 線上にあるはずであるからである。それゆえ、被測定データは、このモデルに適 当であるように標準化される。 ＤＬＳデータ標準化を遂行するために、ＣＬＳデータ（すなわち、分散光の平均 強度）は、標準化定数を得るためすべてのＤＬＳ角度で測定されなければならな い、この理由のため、米国特許出願第８１７，０４８号は、ＤＬＳデータが■の 角度（＋ｉ＞０）で測定され、ＣＬＳデータが、その諷の角度とｎの追加の角度 で測定されるという分析法を特定している。すなわち、ＣＬＳデータは、すべて のＤＬＳ角度と、任意的に若干の追加の角度にて測定されることを要する。 しかしながら、ＤＬＳ標準化のために使用されるＣＬＳデータを正確に得ること は難しい、さらに重要なことは、標準化定数の小さなエラーが、抽出された寸法 分布に由々しいエラーをもたらすことである。それゆえ、データを分析するため に使用される改良されたモデルを見つけることが望ましい。 自己相関関数の数学的な形式のため、振幅情報は、自己相関関数に含まれる情報 の残りのもの、すなわちその形状に含まれる情報から数学的に分離し得る。数学 的変換を数種の方法の一つで遂行することにより、ＤＬＳ振幅。 はモデルから除去でき、それにより曲線適合化を自己相関関数の振幅についての 情報なしに、すなわち米国特許出願第８１７，０４８号に記述されるような標準 化なしに遂行することが可能となる。 それゆえ、本発明の目的は、流体中に分散される粒子寸法の分布を測定するため の改良された装置および方法を提供することである。 本発明の他の目的は、比較的高分解能を有する改良された粒子寸法分布測定装置 および方法を提供することである。 ［発明の概要］ 簡単に述べると１本発明は、適当な角度においてＣＬＳ値に対してＤＬＳ自己相 関関数を標準化する必要なしに、ＣＬＳ測定およびＤＬＳ測定の最適の結合に基 づいて流体中に分散された粒子の寸法分布の測定を可能にする改良された装置お よび方法を提供することである。 本発明の１形式においては、自己相関関数は、米国特許出願第８１７，０４４号 に記述されるのと同じやり方で決定され得る。その際、自己相関関数のすべての 形状情報は、各ＤＬＳ角度における自己相関関数に基づいて未知の粒子寸法分布 のモーメントを計算することによって抽出される。各自己相関関数から、粒子寸 法分布のモーメントの異なるように重み付けされた評価値が得られる。１つの自 己相関関数からモーメントを抽出する方法はよ（知られており、科学文献に詳述 されている０粒子寸法分布の零番目のモーメントは、自己相関関数の振幅に直接 関係づけられる。より高次のモーメントおよび反転モーメントは、自己相関関数 の形状についての情報を含む。 自己相関関数からから十分の数のモーメントを決定することにより、その自己相 関関数内の実質的にすべての形状情報を利用することができる。 モーメントの抽出の後、振幅情報を含む零番目のモーメントを除き、ＣＬＳデー タ曲線（もしも測定されているならば）および全自己相関関数のすべての抽出さ れたモするため曲線適合化アルゴリズムが使用される（即ち標準化）、このよう に、本発明のこの形式においては、自己相関関数の振幅に関する情報を除き、す べての自己相関関数情報およびすべてのＣＬＳデータが、分析に使用される。自 己相関関数の振幅情報は使用されないから、ＣＬＳデータに対する自己相関関数 の標準化はなされる要がない、さらに、ＣＬＳデータは、すべてのＤＬＳ角度で 測定される要はない。 ＣＬＳデータに対する　ＤＬＳデータの標準化を必要としない本発明の他の形式 においては、自己相関関数内に通常存在する振幅情報は、各自己相関関数の振幅 を単位に標準化することにより明確に除去される。このような標準化は、遂行す るのが煩わしくなく、より重要なことは、各ＤＬＳ角度においてＣＬＳ測定をな し、ＤＬＳ測定をＣＬＳ測定で標準化することによってＤＬＳ測定に相当のエラ ーを導入する必要性を回避することである。単位標準化された　ＤＬＳ測定値は 、特別の変換（ｒＤＬＳ核（カーネル）」）により粒子寸法分布に関係づけられ る。変換は、（米国特許出願第８１７，０４８号に記述されるように）粒子寸法 分布なＣＬＳデータにより標準化された自己相関関数に関係づけるＤＳＬ核と異 なる。一方、本発明のこの形式における単位標準化に依ると、ＣＬＳ測定値はす べてのＤＬＳ角度でなされることを要しない。 ＣＬＳデータに対する　ＤＬＳデータの標準化を必要としない本発明の第３の形 式においては、データ分析は、振幅を曲線適合化プロセスにおいて「浮動」パラ メータとすることによって、自己相関関数振幅についての情報を使用せずに遂行 できる。振幅を浮動化することは、ＤＬＳカーネルまたは自己相関関数なＣＬＳ データに関して標準化する代わりに、全自己相関関数の振幅が、曲線適合化にお いて未知の調節可能なパラメータとして処理されることを意味する。このプロセ スは、測定された測定表面へより一層接近するように自己相関関数振幅の自由な 調節を可能にすることに依って、測定された自己相関関数に整合させる上でモデ ル測定面により幅の広い自由を有効に与える。米国特許出願第８１７，０４８号 においては、自己相関関数の振幅は、ＣＬＳ測定値により標準化された。その場 合、ＣＬＳデータ点の測定に何らかの小さいエラーがあると、全自己相関関数に 対応するエラーが強要されるが、これは１例えば、ＣＬＳデータ点が標準化のた めに使用されていた１００のデータ点を含むことがある。本発明の第３の形式に おいては、自己相関関数の振幅は、自己相関関数それ自体のよって（曲線適合化 プロセスを通じて）決定され、単一の測定値が多数の他の測定値にエラーを導入 するような状況を阻止する。やはり、ＣＬＳデータは、すべてのＤＬＳにおいて 測定されることを要せず、標準化は全く遂行されない。 さらに詳述すると、本発明は、流体サンプル中に分散される粒子の寸法分布ｖ（ ｒ）、ここにｒは粒子寸法を表わす、を測定するためのシステムを提供する。シ ステムは、入力軸線に沿って送られる光ビームでサンプルを照明するための光源 を備える。検出器または一組の検出器が設けられていて、各々−組の■の測定条 件の関連する条件下でなされるｍの測定に対して、また各々ｎ−組のの測定条件 の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、サンプルにより光ビームから散 乱される光強度を検出する。ここで、ｍは、１に等しいかそれより大きい整数で あり、ｎは、０に等しいかそれより大きい整数であり、そして、■と　ｎの和は 　２に等しいかそれより太き（、ｍ＋ｎの測定条件の少なくとも２つは異なって いる。 検出器は、前記１組のｍの強度信号を発生するように構成されるが、その各強度 信号は、前記ｍの測定条件の対応する測定条件下において散乱光の検出された強 度を時間の関数として表わす、検出器はまた、ｎの平均信号を発生するように構 成されるが、その各平均信号は、前記１組のｎの測定条件の対応する測定条件下 において検出される散乱光の平均強度を表わす。 自己相関器が設けられており、■の相関信号を発生する。各相関信号は、強度信 号の対応するものの自己相関関数を表わし、分布ｖ（ｒ）の関連する変換に等し い。 サイズプロセッサが設けられており、相関信号および平均信号に応答する。サイ ズプロセッサは、Ｉの相関信号に応答して、複合相関信号を発生するブリプロセ ッサを備える。サイズプロセッサはまた、複合相関信号およびｎの平均信号から 複合散乱光信号を発生する。サイズプロセッサはまた、関連する変換およびｎの 平均信号に関係づけられた複合変換演算子Ｊ−１を決定する。複合散乱光信号は 、決定された複合変換演算子Ｊ−’に従って変換され分布ｖ（ｒ）を表わす寸法 分布信号を発生する。 このシステムにおいては％　ｇｌｅｎの測定条件は１強度信号が相互に独立であ り、平均信号が相互に独立であるように制御される。 本発明の１形式においては、プロセッサは、■の相関信号に応答して、ｍのモー メント信号を発生する。ここで簡のモーメント信号は、■の相関信号の零番目の モーメント以外の■の相関信号の各々のモーメントの少なくとも１つを表わす、 ブリプロセッサはさらに、重み付けされた直接和信号を発生する。ここで、重み 付けされた和信号は、ｍのモーメント信号の直接和を表わし、複合相関信号に対 応する。 本発明の他の形式においては、ブリプロセッサは、節の相関信号に応答して、麿 の単位標準化相関信号を発生する。ここで、単位標準化相関信号の各々は、ｍの 相関信号の対応するものの単位標準化された形式を表わす。 ブリプロセッサは直接和信号を発生するが、この信号は、単位標準化相関信号の 直接和を表わし、複合相関信号に対応する。 本発明のさらに他の形式においては、ブリプロセッサは直接和信号を発生する。 この場合、この和信号は、ｍの相関信号の直接和を表わし、複合相関信号に対応 する。 本発明の上記形式の各々において、複合散乱信号は。 複合相関信号および平均信号の直接和とし得る。 本発明のこれらの形式において、「直接和」は。 ＭｃＧｒａｗ　Ｈｉｌｌ　Ｂｏｏｋ　Ｃｏｍｐａｎｙ、ニューヨーク所在、　１ ９６９年発行、１６５頁、Ｇ、Ｄ、　ＭｏｓｔｏｗおよびＪ、Ｈ，Ｓａｍｐｓｏ ｎ著「Ｌｉｎｅａｒ　ＡｌｇｅｂｒａＪに記述されるように定義される（詳記す ると、ベクトル空間Ｕ内のすべてのベクトルが和Ｘ”Ｘ　１÷−−一◆Ｘｒｌこ こでＸ、はＵＪ　（ｊ＝１．　＋＋＋＋＋、　ｒ）内にある、として１つのそし てただ１つの方法で表わすことができるならば、ベクトル空間Ｕはサブスペース Ｕ１．−−−−−．Ｕ−の直接和である）、さらに、一群の信号の「複合信号」 は、一連の要素信号により含まれる情報の全部または大部分を保存する要素信号 の任意の変換として定義される。「直接和」は、上にそのように定義された複合 信号の簡単な形式である。さらに、モーメント信号（これらは結合されるかもし れない）はまた、原自己相関関数から誘導される複合信号である。 複合変換演算子は１粒子寸法分布および複合信号内の各データ間の数学的関係を 含む変換演算子として定義される。 図面の簡単な説明 本発明のこれらおよびその他の目的および利点は、図面を参照してなされた以下 の説明により、一層明らかとなろう。 第１図は１本発明を具体化した例示のシステムの該略図である。 第２図は、第１図のシステムの検出器および信号プロセッサの実施例を示すブロ ック図である。 第３図は、第１図のシステムの検出器および信号プロセッサの他の実施例を示す ブロック図である。 第４図は、第１図および第２図のシステムの動作を説明するフローチャートであ る。 第５〜７図は、第４図のデータ処理段階の３つの実施例の詳細フローチャートで ある。 第８および９図は、水中に分散されたポリスチレンラテックス球体の例示のサン プルに対して本発明の実施例により決定された質量重み付は寸法分布を示す図で ある。 第１Ｏ図は、本発明の実施例の動作を説明するためのフローチャートである。 第１０Ａ図は、本発明に対する例示のセンサ形式を示す概略図である。 第１１〜１３図は、第１０図のフローチャートのデータ処理段階の３つの実施例 を示す詳細フローチャートである。 【実施例の説明〕 第１図は、本発明に従う例示のシステム１０を示している。システム１０は、流 体サンプル１２内に分散された粒子寸法分布ｖ（ｒ）を表わす出力信号を提供す る。ここで、ｒは粒子寸法を表わす、サンプルは、例えば、粒子中に分散された 離散的粒子または巨大分子でもよいし、溶媒中のイオン化された巨大分子であっ てもよいし、エアロゾル内の離散粒子であってもよいし、あるいは寸法測定され るべき粒子が流体中に分散され、その流体中でブラウン運動を受ける任意の形態 でよい。 第１図の実施例において、サンプル１２は、温度被制御屈折率整合媒体を満たし た槽室（バスチャンバ）１４内に配される。システム１０は、入力軸線２４に沿 って送られレンズによりサンプル１２上に焦点を結ぶ平行化光ビームを供給する 光源１８を備えている０例示の実施例において、光源はレーザであるが、本発明 の他の形式にＳいては、非コヒーレント光源も使用できる６本実施例は、非散乱 光が検出器に実質的に到達せしめられないホモダイン形式である０本発明のヘテ ロゲイン形式においては、光源１８からの光ビームは、例えば第１図の破線２２ により指示されるオプチカルファイバによって、センサ３０に直接結合され得る 。光検出器２８は、感知軸線３２を有するセンサ３０を備えるが、このセンサは 、サンプル１２から等距離で弧３６上にサンプル１２の回りに角度的に分散され た複数の点に位置づけることができる０図示のように、入力軸線３２は、軸Ｉ！ ２４に関して角度θだけ変位されている０本発明の種々の形式において、検出器 は弧３６上に沿って逐次位置づけてもよいし、代わりに複数の光検出器が弧３６ に沿って離散した点に固定されてもよい、検出器２８は、線２８ａに沿って信号 プロセッサ４０に出力信号を供給する０本実施例においては、アパーチャ形成デ バイス３７および３８が、センサ３０にて検出される光が予定されたコヒーレン ス領域内にあるように、センサ３０および軸線３２に関して位置づけられている 。 加えて、本実施例は、軸線２４に沿ってサンプルの前におよび軸線３２に沿って それぞれ配置された１対の偏光器３９ａＪ５よび３９ｂを備えている。フィルタ ３９ａおよび３９ｂは、予定された偏光をそれぞれ有する光ビームおよび散乱光 の一部のみを通過せしめる。これらのフィルタの偏光角度を選択的に制御するこ とにより、各直交偏光角に対し、単一角度θに対して実質的に独立の強度信号が 発生され得る０例えば、１形式においては、フィルタ３９ｂは、右円偏波光を通 すものとし、フィルタ３９ｂは、右円偏波光または左円偏波光を通すように選択 的に変えてよい０代わりに、フィルタ３９ａは乗置偏波光な通すものとし、フィ ルタ３９Ｂは、２つの異なる直交偏光の一方により特徴づけられる光を通すよう に選択的に変えてよい。 第２図は、検出器２８および信号プロセッサ４ｏに対する１形式を示すもので、 検出器２８は、光電子増倍管４４および関連するパルス弁別装置４６および積分 装置４８を備える。この形式においては、信号プロセッサ４０は、自己相関装置 ５０、信号分析装置５２およびコントローラ５４を備える。 第３図は、代わりの形式を示すが、この形式にあっては、検出器２８は、干渉計 ６０および光電子増倍管６２と、光電子増倍管６３右よび積分装置６４とを備え るが、前者は、センサ３０における光強度のパワースペクトルを表わす信号を供 給し、後者は、光センサにおける光強度の時間平均を表わす信号を供給する。信 号プロセッサ４０は、信号分析装置６６およびコントローラ６８を備える。第２ 図およびぢ３図において、信号分析装置は、信号分布ｖ（ｒ）を表わす出力信号 を供給する。 動作について略述すると、光源１８は、入力軸線２４に沿ってサンプル１２を照 明し、検出器２８のセンサ３０は、アーク３６上の複数の点においてサンプルに より散乱される光の強度を検出する。検出器２８において測定される強度は、サ ンプルの散乱領域の各分子から分散される光の位相分布から生ずる干渉パターン である。 液体または気体サンプルにおいては、分子は運動状態にあり、検出器２８におけ る干渉パターンは、散乱粒子の運動により変調される。外部電界の不存在の場合 、粒子の運動はランダムであり、熱変動にのみ起因する。これらのランダム運動 により惹起される検出器における散乱光電界の変動は、固定のランダムなプロセ スを含む、プロセスの二次モーメントは、下記のうように定義される。すなわち 、 ここでｅ（τ）は１時点τにおける検出器における散乱光の電界である。　ｇ（ ｔ）は、プロセスの自己相関関数（ａｃｆ）である、自己相関関数は、任意の時 点における分子の形態と、任意の時間後例えば非常に短い時間遅延後における分 子の形態間の相関の測定値である。検出器において測定される粒子の形態ならび に散乱電界は、原形態に密接類似しており、時間が経つと、その類似は減少する 。 第２図の形態において、散乱光の自己相関関数は、ディジタル相関装置５０によ り決定される０代わりに、第３図の形態において、第２図の光電子増倍管−弁別 装置−自己相関装置の諸要素は、干渉計６０および光電子増倍管６２により置き 代えられる。後者の形態においては、自己相関関数のフーリエ変換であるパワー スペクトルが測定される。第２図および第３図の両形態において、得られる情報 は等価であり、パワースペクトル信号は　ＤＬＳデーデーして明細書中に言及さ れる。２つの形式間の選択は、サンプル１２により散乱される光の変動の迅速性 により決定される。好ましくは、０．Ｏｌマイクロ秒より緩速な時間スケールで 減衰する変動が、自己相関により測定され、０．０１マイクロ秒より迅速な変動 は、干渉法により測定される。 第２図の光電子増倍管４４および積分装置４８および第３図の光電子増倍管６３ および積分装置６４は、検出器３０における平均検出強度を表わす信号を供給す る。 これらの信号は、明細書中においてＣＬＳデータとして言及される。 第１図および第２図のシステム１０の諸要素１８．２８．４４．４６．４８およ び５０は、Ｌａｎｇｌｙ　Ｆｏｒｄ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、マサチューセッ ツ州ａｍｈｅｒｓｔ所在、により製造されたモデルＬＳＡＺ÷光子相関スペクト ロメータおよびモデル１０９６相関器のような商業的に入手できる装置によって 一部実施できる０代わりに、これらの諸要素は、ＣｏｕｌｔｅｒモデルＮ４光子 相関スペクトルロメータ、またはＭａｌｖｅｒｎ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　Ｉ ｎｃ、、マサチュウセツツ州Ｆｒａｍｉｎｇｈａｍ所在、により製造されたＳｙ ｓｔｅｍ　４７００スペクトロメータ、またはＡｍｔｅｃ、Ｖｉｌｌｅｎｅｕｒ ｅ−Ｌｏｕｂｅｔ、フランス所在、により製造されたシリースＭＭ１００Ｏスペ クトロメータ、ならびにＣｏｕｌｔｅｒモデル１０９６相関器により実施できる 。 第４図は、第１図および第２図のシステムの一般的動作を例示するフローチャー トを示すもので、Ａで示されるデータ収集段階およびＢで示されるデータ処理段 階を含んでいる。第１図および第２図に示される本発明に従えば、データ収集段 階Ａは、２モードにおいて要素１８および２８で遂行される。第１のモードにお いては、ＤＬＳ測定がｍの異なる角度でなされ、自己相関装置５０は、第４図に 置いてａｃｆ　１−−−ａｃｆ　ｍで指示されるｍの相関関数を提供する。第２ モードにおいては、ＣＬＳ測定が園の同じ角度と（ｍは　ｌに等しいかそれより 大きい整数）、追加のｎの角度（ここでｎは０に等しいかそれより大きい整数） でなされ、積分装！４８が第４図においてｉｎｔ　１．−＝、ｉｎｔ　ａ＋ｎで 指示される■÷ｎの積分された強度値を供給する。これらの自己相関関数および 積分強度測定は、同じ時間または逐次的になすことができる。何故ならば、各測 定に対して得られたデータは、実質的に独立であるからである０本発明の種々の 形式においては、逐次の一組の自己相関関数および平均速度測定が、異なる角度 でな（、同じ角度で、ただし異なる条件、例えば温度、流体力学的溶液特性、ま たは偏光角度下でなされ得る。これらの条件は、センサ３０に独立の強度特性を 設定する０例えば、測定条件は、サンプル上に入射する光（入力光）の偏光およ びサンプルから散乱され検出器上に入射する光（出力光）の偏光を選択的に制御 することにより制御できる。入力および出力光の偏光は、同じ偏光であるように 制御してもよいしく例えば水平／水平、垂直／垂直、右円偏波／左円偏波、また は左円偏波／左円偏波）、直交偏光としてもよい（例えば水平／垂直、垂直／水 平、右円偏波／左円偏波、左円偏波／左円偏波）、また、逐次の一組の自己相関 関数および平均強度測定は、角度およびこれらの条件の種々の組合せでなされ得 る。 ＣＬＳおよびＤＬＳデータが測定される角度および条件の任意の組合せに対して 、第５図、第６図および第７図は。 コントローラ５４０制御下で信号分析装置５２により実施され得る３つの異なる 信号処理方法を例示している。 各方法は、Ａで指示される標準化段階、Ｂで指示されるモデル化段階およびＣで 指示される分析段階を含む。 第５〜７図の各形式において、標準化段階において、ｍの相関関数は、角度的強 度（ＣＬＳ）データでまず標準化され、それによりそれらの相関信号が、ｍの検 出点に置ける平均検出強度の値にスケールされ、ｍの標準化自己相関関数を形成 する。ついで、複合自己相関関数が、ｍの標準化自己相関関数の直接和から形成 される。 モデル化段階においては、式の反転、すなわち、ｙ＝Ｊ−’　（ｇ＋　（ｔ）　 ＋　−−−＋　ｇｗａ　（ｔ）　、！　（θ１）１−−−１１（θ１）。 ｉ（０ｍ＋１）＋−−−＋　１（θ、、ｎ））が遂行され得るように、分析的す なわち離散的モデルが、分析段階で使用するために構成される。第５図、第６図 および第７図は、各々、複雑条件の関数に対して従来の態様でモデルを構成する ための異なる例示的かつ既知の形式を示している。 第５図においては、モデル寸法分布が、全非零成分を有するヒストグラムとして 発生され、核Ｊが変換のために発生される。コンビ二一夕を使用して寸法分布ｖ （ｒ）を見出すために、非負最小二乗法（ＮＮＬＳ）を使用するプログラムディ ジタルコンピュータで、「最良適合化」を遂行する＊　Ｐｒｅｎｔｉｃｅ　Ｈａ ｌｌ　Ｉｎｃ、、ニューシャーシー州Ｅｎｇｌｅｗｏｏｄ　Ｃ１１ｆｆｓ所在、 　１９７４年発行、のＣ，ＬａｗｓｏｎおよびＲ，Ｈａｎｓｏｎ著ｒ　Ｓｏｌｉ ｎｇ　Ｌｅａｓｔ　５ｑｕａｒｅ　ＰｒｏｂｌｅｍｓＪ参照。 第６図において、モデル寸法分布が、すべての非負成分をもつ平滑化ヒストグラ ムとして発生される。各シおよび平滑マトリックス■が形成され、特徴的（α） が発生される。ついで、Ｊ、Ｈおよびアルファについてマトリクス操作が遂行さ れ、直線的抑制を受ける最小のノルムを有する残差ベクトルを決定するように問 題を変換する、　Ｊ、Ｈおよびαを使用して寸法分布ｖ（ｒ）を見出すため、最 小距離プログラミング技術を使用するプログラムディジタルコンピュータで、直 線的制約を受ける残差のノルム【シ＋Ｖ　Ｌ−ｇ＋（ｔＪ）を最小化し、ついで 、ν（ｒ）を決定するためにマトリクス操作が遂行される。　Ｐｒｅｎｔｉｃｅ Ｈａｌｌ　Ｉｎｃ、、ニューシャーシー州Ｅｎｇｌｅｗｏｏｄ　Ｃ１１ｆｆｓ所 在。 １９７４年発行の仁ＬａｗｓｏｎおよびＲ，Ｈａｎｓｏｎ著ｒ　Ｓｏｌｖｉｎｇ Ｌｅａｓｔ　５ｑｕａｒｅ　Ｐｒｏｂｌｅｍｓ　Ｊ参照。 第７図においては、モデル寸法分布が、パラメータ化分布（ｐｉ、ｐ２．−−− 、ｐｋ）により決定される。ここで、パラメータｐｉ、ｐ２−−−ｐｋは寸法分 布を決定する。ついで、（ＰＩ）Ｔｉ−１，−−−、Ｋに関するＤの導関数につ いて解析式が決定される。プログラムディジタルコンビ二一夕が、非直線最小二 乗適合化技術を使用して、プログラムＧＲＡＤＬＳを使ってｖ（ｒ）を特徴づけ るＰ、の最良値を決定する＊　ＭｃＧｒａｗ　ＨｉｌｌＢｏｏｋ　Ｃｏ、、ニュ ーヨーク所在、　１９６９年発行、のＰ、　Ｒ，Ｂｅｖｉｎｇｔｏｎ著ｒ　Ｄｅ ｔａ　Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｅｒｒｏｒ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　ｆｏｒｔ ｈｅ　ＰｈｙｓｉｃａｌＳｃｉｅｎｃｅｓＪ参照ｅ第５〜７図に示される本発明 の全形式において、自己相関関数が標準化され、ついで複合自己相関関数が形成 される。しかしながら、本発明の代わりの形式においては、自己相関関数は単位 標準化し、ついで複合自己相関関数を形成するように使用してもよい、ついで、 Ｊが標準化され、標準化変換演算子が、寸法分布を発生するように使用されよう 、さらに、第５図および第６図における複合自己相関関数は、標準化自己相関関 数（したがつてＣＬＳ強度）の直接和である。この場合、直線変換が使用される ０本発明の他の形式においては、第７図におけるように、非直線変換が使用され る。 さらに、上述のように、サンプルに対する散乱光のみが測定され、ホモダイン分 析に対する基準を形成する。 代わりに、測定は、光源から非散乱光により増大されるように散乱光についてな される場合もあり、実際には、ビート信号が、ヘテロゲイン分析に対する基準と して発生されるようになされる。それらの形式においては、信号ｇ（ｔ）は、検 出された強度の真の自己相関関数としてもよいし、例えば単に「密接に関係づけ られた」だけでもよい、この場合、バックグラウンドレベルが減算され、ついで 得られた信号の平方根が取られる。後者は、ホモダイン形態のガウスの光に特に 適当である。 第１図および第２図の好ましい実施例において、光源１８、検出器２８（要素４ ４．４６および４８を含む）および自己相関装置５０は、Ｌａｎｇｌｅｙ　Ｆｏ ｒｄ　Ｍｏｄｅｌ　ＬＳＡ２＋光子相関スペクトロメータおよびＬａｎｇｌｅｙ 　Ｆｏｒｄ　Ｍｏｄｅｌ１０９６相関装置により提供される０、信号分析器５２ およびコントローラ５４は、Ｃｈａｒｌｅｓ　Ｒｉｖｅｒ　ＤａｔａＳｙｓｔｅ ｍｓ、　？サチューセッツ州Ｎａｔｉｃｋ所在により製造されたモデルユニバー ス１３７／Ｔデイジタルコンビユークの形式にあり、そしてこのコンピュータは 、ミシガ、ン州Ａｂｓｏｆｔ　Ｃｏ　ｒ　−ｐｏｒａｔｉｏｎ、ミシガン州Ｒｏ ｙａｌ　Ｏａｋ所在、により製造されたＦａｒｔｒａｎｎ　７７　Ｃｏｍｐｉｌ ｅｒを有するＵＮＯＳオペレーティングシステムを有している。この形態の場合 、自己相関関数およびＣＬＳデータが、２つの角度例えば９０＠オよび３０゜で 集められる。データは、集められると、１０９Ｂ相関装置の内部メモリに自動的 に記憶される。２つの角度のデータが集められ記憶された後、直列（ＲＳ−２３ ２）ポートを介して転送される。　１０９６相関装置は、ライン当り５チヤンネ ルの形式でデータを送るように設定される。　Ｒ５−２３２ボートを介して受信 されるデータは、１３７／Ｔコンピユータ上のディスクファイルに直接酋己憶さ れる。 １３７／Ｔコンピユータデイスクフアイルに記憶される１０９６相関装置からの データのフォーマットは、信号処理プログラム、ｃｏｎｔ２ａｎｇ、　ｆｍ、に 対する正しい形式にに変換される。このフォーマット変換は、プログラムｃｏｎ ｄｅｎｓｅ。 ｆｍ、に従ってプログラムされる１３７／Ｔコンピユータを使用して、２組のデ ータ（各角度に対して１つ）を処理することによって遂行される。プログラムｃ ｏｎｄｅｎｓｅ、　ｆｍ、の制御下で、１３７／Ｔコンピユータは、自己相関関 数データを、測定において使用されるサンプル時間（これも１０９６相関装置か らのデータセットに含まれる）とともに読み取り、原データの数チャンネルを凝 縮されたデータの１つのチャンネルに結合することによって、各角度に対する２ ５６チヤンネルのデータを２組の６０チヤンネルのデータに凝縮する。処理され たデータは、１３７／Ｔコンビユーク上の新しいディスクファイルに書き出され る。データを凝縮するこのプロセスは、後続のデータ処理を速めるためにのみな されるのであり、得られる寸法測定結果に　゛実質的な影響を及ぼさない、つい で、１３７／Ｔコンと二一夕は、ｃｏｎｄｅｎｓｅ、　ｆｍ、の制御下で、デー タが測定された６０の凝縮された自己相関関数点に対応して、第１の角度に対す る６０の自己相関関数時間点を書き出す。データは、ＦＯＲＴＲＡＮフォーマッ ト５ｅ１５．６で書き出される。第１の角度に対する自己相関関数時間点に続い て、第２の角度に対する６０の自己相関関数時間点が同じフォーマットで書き出 される。これに続いて、第１の角に対する６０の凝縮された自己相関関数点が、 続いて第２の角に対する６０の凝縮された自己相関関数点が書き出される。自己 相関関数点は、ＦＯＲＴＲＡＮフォーマット４ｅ１７．１１で書き出される。 この点において、新ディスクファイルは、１０９６相関装置により収集される原 データに等価な再フォ−マツト化された凝縮データを含む、２つの角度に対する 時間点および自己相関関数点のみを含むこの新しいデータファイルは、ヘッダに より予め固定される。しかして、該ヘッダは、信号処理プログラムｃｏｎｔ２ａ ｎｇ、　ｆ＋ｌｌに、データが如何に処理されるべきかを報知し、またプログラ ムに、サンプルの温度および粘度、散乱角のような他の情報を与える。ヘッダの 内容は、Ｃ０ＮＴＩＮ使用者マニニアル。 Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ、　ＢＲＤ所在、に記載されている。サンプルヘッダは、 １３７／Ｔコンピユータを使用してファイルに予め固定される。 ヘッダが、凝縮された２つの角度データを含むデータファイルに予め固定される と、プログラムｃｏｎｔ２ａｎｇ、　ｆｍは、データを処理し、サンプルに含ま れる粒子の寸法分布の寸法を提供するように要求される。第８図および第９図は 、サンプルが、水中に分散された４５０Ａおよび８５０Ａ（半径）のポリスチレ ンラテックス球体の混合物を含む場合、この形態で発生される質量重みづけ寸法 分布ｖ（ｒ）を示している。測定は％２０°の温度にて、１４４　”　（３００ 秒測定）および６３．２°（９００秒測定）の散乱角度でなされる。第８図は、 この例に対してｃｏｎｔ２ａｎｇ、　ｆｍプログラムからのデータ出力の一部を 示し、第９図は、このデータのグラフ表示を示している。 このサンプルにおける大きい寸法の粒子は、小さい粒子の２倍以下である。光散 乱測定の場合、比較的密接するピークは、分解するのが極度に難しい、ＤＬＳお よびＣＬＳデータを結合することによって得られる分解能の向上によって、第９ 図に示されるように２つのピークの明瞭な分離が可能となる。 第１〜３図はまた、第５〜７図と関連して記述される実施例において必要とされ るようにＤＬＳデータをＣＬＳデータに対して標準化する必要のない本発明の実 施例を示している。非標準化実施例においては、第２図の信号分析装置５２およ びコントローラ５４ならびに第３図の信号分析装置６６およびコントローラと６ ８は、上述の本発明の標準化形式における対応する要素と相違している。好まし い形式において、これらの要素もまた、Ｃｈａｒｌｅｓ　Ｒｉｖｅｒ　Ｄａｔａ 　Ｓｙｓｔｅｍ、マサチューセッツ州Ｎａｔｉｃｋ所在、のモデルＵｎｉｖｅｒ ｓｅ１３７／Ｔディジタルコンピュータの形式を有してよい、しかして該コンビ 二一夕は、追ってより詳細に記述されるようにプログラムされる。 第１０図は、本発明の１つの非標準化形式における第１図および第２図のシステ ムの一般的動作を例示するフローチャートであり、Ａで指示されるデータ収集段 階と、Ｂで指示されるデータ処理または分析段階を含んでいる。第１図および第 ２図に示される本発明のこの非標準化形式に従うと、データ収集段階Ａは、要素 １８および２８で２つのモードで遂行される。第１のモードにおいては、ＤＬＳ 測定が、ｍの異なる測定条件でなされ（ここでｍは１に等しいかそれより大きい 整数である）、そして自己相関装置５０は、第１０図においてａｃｆ　１．、。 ａｃｆ　ｒａで指示される閣の自己相関関数を供給する。第２のモードにおいて は、ＣＬＳ測定が、ｎの異なる測定条件（ここでｎは零に等しいかそれより大き な整数であり、ｍａｎは２に等しいかそれより大きい）、そして積分装置４８は 、第４図においてｉｎｔ　ｍ＋１．−−−、ｉｎｔ　（Ｏｗｎで指示されるｎの 積分された強度信号を供給するａ　ｍａｎの測定条件のうちの少なくとも２つは 異なっている。これらの自己相関関数および積分強度測定は、粒子分布それ自体 が時間に関して実質的に変化しない限り、同時または逐次になされ得る。これは 、各測定に対して得られるデータが実質的に独立であるからである。好ましくは 、■の測定条件の各々は、ｎの測定条件の各々と異なるのがよいが、ＣＬＳおよ びＤＬＳ測定は同じ条件で行われてもよい。 最小のシステムにおいて、例示としてｍ＝１そしてＮ−１の場合、異なる測定条 件において単一のＤＬＳ測定および単一のＣＬＳ測定を遂行してもよいし、ある いはａ＋＝２およびｎ・０に対して、異なる測定条件において２つのＤＬＳ測定 を遂行してもよい、後者の場合、ＤＬＳ測定は、実際には本質的に若干のＣＬＳ データを含む。 本発明の種々の形式において、自己相関関数および平均強度測定は、異なる測定 条件、例えば角度、温度、流体力学的溶液特性または偏光角度、すなわちセンサ ３０に独立的強度特性を設定する任意の条件下でなされる。 また、種々の自己相関関数および平均強度測定は、角度およびこれらの条件の種 々の組合せでなし得る。 第１図に例示される実施例において、測定は、入力軸線２４に関して測定して所 望の角度位置に制御下に位置づけられる単一のセンサによってなされる。ビーム 路内の偏光コントローラおよび／またはサンプル温度コントローラも、独立的測 定条件を設定するように使用され得る。しかしながら、ＣＬＳ測定およびＤＬＳ 測定に対して別個のセンサを利用するのが特に有利である。これは、最適の収集 光学系に対する既知の基準が、それぞれのＣＬＳおよびＤＬＳ測定に対して全く 反対であるからである。 ＣＬＳ測定は、所与の角度において、散乱光が同じサンプルの比較的大きな部分 から収集されるときに、最高の信号対雑音比を有する。逆に、ＤＬＳ測定の場合 には、収集光学系がサンプルの比較的小部分を見るときに高信号対雑音比が得ら れる。 ＣＬＳ測定に対しては、２つの別個の弧状光ダイオートート検出器配列（ビーム 入力軸線に関して小角度、例えば６〜６０度に対しては前方向配列、そして大角 度例えば６０〜１２０度または９０度士比較的小角度に対しては、側方向配列） が適当であり、ＤＬＳ測定に対しては、光電子増倍管検出器に結合されたオプチ カルファイバの別個の弧状配列（例えば４５．９０および１５０度）が適当であ る。この配列は第１０Ａ図に略示されているが、簡単にするため、光源、サンプ ル、ＣＬＳセンサ配列およびＤＬＳセンサ配列のみが示されている。第１０Ａ図 において、第１図の諸要素に対応する要素は、同じ参照番号で識別される。第１ ０Ａ図の形態において、サンプル１２は、相対向する１対の平行平坦側壁を有す る矩形断面のキュベツトに保持されている。　ＣＬＳ低角（０度に近い）センサ およびＣＬＳ高角（９０度に近い）センサは、それぞれＸ−Ｙ平面およびｘ−２ ＋面に存する弧状配列で配置されている。 ＤＬＳ光ダイオード−配列も、ｘ−２＋面に存在する。 ＣＬＳおよびＤＬＳデータが測定される角度および／または条件の任意の組合せ に対して、第１１図、第１２図および第１３図は、コントローラ５４の制御下で 信号分析装置５２で実施できる３つの異なる信号処理段階を示している。各方法 は、予処理段階、モデル化段階および分析段階を含む、第１１〜１２図の各々に おいて、分析段階は、第５図と関連して記述したのと同じ非負最小二乗（ＮＮＬ Ｓ）曲線適合化法であるが、代わりの曲線適合化技術も使用できる。第１３図に おいては、分析段階は、第７図に示されるものと同じである。 第１１図の形式においては、予処理段階において、ｍの自己相関関数の各々が、 そのモーメント（零番目のモーメント）を抽出するように先ず処理され、ついで 得られたｍのモーメント信号が、重み付けされた直接和を形成するようにｎのｉ ｎｔ信号と結合される。後者の複合散乱光信号は、ついで分析段階に転送される 。 寸法分布モデル化段階は、第５図と関連して記述したのと実質的に同様である。 ただし、モデルは、式の反転、すなわち、 ｖ＝Ｊ−’　（Ｉｎ、１−−−１ｍｍ１ｉ（θｅｅ１）、＋−−−＋　１（θ、 、ｌｌ＞＞が遂行されるように、分析段階で使用されるように構成される。ここ で１１１１は１番目の自己相関関数に対するモーメントを表わす（零番目のモー メントを除り）０代わりに、第６図に示され該図と関連して記述されるモデルを 構成する形式を使用することもできる。 第１１図においては、モデル寸法分布が、すべての非負成分を有するヒストグラ ムとして発生され、核Ｊが変換のために形成される。この核を使用して寸法分布 ｖ（ｒ）を見出すため、非負最小二乗（ＮＮＬＳ）を使用するプログラムディジ タルコンピュータで「裁量適合化」を遂行する。 さらに詳述すると、自己相関関数から反転モーメントを抽出するため、ホモダイ ン散乱光自己相関関数Ｇ（ｔ）は、下記のへテロダイン自己相関関数ｇ（ｔ）を 生ずるようにまず処理されねばならない。すなわち、ｇ　（ｔ）　＝　（（Ｇ　 （ｔ）　−ｂａｓｅｌｉｎｅ）　）／ｇ　（０）ここでｂａｓｅｌｉｎｅは従来 の態様で測定できる（例えばＡｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、１９７６年発行、 のＢ、　Ｃｈｕ著ｒ　Ｌａ５ｅｒ　ＬｉｇｈｔＳｃａｔｔｅｒｉｎｇＪ参照）、 シかるときｇ（ｔ）の自然対数は、遅延時間ｔでパワ列に曲線適合される。すな わち、Ｉｎ（ｇ（ｔ））”Ｋｏ１０１＋に＋ｔ／ｌ！＋に＊ｔ”／２！＋−−− （Ｋ＋＋１”０＋−−−９ｎ）は、式に一、＝Ｃ’に、により粒子寸法分布の反 転モーメント（ｋ−１＋ｌ”ｌ＋−−−１ｎｌに関係づけられる。ここで、Ｃ− ３πη／（ｋｍＴｑ″）、ηは粒子を分散させる流体の粘度、Ｘ、はボルツマン 定数、そしてＴは絶対温度である。ｑは、ｑ＝４πｎ　ｓｉｎ　（θ／２）によ り定められる散乱ベクトルの大きさである。ｎは、粒子を分散させる流体の屈折 率、θは分散角、そしてλは入射光の波長である０反転モーメントは、粒子寸法 分布の反転中心直径の平均値、例えば−次反転モーメントは、反転直径の平均値 ＜１／ｄ＞、二次反転モーメントは、＜＜１／ｄ”＞　−＜１／ｄ＞９゜−ｍ− −−である０通常モーメントは、＜ｄ＞、＜＜ｄ”＞　−＜ｄ＞１＞。 −−−−−である、この反転モーメント抽出が遂行されるプロセスは、　Ｊ、ｏ ｆ　Ｃｈｅ、　Ｐｈｙｓ、、ｖｏｌ、５７．ｐ　４８１４．１９７２年発行に詳 細に記述されている。 十分の数の反転モーメントが採られると、粒子寸法分布は完全に特定される。好 ましい実施例において、下式により定義される一次モーメントとともに十分採ら れれば、−次および二次反転モーメントで十分である。すなに、　＝（１／Ｃ） 　Σ（ｇ（ｔ＋、＋）−ｇ’（ｔ＋））”（１＋、＋−１＋）／２１：０ ここでＡは、自己相関関数における時間点の数に等しい、標準化ファクタを含む 第零次のモーメントは省略される。に上の正の添字は、モーメントを指示し、負 の添字は反転モーメントを指示する。 粒子寸法分布は、自己相関関数から抽出されるモーメントに関係づけられる。こ の結果、マトリックス式Ｋｖ＝ｇは、核マトリックスにと寸法分布ベクトルｙど の積を測定ベクトルＣに関係づける。ここでベクトルｙの成分は、数（ｖｌ）で ある、！のこれらの成分は、ｉにより指示される寸法の粒子の相対量、すなわち 所望の寸法分布を表わす、測定ベクトルｇの成分は、自己相関関数およびＣＬＳ データから抽出されるモーメントおよび反転モーメントである。マトリックスに の成分は、下記のように定めることができる。まず、マトリクスは、１群の別個 の式のような式として表わすことができる。すなわち、ここで、Ｂはサイズヒス トグラムにおけるビンの数に等しく、Ｎは反転モーメントの数に等しく、Ｍは通 常モーメントの数に等しく、Ｃ，（θ）は、分布におけるｉ番目のサイズビンお よび散乱核θに対する強度変換ファクタ、　ｄ＋は分布における　ｉ番目のサイ ズビンにおける粒子に対する粒子直径である。モーメントに、は、散乱角θで分 類されて、分析において使用される各ＤＬＳ敗乱角に対して異なるモーメントが 抽出されることを指示する。上述の式は、角マトリクスｈのＤＬＳ関係成分を定 め、下式を与える。 ＫＪＩ（θ）：ｃｌ（θ）　−ｄＪ マトリクスには、米国特許出願第８１７，０４８号に記載されると同様に、直接 和により、核のＣＬＳ部分で増大される。 上で定められる成分をもつマトリクス式■・≦は、ついで、第５図と関連して上 述したように、非負最小二乗（ＮＮＬＳ）曲線適合化アルゴリズムで解かれる。 第１２図においては、ｍの自己相関関数は、単位標準化され（すなわち、各自己 相関関数に対してｇ（０）・１であるように標準化される）、ついで「変更され た」核が、下式により表わされる式で使用される。 ここで、ｋは散乱角を指示し、ｉは寸法（ヒストグラムビン数）、ｊは時間（自 己相関関数に対する）、ｙは重量分布、ｑ　ｌｋ）はに番目の角における重量の 強度への変換である　Ｃｔ　（ｋ）は、上に使用される　Ｃｔ（θ）に対応する 、ここでθはに番目の核である。最後に、曲線適合化は、下式における（■１） を最小にすることにより決定される。 このプロセスにより、自己相関関数内の情報は、第１１図におけるように、モー メントをまず抽出することなく、直接利用可能となる。加えて、ｎ次（ｎ＃０） のモーメント内の情報のみでなく、自己相関関数内の全情報が利用される。モデ ル化段階および分析段階は、第１１図におけるものと実質的に同じである。 第１３図においては、一般化された曲線適合化技術が、全熱標準化されなかった 自己相関関数に適用される。一般に。 ｉ＝１ ここに、ｋ＝１．−−−、＋ｍ　、そしてｊ＝１．−−−、各自己相関関数（Ａ ）における時間点の数。 ここで、Ａ（θ５）は、標準化されないに番目の自己相関関数の振幅である。ｙ は、下式な曲線適合化することにより得られる。 ｉ＝１ ここでに＝１．−−−、ｍ ここでＶ、は、全ヒストグラムビンに対して負でないように拘束され、Ａ（θ駒 は、全ＤＬＳ測定角に対して負でないように拘束される。 本発明は、その技術思想から逸脱することな（他の特定の形式において実施され る得るものである。それゆえ、提示の実施例は、すべての点において例示であり 、限定としてみらべきものではなく、技術に精通したものであれば、特許請求の 範囲において変更、変形し得るものである。 浄書（内容に変更なし） 浄、！（内容に変更なし） ０／？りＩ／／／Ｖｆ　１１５１：１５５ノ１．７７ρρｆ−０１！、ρρ１） ｆｆＩＩＩｏ、１）０１ｆ−１／　１ｔＪ５ｆｆ０１１１、Ｉρ５ｆｉｌ）ｊ　 ／、／ρ３１　ｌ０２１．０１ρｌ−σ／　５．ＪＪ５ｆｆρ／！１．０１ｔ） ｆ−１／　ｌ；、ｌ６Ｊｆ＃ｔ’１１、ρρρｆ−ρ／　１．１Ｊ０１ｆＯ！Ｉ Ｊ、Ｉｌｌ；ｆｆｌ／　１ｌｌＶｆｆｌｌ　／１１ｊ２ｆｆ１０　１．１Ｉｊｆ ｆ０１１１．０００ｆ−１１／、＃１ｆｆｌＪ１１、σｌ１ｌ−ＩＩ　／、１； １ＩｆｆｌＪ、ｒｌ、０θＯｆ−ρ／　１．１）ＩダＩｆσＩ１１、　ｕρｆ− ρ／　１．ＩＩ６ｆｆ（１１１０，０００１−ＩＩ　！、１）ｌρｆｆ（１１１ ρ、ρ１ｌｌ）ｆ−σ１１ノｆｌｕｆｆ（１３１σ、ｌρρｆ−０／　Ｌ１０１ ｆｆ０３１σ、ρρθｆ−１）／　ｊＪＪ５ｆｆｌ）Ｉｌｌ、ρρＯｆ−０／　 ／、ｌ１ｄｆｆＯ！７０．１）ρρｆ−０１１，１ＪＯｆｆｌ）Ｉｌｌ、ρρ０ ｆ−０／　ｊｉｌ１７ｆｆｌｌＪＩ。 σ、ＩσＯｆ−ρ／　／、ＩＩりｆｌσダ１１．０００ｆ−０１１Ｊ！ｊｉｆｆ ρ／Ｉｌ、ｌθθｆ−ρ／　／、６１？ｆｆσ／！浄書（内容に変更なし） 浄書（内容に変更なし） 浄書（内容に変更なし） 浄書（内容に変更なし） 手続補正書 平成元年６月１２日 特許庁長官　吉　１）文　毅　殿 事件の表示　ＰＣＴ／ＵＳ８８１０２２２２発明の名称　流体中に分散される粒 子の粒子サイズ分布測定方法および装置 補正をする者 事件との関係　特許出願人 名　称　クールター　エレクトロニクス　オブニュー　イングランド、インコー ホレイテッド／住　所　東京都中央区日本橋３丁目１３番１１号補正の対象 特許法第１８４条の５第１項の規定による書面の特許出願人の欄明細書の請求の 範囲の翻訳文 委任状および翻訳文　各１通 補正の内容　別紙の通り 請求の範囲を下記のように補正します。 「請求の範囲 （１）流体サンプル内に分散される粒子の寸法分布ｖ　（ｒ）、ここにｒは粒子 寸法を表わす、を測定する装置において、 Ａ、入力軸線に沿って送られる光ビームで前記サンプルを照明する照明手段と、 Ｂ、ｍの１組の測定条件の関連する条件下でなされるｍの測定、およびｎの１組 の測定条件の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、前記サンプルにより 前記光ビームから散乱される光強度を検出するための検出手段と、ここにｍはｌ に等しいかそれより大きい整数であり、ｎはＯに等しいかそれより大きい整数で あり、ｍとｎとの和は２に等しいかそれより大きく、前記ｍａｎの測定条件の少 なくとも２つは相違しているものとする、を備え、前記検出手段が、 ａ、前記１組のｍの測定条件の対応する１つの測定条件下で、散乱光の検出され た強度を時間の関数として各々表わすｍの強度信号を発生するための手段と、 ｂ、前記１組のｎの測定条件の対応する１つの測定条件下で検出された前記散乱 光の平均強度を各々表わすｎの平均信号を発生するための手段とを備え、そして さらに、 Ｃ１前記強度信号の対応するものの自己相関関数を各々表わし、かつ前記分布Ｖ （「）の関連する変換に各々等しいｍの相関信号を発生するするための自己相関 手段と、 Ｄ、前記相関信号および前記平均信号に応答する寸法処理手段であって、 ａ、前記ｍの相関信号に応答して、複合相関信号を発生するためのブリプロセッ サ手段と、ｂ、前記複合相関信号および前記ｎの平均信号から複合散乱光信号を 発生するための手段と、Ｃ１前記の関連する変換および前ＭＥ　ｎの平均信号に 関係づけられる複合変換演算子Ｊ″′を決定するための手段と、 ｄ、前記の決定された複合変換演算子Ｊ−１に従って前記複合散乱光信号を変換 して、前記分布ｖ　（ｒ）なの単位標準化相関信号を発生するための手段と、表 わす寸法分布信号を発生する手段と を備える寸法処理手段と、 Ｅ、前記強度信号が相互に独立であり、前記平均信号が相互に独立であるように 前記のｍａｎの測定条件を制御するための手段と を備えることを特徴とする粒子寸法分布測定装置。 （２）前記ブリプロセッサ手段が、 ａ、前記ｍの相関信号に応答して、該ｍの相関信号の零番目のモーメント以外の 各相関信号のモーメントの少なくとも１つを表わすｍのモーメント信号を発生す るための手段と、 ｂ、前記ｍのモーメント信号の直接和を表わし、かつ前記複合相関信号に対応す る重み付けされた直接和信号を発生するための手段と を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。 皿前記ブリプロセッサ手段が、 ａ、前記ｍの相関信号に応答して、該ｍの相関信号の対応するものの単位標準化 形式を各々表わすｍれた反転である特許請求の範囲第１項記載の粒子す、前記単 位標準化相関信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に対応する直接和信号 を発生するための手段と を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。 Ｂ前記ブリプロセッサ手段が、前記ｍの相関信号の直接和を表わしかつ前記複合 相関信号に対応する直接和信号を発生するための手段を備える特許請求の範囲第 １項記載の粒子寸法分布測定装置。 旦り前記の複合散乱光信号を発生するための手段が、前記複合相関信号および前 記ｎの平均信号の直接和を生成するための手段を備え、該直接和が、前記複合散 乱光信号に対応している特許請求の範囲第２．３または４　い　れかに記載の粒 子寸法分布測定装置。 １１前記の関連する変換が直線変換であり、前記複合変換演算子Ｊ−１が、前記 の関連する変換に対する演算子の直接和に対応する演算子の一般化さ寸法分布測 定装置。 ユ前記反転変換演算子Ｊ−１が、（ａ）前記の関連する変換のマトリクスの直接 和に対応するマトリクスの反転に対応するか、（ｂ）　［！ｊｔｊ＋ａ■ドＩＭ ｔに対応するか、ここで旦は、前記の関連する変換に対応するマトリクスの直　 和に・応　るマトリクスであり、ＶはマトリクスＪの紙価であり、旦は条牛づけ マトリクスであり、アルファ　α　は゛化パラメータである、（ｃ）　［Ｊｔ！ Ｕ＋α■ド１！Ｕｔに対応する、ここでｌは、前記の関連する変換に対応するマ トリクスの官　和に・応するマトリクスであり、ｌｔはマトリクスｌの紙価であ り、旦は条件づＣマトリクスで　、アルファ　ａ　は゛パラメータで　リ、そし て？ｉ　ｖ（ｒ　表わベクトルの　が、０に−しいかそれよ きく０束されるものと　る、特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置 。 旦し前記の関連する変換が非直線であり、前記寸法分布が、ｖ　（ｒ、　２）に より表わされ、ここで２はに成分を有する特性パラメータベクトルである、前記 複合変換演算子Ｊ−１が、次式に対する２解法アルゴリズムである、すなわち ここで、ｉは整数１．−−−、　ｍ％ｊは整数１．−−−、　ｑ、βは整数１． −−−、に、ＰＪ２は旦のβ番目の成分、そしてｇｓ　（ｔｊ）は、ｊ番目の時 間間隔における前記角のｉ番目に対する強度信号の自己相関関数であり、Ｊｌ、 は、関連する変換に関係づけられる演算子である、特許請求の範囲第１項記載の 粒子寸法分布測定装置。 二前記測定条件制御手段が、（ａ）前記ｍの強度信号の１または複数のものが、 前記入力軸線から角度的に変位された点において前記光ビームから散乱される光 の強度を表わし、前記ｎの平均信号の１または複数のものが、前記入力軸線から 角度的に変位されかつ前記強度信号が発生された前記点と異なる点において前記 散乱光の平均強度を表わすように前記検出手段の位置を設定するための手段を備 えるか、（ｂ　＋ｉ　ｍａｎの１　の小すくトも１つの？１１　に乍　して、Ｆ ＬＵサンプル　にするＨＵ己ビームからの′の　′　、第１の−された　′　よ 　に゛　尺・に］ｌ、かつｉ：　に　するＵサンプルから　乱さ れる・・の　・・　１．舌　１の　された　′るよ　に゛　・に　′　るための 　えるか、（ｃ）１雪　ｍａｎの１　の小なくとも１つの１に　して、１舌サン プル　に　する１舌ビームからの′の　′を、第２の　された偏゛′をよ　に゛ 　・に市ビし、かつ１皆 に　・　る″ｌ己サすプルから　舌しされる′の　′を、″ＵＵ３Ｏされた　′ 　するよ　に゛・に匍′するための　（え、１舌　２のされた　′が、Ｕ第１の 　された　′と畜交旦工６ｓ６特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装 置。 ■丑流体すンプル内に分散される粒子の寸法分布ｖ　（ｒ）、ここにｒは粒子寸 法を表わす、を測定する方法において、 Ａ、入力軸線に沿って送られる光ビームで前記サンプルを照明し、。 Ｂ、ｍの１組の測定条件の関連する条件下でなされるｍの測定、およびｎの１組 の測定条件の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、前記サンプルにより 前記光ビームから散乱される光強度を検出し、ここにｍは１に等しいかそれより 大きい整数であり、ｎはＯに等しいかそれより大きい整数であり、ｍとｎとの和 は２に等しいかそれより大きく、前記ｍａｎの測定条件の少なくとも２つは相違 しているものとする、 該検出段階が、 ａ、前記１組のｍの測定条件の対応する１つの測定条件下で、前記散乱光の検出 された強度を時間の関数として各々表わすｍの強度信号を発生し、ｂ、前記１組 のｎの測定条件の対応する１つの測定条件下で、検出された前記散乱光の平均強 度を各々表わすｎの平均信号を発生する ことを含み、そしてさらに、 Ｃ６前記強度信号の対応するものの自己相関関数を各々表わし、かつ前記分布Ｖ （「）の関連する変換に各々等しいｍの相関信号を発生し、 Ｄ、前記相関信号および前記平均信号に応答して、 ａ、前記ｍの相関信号をブリ処理して、複合相関信号を発生し、 ｂ、前記複合相関信号および前記ｎの平均信号から複合散乱光信号を発生し、 Ｃ０前記の関連する変換および前記ｎの平均信号に関係づけられる複合変換演算 子Ｊ−１を決定し、前記複合散乱光信号を変換して、前記分布ｖ（ｒ）を表わす 寸法分布信号を発生し、そして Ｅ、前記強度信号が相互に独立で−あり、前記平均信号が相互に独立であるよう に前記のｖａｎの測定条件を制御する 諸段階を含むことを特徴とする粒子寸法分布測定方法。 、、ＬＬＩ前記ブリ処理する段階が、 １３Ｊ−ａ、前記の相関信号に応答して、該ｍの相関信号の零番目のモーメント 以外の各相関信号のモーメントの少なくとも１つを表わすｍのモーメント信号を 発生し、ｂ、前記ｍのモーメント信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に 対応する重み付けされた直接和信号を発生することを含むか、ｂａ、＋’ｍの　 舌０に応スして、ｉ舌ｍの牢＝　の・応　るものの　亡　′　≦　々わ　ｍの　 鴬　゛　９　し・ ｂ、１．　ユ　・　ヒ　蕾　の　わしかっＩ″Ａ　雷＝に・応　る直　ト１を ｌ１」」口１（土よ Ｃ′ｉ″ｍの　９０の直　和　わしかつＵＡ　舌０に・店　る　＝　るこ 上」Ｌ含Ｊ工特許請求の範囲第１０項記載の粒子寸法分布測定方法。」 手続宇甫正書（方式） ％式％ 事件の表示　ＰＣＴ／ＵＳ８８１０２２２２発明の名称　流体中に分散される粒 子の粒子サイズ分布測定方法および装置 補正をする者 事件との関係　特許出願人 名　称　クールター　エレクトロニクス　オブニュー　イングランド、インコー ホレイテッド住　所　東京都中央区日本橋３丁目１３番１１号

Claims (44)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）流体サンプル内に分散される粒子の寸法分布Ｖ（ｒ）、ここにｒは粒子寸 法を表わす、を測定する装置において、 Ａ．入力軸線に沿って送られる光ビームで前記サンプルを照明する照明手段と、 Ｂ．ｍの１組の測定条件の関連する条件下でなされるｍの測定、およびｎの１組 の測定条件の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、前記サンプルにより 前記光ビームから散乱される光強度を検出するための検出手段と、ここにｍは１ に等しいかそれより大きい整数であり、ｎは０に等しいかそれより大きい整数で あり、ｍとｎとの和は２に等しいかそれより大きく、前記ｍ＋ｎの測定条件の少 なくとも２つは相違しているものとする、を備え、前記検出手段が、 ａ．前記１組のｍの測定条件の対応する１つの測定条件下で、散乱光の検出され た強度を時間の関数として各々表わすｍの強度信号を発生するための手段と、ｂ ．前記１組のｎの測定条件の対応する１つの測定条件下で検出された前記散乱光 の平均強度を各々表わすｎの平均信号を発生するための手段と を備え、そしてさらに、 Ｃ．前記強度信号の対応するものの自己相関関数を各々表わし、かつ前記分布ｖ （ｒ）の関連する変換に各々等しいｍの相関信号を発生するするための自己相関 手段と、Ｄ．前記相関信号および前記平均信号に応答する寸法処理手段であって 、 ａ．前記ｍの相関信号に応答して、複合相関信号を発生するためのプリプロセッ サ手段と、 ｂ．前記複合相関信号および前記ｎの平均信号から複合散乱光信号を発生するた めの手段と、 ｃ．前記の関連する変換および前記ｎの平均信号に関係づけられる複合変換演算 子Ｊ−１を決定するための手段と、ｄ．前記の決定された複合変換演算子Ｊ−１ に従って前記複合散乱光信号を変換して、前記分布ｖ（ｒ）を表わす寸法分布信 号を発生する手段と を備える寸法処理手段と、 Ｅ．前記強度信号が相互に独立であり、前記平均信号が相互に独立であるように 前記のｍ＋ｎの測定条件を制御するための手段と を備えることを特徴とする粒子寸法分布測定装置。
  2. （２）前記プリプロセッサ手段が、 ａ．前記ｍ相関信号に応答して、該ｍの相関信号の零番目のモーメント以外の各 相関信号のモーメントの少なくとも１つを表わすｍのモーメント信号を発生する ための手段と、 ｂ．前記ｍのモーメント信号の直接和を表わし、かつ前記複合相関信号に対応す る重み付けされた直接和信号を発生するための手段と を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  3. （３）前記の複合散乱光信号を発生するための手段が、前記複合相関信号および 前記ｎの平均信号の直接和を生成するための手段を備え、該直接和が、前記複合 散乱光信号に対応している特許請求の範囲第２項記載の粒子寸法分布測定装置。
  4. （４）前記プリプロセッサ手段が、 ａ．前記ｍの相関信号に応答して、該ｍの相関信号の対応するものの単位標準化 形式を各々表わすｍの単位標準化相関信号を発生するための手段と、 ｂ．前記単位標準化相関信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に対応する 直接和信号を発生するための手段と を請える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  5. （５）前記の複合散乱光信号を発生するための手段が、前記複合相関信号および 前記ｎの平均信号の直接和を生成するための手段を備え、該直接和が、前記複合 散乱光信号に対応している特許請求の範囲第４項記載の粒子寸法分布測定装置。
  6. （６）前記プリプロセッサ手段が、前記ｍの相関信号の直接和を表わしかつ前記 複合相関信号に対応する直接和信号を発生するための手段を備える特許請求の範 囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  7. （７）前記の複合散乱光信号を発生するための手段が、前記複合相関信号および 前記ｎの平均信号の直接和を生成するための手段を備え、該直接和が、前記複合 散乱光信号に対応している特許請求の範囲第６項記載の粒子寸法分布測定装置。
  8. （８）前記照明手段が、前記ｍの点を前記光ビームの一部で直接照明するための 手段を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  9. （９）前記照明手段が、前記ビームのいずれもが前記ｍの点のいずれをも直接照 明するのを阻止するための手段を含む特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布 測定装置。
  10. （１０）前記自己相関手段が、前記ｍの相関信号を、時間領域自己相関信号ｇｉ （ｔ）、ここでｔは時間、ｉ＝１，−−−，ｍである、として発生するための自 己相関器を備え、前記ｍの自己相関信号の各々が、前記ｍの強度信号の対応する ものの自己相関に対応している特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  11. （１１）前記自己相関手段が、前記ｍの相関信号を周波数領域スペクトル信号Ｇ １（ｆ）、ここでｆは周波数、ｉ＝１，−−−，ｍである、として発生するため のパワースペクトル手段を備え、前記ｍのパワースペクトル信号の各々が、前記 ｍの強度信号の対応するもののパワースペクトルに対応している特許請求の範囲 第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  12. （１２）前記の関連する変換が直線変換であり、前記複合変換演算子Ｊ−１が、 前記の関連する変換に対する演算子の直接和に対応する演算子の一般化された反 転である特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  13. （１３）前記反転変換演算子Ｊ−１が、前記の関連する変換のマトリクスの直接 和に対応するマトリクスの反転に対応する特許請求の範囲第１２項記載の粒子寸 法分布測定装置。
  14. （１４）前記反転変換演算子Ｊ−１が［ＪｔＪ＋αＨ］−１Ｊｔに対応する、こ こでＪは、前記の関連する変換に対応するマトリクスの直接和に対応するマトリ クスであり、ＪｔはマトリクスＪの転値であり、Ｈは条件づけマトリクスであり 、アルファ（α）は平滑化パラメータである、特許請求の範囲第１２項記載の粒 子寸法分布測定装置。
  15. （１５）前記反転変換演算子Ｊ−１が［ＪｔＪ＋αＨ］−１Ｊｔに対応する、こ ごでＪは、前記の関連する変換に対応するマトリクスの直接和に対応するマトリ クスであり、ＪｔはマトリクスＪの転値であり、Ｈは条件づけマトリクスであり 、アルファ（α）は平滑化パラメータであり、そして前記分布関数ｖ（ｒ）を表 わすベクトルの全成分が、０に等しいかそれより大きく拘束されるものとする、 特許請求の範囲第１２項記載の粒子寸法分布測定装置。
  16. （１６）前記の関連する変換が非直線であり、前記寸法分布が、ｖ（ｒ，ｐ）に より表わされ、ここでｐはＫ成分を有する特性パラメータベクトルである、前記 複合変換演算子Ｊ−１が、次式に対するＲ解法アルゴリズムである、すなわち ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、ｉは整数１，−−−，ｍ、ｊは整数１，−−−，ｑ、ｌは整数１，−− −，Ｋ、Ｐｌはｐのｌ番目の成分、そしてｇ１（ｔｊ）は、ｊ番目の時間間隔に おける前記角のｉ番目に対する強度信号の自己相関関数であり、Ｊｉｊは、関連 する変換に関係づけられる演算子である、特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法 分布測定装置。
  17. （１７）ｍ≧１、ｎ≧１である特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  18. （１８）ｍ≧２、ｎ＝０である特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  19. （１９）ｍ≧１、ｎ≧１である特許請求の範囲第２項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  20. （２０）ｍ≧２、ｎ≧０である特許請求の範囲第２項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  21. （２１）ｍ≧１、ｎ≧１である特許請求の範囲第４項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  22. （２２）ｍ≧２、ｎ＝０である特許請求の範囲第４項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  23. （２３）ｍ≧１、ｎ≧１である特許請求の範囲第６項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  24. （２４）ｍ≧２、ｎ＝０である特許請求の範囲第６項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  25. （２５）前記測定条件制御手段が、前記ｍの強度信号の１または複数のものが、 前記入力軸線から角度的に変位された点において前記光ビームから散乱される光 の強度を表わし、前記ｎの平均信号の１または複数のものが、前記入力軸線から 角度的に変位されかつ前記強度信号が発生された前記点と異なる点において前記 散乱光の平均強度を表わすように前記検出手段の位置を設定するための手段を備 える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装置。
  26. （２６）前記測定条件制御手段が、前記ｍ＋ｎの測定の少なくとも１つの測定中 に作用して、前記サンプル上に入射する前記ビームからの光の偏光を、第１の予 定された偏光を有すように選択的に制御し、かつ前記検出手段上に入射する前記 サンプルから散乱される光の偏光を、前記第１の予定された偏光を有するように 選択的に制御するための手段を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布 測定装置。
  27. （２７）前記測定条件制御手段が、前記ｍ＋ｎの測定の少なくとも１つの測定中 に作用して、前記サンプル上に入射する前記ビームからの光の偏光を、第２の予 定された偏光を有すように選択的に制御し、かつ前記検出手段上に入射する前記 サンプルから散乱される光の偏光を、前記第２の予定された偏光を有するように 選択的に制御するための手段を備え、前記第２の予定された偏光が、前記第１の 予定された偏光と直交している特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布測定装 置。
  28. （２８）前記第１の予定された偏光が円形である特許請求の範囲第２６項記載の 粒子寸法分布測定装置。
  29. （２９）前記第１および第２の予定された偏光が円形である特許請求の範囲第２ ７項記載の粒子寸法分布測定装置。
  30. （３０）前記第１の予定された偏光が線形である特許請求の範囲第２６項記載の 粒子寸法分布測定装置。
  31. （３１）前記第１および第２の予定された偏光が線形である特許請求の範囲第２ ７項記載の粒子寸法分布測定装置。
  32. （３２）前記ｍ＋ｎの測定の少なくとも１つの測定中に作用し、前記サンプルの 温度を第１の予定された温度に選択的に制御し、かつ前記ｍ＋ｎの測定の少なく とも１つの他の測定中に作用し、前記サンプルの温度を第２の予定された温度に 選択的に制御するための手段を備える特許請求の範囲第１項記載の粒子寸法分布 測定装置。
  33. （３３）前記検出手段が、前記のｍの強度信号を発生するための第１のセンサ手 段と、前記のｎの平均信号を発生するための第２のセンサ手段を備える特許請求 の範囲第２５項記載の粒子寸法分布測定装置。
  34. （３４）前記第２センサ手段が、離間された光センサより成る第１の曲線状の配 列と、離間された光センサより成る第２の曲線状の配列とを備え、前記第１の配 列が、前記サンプルの回りに配置された弧状線に沿って延びていて、該第１配列 内の光センサが、前記入力軸線から測定して比較的小角度だけ前記サンプルから 変位されており、前記第２の配列が前記サンプルの回りに配置される弧状線に沿 って延びていて、該第２配列内の光センサが、前記入力軸線から測定して９０度 ＋比較的小角度だけ前記サンプルから変位されている特許請求の範囲第３３項記 載の粒子寸法分布測定装置。
  35. （３５）前記第１および第２配列が、直交平面内にある特許請求の範囲第３４項 記載の粒子寸法分布測定装置。
  36. （３６）前記サンプルに対する容器を保持するための手段を備えており、該容器 が、相対する平行な平坦側面を有し、かつ該側面によって限定される矩形断面を 有し、前記保持手段が、前記入力に垂直な１対の側面および前記入力軸線に平行 な他の１対の側面を保持するための手段を備える特許請求の範囲第３４項記載の 粒子寸法分布測定装置。
  37. （３７）前記サンプルに対する容器を保持するための手段を備えており、該容器 が、相対する平行な平坦側面を有し、かつ該側面によって限定される矩形断面を 有し、前記保持手段が、前記入力に垂直な１対の側面および前記入力軸線に平行 な他の１対の側面を保持するための手段を備える特許請求の範囲第３５項記載の 粒子寸法分布測定装置。
  38. （３８）流体サンプル内に分散される粒子の寸法分布ｖ（ｒ）、ここにｒは粒子 寸法を表わす、を測定する方法において、 Ａ．入力軸線に沿って送られる光ビームで前記サンプルを照明し、 Ｂ．ｍの１組の測定条件の関連する条件下でなされるｍの測定、およびｎの１組 の測定条件の関連する条件下でなされるｎの測定に対して、前記サンプルにより 前記光ビームから散乱される光強度を検出し、ここにｍは１に等しいかそれより 大きい整数であり、ｎは０に等しいかそれより大きい整数であり、ｍとｎとの和 は２に等しいかそれより大きく、前記ｍ＋ｎの測定条件の少なくとも２つは相違 しているものとする、 該検出段階が、 ａ．前記１組のｍの測定条件の対応する１つの測定条件下で、前記散乱光の検出 された強度を時間の関数として各々表わすｍの強度信号を発生し、 ｂ．前記１組のｎの測定条件の対応する１つの測定条件下で、検出された前記散 乱光の平均強度を各々表わすｎの平均信号を発生する ことを含み、そしてさらに、 Ｃ．前記強度信号の対応するものの自己相関関数を各々表わし、かつ前記分布ｖ （ｒ）の関連する変換に各々等しいｍの相関信号を発生し、 Ｄ．前記相関信号および前記平均信号に応答して、ａ．前記ｍの相関信号をプリ 処理して、複合相関信号を発生し、 ｂ．前記複合相関信号および前記ｎの平均信号から複合散乱光信号を発生し、 ｃ．前記の関連する変換および前記ｎの平均信号に関係づけられる複合変換演算 子Ｊ−１を決定し、ｄ．前記の決定された複合変換演算子Ｊ−１に従って前記複 合散乱光信号を変換して、前記分布ｖ（ｒ）を表わす寸法分布信号を発生し、そ して Ｅ．前記強度信号が相互に独立であり、前記平均信号が相互に独立であるように 前記のｍ＋ｎの測定条件を制御する 諸段階を合むことを特徴とする粒子寸法分布測定方法。
  39. （３９）前記ｍのプリ処理する段階が、ａ．前記の相関信号に応答して、該ｍの 相関信号の零番目のモーメント以外の各相関信号のモーメントの少なくとも１つ を表わすｍのモーメント信号を発生し、ｂ．前記ｍのモーメント信号の直接和を 表わしかつ前記複合相関信号に対応する重み付けされた直接和信号を発生するこ とを含む特許請求の範囲第３８項記載の粒子寸法分布測定方法。
  40. （４０）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応している特許請求の範囲第３８項記載の粒子寸法分布測定方法。
  41. （４１）前記のプリ処理する段階が、 ａ．前記ｍの相関信号に応答して、前記ｍの相関信号の対応するものの単位標準 化形式を各々表わすｍの単位標準化相関信号を発生し、 ｂ．前記単位標準化相関信号の直接和を表わしかつ前記複合相関信号に対応する 直接和信号を発生することを合む特許請求の範囲第３８項記載の粒子寸法分布測 定方法。
  42. （４２）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応している特許請求の範囲第４１項記載の粒子寸法分布測定方法。
  43. （４３）前記のプリ処理する段階が、前記ｍの相関信号の直接和を表わしかつ前 記複合相関信号に対応する直接和信号を発生することを含む特許請求の範囲第３ ８項記載の粒子寸法分布測定方法。
  44. （４４）前記の複合散乱光信号を発生する段階が、前記複合相関信号および前記 ｎの平均信号の直接和を生成することを含み、該直接和が、前記複合散乱光信号 に対応する特許請求の範囲第４３項記載の粒子寸法分布測定方法。
JP63506274A 1987-06-29 1988-06-29 流体中に分散される粒子の粒子サイズ分布測定方法および装置 Granted JPH01503178A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/068,139 US4781460A (en) 1986-01-08 1987-06-29 System for measuring the size distribution of particles dispersed in a fluid
US068,139 1987-06-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01503178A true JPH01503178A (ja) 1989-10-26
JPH0545898B2 JPH0545898B2 (ja) 1993-07-12

Family

ID=22080653

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63506274A Granted JPH01503178A (ja) 1987-06-29 1988-06-29 流体中に分散される粒子の粒子サイズ分布測定方法および装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4781460A (ja)
EP (1) EP0325633A4 (ja)
JP (1) JPH01503178A (ja)
WO (1) WO1989000286A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016026301A (ja) * 2004-03-06 2016-02-12 トレイナー， マイケルＴＲＡＩＮＥＲ， Ｍｉｃｈａｅｌ 粒子のサイズおよび形状を決定する方法および装置
JP2019512701A (ja) * 2016-03-16 2019-05-16 マルバーン パナリティカル リミテッド 粒子特性評価
JP2021183983A (ja) * 2015-09-23 2021-12-02 マルバーン パナリティカル リミテッド 粒子特性評価
US11906412B2 (en) 2017-03-23 2024-02-20 Malvern Panalytical Limited Particle characterisation

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4953978A (en) * 1989-03-03 1990-09-04 Coulter Electronics Of New England, Inc. Particle size analysis utilizing polarization intensity differential scattering
JPH0675030B2 (ja) * 1989-04-05 1994-09-21 日本鋼管株式会社 粒状体の平均粒度測定方法及び粒度自動制御方法
JP2715604B2 (ja) * 1989-12-18 1998-02-18 株式会社島津製作所 レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置
US5412589A (en) * 1990-03-20 1995-05-02 University Of Michigan System for detecting reduced interference time-frequency distribution
DE69129260T2 (de) * 1990-11-03 1998-11-19 Horiba Ltd Gerät zur Messung der Teilchengrössenverteilung
JPH081482Y2 (ja) * 1990-11-17 1996-01-17 株式会社堀場製作所 粒度分布測定装置
GB2284050B (en) * 1991-02-05 1995-08-02 Marconi Gec Ltd Gaseous suspension particle size measurement
DE4218638C2 (de) * 1991-06-07 2000-06-08 Sympatec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung von Partikelgrößenverteilungen mittels Streulichtmessungen
US5576827A (en) * 1994-04-15 1996-11-19 Micromeritics Instrument Corporation Apparatus and method for determining the size distribution of particles by light scattering
US7187441B1 (en) 1996-11-08 2007-03-06 The Texas A&M University System Particle analysis system and method
US5818583A (en) * 1996-11-08 1998-10-06 Purdue Research Foundation Particle analysis system and method
US6191853B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Horiba, Ltd. Apparatus for measuring particle size distribution and method for analyzing particle size distribution
US6480276B1 (en) 1999-07-13 2002-11-12 Clemson University Enhanced photon-migration methods for particle sizing in concentrated suspensions
US7054002B1 (en) 1999-10-08 2006-05-30 The Texas A&M University System Characterization of luminescence in a scattering medium
US6421121B1 (en) * 2000-02-10 2002-07-16 Micro Imaging Technology Method and apparatus for rapid particle identification utilizing scattered light histograms
US6864979B2 (en) * 2000-12-08 2005-03-08 Horiba, Ltd Particle size distribution measuring apparatus
US20110005507A9 (en) * 2001-01-23 2011-01-13 Rick Bagwell Real-time control of exhaust flow
JP4266075B2 (ja) * 2001-02-19 2009-05-20 株式会社堀場製作所 粒径分布測定装置
AU784061B2 (en) * 2002-04-23 2006-01-19 Micro Imaging Technology Method and apparatus for rapid particle identification utilizing scattered light histograms
US7336358B2 (en) * 2003-02-24 2008-02-26 August Ninth Analyses, Inc. Method and apparatus for determining particle size and composition of mixtures
JP3860162B2 (ja) * 2003-10-20 2006-12-20 大塚電子株式会社 位相変調型干渉法を用いた動的光散乱測定装置
GB2412166B (en) * 2004-03-17 2006-03-29 Univ Sheffield Hallam Method and apparatus for particle analysis
CN102519919B (zh) 2004-04-23 2016-03-16 古河电气工业株式会社 试样的分离、识别、分注方法和其装置及解析装置
US8038515B2 (en) 2004-07-23 2011-10-18 Oy Halton Group Ltd. Control of exhaust systems
DE102005015754A1 (de) * 2004-10-20 2006-04-27 E.G.O. Elektro-Gerätebau GmbH Lüftungsgerät
JP5057922B2 (ja) * 2006-12-28 2012-10-24 株式会社堀場製作所 コリレータ
EP2115424B1 (en) * 2007-02-02 2018-10-24 Canadian Blood Services Method of detecting bacterial contamination using dynamic light scattering
US20080274683A1 (en) 2007-05-04 2008-11-06 Current Energy Controls, Lp Autonomous Ventilation System
US7847936B2 (en) * 2007-05-15 2010-12-07 Waters Technologies Corporation Evaporative light scattering device and methods of use thereof
US20090061752A1 (en) 2007-08-28 2009-03-05 Current Energy Controls, Lp Autonomous Ventilation System
BRPI0819090A2 (pt) * 2007-10-12 2015-04-22 Exxonmobil Upstream Res Co Métodos para determinar propriedades do material dentro de uma parte de um fluido, e dentro de uma parte de uma formação subterrânea, e para produzir hidrocarbonetos a partir de uma formação subterrânea
US8323922B2 (en) 2008-07-04 2012-12-04 Canadian Blood Service Dynamic light scattering for in vitro testing of bodily fluids
EP2370744B1 (en) 2008-12-03 2019-02-20 OY Halton Group Ltd. Exhaust flow control system and method
WO2011004781A1 (ja) * 2009-07-10 2011-01-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
IT1394971B1 (it) * 2009-07-31 2012-08-07 Gen Impianti S R L Metodo e apparecchiatura per determinare dimensioni e composizione di un particolato in un flusso di fumi
CN102297823B (zh) * 2011-05-17 2013-01-02 上海理工大学 基于带通滤波的动态光散射纳米颗粒测量方法及装置
RU2618597C2 (ru) * 2015-05-19 2017-05-04 Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского Флота "Военно-морская академия имени Адмирала Флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова" Способ аспирационной оптической спектрометрии аэрозоля
ES2866027T3 (es) * 2016-05-16 2021-10-19 Ecole Nat Des Ponts Et Chaussees Procedimiento y dispositivo de medición del diámetro equivalente de una gota de agua
FR3055414B1 (fr) * 2016-08-26 2018-09-28 Universite D'orleans Determination optimale des angles d'observation pour l'estimation d'une distribution des tailles de particules par diffusion dynamique de la lumiere
WO2019108390A1 (en) * 2017-12-01 2019-06-06 Xinova, LLC Systems to measure particle size distribution and related methods
CN108663295B (zh) * 2018-08-06 2024-01-23 上海景瑞阳实业有限公司 一种纳米粒子粒径分布测试仪及测试方法
WO2020118141A1 (en) * 2018-12-07 2020-06-11 Applied Particle Technology, Inc. Aerosol sensor for performing counting and multiwavelength or multiangle measurement in combination
CN114047102A (zh) * 2021-11-16 2022-02-15 山东理工大学 一种流动气溶胶流速与粒度分布的动态光散射测量方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5979835A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Japan Spectroscopic Co 微小粒子分析装置
JPS5979834A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Japan Spectroscopic Co 微小粒子分離装置
JPS59174737A (ja) * 1983-03-25 1984-10-03 Toshiba Corp 粒径測定装置
JPS6042640A (ja) * 1983-08-19 1985-03-06 Toshiba Corp 粒径測定装置
JPS6259839A (ja) * 1985-09-10 1987-03-16 Hitachi Ltd 粒子計数装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3621220A (en) * 1969-08-29 1971-11-16 Norman C Ford Jr Scattered light measurement providing autocorrelation function
GB1463983A (en) * 1973-11-13 1977-02-09 Nat Res Dev Laser doppler velocimeter
CA1068409A (en) * 1975-12-12 1979-12-18 Pierre-Andre Grandchamp Determination of parameters of an autocorrelation function
US4676641A (en) * 1986-01-08 1987-06-30 Coulter Electronics Of New England, Inc. System for measuring the size distribution of particles dispersed in a fluid

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5979835A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Japan Spectroscopic Co 微小粒子分析装置
JPS5979834A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Japan Spectroscopic Co 微小粒子分離装置
JPS59174737A (ja) * 1983-03-25 1984-10-03 Toshiba Corp 粒径測定装置
JPS6042640A (ja) * 1983-08-19 1985-03-06 Toshiba Corp 粒径測定装置
JPS6259839A (ja) * 1985-09-10 1987-03-16 Hitachi Ltd 粒子計数装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016026301A (ja) * 2004-03-06 2016-02-12 トレイナー， マイケルＴＲＡＩＮＥＲ， Ｍｉｃｈａｅｌ 粒子のサイズおよび形状を決定する方法および装置
JP2021183983A (ja) * 2015-09-23 2021-12-02 マルバーン パナリティカル リミテッド 粒子特性評価
US11435275B2 (en) 2015-09-23 2022-09-06 Malvern Panalytical Limited Particle characterisation
JP2019512701A (ja) * 2016-03-16 2019-05-16 マルバーン パナリティカル リミテッド 粒子特性評価
US11187638B2 (en) 2016-03-16 2021-11-30 Malvern Panalytical Limited Particle characterisation
US11747257B2 (en) 2016-03-16 2023-09-05 Malvern Panalytical Limited Particle characterization
US11906412B2 (en) 2017-03-23 2024-02-20 Malvern Panalytical Limited Particle characterisation

Also Published As

Publication number Publication date
US4781460A (en) 1988-11-01
WO1989000286A1 (en) 1989-01-12
JPH0545898B2 (ja) 1993-07-12
EP0325633A4 (en) 1991-05-08
EP0325633A1 (en) 1989-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01503178A (ja) 流体中に分散される粒子の粒子サイズ分布測定方法および装置
US4676641A (en) System for measuring the size distribution of particles dispersed in a fluid
McCave et al. Evaluation of a laser-diffraction-size analyzer for use with natural sediments
Strokotov et al. Polarized light‐scattering profile—advanced characterization of nonspherical particles with scanning flow cytometry
Maltsev Scanning flow cytometry for individual particle analysis
JP2722362B2 (ja) 粒子または欠陥の大きさ情報の測定方法および装置
US11193877B2 (en) Method for the characterization of objects by means of scattered radiation analysis and related instrumentations
US20020186372A1 (en) Method and apparatus for rapid particle identification utilizing scattered light histograms
CN110530914A (zh) 土壤重金属检测系统及检测方法
US3732014A (en) Electromagnetic radiation apparatus for analyzing small particles
WO2009067043A1 (fr) Procédé de mesure des dimensions de particules dans un liquide et dispositif de mise en oeuvre
JP3446410B2 (ja) レーザ回折式粒度分布測定装置
Domann et al. A study of the influence of absorption on the spatial distribution of fluorescence intensity within large droplets using Mie theory, geometrical optics and imaging experiments
JP2008111810A (ja) 回折・散乱光の光強度分布データの比較方法、および粒度分布測定装置
CN111684261A (zh) 多角度动态光散射
Berdnik et al. Neural networks for aerosol particles characterization
JPH0545282A (ja) 自動臨床分析システム
Tong et al. Incoherent cross‐correlation spectroscopy
JPH07151678A (ja) 赤外顕微鏡
AU608887B2 (en) System for measuring the size distribution of particles dispersed in a fluid
Bott Enhanced resolution particle size distributions by multiple angle photon correlation spectroscopy
Sellen Determination of macromolecular sizes in solution by light scattering Doppler spectrometry
JPH11183356A (ja) レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置
Romanov et al. Low-order light scattering in multiple scattering disperse media
Dougherty Correlation Measurements of a Multiply Scattered Laser Beam by Fluid/Particle