JPH0141700B2 - - Google Patents
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- JPH0141700B2 JPH0141700B2 JP56021651A JP2165181A JPH0141700B2 JP H0141700 B2 JPH0141700 B2 JP H0141700B2 JP 56021651 A JP56021651 A JP 56021651A JP 2165181 A JP2165181 A JP 2165181A JP H0141700 B2 JPH0141700 B2 JP H0141700B2
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- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機蒸着薄膜の製造方法に関する。
高分子物質等の有機材料は一般に耐湿性、耐久
性、耐薬品性、絶縁性等に優れた性質を有するた
め、各種の真空薄膜の保護用材料として広く利用
されている。従来これらの有機保護材料は、塗
布、吹付、浸漬等の方法で被保護部材上に設けら
れて来た。しかしこれらの方法は比較的厚い保護
層の作成に適しているが、例えば、厚さが1μm
以下の薄膜を均一に塗布することは困難である。
性、耐薬品性、絶縁性等に優れた性質を有するた
め、各種の真空薄膜の保護用材料として広く利用
されている。従来これらの有機保護材料は、塗
布、吹付、浸漬等の方法で被保護部材上に設けら
れて来た。しかしこれらの方法は比較的厚い保護
層の作成に適しているが、例えば、厚さが1μm
以下の薄膜を均一に塗布することは困難である。
最近、高密度記録を目的として金属薄膜型磁気
記録媒体が注目されるに及んで、厚さが50〜1000
Å程度の極く薄く有機保護層が要求されて来てい
る。真空蒸着法に代表される、所謂、真空薄膜法
は極めて薄い膜を均一に層設することが可能であ
り、上記の目的に合致した保護膜の形成方法と言
える。
記録媒体が注目されるに及んで、厚さが50〜1000
Å程度の極く薄く有機保護層が要求されて来てい
る。真空蒸着法に代表される、所謂、真空薄膜法
は極めて薄い膜を均一に層設することが可能であ
り、上記の目的に合致した保護膜の形成方法と言
える。
前記真空蒸着法は、真空雰囲気で蒸発源材料を
加熱蒸発させて、支持体上に所望の蒸着薄膜を形
成する方法である。
加熱蒸発させて、支持体上に所望の蒸着薄膜を形
成する方法である。
従来この方法は金属等の無機蒸発源材料、ある
いはいくつかの有機蒸発源材料についても利用さ
れて来た。
いはいくつかの有機蒸発源材料についても利用さ
れて来た。
しかしながら、有機ポリマー等の高分子材料に
おいては、真空雰囲気中で加熱蒸発しようとして
も、十分蒸発するより先に、分解あるいはガス化
することにより被蒸着物上に付着しなかつたり、
或いはたとえ前記被蒸着物上に蒸着出来たとして
も、分解物が形成されたりあるいは分子量が低下
して、蒸着前の蒸発源材料とは異なつた性質の膜
となることが多く、従つて蒸着前の有機ポリマ
ー、と同じ膜を得ることは困難で、実用上問題と
されて来た。
おいては、真空雰囲気中で加熱蒸発しようとして
も、十分蒸発するより先に、分解あるいはガス化
することにより被蒸着物上に付着しなかつたり、
或いはたとえ前記被蒸着物上に蒸着出来たとして
も、分解物が形成されたりあるいは分子量が低下
して、蒸着前の蒸発源材料とは異なつた性質の膜
となることが多く、従つて蒸着前の有機ポリマ
ー、と同じ膜を得ることは困難で、実用上問題と
されて来た。
しかしながら、前記蒸発源用ポリマー材料と、
前記被蒸着物上に蒸着された物質は必ずしも同じ
物質である必要はなく、用途によつては蒸着前と
は異なつた物質の方が望ましい場合もありうる。
要は、所望の物性を有する有機薄膜が再現良く安
定に、且つ高速度で得られればよい。従つて所望
の有機蒸着薄膜を再現性良く、かつ効率良く連続
蒸着することが待望されているが未だ良い方法が
なかつた。例えば、特公昭39−17440に於いて、
前記蒸発源用ポリマーをその分解温度以下に保持
しつつ、高エネルギーの電子線を照射することに
より、有機ポリマーを蒸発させて、重合膜を作成
する方法が開示されている。
前記被蒸着物上に蒸着された物質は必ずしも同じ
物質である必要はなく、用途によつては蒸着前と
は異なつた物質の方が望ましい場合もありうる。
要は、所望の物性を有する有機薄膜が再現良く安
定に、且つ高速度で得られればよい。従つて所望
の有機蒸着薄膜を再現性良く、かつ効率良く連続
蒸着することが待望されているが未だ良い方法が
なかつた。例えば、特公昭39−17440に於いて、
前記蒸発源用ポリマーをその分解温度以下に保持
しつつ、高エネルギーの電子線を照射することに
より、有機ポリマーを蒸発させて、重合膜を作成
する方法が開示されている。
しかしながら前記方法では電子線照射により蒸
発源材料のチヤージアツプ現象が生じ、これに伴
なつて放電等のトラブルが極めて発生し易く、従
つて長時間安定に蒸着することは極めて困難であ
つた。又、分解やこれに伴なう真空度の劣化を防
止しつつ、電子線を安定に照射することは極めて
困難である。
発源材料のチヤージアツプ現象が生じ、これに伴
なつて放電等のトラブルが極めて発生し易く、従
つて長時間安定に蒸着することは極めて困難であ
つた。又、分解やこれに伴なう真空度の劣化を防
止しつつ、電子線を安定に照射することは極めて
困難である。
又、特公昭49−45989において、非熱硬化型樹
脂を加熱溶融した後、真空雰囲気中に設けられ、
加熱されたドラムの表面にポンプで前記樹脂を連
続的に押し出し、該ドラムの表面に付着させた
後、ドラム表面で加熱蒸発させて放蒸着物上に有
機蒸着薄膜を設ける方法が開示されている。しか
しながらこの方式においては、ドラムに付着させ
た有機ポリマーを完全に蒸発させてしまう必要が
あり、ドラムの温度設定及び有機ポリマーの供給
量の設定が極めて面倒である。特に比較的分解性
の強い有機ポリマーではドラムの温度が低くすぎ
れば未蒸発分が残り、逆にドラムの温度が高すぎ
ても分解して炭化した残留物がドラム表面に蓄積
することになる。
脂を加熱溶融した後、真空雰囲気中に設けられ、
加熱されたドラムの表面にポンプで前記樹脂を連
続的に押し出し、該ドラムの表面に付着させた
後、ドラム表面で加熱蒸発させて放蒸着物上に有
機蒸着薄膜を設ける方法が開示されている。しか
しながらこの方式においては、ドラムに付着させ
た有機ポリマーを完全に蒸発させてしまう必要が
あり、ドラムの温度設定及び有機ポリマーの供給
量の設定が極めて面倒である。特に比較的分解性
の強い有機ポリマーではドラムの温度が低くすぎ
れば未蒸発分が残り、逆にドラムの温度が高すぎ
ても分解して炭化した残留物がドラム表面に蓄積
することになる。
これによりドラムよりの熱伝導を防げるため、
長時間安定に蒸着することは困難であつた。
長時間安定に蒸着することは困難であつた。
又、特公昭53−21907において、ポリエチレン
及びポリプロピレンを最適蒸発温度に保持して蒸
着する方法が開示されている。しかしこの方法で
は、蒸着出来る材料が限定されて、余り汎用性が
ない。
及びポリプロピレンを最適蒸発温度に保持して蒸
着する方法が開示されている。しかしこの方法で
は、蒸着出来る材料が限定されて、余り汎用性が
ない。
一方、蒸気圧の異なる元素より成る合金或いは
分解性化合物の蒸着法として、所謂、フラツシユ
蒸着法が知られている。このフラツシユ蒸着法
は、予め高温に保持された加熱蒸発部に蒸発源材
料を少量づつ連続的に供給しながら、完全に蒸発
させることにより前記蒸発源材料とほぼ同じ組成
の膜を得ようとする方法である。
分解性化合物の蒸着法として、所謂、フラツシユ
蒸着法が知られている。このフラツシユ蒸着法
は、予め高温に保持された加熱蒸発部に蒸発源材
料を少量づつ連続的に供給しながら、完全に蒸発
させることにより前記蒸発源材料とほぼ同じ組成
の膜を得ようとする方法である。
このフラツシユ蒸着法を有機ポリマーに適用す
ることも不可能ではないが、有機ポリマーの場合
は、合金等の無機材料の場合と異なつて、急激に
加熱することによりポリマーの一部が分解炭化
し、残留物として蓄積するという欠点を有してい
る。従つて長時間再現性良く蒸発させることは困
難であつた。
ることも不可能ではないが、有機ポリマーの場合
は、合金等の無機材料の場合と異なつて、急激に
加熱することによりポリマーの一部が分解炭化
し、残留物として蓄積するという欠点を有してい
る。従つて長時間再現性良く蒸発させることは困
難であつた。
前述したように、有機ポリマーを再現性良く長
時間連続蒸着することは不可能であり、新規な蒸
着方法が待たれていた。
時間連続蒸着することは不可能であり、新規な蒸
着方法が待たれていた。
本発明者等は、有機ポリマー等の有機蒸着薄膜
の連続蒸着法の改良を目指して鋭意検討を重ねた
結果、本発明に至つたものである。
の連続蒸着法の改良を目指して鋭意検討を重ねた
結果、本発明に至つたものである。
即ち、有機蒸着薄膜を再現性良く、かつ長時間
安定に蒸着するためには、蒸発源材料を連続的に
供給し、且つ長時間一定の加熱条件が保証される
方法で加熱蒸発させることが不可欠であるという
事実に基づいて発明されたものである。
安定に蒸着するためには、蒸発源材料を連続的に
供給し、且つ長時間一定の加熱条件が保証される
方法で加熱蒸発させることが不可欠であるという
事実に基づいて発明されたものである。
本発明は前述した従来方法の問題点を解決し再
現性良く、且つ、安定に連続的に蒸着する方法を
提供することを目的とするものである。
現性良く、且つ、安定に連続的に蒸着する方法を
提供することを目的とするものである。
本発明のかゝる目的は、有機蒸発源材料を予め
付着した耐熱性支持体を、真空雰囲気下で被蒸着
体と加熱手段の間に連続的に供給しながら、前記
加熱手段により加熱し、前記耐熱性支持体から前
記有機蒸発源材料を連続的に蒸発せしめて、前記
被蒸着体上に有機蒸着薄膜を層設することを特徴
とする有機蒸着薄膜製造方法により達成される。
付着した耐熱性支持体を、真空雰囲気下で被蒸着
体と加熱手段の間に連続的に供給しながら、前記
加熱手段により加熱し、前記耐熱性支持体から前
記有機蒸発源材料を連続的に蒸発せしめて、前記
被蒸着体上に有機蒸着薄膜を層設することを特徴
とする有機蒸着薄膜製造方法により達成される。
本発明によれば、新しい有機蒸発源用材料を常
に同一の条件で供給するため、加熱蒸発条件を一
定にすることが可能となる。このため長時間安定
に且つ再現性良く有機蒸着薄膜を製造することが
可能である。
に同一の条件で供給するため、加熱蒸発条件を一
定にすることが可能となる。このため長時間安定
に且つ再現性良く有機蒸着薄膜を製造することが
可能である。
本発明によれば、有機蒸発源材料は必ずしも完
全に蒸発させる必要はなく、残留物として、蒸発
源材料供給用の支持体上に残つても何ら差し支え
ない。即ち本発明によれば分解し易い、あるいは
分子量が低下し易い有機蒸発源材料においても、
再現性良く、有機蒸着薄膜を製造することが可能
である。
全に蒸発させる必要はなく、残留物として、蒸発
源材料供給用の支持体上に残つても何ら差し支え
ない。即ち本発明によれば分解し易い、あるいは
分子量が低下し易い有機蒸発源材料においても、
再現性良く、有機蒸着薄膜を製造することが可能
である。
また本発明によれば、供給用の支持体上に予
め、最適な量の有機蒸発源材料を塗布等の方法で
精度良く設けておけば常に安定した蒸着が可能で
あり、従つて蒸着薄膜の物性を一定に保つことが
可能である。
め、最適な量の有機蒸発源材料を塗布等の方法で
精度良く設けておけば常に安定した蒸着が可能で
あり、従つて蒸着薄膜の物性を一定に保つことが
可能である。
次に、本発明方法の一実施態様について詳述す
る。
る。
本発明は第1図及び第2図に示したように、耐
熱性支持体1に予め付着した有機蒸発源材料2
を、排気系3に連通して通常10-2〜10-6Torr程
度の真空度が維持されているケーシング4内に配
設した加熱手段5と被蒸着体6の間に連続的に供
給し、前記有機蒸発源材料2を加熱することによ
り、前記蒸発源材料2の蒸発粒子を含む蒸気流V
を得、該蒸気流Vを前記支持体1と略平行しかつ
該支持体1と同じ方向Aに移動する前記被蒸着体
6の表面に付着せしめて所望する有機蒸着薄膜7
を形成するものである。
熱性支持体1に予め付着した有機蒸発源材料2
を、排気系3に連通して通常10-2〜10-6Torr程
度の真空度が維持されているケーシング4内に配
設した加熱手段5と被蒸着体6の間に連続的に供
給し、前記有機蒸発源材料2を加熱することによ
り、前記蒸発源材料2の蒸発粒子を含む蒸気流V
を得、該蒸気流Vを前記支持体1と略平行しかつ
該支持体1と同じ方向Aに移動する前記被蒸着体
6の表面に付着せしめて所望する有機蒸着薄膜7
を形成するものである。
前記支持体1は予め送り出し部にロール状8に
巻かれており、一定の速度で巻き取り部でロール
状9に巻き取られる。
巻かれており、一定の速度で巻き取り部でロール
状9に巻き取られる。
本発明において、前記加熱手段5には常に新し
い有機蒸発源材料2を連続して供給されるため、
長時間一定条件で蒸着することが可能である。
い有機蒸発源材料2を連続して供給されるため、
長時間一定条件で蒸着することが可能である。
なお、前記支持体1は前記有機蒸発源材料2を
安定に保持出来る形態で、かつ前記有機蒸発源材
料2の蒸発温度において、溶融したり、変質しな
い耐熱性材料が望ましい。又、通常ロール状に巻
いて使用するため可撓性を有することが望まし
く、例えば、ガラスウール等の耐熱性繊維より成
るリボン、あるいはひも状のもの;金属フイル
ム、金網、耐熱性樹脂より成るフイルム等が用い
られる。これらの支持体1は、使い捨てでもよい
し、あるいは蒸発残留物を溶剤或いはブラシ等の
手段で除去して、再使用しても良い。
安定に保持出来る形態で、かつ前記有機蒸発源材
料2の蒸発温度において、溶融したり、変質しな
い耐熱性材料が望ましい。又、通常ロール状に巻
いて使用するため可撓性を有することが望まし
く、例えば、ガラスウール等の耐熱性繊維より成
るリボン、あるいはひも状のもの;金属フイル
ム、金網、耐熱性樹脂より成るフイルム等が用い
られる。これらの支持体1は、使い捨てでもよい
し、あるいは蒸発残留物を溶剤或いはブラシ等の
手段で除去して、再使用しても良い。
又、前記有機蒸発源材料2としては、加熱によ
り蒸発し、かつ前記被蒸着体6上に膜7として付
着するものであれば何んでも適用出来る。また前
記蒸発源材料2に対し前記蒸着薄膜7が異なつた
物性を有する膜であつても差し支えない。これら
の蒸発源材料2としては、例えば、ポリオレフイ
ン、ビニル系樹脂、ビニリデン系樹脂、ポリエス
テル、ポリカーボネーネ、ポリアミド、ポリアク
リロニトリル、ポリウレタン、ポリエーテル、セ
ルロース系樹脂、フツ素系樹脂等が適用出来る。
り蒸発し、かつ前記被蒸着体6上に膜7として付
着するものであれば何んでも適用出来る。また前
記蒸発源材料2に対し前記蒸着薄膜7が異なつた
物性を有する膜であつても差し支えない。これら
の蒸発源材料2としては、例えば、ポリオレフイ
ン、ビニル系樹脂、ビニリデン系樹脂、ポリエス
テル、ポリカーボネーネ、ポリアミド、ポリアク
リロニトリル、ポリウレタン、ポリエーテル、セ
ルロース系樹脂、フツ素系樹脂等が適用出来る。
又、前記有機ポリマーにおいても、その分子量
が広範囲のものが選択出来る。要するに所望の物
性を有する薄膜7を作成するために最適の蒸発源
材料2を選択出来る。又、前記のポリマー以外に
も、高級脂肪酸等の比較的低分子量の有機化合物
も適用出来る。
が広範囲のものが選択出来る。要するに所望の物
性を有する薄膜7を作成するために最適の蒸発源
材料2を選択出来る。又、前記のポリマー以外に
も、高級脂肪酸等の比較的低分子量の有機化合物
も適用出来る。
又、本発明においては、有機金属化合物、分解
して有機物を生ずる材料、或いは非蒸発物との混
合物でもよい。
して有機物を生ずる材料、或いは非蒸発物との混
合物でもよい。
前記有機蒸発源材料2を前記支持体1上に付着
する方法としては、各種の方法が適用出来るが、
例えば、有機溶剤に前記蒸発源材料2を溶解して
塗布しても良く、あるいは繊維状材料より成る支
持体1にしみ込ませても良い。
する方法としては、各種の方法が適用出来るが、
例えば、有機溶剤に前記蒸発源材料2を溶解して
塗布しても良く、あるいは繊維状材料より成る支
持体1にしみ込ませても良い。
或いは前記有機蒸発源材料2を有接加熱溶融又
は加熱圧着して前記支持体1に付着させるか、又
は単に両材料を重ね合せても良い。付着量は必要
な前記有機蒸着薄膜7の膜厚と搬送速度、前記加
熱手段5の温度、該支持体の搬送速度等を考慮し
て設定される。
は加熱圧着して前記支持体1に付着させるか、又
は単に両材料を重ね合せても良い。付着量は必要
な前記有機蒸着薄膜7の膜厚と搬送速度、前記加
熱手段5の温度、該支持体の搬送速度等を考慮し
て設定される。
又、前記有機蒸発源材料2はロール状に巻きつ
けたり、あるいは糸巻き状に巻きつけて前記真空
ケーシング4内に装填、あるいは所謂、Air To
Air方式で知られる方式により前記ケーシング4
の外部からその内部に供給しても良い。
けたり、あるいは糸巻き状に巻きつけて前記真空
ケーシング4内に装填、あるいは所謂、Air To
Air方式で知られる方式により前記ケーシング4
の外部からその内部に供給しても良い。
この場合、真空蒸着装置と連続して塗布装置を
設けても良い。又、前記支持体1と有機蒸発源材
料2を別々に前記ケーシング4内に配し、前記支
持体1上に少量づつ前記有機蒸発源材料2を連続
的に供給し、加熱により均一に溶融付着させてか
ら前記加熱手段5に送り込んでも良い。
設けても良い。又、前記支持体1と有機蒸発源材
料2を別々に前記ケーシング4内に配し、前記支
持体1上に少量づつ前記有機蒸発源材料2を連続
的に供給し、加熱により均一に溶融付着させてか
ら前記加熱手段5に送り込んでも良い。
前記加熱手段5は抵抗加熱、電子ビーム加熱、
赤外線輻射加熱、誘導加熱、直接通電加熱等が用
いられる。蒸発のための加熱は前記有機蒸発源材
料2のいづれの側から行なつても良い。即ち前記
支持体1を通して加熱しても良い。その加熱温度
は一定に保持されることが必要であり、何らかの
手段で温度コントロールがなされている方が望ま
しい。
赤外線輻射加熱、誘導加熱、直接通電加熱等が用
いられる。蒸発のための加熱は前記有機蒸発源材
料2のいづれの側から行なつても良い。即ち前記
支持体1を通して加熱しても良い。その加熱温度
は一定に保持されることが必要であり、何らかの
手段で温度コントロールがなされている方が望ま
しい。
蒸着時の真空度は通常なるべく高真空度である
ことが望ましいが、分解性の強い材料では低真空
度で蒸着しても良い。又、用途によつて、周り込
み効果を多くするために不活性ガスを導入する等
の手段で真空度を下げても良いが、通常10-2〜
10-6Torr程度の真空度が実用的である。
ことが望ましいが、分解性の強い材料では低真空
度で蒸着しても良い。又、用途によつて、周り込
み効果を多くするために不活性ガスを導入する等
の手段で真空度を下げても良いが、通常10-2〜
10-6Torr程度の真空度が実用的である。
前記被蒸着体6としては、長尺フイルム状で搬
送可能なものが適しているが、他の形状であつて
も差し支えはない。
送可能なものが適しているが、他の形状であつて
も差し支えはない。
又、前記被蒸着体6は例えばポリエチレンテレ
フタレート等の基体上に金属等蒸着した真空蒸着
膜を層設したものでも良い。この場合、金属蒸着
薄膜と有機蒸着薄膜を同一の装置で連続的に行な
つても良い。
フタレート等の基体上に金属等蒸着した真空蒸着
膜を層設したものでも良い。この場合、金属蒸着
薄膜と有機蒸着薄膜を同一の装置で連続的に行な
つても良い。
又、前記被蒸着体6に有機蒸着薄膜を蒸着する
前に、該被蒸着体6との密着を良くするために、
グロー放電処理、イオンボンバード処理等の前処
理を行なつても良い。
前に、該被蒸着体6との密着を良くするために、
グロー放電処理、イオンボンバード処理等の前処
理を行なつても良い。
本発明によればほとんど全ての有機蒸発源材料
の連続蒸着に適用することが可能であり、実用価
値は極めて大である。
の連続蒸着に適用することが可能であり、実用価
値は極めて大である。
第3図は本発明における前記被蒸着体6の移動
方向及び移動手段の変更例を示したものである。
第3図において30は前記加熱手段5の上方で回
転自在なクーリングキヤンであり、その下方外周
面に沿つて前記被蒸体6を前記支持体1の移動方
向Aと反対方向Bにかつ彎曲した状態に走行案内
するものである。
方向及び移動手段の変更例を示したものである。
第3図において30は前記加熱手段5の上方で回
転自在なクーリングキヤンであり、その下方外周
面に沿つて前記被蒸体6を前記支持体1の移動方
向Aと反対方向Bにかつ彎曲した状態に走行案内
するものである。
なお、必要に応じて、前記クーリングキヤン3
0の下方外周面の一部を既知の蒸発粒子防着マス
クで被つても良い。又、前記支持体1と同じ方向
Aに前記被蒸着体6を走行案内すること、両部材
1及び6の相対速度を適宜変更すること、あるい
は一定時間前記被蒸着体6を静止、固定して蒸着
することも可能である。
0の下方外周面の一部を既知の蒸発粒子防着マス
クで被つても良い。又、前記支持体1と同じ方向
Aに前記被蒸着体6を走行案内すること、両部材
1及び6の相対速度を適宜変更すること、あるい
は一定時間前記被蒸着体6を静止、固定して蒸着
することも可能である。
次に本発明を実施例により詳しく述べる。
実施例 1
厚さ100μm、幅2cmのSUS316ストリツプス上
にポリカーボネート樹脂材料をコイルバー塗布方
式で約15μm厚さに溶剤塗布し、約5m長のポリ
カーボネート蒸発源材料を作成し、ロール状に巻
き取つた。
にポリカーボネート樹脂材料をコイルバー塗布方
式で約15μm厚さに溶剤塗布し、約5m長のポリ
カーボネート蒸発源材料を作成し、ロール状に巻
き取つた。
次に、第1図に示したような蒸着装置を用いて
前記蒸発源材料を約6cm/minの速度で矢印Aの
方向に移動させながらタングステンヒータの抵抗
加熱による輻射熱により前記ポリカーボネート蒸
発源材料を加熱蒸発させた。
前記蒸発源材料を約6cm/minの速度で矢印Aの
方向に移動させながらタングステンヒータの抵抗
加熱による輻射熱により前記ポリカーボネート蒸
発源材料を加熱蒸発させた。
加熱蒸発部より約17cm離れた上方に1/2インチ
幅で25μm厚さのポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に約1000Åのコバルト斜方蒸着膜を層設
した被蒸着体を約30cm/minの速度で前記支持体
と同一方向に平行して搬送させた。
幅で25μm厚さのポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に約1000Åのコバルト斜方蒸着膜を層設
した被蒸着体を約30cm/minの速度で前記支持体
と同一方向に平行して搬送させた。
また前記被蒸着体の近傍に水晶振動子方式の膜
厚計を設置し、蒸発量をモニターした。
厚計を設置し、蒸発量をモニターした。
前記膜厚モニターでの指示値が20Å/S(比重
=1とした)となるように温度を設定した。この
時の真空度は5×10-4Torrであつた。この条件
で約60分間蒸着を行ない約3μg/cm2の付着量を
有する20m長さの有機蒸着薄膜が得られた。全長
さにわたつて蒸着速度は非常に安定であつた。ま
た、同一条件で2度蒸着を試みたがほぼ同一条件
で同じ蒸着速度が得られた。
=1とした)となるように温度を設定した。この
時の真空度は5×10-4Torrであつた。この条件
で約60分間蒸着を行ない約3μg/cm2の付着量を
有する20m長さの有機蒸着薄膜が得られた。全長
さにわたつて蒸着速度は非常に安定であつた。ま
た、同一条件で2度蒸着を試みたがほぼ同一条件
で同じ蒸着速度が得られた。
得られた、コバルトの斜方蒸着膜上の有機蒸着
薄膜をFT−IRスペクトルを測定したところ全長
さにわたつて蒸着前のポリカーボネート組成に近
いスペクトルが得られた。
薄膜をFT−IRスペクトルを測定したところ全長
さにわたつて蒸着前のポリカーボネート組成に近
いスペクトルが得られた。
一方、通常のタングステン抵抗加熱型ボート
(7cm×2cm×0.1mm)にポリカーボネート材を約
10g入れてほぼ同一蒸着速度(20Å/S)となる
ように前記ボートの温度を制御しながら蒸着し
た。蒸着を続けると次第に前記ボートに接する部
分のポリカーボネート材が炭化し、前記ボート上
に蓄積され、前記ボートよりの熱伝導が低下する
ため、前記ボートに対する電流を増加させねばな
らなかつた。約20m長の蒸着を行なうためには蒸
着初期に比べて約1.5倍の電流を必要とした。
(7cm×2cm×0.1mm)にポリカーボネート材を約
10g入れてほぼ同一蒸着速度(20Å/S)となる
ように前記ボートの温度を制御しながら蒸着し
た。蒸着を続けると次第に前記ボートに接する部
分のポリカーボネート材が炭化し、前記ボート上
に蓄積され、前記ボートよりの熱伝導が低下する
ため、前記ボートに対する電流を増加させねばな
らなかつた。約20m長の蒸着を行なうためには蒸
着初期に比べて約1.5倍の電流を必要とした。
また同一の蒸着速度を保つためには、前記ボー
トの温度を手動で制御したが、変動が大きく安定
した制御が困難であつた。更に2回目の実験を行
なつたが、一定蒸着速度を得るためには条件設定
を大きく変えねばならなかつた。
トの温度を手動で制御したが、変動が大きく安定
した制御が困難であつた。更に2回目の実験を行
なつたが、一定蒸着速度を得るためには条件設定
を大きく変えねばならなかつた。
この方法で得られた有機蒸着薄膜をFT−IRで
分析したところ蒸着初期と蒸着後期でFT−IRス
ペクトルが異なつた。
分析したところ蒸着初期と蒸着後期でFT−IRス
ペクトルが異なつた。
第1図は本発明方法の説明図、第2図は本発明
における蒸発源材料の構成を示す断面図、第3図
は本発明の変更例を示す要路略図である。 1は耐熱性支持体、2は有機蒸発源材料、4は
ケーシング、5は加熱手段、6は被蒸着体であ
る。
における蒸発源材料の構成を示す断面図、第3図
は本発明の変更例を示す要路略図である。 1は耐熱性支持体、2は有機蒸発源材料、4は
ケーシング、5は加熱手段、6は被蒸着体であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 有機蒸発源材料を予め付着した耐熱性支持体
を、真空雰囲気下で被蒸着体と加熱手段の間に連
続的に供給しながら前記加熱手段により加熱し、
前記耐熱性支持体から前記有機蒸発源材料を連続
的に蒸発せしめて、前記被蒸着体上に有機蒸着薄
膜を層設することを特徴とする有機蒸着薄膜製造
方法。 2 前記被蒸着体が連続的に移動することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の有機蒸着薄膜
製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56021651A JPS57134558A (en) | 1981-02-16 | 1981-02-16 | Production of organic vapor deposited thin film |
DE19823205384 DE3205384A1 (de) | 1981-02-16 | 1982-02-16 | Verfahren zum herstellen eines duennen films aus einem organischen material durch bedampfen |
US06/532,817 US4543275A (en) | 1981-02-16 | 1983-09-16 | Method of forming thin vapor deposited film of organic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56021651A JPS57134558A (en) | 1981-02-16 | 1981-02-16 | Production of organic vapor deposited thin film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57134558A JPS57134558A (en) | 1982-08-19 |
JPH0141700B2 true JPH0141700B2 (ja) | 1989-09-07 |
Family
ID=12060944
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56021651A Granted JPS57134558A (en) | 1981-02-16 | 1981-02-16 | Production of organic vapor deposited thin film |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4543275A (ja) |
JP (1) | JPS57134558A (ja) |
DE (1) | DE3205384A1 (ja) |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59177365A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸発方法とその装置 |
JPS60116773A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-24 | Hitachi Condenser Co Ltd | イオンプレ−ティング装置 |
US4842893A (en) * | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
US5018048A (en) * | 1983-12-19 | 1991-05-21 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making |
US5032461A (en) * | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
US5125138A (en) * | 1983-12-19 | 1992-06-30 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same |
US5097800A (en) * | 1983-12-19 | 1992-03-24 | Spectrum Control, Inc. | High speed apparatus for forming capacitors |
DE3484793D1 (de) * | 1983-12-19 | 1991-08-14 | Spectrum Control Inc | Miniaturisierter monolithischer mehrschichtkondensator sowie geraet und verfahren zur herstellung. |
JPS60262971A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜形成方法 |
DE3682130D1 (de) * | 1985-07-15 | 1991-11-28 | Japan Res Dev Corp | Verfahren zur herstellung von ultrafeinen organischen verbindungen. |
US4650700A (en) * | 1985-10-11 | 1987-03-17 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Method for surface treatment of metal blanks |
US4675273A (en) * | 1986-02-10 | 1987-06-23 | Loctite (Ireland) Limited | Resists formed by vapor deposition of anionically polymerizable monomer |
US4675270A (en) * | 1986-02-10 | 1987-06-23 | Loctite (Ireland) Limited | Imaging method for vapor deposited photoresists of anionically polymerizable monomer |
JP2530350B2 (ja) * | 1986-06-23 | 1996-09-04 | スペクトラム コントロール,インコーポレイテッド | モノマ―流体のフラッシュ蒸発 |
US4954371A (en) * | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
JPH068503B2 (ja) * | 1987-03-31 | 1994-02-02 | セントラル硝子株式会社 | 含フツ素樹脂被膜の形成方法 |
US4777109A (en) * | 1987-05-11 | 1988-10-11 | Robert Gumbinner | RF plasma treated photosensitive lithographic printing plates |
JP2678055B2 (ja) * | 1989-03-30 | 1997-11-17 | シャープ株式会社 | 有機化合物薄膜の製法 |
US4975299A (en) * | 1989-11-02 | 1990-12-04 | Eastman Kodak Company | Vapor deposition process for depositing an organo-metallic compound layer on a substrate |
US5271968A (en) * | 1990-02-20 | 1993-12-21 | General Electric Company | Method for production of an acrylic coated polycarbonate article |
US5863608A (en) * | 1990-04-10 | 1999-01-26 | Sheldahl, Inc. | Method of preparing adherent/coherent amorphous fluorocarbon coatings |
US5681575A (en) * | 1992-05-19 | 1997-10-28 | Westaim Technologies Inc. | Anti-microbial coating for medical devices |
GEP20002074B (en) * | 1992-05-19 | 2000-05-10 | Westaim Tech Inc Ca | Modified Material and Method for its Production |
US5260095A (en) * | 1992-08-21 | 1993-11-09 | Battelle Memorial Institute | Vacuum deposition and curing of liquid monomers |
US5688556A (en) * | 1994-04-01 | 1997-11-18 | Mobil Oil Corporation | Barrier films having vapor coated EVOH surfaces |
US5593794A (en) * | 1995-01-23 | 1997-01-14 | Duracell Inc. | Moisture barrier composite film of silicon nitride and fluorocarbon polymer and its use with an on-cell tester for an electrochemical cell |
US5607789A (en) * | 1995-01-23 | 1997-03-04 | Duracell Inc. | Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same |
EP1632740A3 (en) * | 1995-09-18 | 2011-04-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for controlling a processing environment |
TW448236B (en) * | 1996-05-21 | 2001-08-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film, method and apparatus for forming the same, and electronic component incorporating the same |
US5811156A (en) * | 1997-01-24 | 1998-09-22 | Eastman Kodak Company | Method of making a color filter array by colorant transfer and etch |
US6203898B1 (en) * | 1997-08-29 | 2001-03-20 | 3M Innovatave Properties Company | Article comprising a substrate having a silicone coating |
US6045864A (en) | 1997-12-01 | 2000-04-04 | 3M Innovative Properties Company | Vapor coating method |
US6309508B1 (en) * | 1998-01-15 | 2001-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Spinning disk evaporator |
JP3586551B2 (ja) * | 1998-01-27 | 2004-11-10 | 松下電器産業株式会社 | 光記録媒体の製造方法及び製造装置 |
US6589641B1 (en) | 1998-06-04 | 2003-07-08 | Seagate Technology Llc | Thin films of crosslinked fluoropolymer on a carbon substrate |
US6863851B2 (en) * | 1998-10-23 | 2005-03-08 | Avery Dennison Corporation | Process for making angstrom scale and high aspect functional platelets |
CA2347830C (en) | 1998-10-23 | 2008-10-21 | Avery Dennison Corporation | Process for making metal flakes |
US6503564B1 (en) * | 1999-02-26 | 2003-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating microstructured substrates with polymeric layer(s), allowing preservation of surface feature profile |
US6617011B2 (en) | 1999-05-07 | 2003-09-09 | Seagate Technology Llc | Elastomeric lubricants for magnetic recording media |
US6680079B1 (en) * | 2000-06-02 | 2004-01-20 | Seagate Technology Llc | Planarization and corrosion protection of patterned magnetic media |
ATE497028T1 (de) * | 2000-06-22 | 2011-02-15 | Panasonic Elec Works Co Ltd | Vorrichtung und verfahren zum vakuum-ausdampfen |
WO2002004552A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | A process for modifying the surface of a substrate containing a polymeric material by means of vaporising the surface modifying agent |
AUPQ859000A0 (en) | 2000-07-06 | 2000-07-27 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Apparatus for surface engineering |
US20030072689A1 (en) * | 2001-08-15 | 2003-04-17 | Third Wave Technologies, Inc. | Polymer synthesizer |
US6468595B1 (en) * | 2001-02-13 | 2002-10-22 | Sigma Technologies International, Inc. | Vaccum deposition of cationic polymer systems |
US6849304B1 (en) | 2001-03-16 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Method of forming lubricant films |
US20050241585A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Eastman Kodak Company | System for vaporizing materials onto a substrate surface |
US7195848B2 (en) * | 2004-08-30 | 2007-03-27 | Eastman Kodak Company | Method of making inlaid color filter arrays |
JP4525637B2 (ja) * | 2006-06-22 | 2010-08-18 | 凸版印刷株式会社 | 防汚性薄膜の形成方法 |
US8163090B2 (en) * | 2007-12-10 | 2012-04-24 | Solopower, Inc. | Methods structures and apparatus to provide group VIA and IA materials for solar cell absorber formation |
JPWO2012121238A1 (ja) * | 2011-03-09 | 2014-07-17 | コニカミノルタ株式会社 | 蒸着用シート、蒸着装置、及び蒸着用シートの製造方法 |
JP2013040357A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Optorun Co Ltd | 成膜装置 |
DE102013109663A1 (de) * | 2013-09-04 | 2015-03-05 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Bedampfungseinrichtung zum Beschichten flächenförmiger Substrate |
US10821240B2 (en) | 2014-02-11 | 2020-11-03 | Vapor Cartridge Technology Llc | Methods and drug delivery devices using cannabis |
US9220294B2 (en) | 2014-02-11 | 2015-12-29 | Timothy McCullough | Methods and devices using cannabis vapors |
US9380813B2 (en) | 2014-02-11 | 2016-07-05 | Timothy McCullough | Drug delivery system and method |
TWI523962B (zh) * | 2014-10-03 | 2016-03-01 | Nat Inst Chung Shan Science & Technology | Method and apparatus for stabilizing vapor deposition uniformity film |
TWI720181B (zh) | 2016-05-30 | 2021-03-01 | 日商新力股份有限公司 | 薄膜製造方法、薄膜製造裝置、光電轉換元件之製造方法、邏輯電路之製造方法、發光元件之製造方法及調光元件之製造方法 |
JP7363056B2 (ja) * | 2019-03-01 | 2023-10-18 | 株式会社ニデック | ハードコート付きレンズの製造方法 |
CA3154135A1 (en) | 2019-09-16 | 2021-03-25 | Vapor Cartridge Technology Llc | Drug delivery system with stackable substrates |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE635545A (ja) * | 1962-08-14 | |||
US3296011A (en) * | 1963-05-24 | 1967-01-03 | Du Pont | Surface treatment of perfluorocarbon polymer structures |
US3362848A (en) * | 1964-03-03 | 1968-01-09 | Mc Donnell Douglas Corp | Apparatus and method for evaporative coating |
US3379803A (en) * | 1964-05-04 | 1968-04-23 | Union Carbide Corp | Coating method and apparatus for deposition of polymer-forming vapor under vacuum |
GB1168641A (en) * | 1966-05-19 | 1969-10-29 | British Iron Steel Research | Formation of Polymer Coatings on Substrates. |
GB1253124A (ja) * | 1969-02-28 | 1971-11-10 | ||
JPS5249515B2 (ja) * | 1972-09-11 | 1977-12-17 | ||
JPS5120356A (en) * | 1974-08-08 | 1976-02-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Fuookurifutono tentoboshisochi |
FR2340995A1 (fr) * | 1976-02-16 | 1977-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Procede de fabrication d'un materiau en feuille comportant une couche metallique deposee sous vide, et procede de fabrication d'un materiau d'enregistrement |
DE2624700A1 (de) * | 1976-06-02 | 1977-12-15 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren und vorrichtung zum gleichfoermigen beschichten von flaechigen substraten |
JPS5321907A (en) * | 1976-08-11 | 1978-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetically recording and reproducing system |
US4325986A (en) * | 1979-05-29 | 1982-04-20 | University Of Delaware | Method for continuous deposition by vacuum evaporation |
-
1981
- 1981-02-16 JP JP56021651A patent/JPS57134558A/ja active Granted
-
1982
- 1982-02-16 DE DE19823205384 patent/DE3205384A1/de active Granted
-
1983
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57134558A (en) | 1982-08-19 |
DE3205384A1 (de) | 1982-09-16 |
DE3205384C2 (ja) | 1990-06-07 |
US4543275A (en) | 1985-09-24 |
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