JPS59177365A - 蒸発方法とその装置 - Google Patents
蒸発方法とその装置Info
- Publication number
- JPS59177365A JPS59177365A JP4984983A JP4984983A JPS59177365A JP S59177365 A JPS59177365 A JP S59177365A JP 4984983 A JP4984983 A JP 4984983A JP 4984983 A JP4984983 A JP 4984983A JP S59177365 A JPS59177365 A JP S59177365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- endless belt
- vapor deposition
- belt
- org
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は各種薄膜応用、製品の保護材、:]1として用
いられる宵丁鵡蒸1γ?薄1莫を真空中で連続して得る
1祭の、何4g″を蒸発方法とそのさtlに1;5する
。
いられる宵丁鵡蒸1γ?薄1莫を真空中で連続して得る
1祭の、何4g″を蒸発方法とそのさtlに1;5する
。
従来例の(tl成とその問題点
高分子、高級脂肪酸、脂肪酸エステμ等の有機材料は、
真空蒸着法により得られた薄膜の耐久性耐候性専を向上
させるために、保護用材料として薄膜化して用いら詐る
。
真空蒸着法により得られた薄膜の耐久性耐候性専を向上
させるために、保護用材料として薄膜化して用いら詐る
。
従来、薄膜化手段として最も良く用いられてきたのは塗
布法であったが、厚さが1μ扉以下、特に1000A程
度の膜厚を塗布法で均一に得ることは困難であって、高
密度磁気記録用の新現な(基体としてCo−Ni−0系
斜方蒸着膜、Co−Cr系垂直磁化膜等を磁気記@得と
する全屈薄膜型磁気記録媒体の保護層として許容される
J7みは高々数百Aであることから、有機材料を従来、
無機材料の薄膜化に法尻に利用されてきている真空蒸着
法により薄膜化することが検討されはじめている。
布法であったが、厚さが1μ扉以下、特に1000A程
度の膜厚を塗布法で均一に得ることは困難であって、高
密度磁気記録用の新現な(基体としてCo−Ni−0系
斜方蒸着膜、Co−Cr系垂直磁化膜等を磁気記@得と
する全屈薄膜型磁気記録媒体の保護層として許容される
J7みは高々数百Aであることから、有機材料を従来、
無機材料の薄膜化に法尻に利用されてきている真空蒸着
法により薄膜化することが検討されはじめている。
しかし、有機材料は無機材料の蒸着の場合と異なり、蒸
発に必要な二ネμギーが少なくてすむが、蒸発速度の何
個が非常にむずかしい。それば、蒸発温度と分解温度が
接近していることからぐる困幻1.性で、ポリエチレン
及びポリプロピレンに2いては、J1!、適蒸発温度に
保持して蒸着する方法が見出されているが汎用性に乏し
く、他の方法も、これまでに試みてきた、蒸発面を直接
′11℃子ビームで1褒剖する方法、ドラム表面に供給
し蒸発させる方法、フラッシュ類5f’rさぜる方法の
いずれもが限定した材4・1について成功しているもの
の、長時間、広幅の被蒸着材料に均一な薄膜を形成する
ことの出来る汎用性の亮い蒸発方法は見出されていない
。
発に必要な二ネμギーが少なくてすむが、蒸発速度の何
個が非常にむずかしい。それば、蒸発温度と分解温度が
接近していることからぐる困幻1.性で、ポリエチレン
及びポリプロピレンに2いては、J1!、適蒸発温度に
保持して蒸着する方法が見出されているが汎用性に乏し
く、他の方法も、これまでに試みてきた、蒸発面を直接
′11℃子ビームで1褒剖する方法、ドラム表面に供給
し蒸発させる方法、フラッシュ類5f’rさぜる方法の
いずれもが限定した材4・1について成功しているもの
の、長時間、広幅の被蒸着材料に均一な薄膜を形成する
ことの出来る汎用性の亮い蒸発方法は見出されていない
。
発明の目的
本発明は、再現性良く、且つ長岡間安定に作動すると共
に、広幅の被蒸着材に均一な薄膜を形成するのに好適な
汎用性の高いイー1機材料の蒸発方法とその装置畳を提
供することを目的とする。
に、広幅の被蒸着材に均一な薄膜を形成するのに好適な
汎用性の高いイー1機材料の蒸発方法とその装置畳を提
供することを目的とする。
発明の構成
本発明の蒸発方法は、回動するエンドレスベルトの外周
面と内周面のうちの一方の面に有1当蒸着材):31を
供給し、所定回iJ位J7J、における前記エンドレス
ベルトの他方の面を前記有機蒸着材料の蒸発涛冒゛(に
まで加r、+1+、することを特徴とする。
面と内周面のうちの一方の面に有1当蒸着材):31を
供給し、所定回iJ位J7J、における前記エンドレス
ベルトの他方の面を前記有機蒸着材料の蒸発涛冒゛(に
まで加r、+1+、することを特徴とする。
有4.゛ミ蒸眉材料のエンドレスベルFへの供給は、液
状で塗布する方法と、気相で蒸着する方法が採れる。有
機材料の融点により、いずれを選択しても良いが、液状
の有機材赳がチャージされたバスの中に一部浸漬したロ
ーラによりエンドレスベルトの一方の面に転写する方法
が比較的容易で確実である。
状で塗布する方法と、気相で蒸着する方法が採れる。有
機材料の融点により、いずれを選択しても良いが、液状
の有機材赳がチャージされたバスの中に一部浸漬したロ
ーラによりエンドレスベルトの一方の面に転写する方法
が比較的容易で確実である。
エンFl/スヘ7v )の一方の面に供給された有機蒸
着材料の状態は同相かまたは液相のいずれかの状態を選
択できる。
着材料の状態は同相かまたは液相のいずれかの状態を選
択できる。
エンドレスベルト上に付着した、有機蒸着材を蒸発温度
にまで昇温する制御は、加速′醒子による電子衝撃によ
る方法と、エンドレスベ/L/トを通電加熱する方法等
の何れによっても実現でき、これらの加熱方法は応答性
に優れ長尺の処理にあって、ブイードパンク制御する場
合に有用である。
にまで昇温する制御は、加速′醒子による電子衝撃によ
る方法と、エンドレスベ/L/トを通電加熱する方法等
の何れによっても実現でき、これらの加熱方法は応答性
に優れ長尺の処理にあって、ブイードパンク制御する場
合に有用である。
また、本発明の蒸発装置は、冷却ローラに沿って回動す
るエンドレスベルトと、このエンドレスベルトの外周面
と内周面のうちの一方の面に有機蒸着材料を連続供給す
る補給4?“ミ構と、前記エンドレスベルトの他方の面
で被蒸着材を見込む側の一部を加5′−する加7′1手
ドタとを設け、加ri1によって得られたAir度で、
汀機蒸着材が一定の蒸気圧で、蒸発したエンドレスベル
トが冷却ローラに近ずくにつれ冷却されていき、それに
応じて、有機蒸着材も蒸気F′Fが低かつていき、1与
びA本之蒸うj’f材:°斗の供給を受けるように構成
したことを特徴とする。
るエンドレスベルトと、このエンドレスベルトの外周面
と内周面のうちの一方の面に有機蒸着材料を連続供給す
る補給4?“ミ構と、前記エンドレスベルトの他方の面
で被蒸着材を見込む側の一部を加5′−する加7′1手
ドタとを設け、加ri1によって得られたAir度で、
汀機蒸着材が一定の蒸気圧で、蒸発したエンドレスベル
トが冷却ローラに近ずくにつれ冷却されていき、それに
応じて、有機蒸着材も蒸気F′Fが低かつていき、1与
びA本之蒸うj’f材:°斗の供給を受けるように構成
したことを特徴とする。
塗布供給の方が多くなるような条件を見出すのは、格別
の熟練を必愕とするものではなく、供給側さえ多くなる
条件で運転すれば、ソ′トられる膜厚は均一に保持でき
る。
の熟練を必愕とするものではなく、供給側さえ多くなる
条件で運転すれば、ソ′トられる膜厚は均一に保持でき
る。
通常の真空蒸着で、幅方向に均一な膜厚を得るために行
うと同様に、ベルトを衝撃する′・賀子源を分割して、
異なるパワーを投入するか、集束′准極を(11;^方
向に変化させて、「差力密度)7?変えることで4゛1
3方向のii、% 、、Fを制でi(シたり、エンドレ
スベルトを通′直加:;<’j’+ L、て蒸45させ
る場合には、くハ方向に電流密度が変ったいくつかの旭
1域に分けることによって116方向のliG%厚を+
C+J御できる。
うと同様に、ベルトを衝撃する′・賀子源を分割して、
異なるパワーを投入するか、集束′准極を(11;^方
向に変化させて、「差力密度)7?変えることで4゛1
3方向のii、% 、、Fを制でi(シたり、エンドレ
スベルトを通′直加:;<’j’+ L、て蒸45させ
る場合には、くハ方向に電流密度が変ったいくつかの旭
1域に分けることによって116方向のliG%厚を+
C+J御できる。
エンドレスベルトは、IY肉で、ステンレス、チタン、
q司′、〒の金1.・ス又は合金から形1iiされてお
り、波蒸着相上に均一に薄膜を形成するために、被蒸着
材の幅と同等以上の幅のものが好都合である。
q司′、〒の金1.・ス又は合金から形1iiされてお
り、波蒸着相上に均一に薄膜を形成するために、被蒸着
材の幅と同等以上の幅のものが好都合である。
ベルトの厚みムラは、温度ムラにつながり、結果として
、有a薄膜の膜厚ムラにつながるので、継目の処理は注
意しなければならない。この継目の処理は、電子ビーム
溶接して、研1F?シて、厚みムラをなくせば充分であ
る。
、有a薄膜の膜厚ムラにつながるので、継目の処理は注
意しなければならない。この継目の処理は、電子ビーム
溶接して、研1F?シて、厚みムラをなくせば充分であ
る。
冷却ローラは、有(4す材料が同化するか又は、液状で
あっても殆んど蒸気圧をもたない温度にまで冷却できる
ように、冷媒が循1うできるジャケット(1青造のもの
である。
あっても殆んど蒸気圧をもたない温度にまで冷却できる
ように、冷媒が循1うできるジャケット(1青造のもの
である。
実施例の説明
以下、本発明の蒸発方法を具体的な実施例に基ついて説
明する。な督、本発明の1期解を深めるには、蒸発方法
単独の特性について詳述するよりも、実際にその蒸発方
法により蒸着した結果について。
明する。な督、本発明の1期解を深めるには、蒸発方法
単独の特性について詳述するよりも、実際にその蒸発方
法により蒸着した結果について。
比較検討する方が良いため、以下の説明では、巻取り蒸
@機により金属薄膜型磁気記録媒体の有機保護膜を形成
することを中心に説明する。
@機により金属薄膜型磁気記録媒体の有機保護膜を形成
することを中心に説明する。
第1図は加熱手段としてエンドレスベルトヲ電子K15
j″・Kノ;加熱するようにした蒸発rl;4をイエす
る一当取り蒸着挟を示す。f、J、 )、1% Fら形
成の対象となる。1、(仮(1)は高分子基板の電力の
面、又は両方の百に、強磁性チク膜が電子ビーム済着、
スパッタリング、イオンブレーティング、メッキ等によ
り形成されたものである。この基板(])は同クり支持
体(2)に沿って送り出しIIQ!+ (3)から巻取
り軸(4)に向って移動して巻取られるよう(14成さ
れろ。”h 4;、i%保i、/Ij 1l=4形成用
の有機蒸発源(18)は、回転支持体(2)と対向して
配設されており、有機蒸発源(18)は、イ5 !di
蒸着桐料(9)を収納する¥3器(11と、冷却ロー/
l’ (6) (7)と、この冷却ロー/l/ (6)
(7) 間にJl’) ン度さしtこエンドレスベルト
(5)と、エンドレスベルト(5)の表面に汀(葎蒸着
材’;+゛4(!I)を供給する補給(i4嫂1/+と
しての供給ローラ(8)と、11里子イ、“旧11)と
、集束電極(121とからj’j4成されている。(1
1は防府板である。以上の各県は真空槽(14)の内部
に(1′4成されており、l<′、li壁(171によ
って内、、1が2つに区切られた真空(・、i′!(1
4)はそれぞれ各別の排気系(+il (161によっ
て排気されている。
j″・Kノ;加熱するようにした蒸発rl;4をイエす
る一当取り蒸着挟を示す。f、J、 )、1% Fら形
成の対象となる。1、(仮(1)は高分子基板の電力の
面、又は両方の百に、強磁性チク膜が電子ビーム済着、
スパッタリング、イオンブレーティング、メッキ等によ
り形成されたものである。この基板(])は同クり支持
体(2)に沿って送り出しIIQ!+ (3)から巻取
り軸(4)に向って移動して巻取られるよう(14成さ
れろ。”h 4;、i%保i、/Ij 1l=4形成用
の有機蒸発源(18)は、回転支持体(2)と対向して
配設されており、有機蒸発源(18)は、イ5 !di
蒸着桐料(9)を収納する¥3器(11と、冷却ロー/
l’ (6) (7)と、この冷却ロー/l/ (6)
(7) 間にJl’) ン度さしtこエンドレスベルト
(5)と、エンドレスベルト(5)の表面に汀(葎蒸着
材’;+゛4(!I)を供給する補給(i4嫂1/+と
しての供給ローラ(8)と、11里子イ、“旧11)と
、集束電極(121とからj’j4成されている。(1
1は防府板である。以上の各県は真空槽(14)の内部
に(1′4成されており、l<′、li壁(171によ
って内、、1が2つに区切られた真空(・、i′!(1
4)はそれぞれ各別の排気系(+il (161によっ
て排気されている。
なお、i’+il :把エンドレスベルト(5)は冷却
ロー/l/ (o)(7)の周東と一致して連続回転す
るよう構成されておす、供給ローラ(8)の回1!云数
、エンドレスベルト(5)の回動方向に対する回転方向
、材P[、表面性は適宜選ばれる。容器OQは、ジャケ
ット174造とし、内部に亮体を循コさせて、/yi%
温又は冷却できるよう構成されることが好ましい。供給
ローラ(8)は有機蒸着材料(9)の融点以上に保持さ
れている。更にエンドレスベルト(5)と電子i′ii
λ(11)ならびに集束電極(121の電位の関係は、
エンドレスベルト(5)を接地電位にして、?に予湿(
川と集束上)E (121を負の電位に調節され、エン
ドレスベルト(5)の蒸着材料の付着面と反対側の而〔
1を石面〕を、電子源(11)より放射される゛成子で
衝1・なして昇温させるよう(A成されてい4エンドレ
スベμト(5)の)%4II容敗を小さく選べば、その
上にイ」着している有機蒸着材料の熱容量は無視できる
ので投入電力は、IKW以下で充分に有機蒸着材料の全
範囲をカバーできる。供給ローラ(8)により液相の有
機蒸着材料をとる場合は、電子衝撃する面に有機蒸着材
が付着しているのは好ましくないので、マージン部に余
裕をもつのが好ましい。
ロー/l/ (o)(7)の周東と一致して連続回転す
るよう構成されておす、供給ローラ(8)の回1!云数
、エンドレスベルト(5)の回動方向に対する回転方向
、材P[、表面性は適宜選ばれる。容器OQは、ジャケ
ット174造とし、内部に亮体を循コさせて、/yi%
温又は冷却できるよう構成されることが好ましい。供給
ローラ(8)は有機蒸着材料(9)の融点以上に保持さ
れている。更にエンドレスベルト(5)と電子i′ii
λ(11)ならびに集束電極(121の電位の関係は、
エンドレスベルト(5)を接地電位にして、?に予湿(
川と集束上)E (121を負の電位に調節され、エン
ドレスベルト(5)の蒸着材料の付着面と反対側の而〔
1を石面〕を、電子源(11)より放射される゛成子で
衝1・なして昇温させるよう(A成されてい4エンドレ
スベμト(5)の)%4II容敗を小さく選べば、その
上にイ」着している有機蒸着材料の熱容量は無視できる
ので投入電力は、IKW以下で充分に有機蒸着材料の全
範囲をカバーできる。供給ローラ(8)により液相の有
機蒸着材料をとる場合は、電子衝撃する面に有機蒸着材
が付着しているのは好ましくないので、マージン部に余
裕をもつのが好ましい。
牛だ、ここで回転支持体(2)の11¥径は5o僧で、
この回11尺支持体(2)の直下に有(゛・ヲ蒸発源(
国をjl:jl L/、この雨音の至ス1で距1°4を
13Q11とした。冷却ローワ(fl) (7)の11
°(径は15cmで中心口距i′iflは45cm、エ
ンドレスベルト(5)は、チタン製iooμmを用いた
。冷却ローラ((1) (7)の7f+1□円]はいず
れも5℃一定とした。重子yEa I川にはタングステ
ン線α4φで両端バネで(A4 Nする(荷造をとった
。印加′1ニ圧は負の五ooovとした。容器θ1は、
内容i青5tの角型バスで供給ローラ(8)は、直径9
5朋で硬質クロムメッキ後パス研含して表面≧11さα
2sとしたものを用い、下記の各火陥を行った。
この回11尺支持体(2)の直下に有(゛・ヲ蒸発源(
国をjl:jl L/、この雨音の至ス1で距1°4を
13Q11とした。冷却ローワ(fl) (7)の11
°(径は15cmで中心口距i′iflは45cm、エ
ンドレスベルト(5)は、チタン製iooμmを用いた
。冷却ローラ((1) (7)の7f+1□円]はいず
れも5℃一定とした。重子yEa I川にはタングステ
ン線α4φで両端バネで(A4 Nする(荷造をとった
。印加′1ニ圧は負の五ooovとした。容器θ1は、
内容i青5tの角型バスで供給ローラ(8)は、直径9
5朋で硬質クロムメッキ後パス研含して表面≧11さα
2sとしたものを用い、下記の各火陥を行った。
実施例
105μm、 5 Qcm 4qのポリエチレンテレフ
タレート上に3XIOTorrの11!累中でCo5o
%Ni 20%をα1311m ’if子ビーム蒸着し
た。最小入射角は40’で、直径1mの回1伝支持体(
2)に沿った状態での斜方蒸j;イによった。このよう
にして得たCo−Ni−01’%上に、ミリスチン11
肴を蒸着した。基板を巻取る速度は33m/minで、
エンドレスベルト(5)の1開運は、−1代4反(1)
の移動方面と反対方向に、83m/minとし、電子衝
繋は全″置力650W、 ’1.iカ/H度はg5 /
la 〜3 /d (7) fjli 囲で制御し、均
−膜厚換算で40A〜43λとなる条件でミリスチン酸
の補給は行わないで、全長4000+++の基板に連続
蒸着した。
タレート上に3XIOTorrの11!累中でCo5o
%Ni 20%をα1311m ’if子ビーム蒸着し
た。最小入射角は40’で、直径1mの回1伝支持体(
2)に沿った状態での斜方蒸j;イによった。このよう
にして得たCo−Ni−01’%上に、ミリスチン11
肴を蒸着した。基板を巻取る速度は33m/minで、
エンドレスベルト(5)の1開運は、−1代4反(1)
の移動方面と反対方向に、83m/minとし、電子衝
繋は全″置力650W、 ’1.iカ/H度はg5 /
la 〜3 /d (7) fjli 囲で制御し、均
−膜厚換算で40A〜43λとなる条件でミリスチン酸
の補給は行わないで、全長4000+++の基板に連続
蒸着した。
実施例
〔実験例−1〕と同じCo−Ni−0膜上に、ステアリ
ン酸アミドを蒸宥した。基板の巻取り速度は33m1m
i nで、エンドレスベルト(5)の周速は、基板(
1)の移動方向と同一方向に、LlmAninとし、電
子衝Gは全′准力600W、電力密度は、Z5 /d〜
+114/dの範囲で側脚し均一;i作間換算で45λ
〜49又となる条件で老長4.000mの基板に連続蒸
着した。
ン酸アミドを蒸宥した。基板の巻取り速度は33m1m
i nで、エンドレスベルト(5)の周速は、基板(
1)の移動方向と同一方向に、LlmAninとし、電
子衝Gは全′准力600W、電力密度は、Z5 /d〜
+114/dの範囲で側脚し均一;i作間換算で45λ
〜49又となる条件で老長4.000mの基板に連続蒸
着した。
〔突憤例−3〕
〔実験例−1〕と同じCo−Ni−0朕上に、パルミチ
ン峻エチルを蒸着した。巻取り速度33 m1m i
nで移動する基板(1)と反対方向に5m/Binで移
動するエンドレスベルト(5)を、全電力soow、゛
tホカ笛変度3/d−45151で1に子衝撃加熱し、
均一膜厚換算で43A〜47Aのバルミチン酸エチ/L
’蒸着膜を全長生000mに渡って形成した。
ン峻エチルを蒸着した。巻取り速度33 m1m i
nで移動する基板(1)と反対方向に5m/Binで移
動するエンドレスベルト(5)を、全電力soow、゛
tホカ笛変度3/d−45151で1に子衝撃加熱し、
均一膜厚換算で43A〜47Aのバルミチン酸エチ/L
’蒸着膜を全長生000mに渡って形成した。
実施例
1α511m、5 Qc+++ 中、%のポリアミド上
に、5X1o−” Torrのアルゴン中で、Co78
%Cr22%をα2μN%周波マグネトロンスパッタ蒸
着し、Co−Cr垂直磁化膜を得た。
に、5X1o−” Torrのアルゴン中で、Co78
%Cr22%をα2μN%周波マグネトロンスパッタ蒸
着し、Co−Cr垂直磁化膜を得た。
このようにして得たCo−Cr 膜上にステアリン酸を
蒸着した。巻取り速度33 ’/mi nで移%9Jす
る基板(1)と同じ方向に5 m/m i nで移動す
るエンドレスベルト(5)を、全’III、 カフ00
W、 寅カ密度3W/cJ 〜as W/dで電子VA
1.i人加熱し、均一膜厚換算で48λ〜51久のステ
アリン酸蒸着膜を全長1500fiに渡って形成した。
蒸着した。巻取り速度33 ’/mi nで移%9Jす
る基板(1)と同じ方向に5 m/m i nで移動す
るエンドレスベルト(5)を、全’III、 カフ00
W、 寅カ密度3W/cJ 〜as W/dで電子VA
1.i人加熱し、均一膜厚換算で48λ〜51久のステ
アリン酸蒸着膜を全長1500fiに渡って形成した。
実施例
〔実改例−4〕と同じCo−Cr 膜上に、ステアリン
酸メチルとベヘン酸を同時蒸着した。巻取り速度33m
/minで移動する7人板(1)と同じ方向にxasm
、’minで移動するエンドレスベルト(5)を全°屯
カフ60W、′成力密度4盟勺〜4.2W/cJ で′
諷子衝゛−≠加f+M L/、均一;1↓QJIK換算
で、両者の混合厚みで45A〜48Aのステアリンj朦
メチル、ベヘンv& Ms 合蒸7RIi’l 全全長
1500gにン度って)1手成しtこ。
酸メチルとベヘン酸を同時蒸着した。巻取り速度33m
/minで移動する7人板(1)と同じ方向にxasm
、’minで移動するエンドレスベルト(5)を全°屯
カフ60W、′成力密度4盟勺〜4.2W/cJ で′
諷子衝゛−≠加f+M L/、均一;1↓QJIK換算
で、両者の混合厚みで45A〜48Aのステアリンj朦
メチル、ベヘンv& Ms 合蒸7RIi’l 全全長
1500gにン度って)1手成しtこ。
比較例として、本発明の蒸発源装置として用いたと同一
サイズの容器Q1のジャケット内を熱媒循環させて温調
する方法で、〔実験例−1〕から〔実験例−5〕までと
同じ蒸着材、;斗を用いて、類似の膜厚を狙って蒸着し
たものを用い、実験例の番号に対応して〔比較例−1〕
から〔比較例−5〕までの試料を準備した。
サイズの容器Q1のジャケット内を熱媒循環させて温調
する方法で、〔実験例−1〕から〔実験例−5〕までと
同じ蒸着材、;斗を用いて、類似の膜厚を狙って蒸着し
たものを用い、実験例の番号に対応して〔比較例−1〕
から〔比較例−5〕までの試料を準備した。
〔実験例−1〕から〔実験例−5〕までの原反と、〔比
較例−1〕から〔比較例−5〕までの原反とから、各5
本ずつ8+1III幅の磁気テープをサンプリングした
。各5本の幅方向の位置は、中央部1木と、中央部より
16本目と28本目を夫々各2本とった。夫々テープの
摩擦係数を長手方向に測定し、長手方向、幅方向での値
のバラツキにより、有機蒸発源の安定性、制御性を間接
的に評価する方法をとった。摩擦係数は30℃80%R
Hの環境試験室で、直径5MのαIsのステンレスのポ
ストに対しxsrF善き付け、Z4Wsecで走行させ
た時の動摩擦係数を測定した。第1表、第2表はその結
果を表わす。第1表、第2表にまとめたように1.実験
イ11]は、いすも」そ中方向に安定し、各長千位’l
:”:でみた幅方向のバラツキ(表中上で示しである。
較例−1〕から〔比較例−5〕までの原反とから、各5
本ずつ8+1III幅の磁気テープをサンプリングした
。各5本の幅方向の位置は、中央部1木と、中央部より
16本目と28本目を夫々各2本とった。夫々テープの
摩擦係数を長手方向に測定し、長手方向、幅方向での値
のバラツキにより、有機蒸発源の安定性、制御性を間接
的に評価する方法をとった。摩擦係数は30℃80%R
Hの環境試験室で、直径5MのαIsのステンレスのポ
ストに対しxsrF善き付け、Z4Wsecで走行させ
た時の動摩擦係数を測定した。第1表、第2表はその結
果を表わす。第1表、第2表にまとめたように1.実験
イ11]は、いすも」そ中方向に安定し、各長千位’l
:”:でみた幅方向のバラツキ(表中上で示しである。
)も小さく、蒸発1j・コとして好11jであることを
物語っている。
物語っている。
第2図は加J″!手段としてエンドレスベルト(5)を
1j7j ’:χ加熱するようにした巻取り蒸着(71
を示し、第1図と同様の作用を成すものには同−r1号
が伺けられている。
1j7j ’:χ加熱するようにした巻取り蒸着(71
を示し、第1図と同様の作用を成すものには同−r1号
が伺けられている。
この実施例では、エンドレスベルト(5)の蒸着材料の
411着面と反対側の面の−γ・、3の区間に回転式電
(!’iA 00) (20)によって高周波電源し1
)の′rIi:圧を印加して抵抗加熱の原理で面加熱さ
れる。
411着面と反対側の面の−γ・、3の区間に回転式電
(!’iA 00) (20)によって高周波電源し1
)の′rIi:圧を印加して抵抗加熱の原理で面加熱さ
れる。
なお、この場合に冷却ローラ(6) (7)を絶縁する
かどうかは通電するための電槙間距離にも1中もので−
?l、b的には決められない。
かどうかは通電するための電槙間距離にも1中もので−
?l、b的には決められない。
11こ、エンドレスベルト(5)のr′1・容量を小さ
く選べばその−にに付着しているば41蒸着材4・lの
ffl容量は前述のように無視できるため、この場合に
はエンドレスベルトの温度調節だけを考j−Fすれば充
分である6μは絶Ii+心人、lIi、l子である。
く選べばその−にに付着しているば41蒸着材4・lの
ffl容量は前述のように無視できるため、この場合に
はエンドレスベルトの温度調節だけを考j−Fすれば充
分である6μは絶Ii+心人、lIi、l子である。
〈第1表〉
〈第2表〉
第21’2+の巻取り蒸1i“:/ jiljの場合に
ついても下記条件で第1図の巻取り紫着侠の〔′;テ輪
例−1〕〜〔実・2、(1メ1−5〕ならびに〔比「i
・・;ミ例−1〕〜〔比較B’ll −5]と同じ′処
罰を行った。
ついても下記条件で第1図の巻取り紫着侠の〔′;テ輪
例−1〕〜〔実・2、(1メ1−5〕ならびに〔比「i
・・;ミ例−1〕〜〔比較B’ll −5]と同じ′処
罰を行った。
冷却ローラ(’3) (7)の直径は1(k7+1で、
回・伝支持体(2)に吐い側の冷却ローラ(6)と(7
)は絶;:′!1.た。回転式1i +?A +19)
い0)へはカーボンブラシを怪てi、モ触を安定ニ保持
し、高周波電源(21)としては周波数1川1z、最大
出力1kwのものを:IJいた。その他の条件は第1図
の」4力合と同じであった。
回・伝支持体(2)に吐い側の冷却ローラ(6)と(7
)は絶;:′!1.た。回転式1i +?A +19)
い0)へはカーボンブラシを怪てi、モ触を安定ニ保持
し、高周波電源(21)としては周波数1川1z、最大
出力1kwのものを:IJいた。その他の条件は第1図
の」4力合と同じであった。
な臣、〔実:・(例−1〕の場合には投入高周波電力を
650Wとした以外は第1I″ylの[’、’4 ”l
’i例−1〕と同じであった。
650Wとした以外は第1I″ylの[’、’4 ”l
’i例−1〕と同じであった。
〔)(パ、鍵例−2〕の場合には投入閃周波准力を66
0Wとし、、(す力?G度を2.8W/A〜a7W汐の
範囲で制仏11シた以外は6131図の〔実j(例−2
〕と同じであった。
0Wとし、、(す力?G度を2.8W/A〜a7W汐の
範囲で制仏11シた以外は6131図の〔実j(例−2
〕と同じであった。
〔実:・砲例−3〕〜〔大、倹例−5〕の場合にはそれ
ぞれ没入品周波五力800W、 700W、 760W
で曲′油加熱した以外は°■1図の〔実・雀例−3〕
〜〔実1倹例−5〕と同じであった。
ぞれ没入品周波五力800W、 700W、 760W
で曲′油加熱した以外は°■1図の〔実・雀例−3〕
〜〔実1倹例−5〕と同じであった。
このようにして得られた結果によってく第1徐〈ff1
2表〉と同じ表を作成したところ、何れのものく第1表
〉く第2表〉とほぼ同じ傾向を示し、通電加熱による方
法も蒸発方法として好適であることが確認できた。
2表〉と同じ表を作成したところ、何れのものく第1表
〉く第2表〉とほぼ同じ傾向を示し、通電加熱による方
法も蒸発方法として好適であることが確認できた。
第1図、第2図において冷却ローラ(6) (7)は全
て同一温度に設定するものとして説明したが、別々の温
度設定をすることもできる。
て同一温度に設定するものとして説明したが、別々の温
度設定をすることもできる。
第2図のクミ施例において、1d電加熱用の電源を高周
波電源としたが、これは高周波に限定されるものではな
く、その他の電源を用いることもできる。
波電源としたが、これは高周波に限定されるものではな
く、その他の電源を用いることもできる。
発明の詳細
な説明のように本発明の蒸発方法によると、有機蒸着材
Y↓の供給部と、蒸発場所とが異なり、有機蒸着材の供
給部が温度制御に無関係であり、幅方向の制御は勿論、
長手方向の1mJ御も高消度に行うことができるため、
安定かつ信頼性の高い有様材料蒸着用の蒸発源として、
各種簿膜の保鷹被じにを実用規(4へで大面れiにj・
セって潜るのに好」1”1である。
Y↓の供給部と、蒸発場所とが異なり、有機蒸着材の供
給部が温度制御に無関係であり、幅方向の制御は勿論、
長手方向の1mJ御も高消度に行うことができるため、
安定かつ信頼性の高い有様材料蒸着用の蒸発源として、
各種簿膜の保鷹被じにを実用規(4へで大面れiにj・
セって潜るのに好」1”1である。
壕だ、本発明の蒸1発、方法によると、エンドレスヘル
ドを冷却ローラで温度4円節するため、再現性良く、且
つ長時間安定に作1υすることができるものである。
ドを冷却ローラで温度4円節するため、再現性良く、且
つ長時間安定に作1υすることができるものである。
図面は本発明の蒸発方法の具体的な実1翁例を示し、p
l’i 1図は加熱方式として゛電子衝史加熱する蒸発
源を−11する巻取り蒸着機の溝戊図1.j、rs 2
図は加、A方式として11B電ノル]熱する蒸発源を有
する巻取り蒸j?’f を曵の(t′4成図である。 (1)・・・ノ1(板、(2)・・・回転支持体、(5
)・・・エンドレスヘルドト、(6)(7)・・・冷却
ローラ、(8)・・・供給ローラ、(9)・・・五銭蒸
JH材、;ド1、(11)・計「51子源、(1の・・
・集束′准(寅、(14)・・・真空1リリ、θ8・・
・イg)幾蒸着材料、(191(201・・・回転式電
極、121)・・・高周波電源 代用県人 珠 木 義 弘 第1図 第2図
l’i 1図は加熱方式として゛電子衝史加熱する蒸発
源を−11する巻取り蒸着機の溝戊図1.j、rs 2
図は加、A方式として11B電ノル]熱する蒸発源を有
する巻取り蒸j?’f を曵の(t′4成図である。 (1)・・・ノ1(板、(2)・・・回転支持体、(5
)・・・エンドレスヘルドト、(6)(7)・・・冷却
ローラ、(8)・・・供給ローラ、(9)・・・五銭蒸
JH材、;ド1、(11)・計「51子源、(1の・・
・集束′准(寅、(14)・・・真空1リリ、θ8・・
・イg)幾蒸着材料、(191(201・・・回転式電
極、121)・・・高周波電源 代用県人 珠 木 義 弘 第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L 回11tJr fるエンドレスベルトの外局i笥と
内局面のうちの一方の面に有機蒸着材料を供給し、所定
回動位F・Tにおける前記エンドレスベルトの他方の面
を前記:ば機蒸yR材料の蒸発湿度にまで加で、jlす
る蒸発方法。 z ン;ン却ローラにン台って1百1動するエンドレス
ベルトと、このエンドレスベルトの外周面と内周’rj
jのうちの一方の面に有1ziJ%蒸着材ズ′:1を、
小続供給する補姶4+J t’l’)と、 f)iJ記
エンドレスベルトの他方の面で被蒸着材を見込む四の一
部を加熱する加r(、;’2手段とを設けた蒸発装置0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4984983A JPS59177365A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 蒸発方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4984983A JPS59177365A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 蒸発方法とその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59177365A true JPS59177365A (ja) | 1984-10-08 |
JPH055894B2 JPH055894B2 (ja) | 1993-01-25 |
Family
ID=12842503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4984983A Granted JPS59177365A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 蒸発方法とその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59177365A (ja) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62290862A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 真空蒸着法 |
JPS62290863A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 真空蒸着用蒸発方法 |
WO1987007848A1 (en) * | 1986-06-23 | 1987-12-30 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
US4842893A (en) * | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
US4954371A (en) * | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
US5018048A (en) * | 1983-12-19 | 1991-05-21 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making |
US5032461A (en) * | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
US5097800A (en) * | 1983-12-19 | 1992-03-24 | Spectrum Control, Inc. | High speed apparatus for forming capacitors |
US5125138A (en) * | 1983-12-19 | 1992-06-30 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same |
US5811156A (en) * | 1997-01-24 | 1998-09-22 | Eastman Kodak Company | Method of making a color filter array by colorant transfer and etch |
US6291031B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-09-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for preparing optical recording medium and preparation apparatus therefor |
WO2003085157A1 (fr) * | 2002-04-05 | 2003-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede et dispositif pour preparer un film de resine mince |
KR100639935B1 (ko) * | 1999-01-14 | 2006-10-31 | 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 | 띠형 기판의 가스처리 장치 |
JP2007070687A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置 |
US7195848B2 (en) | 2004-08-30 | 2007-03-27 | Eastman Kodak Company | Method of making inlaid color filter arrays |
JP2007224394A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 |
WO2012121237A1 (ja) * | 2011-03-09 | 2012-09-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 蒸着装置及び薄膜形成方法 |
KR101239808B1 (ko) | 2011-04-07 | 2013-03-06 | 순천향대학교 산학협력단 | 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
US8911555B2 (en) | 2009-02-05 | 2014-12-16 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Method and device for coating substrates from the vapor phase |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060099344A1 (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-11 | Eastman Kodak Company | Controlling the vaporization of organic material |
US7989021B2 (en) * | 2005-07-27 | 2011-08-02 | Global Oled Technology Llc | Vaporizing material at a uniform rate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56118427A (en) * | 1980-02-23 | 1981-09-17 | Sadami Ito | Apparatus for sticking metallized film |
JPS57134558A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of organic vapor deposited thin film |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP4984983A patent/JPS59177365A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56118427A (en) * | 1980-02-23 | 1981-09-17 | Sadami Ito | Apparatus for sticking metallized film |
JPS57134558A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of organic vapor deposited thin film |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5018048A (en) * | 1983-12-19 | 1991-05-21 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making |
US5125138A (en) * | 1983-12-19 | 1992-06-30 | Spectrum Control, Inc. | Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same |
US5097800A (en) * | 1983-12-19 | 1992-03-24 | Spectrum Control, Inc. | High speed apparatus for forming capacitors |
US4842893A (en) * | 1983-12-19 | 1989-06-27 | Spectrum Control, Inc. | High speed process for coating substrates |
US5032461A (en) * | 1983-12-19 | 1991-07-16 | Spectrum Control, Inc. | Method of making a multi-layered article |
JPH0580554B2 (ja) * | 1986-06-09 | 1993-11-09 | Fuji Xerox Co Ltd | |
JPS62290863A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 真空蒸着用蒸発方法 |
JPH0580553B2 (ja) * | 1986-06-09 | 1993-11-09 | Fuji Xerox Co Ltd | |
JPS62290862A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 真空蒸着法 |
US4954371A (en) * | 1986-06-23 | 1990-09-04 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
WO1987007848A1 (en) * | 1986-06-23 | 1987-12-30 | Spectrum Control, Inc. | Flash evaporation of monomer fluids |
US5811156A (en) * | 1997-01-24 | 1998-09-22 | Eastman Kodak Company | Method of making a color filter array by colorant transfer and etch |
US6291031B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-09-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for preparing optical recording medium and preparation apparatus therefor |
KR100639935B1 (ko) * | 1999-01-14 | 2006-10-31 | 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 | 띠형 기판의 가스처리 장치 |
WO2003085157A1 (fr) * | 2002-04-05 | 2003-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede et dispositif pour preparer un film de resine mince |
US7195848B2 (en) | 2004-08-30 | 2007-03-27 | Eastman Kodak Company | Method of making inlaid color filter arrays |
JP2007070687A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置 |
JP2007224394A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 |
US8911555B2 (en) | 2009-02-05 | 2014-12-16 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Method and device for coating substrates from the vapor phase |
WO2012121237A1 (ja) * | 2011-03-09 | 2012-09-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 蒸着装置及び薄膜形成方法 |
KR101239808B1 (ko) | 2011-04-07 | 2013-03-06 | 순천향대학교 산학협력단 | 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH055894B2 (ja) | 1993-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59177365A (ja) | 蒸発方法とその装置 | |
US6224726B1 (en) | Cathodic arc coating apparatus | |
US3754329A (en) | Razor blade with rf sputtered coating | |
JPS5941511B2 (ja) | 光学膜の製造方法 | |
JPH10280135A (ja) | 陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置 | |
JPH11140630A (ja) | カソードアーク気相堆積装置 | |
US5196400A (en) | High temperature superconductor deposition by sputtering | |
US5258074A (en) | Evaporation apparatus comprising film substrate voltage applying means and current measurement means | |
JPH0610871B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
US4399013A (en) | Method of producing a magnetic recording medium | |
JPH11140632A (ja) | 陰極アーク蒸着により材料を基材に付着させる装置 | |
JP4409015B2 (ja) | アークイオンプレーティング装置 | |
JPH01279747A (ja) | プラズマビーム製膜装置 | |
JPS59177364A (ja) | 有機物蒸発方法とその装置 | |
JPS5916143A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
RU2065889C1 (ru) | Установка для ионно-плазменного распыления | |
JP2004362699A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
JP3404065B2 (ja) | 蒸着効率の高いイオンプレーティング装置 | |
JPS5916145A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH0672300B2 (ja) | ハイブリツドイオンプレ−テイング装置 | |
JPS6338578A (ja) | 高周波イオンプレ−テイング装置 | |
JPH05209269A (ja) | 薄膜形成装置におけるプラズマ走査装置 | |
JPH08260132A (ja) | 真空アーク蒸着方法及び装置 | |
JPS5837844A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH03211272A (ja) | 薄膜形成装置 |