JPS59177365A - 蒸発方法とその装置 - Google Patents

蒸発方法とその装置

Info

Publication number
JPS59177365A
JPS59177365A JP4984983A JP4984983A JPS59177365A JP S59177365 A JPS59177365 A JP S59177365A JP 4984983 A JP4984983 A JP 4984983A JP 4984983 A JP4984983 A JP 4984983A JP S59177365 A JPS59177365 A JP S59177365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
endless belt
vapor deposition
belt
org
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4984983A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH055894B2 (ja
Inventor
Koichi Shinohara
紘一 篠原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4984983A priority Critical patent/JPS59177365A/ja
Publication of JPS59177365A publication Critical patent/JPS59177365A/ja
Publication of JPH055894B2 publication Critical patent/JPH055894B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は各種薄膜応用、製品の保護材、:]1として用
いられる宵丁鵡蒸1γ?薄1莫を真空中で連続して得る
1祭の、何4g″を蒸発方法とそのさtlに1;5する
従来例の(tl成とその問題点 高分子、高級脂肪酸、脂肪酸エステμ等の有機材料は、
真空蒸着法により得られた薄膜の耐久性耐候性専を向上
させるために、保護用材料として薄膜化して用いら詐る
従来、薄膜化手段として最も良く用いられてきたのは塗
布法であったが、厚さが1μ扉以下、特に1000A程
度の膜厚を塗布法で均一に得ることは困難であって、高
密度磁気記録用の新現な(基体としてCo−Ni−0系
斜方蒸着膜、Co−Cr系垂直磁化膜等を磁気記@得と
する全屈薄膜型磁気記録媒体の保護層として許容される
J7みは高々数百Aであることから、有機材料を従来、
無機材料の薄膜化に法尻に利用されてきている真空蒸着
法により薄膜化することが検討されはじめている。
しかし、有機材料は無機材料の蒸着の場合と異なり、蒸
発に必要な二ネμギーが少なくてすむが、蒸発速度の何
個が非常にむずかしい。それば、蒸発温度と分解温度が
接近していることからぐる困幻1.性で、ポリエチレン
及びポリプロピレンに2いては、J1!、適蒸発温度に
保持して蒸着する方法が見出されているが汎用性に乏し
く、他の方法も、これまでに試みてきた、蒸発面を直接
′11℃子ビームで1褒剖する方法、ドラム表面に供給
し蒸発させる方法、フラッシュ類5f’rさぜる方法の
いずれもが限定した材4・1について成功しているもの
の、長時間、広幅の被蒸着材料に均一な薄膜を形成する
ことの出来る汎用性の亮い蒸発方法は見出されていない
発明の目的 本発明は、再現性良く、且つ長岡間安定に作動すると共
に、広幅の被蒸着材に均一な薄膜を形成するのに好適な
汎用性の高いイー1機材料の蒸発方法とその装置畳を提
供することを目的とする。
発明の構成 本発明の蒸発方法は、回動するエンドレスベルトの外周
面と内周面のうちの一方の面に有1当蒸着材):31を
供給し、所定回iJ位J7J、における前記エンドレス
ベルトの他方の面を前記有機蒸着材料の蒸発涛冒゛(に
まで加r、+1+、することを特徴とする。
有4.゛ミ蒸眉材料のエンドレスベルFへの供給は、液
状で塗布する方法と、気相で蒸着する方法が採れる。有
機材料の融点により、いずれを選択しても良いが、液状
の有機材赳がチャージされたバスの中に一部浸漬したロ
ーラによりエンドレスベルトの一方の面に転写する方法
が比較的容易で確実である。
エンFl/スヘ7v )の一方の面に供給された有機蒸
着材料の状態は同相かまたは液相のいずれかの状態を選
択できる。
エンドレスベルト上に付着した、有機蒸着材を蒸発温度
にまで昇温する制御は、加速′醒子による電子衝撃によ
る方法と、エンドレスベ/L/トを通電加熱する方法等
の何れによっても実現でき、これらの加熱方法は応答性
に優れ長尺の処理にあって、ブイードパンク制御する場
合に有用である。
また、本発明の蒸発装置は、冷却ローラに沿って回動す
るエンドレスベルトと、このエンドレスベルトの外周面
と内周面のうちの一方の面に有機蒸着材料を連続供給す
る補給4?“ミ構と、前記エンドレスベルトの他方の面
で被蒸着材を見込む側の一部を加5′−する加7′1手
ドタとを設け、加ri1によって得られたAir度で、
汀機蒸着材が一定の蒸気圧で、蒸発したエンドレスベル
トが冷却ローラに近ずくにつれ冷却されていき、それに
応じて、有機蒸着材も蒸気F′Fが低かつていき、1与
びA本之蒸うj’f材:°斗の供給を受けるように構成
したことを特徴とする。
塗布供給の方が多くなるような条件を見出すのは、格別
の熟練を必愕とするものではなく、供給側さえ多くなる
条件で運転すれば、ソ′トられる膜厚は均一に保持でき
る。
通常の真空蒸着で、幅方向に均一な膜厚を得るために行
うと同様に、ベルトを衝撃する′・賀子源を分割して、
異なるパワーを投入するか、集束′准極を(11;^方
向に変化させて、「差力密度)7?変えることで4゛1
3方向のii、% 、、Fを制でi(シたり、エンドレ
スベルトを通′直加:;<’j’+ L、て蒸45させ
る場合には、くハ方向に電流密度が変ったいくつかの旭
1域に分けることによって116方向のliG%厚を+
C+J御できる。
エンドレスベルトは、IY肉で、ステンレス、チタン、
q司′、〒の金1.・ス又は合金から形1iiされてお
り、波蒸着相上に均一に薄膜を形成するために、被蒸着
材の幅と同等以上の幅のものが好都合である。
ベルトの厚みムラは、温度ムラにつながり、結果として
、有a薄膜の膜厚ムラにつながるので、継目の処理は注
意しなければならない。この継目の処理は、電子ビーム
溶接して、研1F?シて、厚みムラをなくせば充分であ
る。
冷却ローラは、有(4す材料が同化するか又は、液状で
あっても殆んど蒸気圧をもたない温度にまで冷却できる
ように、冷媒が循1うできるジャケット(1青造のもの
である。
実施例の説明 以下、本発明の蒸発方法を具体的な実施例に基ついて説
明する。な督、本発明の1期解を深めるには、蒸発方法
単独の特性について詳述するよりも、実際にその蒸発方
法により蒸着した結果について。
比較検討する方が良いため、以下の説明では、巻取り蒸
@機により金属薄膜型磁気記録媒体の有機保護膜を形成
することを中心に説明する。
第1図は加熱手段としてエンドレスベルトヲ電子K15
j″・Kノ;加熱するようにした蒸発rl;4をイエす
る一当取り蒸着挟を示す。f、J、 )、1% Fら形
成の対象となる。1、(仮(1)は高分子基板の電力の
面、又は両方の百に、強磁性チク膜が電子ビーム済着、
スパッタリング、イオンブレーティング、メッキ等によ
り形成されたものである。この基板(])は同クり支持
体(2)に沿って送り出しIIQ!+ (3)から巻取
り軸(4)に向って移動して巻取られるよう(14成さ
れろ。”h 4;、i%保i、/Ij 1l=4形成用
の有機蒸発源(18)は、回転支持体(2)と対向して
配設されており、有機蒸発源(18)は、イ5 !di
蒸着桐料(9)を収納する¥3器(11と、冷却ロー/
l’ (6) (7)と、この冷却ロー/l/ (6)
(7) 間にJl’) ン度さしtこエンドレスベルト
(5)と、エンドレスベルト(5)の表面に汀(葎蒸着
材’;+゛4(!I)を供給する補給(i4嫂1/+と
しての供給ローラ(8)と、11里子イ、“旧11)と
、集束電極(121とからj’j4成されている。(1
1は防府板である。以上の各県は真空槽(14)の内部
に(1′4成されており、l<′、li壁(171によ
って内、、1が2つに区切られた真空(・、i′!(1
4)はそれぞれ各別の排気系(+il (161によっ
て排気されている。
なお、i’+il :把エンドレスベルト(5)は冷却
ロー/l/ (o)(7)の周東と一致して連続回転す
るよう構成されておす、供給ローラ(8)の回1!云数
、エンドレスベルト(5)の回動方向に対する回転方向
、材P[、表面性は適宜選ばれる。容器OQは、ジャケ
ット174造とし、内部に亮体を循コさせて、/yi%
温又は冷却できるよう構成されることが好ましい。供給
ローラ(8)は有機蒸着材料(9)の融点以上に保持さ
れている。更にエンドレスベルト(5)と電子i′ii
λ(11)ならびに集束電極(121の電位の関係は、
エンドレスベルト(5)を接地電位にして、?に予湿(
川と集束上)E (121を負の電位に調節され、エン
ドレスベルト(5)の蒸着材料の付着面と反対側の而〔
1を石面〕を、電子源(11)より放射される゛成子で
衝1・なして昇温させるよう(A成されてい4エンドレ
スベμト(5)の)%4II容敗を小さく選べば、その
上にイ」着している有機蒸着材料の熱容量は無視できる
ので投入電力は、IKW以下で充分に有機蒸着材料の全
範囲をカバーできる。供給ローラ(8)により液相の有
機蒸着材料をとる場合は、電子衝撃する面に有機蒸着材
が付着しているのは好ましくないので、マージン部に余
裕をもつのが好ましい。
牛だ、ここで回転支持体(2)の11¥径は5o僧で、
この回11尺支持体(2)の直下に有(゛・ヲ蒸発源(
国をjl:jl L/、この雨音の至ス1で距1°4を
13Q11とした。冷却ローワ(fl) (7)の11
°(径は15cmで中心口距i′iflは45cm、エ
ンドレスベルト(5)は、チタン製iooμmを用いた
。冷却ローラ((1) (7)の7f+1□円]はいず
れも5℃一定とした。重子yEa I川にはタングステ
ン線α4φで両端バネで(A4 Nする(荷造をとった
。印加′1ニ圧は負の五ooovとした。容器θ1は、
内容i青5tの角型バスで供給ローラ(8)は、直径9
5朋で硬質クロムメッキ後パス研含して表面≧11さα
2sとしたものを用い、下記の各火陥を行った。
実施例 105μm、 5 Qcm 4qのポリエチレンテレフ
タレート上に3XIOTorrの11!累中でCo5o
%Ni 20%をα1311m ’if子ビーム蒸着し
た。最小入射角は40’で、直径1mの回1伝支持体(
2)に沿った状態での斜方蒸j;イによった。このよう
にして得たCo−Ni−01’%上に、ミリスチン11
肴を蒸着した。基板を巻取る速度は33m/minで、
エンドレスベルト(5)の1開運は、−1代4反(1)
の移動方面と反対方向に、83m/minとし、電子衝
繋は全″置力650W、 ’1.iカ/H度はg5 /
la 〜3 /d (7) fjli 囲で制御し、均
−膜厚換算で40A〜43λとなる条件でミリスチン酸
の補給は行わないで、全長4000+++の基板に連続
蒸着した。
実施例 〔実験例−1〕と同じCo−Ni−0膜上に、ステアリ
ン酸アミドを蒸宥した。基板の巻取り速度は33m1m
 i nで、エンドレスベルト(5)の周速は、基板(
1)の移動方向と同一方向に、LlmAninとし、電
子衝Gは全′准力600W、電力密度は、Z5 /d〜
+114/dの範囲で側脚し均一;i作間換算で45λ
〜49又となる条件で老長4.000mの基板に連続蒸
着した。
〔突憤例−3〕 〔実験例−1〕と同じCo−Ni−0朕上に、パルミチ
ン峻エチルを蒸着した。巻取り速度33 m1m i 
nで移動する基板(1)と反対方向に5m/Binで移
動するエンドレスベルト(5)を、全電力soow、゛
tホカ笛変度3/d−45151で1に子衝撃加熱し、
均一膜厚換算で43A〜47Aのバルミチン酸エチ/L
’蒸着膜を全長生000mに渡って形成した。
実施例 1α511m、5 Qc+++ 中、%のポリアミド上
に、5X1o−” Torrのアルゴン中で、Co78
%Cr22%をα2μN%周波マグネトロンスパッタ蒸
着し、Co−Cr垂直磁化膜を得た。
このようにして得たCo−Cr 膜上にステアリン酸を
蒸着した。巻取り速度33 ’/mi nで移%9Jす
る基板(1)と同じ方向に5 m/m i nで移動す
るエンドレスベルト(5)を、全’III、 カフ00
W、 寅カ密度3W/cJ 〜as W/dで電子VA
1.i人加熱し、均一膜厚換算で48λ〜51久のステ
アリン酸蒸着膜を全長1500fiに渡って形成した。
実施例 〔実改例−4〕と同じCo−Cr 膜上に、ステアリン
酸メチルとベヘン酸を同時蒸着した。巻取り速度33m
/minで移動する7人板(1)と同じ方向にxasm
、’minで移動するエンドレスベルト(5)を全°屯
カフ60W、′成力密度4盟勺〜4.2W/cJ で′
諷子衝゛−≠加f+M L/、均一;1↓QJIK換算
で、両者の混合厚みで45A〜48Aのステアリンj朦
メチル、ベヘンv& Ms 合蒸7RIi’l 全全長
1500gにン度って)1手成しtこ。
比較例として、本発明の蒸発源装置として用いたと同一
サイズの容器Q1のジャケット内を熱媒循環させて温調
する方法で、〔実験例−1〕から〔実験例−5〕までと
同じ蒸着材、;斗を用いて、類似の膜厚を狙って蒸着し
たものを用い、実験例の番号に対応して〔比較例−1〕
から〔比較例−5〕までの試料を準備した。
〔実験例−1〕から〔実験例−5〕までの原反と、〔比
較例−1〕から〔比較例−5〕までの原反とから、各5
本ずつ8+1III幅の磁気テープをサンプリングした
。各5本の幅方向の位置は、中央部1木と、中央部より
16本目と28本目を夫々各2本とった。夫々テープの
摩擦係数を長手方向に測定し、長手方向、幅方向での値
のバラツキにより、有機蒸発源の安定性、制御性を間接
的に評価する方法をとった。摩擦係数は30℃80%R
Hの環境試験室で、直径5MのαIsのステンレスのポ
ストに対しxsrF善き付け、Z4Wsecで走行させ
た時の動摩擦係数を測定した。第1表、第2表はその結
果を表わす。第1表、第2表にまとめたように1.実験
イ11]は、いすも」そ中方向に安定し、各長千位’l
:”:でみた幅方向のバラツキ(表中上で示しである。
)も小さく、蒸発1j・コとして好11jであることを
物語っている。
第2図は加J″!手段としてエンドレスベルト(5)を
1j7j ’:χ加熱するようにした巻取り蒸着(71
を示し、第1図と同様の作用を成すものには同−r1号
が伺けられている。
この実施例では、エンドレスベルト(5)の蒸着材料の
411着面と反対側の面の−γ・、3の区間に回転式電
(!’iA 00) (20)によって高周波電源し1
)の′rIi:圧を印加して抵抗加熱の原理で面加熱さ
れる。
なお、この場合に冷却ローラ(6) (7)を絶縁する
かどうかは通電するための電槙間距離にも1中もので−
?l、b的には決められない。
11こ、エンドレスベルト(5)のr′1・容量を小さ
く選べばその−にに付着しているば41蒸着材4・lの
ffl容量は前述のように無視できるため、この場合に
はエンドレスベルトの温度調節だけを考j−Fすれば充
分である6μは絶Ii+心人、lIi、l子である。
〈第1表〉 〈第2表〉 第21’2+の巻取り蒸1i“:/ jiljの場合に
ついても下記条件で第1図の巻取り紫着侠の〔′;テ輪
例−1〕〜〔実・2、(1メ1−5〕ならびに〔比「i
・・;ミ例−1〕〜〔比較B’ll −5]と同じ′処
罰を行った。
冷却ローラ(’3) (7)の直径は1(k7+1で、
回・伝支持体(2)に吐い側の冷却ローラ(6)と(7
)は絶;:′!1.た。回転式1i +?A +19)
い0)へはカーボンブラシを怪てi、モ触を安定ニ保持
し、高周波電源(21)としては周波数1川1z、最大
出力1kwのものを:IJいた。その他の条件は第1図
の」4力合と同じであった。
な臣、〔実:・(例−1〕の場合には投入高周波電力を
650Wとした以外は第1I″ylの[’、’4 ”l
’i例−1〕と同じであった。
〔)(パ、鍵例−2〕の場合には投入閃周波准力を66
0Wとし、、(す力?G度を2.8W/A〜a7W汐の
範囲で制仏11シた以外は6131図の〔実j(例−2
〕と同じであった。
〔実:・砲例−3〕〜〔大、倹例−5〕の場合にはそれ
ぞれ没入品周波五力800W、 700W、 760W
 で曲′油加熱した以外は°■1図の〔実・雀例−3〕
〜〔実1倹例−5〕と同じであった。
このようにして得られた結果によってく第1徐〈ff1
2表〉と同じ表を作成したところ、何れのものく第1表
〉く第2表〉とほぼ同じ傾向を示し、通電加熱による方
法も蒸発方法として好適であることが確認できた。
第1図、第2図において冷却ローラ(6) (7)は全
て同一温度に設定するものとして説明したが、別々の温
度設定をすることもできる。
第2図のクミ施例において、1d電加熱用の電源を高周
波電源としたが、これは高周波に限定されるものではな
く、その他の電源を用いることもできる。
発明の詳細 な説明のように本発明の蒸発方法によると、有機蒸着材
Y↓の供給部と、蒸発場所とが異なり、有機蒸着材の供
給部が温度制御に無関係であり、幅方向の制御は勿論、
長手方向の1mJ御も高消度に行うことができるため、
安定かつ信頼性の高い有様材料蒸着用の蒸発源として、
各種簿膜の保鷹被じにを実用規(4へで大面れiにj・
セって潜るのに好」1”1である。
壕だ、本発明の蒸1発、方法によると、エンドレスヘル
ドを冷却ローラで温度4円節するため、再現性良く、且
つ長時間安定に作1υすることができるものである。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の蒸発方法の具体的な実1翁例を示し、p
l’i 1図は加熱方式として゛電子衝史加熱する蒸発
源を−11する巻取り蒸着機の溝戊図1.j、rs 2
図は加、A方式として11B電ノル]熱する蒸発源を有
する巻取り蒸j?’f を曵の(t′4成図である。 (1)・・・ノ1(板、(2)・・・回転支持体、(5
)・・・エンドレスヘルドト、(6)(7)・・・冷却
ローラ、(8)・・・供給ローラ、(9)・・・五銭蒸
JH材、;ド1、(11)・計「51子源、(1の・・
・集束′准(寅、(14)・・・真空1リリ、θ8・・
・イg)幾蒸着材料、(191(201・・・回転式電
極、121)・・・高周波電源 代用県人   珠  木  義  弘 第1図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 回11tJr fるエンドレスベルトの外局i笥と
    内局面のうちの一方の面に有機蒸着材料を供給し、所定
    回動位F・Tにおける前記エンドレスベルトの他方の面
    を前記:ば機蒸yR材料の蒸発湿度にまで加で、jlす
    る蒸発方法。 z ン;ン却ローラにン台って1百1動するエンドレス
    ベルトと、このエンドレスベルトの外周面と内周’rj
    jのうちの一方の面に有1ziJ%蒸着材ズ′:1を、
    小続供給する補姶4+J t’l’)と、 f)iJ記
    エンドレスベルトの他方の面で被蒸着材を見込む四の一
    部を加熱する加r(、;’2手段とを設けた蒸発装置0
JP4984983A 1983-03-24 1983-03-24 蒸発方法とその装置 Granted JPS59177365A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4984983A JPS59177365A (ja) 1983-03-24 1983-03-24 蒸発方法とその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4984983A JPS59177365A (ja) 1983-03-24 1983-03-24 蒸発方法とその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59177365A true JPS59177365A (ja) 1984-10-08
JPH055894B2 JPH055894B2 (ja) 1993-01-25

Family

ID=12842503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4984983A Granted JPS59177365A (ja) 1983-03-24 1983-03-24 蒸発方法とその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59177365A (ja)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62290863A (ja) * 1986-06-09 1987-12-17 Fuji Xerox Co Ltd 真空蒸着用蒸発方法
JPS62290862A (ja) * 1986-06-09 1987-12-17 Fuji Xerox Co Ltd 真空蒸着法
WO1987007848A1 (en) * 1986-06-23 1987-12-30 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US4842893A (en) * 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US5018048A (en) * 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US5032461A (en) * 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US5097800A (en) * 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US5125138A (en) * 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5811156A (en) * 1997-01-24 1998-09-22 Eastman Kodak Company Method of making a color filter array by colorant transfer and etch
US6291031B1 (en) * 1998-01-27 2001-09-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for preparing optical recording medium and preparation apparatus therefor
WO2003085157A1 (fr) * 2002-04-05 2003-10-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede et dispositif pour preparer un film de resine mince
KR100639935B1 (ko) * 1999-01-14 2006-10-31 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 띠형 기판의 가스처리 장치
JP2007070687A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 成膜装置
US7195848B2 (en) 2004-08-30 2007-03-27 Eastman Kodak Company Method of making inlaid color filter arrays
JP2007224394A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Hitachi Zosen Corp 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置
WO2012121237A1 (ja) * 2011-03-09 2012-09-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 蒸着装置及び薄膜形成方法
KR101239808B1 (ko) 2011-04-07 2013-03-06 순천향대학교 산학협력단 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
US8911555B2 (en) 2009-02-05 2014-12-16 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Method and device for coating substrates from the vapor phase

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060099344A1 (en) * 2004-11-09 2006-05-11 Eastman Kodak Company Controlling the vaporization of organic material
US7989021B2 (en) * 2005-07-27 2011-08-02 Global Oled Technology Llc Vaporizing material at a uniform rate

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56118427A (en) * 1980-02-23 1981-09-17 Sadami Ito Apparatus for sticking metallized film
JPS57134558A (en) * 1981-02-16 1982-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Production of organic vapor deposited thin film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56118427A (en) * 1980-02-23 1981-09-17 Sadami Ito Apparatus for sticking metallized film
JPS57134558A (en) * 1981-02-16 1982-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd Production of organic vapor deposited thin film

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5018048A (en) * 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US5125138A (en) * 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5097800A (en) * 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US4842893A (en) * 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5032461A (en) * 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
JPH0580554B2 (ja) * 1986-06-09 1993-11-09 Fuji Xerox Co Ltd
JPS62290862A (ja) * 1986-06-09 1987-12-17 Fuji Xerox Co Ltd 真空蒸着法
JPH0580553B2 (ja) * 1986-06-09 1993-11-09 Fuji Xerox Co Ltd
JPS62290863A (ja) * 1986-06-09 1987-12-17 Fuji Xerox Co Ltd 真空蒸着用蒸発方法
US4954371A (en) * 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
WO1987007848A1 (en) * 1986-06-23 1987-12-30 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US5811156A (en) * 1997-01-24 1998-09-22 Eastman Kodak Company Method of making a color filter array by colorant transfer and etch
US6291031B1 (en) * 1998-01-27 2001-09-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for preparing optical recording medium and preparation apparatus therefor
KR100639935B1 (ko) * 1999-01-14 2006-10-31 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 띠형 기판의 가스처리 장치
WO2003085157A1 (fr) * 2002-04-05 2003-10-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede et dispositif pour preparer un film de resine mince
US7195848B2 (en) 2004-08-30 2007-03-27 Eastman Kodak Company Method of making inlaid color filter arrays
JP2007070687A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 成膜装置
JP2007224394A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Hitachi Zosen Corp 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置
US8911555B2 (en) 2009-02-05 2014-12-16 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Method and device for coating substrates from the vapor phase
WO2012121237A1 (ja) * 2011-03-09 2012-09-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 蒸着装置及び薄膜形成方法
KR101239808B1 (ko) 2011-04-07 2013-03-06 순천향대학교 산학협력단 유기 발광 표시 장치의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH055894B2 (ja) 1993-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59177365A (ja) 蒸発方法とその装置
JP3159949B2 (ja) 陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置
US3754329A (en) Razor blade with rf sputtered coating
US6224726B1 (en) Cathodic arc coating apparatus
JPS5941511B2 (ja) 光学膜の製造方法
JPH11140630A (ja) カソードアーク気相堆積装置
US5196400A (en) High temperature superconductor deposition by sputtering
US5258074A (en) Evaporation apparatus comprising film substrate voltage applying means and current measurement means
JPH0610871B2 (ja) 磁気記録媒体
US4399013A (en) Method of producing a magnetic recording medium
JPH11140632A (ja) 陰極アーク蒸着により材料を基材に付着させる装置
JP4409015B2 (ja) アークイオンプレーティング装置
CN2934268Y (zh) 金属板带真空镀膜设备
JPH01279747A (ja) プラズマビーム製膜装置
JPS59177364A (ja) 有機物蒸発方法とその装置
JPS5916143A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
RU2065889C1 (ru) Установка для ионно-плазменного распыления
JP2004362699A (ja) 磁気記録媒体の製造方法および製造装置
JP3404065B2 (ja) 蒸着効率の高いイオンプレーティング装置
JPS5916145A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JPH0672300B2 (ja) ハイブリツドイオンプレ−テイング装置
JPS6338578A (ja) 高周波イオンプレ−テイング装置
JPH05209269A (ja) 薄膜形成装置におけるプラズマ走査装置
KR0174150B1 (ko) 세라믹 코팅장치 및 코팅방법
JPH08260132A (ja) 真空アーク蒸着方法及び装置