JP3331631B2 - 金属蒸着フィルムの製造方法 - Google Patents
金属蒸着フィルムの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属蒸着フィルムの製
造方法に関する。更に詳しくは、酸素などの気体の遮断
性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着フィルム
の製造方法に関するものである。
造方法に関する。更に詳しくは、酸素などの気体の遮断
性に優れ、特に、食品包装等に適した金属蒸着フィルム
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】これまで、アルミニウム等の金属あるい
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品などに幅広く用いられてき
た。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体であるプ
ラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着されるた
め、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々改良
方法が検討されている。
は、金属化合物のプラスチックフィルムへの真空蒸着は
金銀糸、コンデンサ、食品などに幅広く用いられてき
た。しかし、一般にこれらの蒸着膜は単に基体であるプ
ラスチックフィルムなどにそのまま真空蒸着されるた
め、基体との接着力が弱いなどの問題があり、種々改良
方法が検討されている。
【０００３】例えば、プラスチックフィルムを低温プラ
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭５２−２５８６８、特開昭
６３−２４２５３４、特開昭６３−２７０４５５、特開
平３−２４７７５０などの提案がある。
ズマ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着する蒸着フィル
ムの製造方法として、特公昭５２−２５８６８、特開昭
６３−２４２５３４、特開昭６３−２７０４５５、特開
平３−２４７７５０などの提案がある。
【０００４】しかしながら、かかる従来の、低温プラズ
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
マ雰囲気中で処理した後、金属を蒸着した蒸着フィルム
の主たる目的は、蒸着膜と基体との接着力を高めること
にあり、ガスバリア性の向上についてはまったく考慮さ
れていなかった。またこれらの提案には、次のような問
題点があった。
【０００５】特公昭５２−２５８６８、特開昭６３−２
４２５３４に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行うことができない。特開昭６３−２７
０４５５のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に保
つ方法はポリプロピレンフィルム等のようなガラス転移
温度が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバ
リア性の改良効果も小さい。また、特開平３−２４７７
５０に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高
く、緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリ
ア性が得られない。
４２５３４に述べられているスパッタリングによる方法
や低温プラズマ雰囲気中での処理では、スパッタリング
や低温プラズマ処理の圧力と金属蒸着時の圧力に隔たり
があり、同一槽内でスパッタリング、低温プラズマ処理
と蒸着を同時に行うことができない。特開昭６３−２７
０４５５のフィルム表面温度をガラス転移温度以下に保
つ方法はポリプロピレンフィルム等のようなガラス転移
温度が氷点下のものでは実現にコストがかかり、ガスバ
リア性の改良効果も小さい。また、特開平３−２４７７
５０に述べられている方法では、放電処理時の圧力が高
く、緻密な金属蒸着膜の形成ができず、十分なガスバリ
ア性が得られない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、食生活が豊かと
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化を防止し、できたての品質をより
長期間確保するため、これまで以上のガスバリア性が要
望されはじめた。
なり、いろいろな食品や菓子類が市場に登場するに従
い、品質の向上や、品質の長期保存性がより一層重視さ
れるようになってきた。特にスナック菓子等の包装にお
いては、内容物の酸化を防止し、できたての品質をより
長期間確保するため、これまで以上のガスバリア性が要
望されはじめた。
【０００７】本発明は、かかる蒸着膜の酸素等のガスバ
リア性に対する格段の向上を目的として、汎用用途のプ
ラスチックフィルム上に長時間安定して低温プラズマ処
理と蒸着ができ、かつ酸素などのガスバリア性に優れた
金属蒸着フィルムを製造することを目的とするものであ
る。
リア性に対する格段の向上を目的として、汎用用途のプ
ラスチックフィルム上に長時間安定して低温プラズマ処
理と蒸着ができ、かつ酸素などのガスバリア性に優れた
金属蒸着フィルムを製造することを目的とするものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
フィルムからなる基体の表面を、マグネトロン電極を使
用し、６×１０-1パスカル以下の圧力で実質的に炭酸ガ
スのみからなるガスを導入することにより炭酸ガスの低
温プラズマ雰囲気中で前処理し、該処理面に連続して金
属蒸着膜を設けることにより、本発明の目的が達成され
ることを見出したのである。
フィルムからなる基体の表面を、マグネトロン電極を使
用し、６×１０-1パスカル以下の圧力で実質的に炭酸ガ
スのみからなるガスを導入することにより炭酸ガスの低
温プラズマ雰囲気中で前処理し、該処理面に連続して金
属蒸着膜を設けることにより、本発明の目的が達成され
ることを見出したのである。
【０００９】本発明でいうプラスチックフィルムとは、
有機重合体を溶融または溶解押出しし、必要に応じて長
手方向および幅方向に延伸したものである。有機重合体
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル、
ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２などのポリア
ミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテ
ルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリ
レート、ポリフェニレンサルファィド、ポリフェニレン
オキサイド、テトラフルオロエチレン、１塩化３弗化エ
チレン、弗素化エチレンプロピレン共重合体などがあげ
られる。
有機重合体を溶融または溶解押出しし、必要に応じて長
手方向および幅方向に延伸したものである。有機重合体
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル、
ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２などのポリア
ミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、ポリエーテ
ルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリ
レート、ポリフェニレンサルファィド、ポリフェニレン
オキサイド、テトラフルオロエチレン、１塩化３弗化エ
チレン、弗素化エチレンプロピレン共重合体などがあげ
られる。
【００１０】また、これらの共重合体や、他の有機重合
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、中で
も長手方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロ
ピレンフィルムに最も有効な手段として用いることがで
きる。
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。これらの有機重合体に公知の
添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、
滑剤、着色剤などが添加されていても良い。特に、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、中で
も長手方向および幅方向に延伸された二軸延伸ポリプロ
ピレンフィルムに最も有効な手段として用いることがで
きる。
【００１１】本発明のプラスチックフィルムの厚さは、
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、好ましくは、５〜１００μｍの範囲であり、より
好ましくは、８〜３０μｍである。
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、好ましくは、５〜１００μｍの範囲であり、より
好ましくは、８〜３０μｍである。
【００１２】かかるプラスチックフィルムの少なくとも
一方の面に、真空蒸着法により、金属を原料として、金
属膜が形成される。原料の金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、
Ｍｇ、Ｓｎ等の金属が好ましいが、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｒ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｆｅ等も使用できる。これらの金属
は不純物が少なく、純度が９９％以上、望ましくは９
９．５％以上の粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤ
ー状あるいはルツボの形状に加工したものが好ましい。
一方の面に、真空蒸着法により、金属を原料として、金
属膜が形成される。原料の金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、
Ｍｇ、Ｓｎ等の金属が好ましいが、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｃｒ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｂ、Ｆｅ等も使用できる。これらの金属
は不純物が少なく、純度が９９％以上、望ましくは９
９．５％以上の粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤ
ー状あるいはルツボの形状に加工したものが好ましい。
【００１３】また、金属の真空蒸着に用いられるルツボ
は、アルミナ製が望ましく、通常のアルミニウムなどの
金属の蒸着に用いられるカーボン製やマグネシア製のル
ツボでもよい。
は、アルミナ製が望ましく、通常のアルミニウムなどの
金属の蒸着に用いられるカーボン製やマグネシア製のル
ツボでもよい。
【００１４】このアルミナ製ルツボに金属を入れて行う
真空蒸着方法における、真空装置内の圧力は、金属膜の
光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、ガスバリア性
に大きく影響することが、本発明により明らかとなって
おり、優れたガスバリア性を有する金属蒸着膜を得るた
めには、６×１０−1 パスカル以下の圧力で行う必要が
ある。好ましくは、４×１０−1 パスカル以下の圧力が
望ましい。
真空蒸着方法における、真空装置内の圧力は、金属膜の
光沢、金属膜の緻密性、表面電気抵抗値、ガスバリア性
に大きく影響することが、本発明により明らかとなって
おり、優れたガスバリア性を有する金属蒸着膜を得るた
めには、６×１０−1 パスカル以下の圧力で行う必要が
ある。好ましくは、４×１０−1 パスカル以下の圧力が
望ましい。
【００１５】かかる圧力で真空蒸着を行うためには、同
一真空層内で行う前処理の低温プラズマ処理は、プラズ
マ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極として、
プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型マグ
ネトロン電極を選択することが必要である。
一真空層内で行う前処理の低温プラズマ処理は、プラズ
マ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極として、
プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型マグ
ネトロン電極を選択することが必要である。
【００１６】かかる電極を使用して行う低温プラズマ処
理時に導入する炭酸ガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇
を極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の
流量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処
理を行う領域に図１の９に示したようなカバーを設け、
プラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くするこ
とでより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
理時に導入する炭酸ガスの流量は、蒸着槽の圧力の上昇
を極力少なくするため、プラズマ放電を開始する最低の
流量にすることが重要である。望ましくは、プラズマ処
理を行う領域に図１の９に示したようなカバーを設け、
プラズマ処理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くするこ
とでより安定したプラズマ放電処理が可能となる。
【００１７】低温プラズマ処理の処理強度は、単位面積
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、２０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、２０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
かかる本発明の低温プラズマ処理は、被処理基体である
プラスチックフィルムに金属が蒸着される直前の冷却ド
ラム上に接する位置において処理するのが基体フィルム
の熱負けが少なく、またガスバリア性に及ぼす処理効果
が大きく好ましい。
【００１８】蒸着金属膜の膜厚としては、ガスバリア性
および可撓性などの点で、１０〜２００ｎｍの範囲が好
ましい。膜厚が薄いと、ガスバリア性が悪くなり、１０
ｎｍ未満では、ガスバリア性、特に、酸素バリア性が十
分でなく、膜厚が厚いと、蒸着時の熱負けの発生や金属
膜の可撓性が悪くなり、特に、２００ｎｍを越えると折
曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくなる。より
好ましくは、２０〜１００ｎｍである。
および可撓性などの点で、１０〜２００ｎｍの範囲が好
ましい。膜厚が薄いと、ガスバリア性が悪くなり、１０
ｎｍ未満では、ガスバリア性、特に、酸素バリア性が十
分でなく、膜厚が厚いと、蒸着時の熱負けの発生や金属
膜の可撓性が悪くなり、特に、２００ｎｍを越えると折
曲げなどにより、割れや、剥離が生じやすくなる。より
好ましくは、２０〜１００ｎｍである。
【００１９】通常、プラスチックフィルムは蒸着時にル
ツボからの輻射熱や、金属蒸気の凝縮熱を受けて熱収縮
を起こすため、冷却が行われる。しかしながら、発明者
らは、過度の冷却がガスバリア性を損なうことを見出し
た。すなわち、プラスチックフィルムが熱収縮などの変
形を起こすぎりぎりの温度までプラスチックフィルムを
加熱しながら、金属膜を形成することでガスバリア性に
優れた金属蒸着フィルムが得られることを新たに見出し
た。従って、金属膜が形成されるプラスチックフィルム
を冷却するドラムの温度は、使用されるプラスチックフ
ィルムの熱変形温度によって異なるが、通常−３０℃〜
６０℃が好ましく、３０℃〜６０℃の範囲がより好まし
い。
ツボからの輻射熱や、金属蒸気の凝縮熱を受けて熱収縮
を起こすため、冷却が行われる。しかしながら、発明者
らは、過度の冷却がガスバリア性を損なうことを見出し
た。すなわち、プラスチックフィルムが熱収縮などの変
形を起こすぎりぎりの温度までプラスチックフィルムを
加熱しながら、金属膜を形成することでガスバリア性に
優れた金属蒸着フィルムが得られることを新たに見出し
た。従って、金属膜が形成されるプラスチックフィルム
を冷却するドラムの温度は、使用されるプラスチックフ
ィルムの熱変形温度によって異なるが、通常−３０℃〜
６０℃が好ましく、３０℃〜６０℃の範囲がより好まし
い。
【００２０】以下、本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
【００２１】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法の一
例を図１を用いて説明する。
例を図１を用いて説明する。
【００２２】１の真空容器内に設置された２のフィルム
巻出し軸より巻き出された５のプラスチックフィルム
は、−３０℃〜６０℃に温度調節された３の加熱・冷却
ドラムに沿って、走行しながら４のフィルム巻取り軸に
巻き取られる。同時に、６の蒸発器内の７のルツボから
金属が蒸発され、走行フィルムに積層される。金属が積
層される前部分に８のマグネトロン電極を設け、９の電
極カバー内に炭酸ガスを導入しながら低温プラズマ処理
を行う。
巻出し軸より巻き出された５のプラスチックフィルム
は、−３０℃〜６０℃に温度調節された３の加熱・冷却
ドラムに沿って、走行しながら４のフィルム巻取り軸に
巻き取られる。同時に、６の蒸発器内の７のルツボから
金属が蒸発され、走行フィルムに積層される。金属が積
層される前部分に８のマグネトロン電極を設け、９の電
極カバー内に炭酸ガスを導入しながら低温プラズマ処理
を行う。
【００２３】
【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値は以下の測定法による。
性値は以下の測定法による。
【００２４】（１）ＯＤ値 マクベス社製マクベス濃度計ＴＲ−９２７を用いて、透
過法で測定した。
過法で測定した。
【００２５】（２）酸素透過率 ＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に準じて、モダンコントロール
社製酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用い
て、２０℃、０％ＲＨの条件にて測定した。
社製酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲＡＮ１００を用い
て、２０℃、０％ＲＨの条件にて測定した。
【００２６】
【実施例】以下実施例について説明する。
【００２７】実施例１ 包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６０、厚さ
１２μｍ）を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
ィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６０、厚さ
１２μｍ）を基体として、この上に真空蒸着法により、
アルミニウム膜を形成した。
【００２８】電子ビーム加熱型真空蒸着機を２×１０
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力４×１０−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、同軸円柱型マグネトロン
電極を使用し、Ｅ値２００Ｗ・分／ｍ2 の強度で低温プ
ラズマ処理を行い、続いて、アルミニウムの真空蒸着を
行った。真空蒸着はアルミナルツボ（日本カーボンセラ
ム（株）製）に粒状アルミニウム（真空冶金（株）製、
純度９９．９９％）を充填して、アルミニウムを電子ビ
ームで加熱溶融しながら蒸発せしめ、膜厚３０ｎｍのア
ルミニウム膜を形成した。この時のフィルム冷却ドラム
の温度は３０℃であった。このアルミニウム蒸着フィル
ムを実施例１とした。
−3 パスカルまで真空排気した後、圧力４×１０−1 パ
スカルまで炭酸ガスを導入し、同軸円柱型マグネトロン
電極を使用し、Ｅ値２００Ｗ・分／ｍ2 の強度で低温プ
ラズマ処理を行い、続いて、アルミニウムの真空蒸着を
行った。真空蒸着はアルミナルツボ（日本カーボンセラ
ム（株）製）に粒状アルミニウム（真空冶金（株）製、
純度９９．９９％）を充填して、アルミニウムを電子ビ
ームで加熱溶融しながら蒸発せしめ、膜厚３０ｎｍのア
ルミニウム膜を形成した。この時のフィルム冷却ドラム
の温度は３０℃であった。このアルミニウム蒸着フィル
ムを実施例１とした。
【００２９】実施例２、実施例３、実施例４ 実施例１の低温プラズマ処理強度を５０Ｗ・分／ｍ2 、
１００Ｗ・分／ｍ2 、３００Ｗ・分／ｍ2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例２、実施例
３、実施例４とした。
１００Ｗ・分／ｍ2 、３００Ｗ・分／ｍ2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例２、実施例
３、実施例４とした。
【００３０】実施例５ 実施例１の包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例５とした。
タレートフィルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体としたアルミニ
ウム蒸着フィルムを実施例５とした。
【００３１】実施例６、実施例７、実施例８ 実施例５の低温プラズマ処理強度を５０Ｗ・分／ｍ2 、
１００Ｗ・分／ｍ2 、３００Ｗ・分／ｍ2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例６、実施例
７、実施例８とした。
１００Ｗ・分／ｍ2 、３００Ｗ・分／ｍ2 としたときの
アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例６、実施例
７、実施例８とした。
【００３２】実施例９、実施例１０ 実施例５のフィルム冷却ドラムの温度を−２０℃、５０
℃としたときのアルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実
施例９、実施例１０とした。
℃としたときのアルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実
施例９、実施例１０とした。
【００３３】比較例１ 実施例１で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例１とした。
着フィルムを比較例１とした。
【００３４】比較例２ 実施例１の真空槽へ導入する炭酸ガスの替わりに、アル
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例２とした。
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例２とした。
【００３５】比較例３ 実施例５で低温プラズマ処理を行わないアルミニウム蒸
着フィルムを比較例３とした。
着フィルムを比較例３とした。
【００３６】比較例４ 実施例５の真空槽へ導入する炭酸ガスの替わりに、アル
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例４とした。
ゴンガスを使用して低温プラズマ処理を行ったアルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例４とした。
【００３７】比較例５ 実施例５の炭酸ガス導入量を増加し、圧力１×１０0 パ
スカルで低温プラズマ処理を行ったときのアルミニウム
蒸着フィルムを比較例５とした。この場合、マグネトロ
ン電極周辺での異常放電が頻繁に発生し、かつアルミニ
ウム蒸着フィルムのガスバリア性も劣ったものであっ
た。
スカルで低温プラズマ処理を行ったときのアルミニウム
蒸着フィルムを比較例５とした。この場合、マグネトロ
ン電極周辺での異常放電が頻繁に発生し、かつアルミニ
ウム蒸着フィルムのガスバリア性も劣ったものであっ
た。
【００３８】実施例１〜１０、比較例１〜５の特性を表
１に示す。
１に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【発明の効果】本発明の金属蒸着フィルムの製造方法に
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られる金属
蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性を活用して、
食品、医薬品、電子部品、機械部品などの包装材料とし
て広く用いることができる。
よれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定して、か
つ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られる金属
蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性を活用して、
食品、医薬品、電子部品、機械部品などの包装材料とし
て広く用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法を実施するための低温プラズ
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
１：真空容器 ２：フィルム巻出し軸 ３：加熱・冷却ドラム ４：フィルム巻取り軸 ５：プラスチックフィルム ６：蒸発器 ７：ルツボ ８：マグネトロン電極 ９：電極カバー １０：ガス流量制御装置 １１：炭酸ガスボンベ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−247750（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−270455（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−255661（ＪＰ，Ａ) 堂山昌男 外１名編，材料テクノロジ ー９材料のプロセス技術［１］，日本, 東京大学出版会，1987年11月30日，初 版，Ｐ．136 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58
Claims (3)
- 【請求項１】 プラスチックフィルムからなる基体の表
面を、マグネトロン電極を使用し、６×１０-1パスカル
以下の圧力で実質的に炭酸ガスのみからなるガスを導入
することにより炭酸ガスの低温プラズマ雰囲気中で前処
理し、該処理面に連続して金属蒸着膜を設けることを特
徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 - 【請求項２】 低温プラズマ処理の処理強度がＥ値で２
０Ｗ・分／ｍ2 以上である請求項１記載の金属蒸着フィ
ルムの製造方法。 - 【請求項３】 金属蒸着膜を形成する際の基体冷却ドラ
ムの温度を３０〜６０℃の範囲に高め、プラスチックフ
ィルムを加熱しながら金属薄膜を形成することを特徴と
する請求項１または２に記載の金属蒸着フィルムの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22593992A JP3331631B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22593992A JP3331631B2 (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | 金属蒸着フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| 堂山昌男 外１名編，材料テクノロジー９材料のプロセス技術［１］，日本，東京大学出版会，１９８７年１１月３０日，初版，Ｐ．１３６ |
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