JPH07233463A - 金属酸化物蒸着フィルムの製造方法 - Google Patents
金属酸化物蒸着フィルムの製造方法Info
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- JPH07233463A JPH07233463A JP2694894A JP2694894A JPH07233463A JP H07233463 A JPH07233463 A JP H07233463A JP 2694894 A JP2694894 A JP 2694894A JP 2694894 A JP2694894 A JP 2694894A JP H07233463 A JPH07233463 A JP H07233463A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】プラスチックフイルムからなる基体の表面を１
０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度で低温プラズマ処理し、
連続して該処理面に反応性蒸着により金属酸化物蒸着膜
を設けることを特徴とする金属酸化物蒸着フィルムの製
造方法。 【効果】酸素バリア性、および水蒸気バリア性の優れた
金属酸化物蒸着フィルムを安定して、かつ廉価に製造で
きる。
０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度で低温プラズマ処理し、
連続して該処理面に反応性蒸着により金属酸化物蒸着膜
を設けることを特徴とする金属酸化物蒸着フィルムの製
造方法。 【効果】酸素バリア性、および水蒸気バリア性の優れた
金属酸化物蒸着フィルムを安定して、かつ廉価に製造で
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属酸化物蒸着フィル
ムの製造方法に関する。更に詳しくは、酸素や水蒸気の
遮断性に優れ、透明であることにより食品などの内容物
の様子を観察しやすい、金属酸化物蒸着フイルムの製造
方法に関するものである。
ムの製造方法に関する。更に詳しくは、酸素や水蒸気の
遮断性に優れ、透明であることにより食品などの内容物
の様子を観察しやすい、金属酸化物蒸着フイルムの製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】食品や薬品を長期保存するためには、外
気からの酸素や水蒸気の進入を遮断する機能を持った、
いわゆるガスバリア性に優れた包装を行なう必要があ
る。この目的に使用されるガスバリア性に優れたフィル
ム包装材料に、近年特に内容物の状態を確認できる透明
性が要求される傾向が強くなっている。
気からの酸素や水蒸気の進入を遮断する機能を持った、
いわゆるガスバリア性に優れた包装を行なう必要があ
る。この目的に使用されるガスバリア性に優れたフィル
ム包装材料に、近年特に内容物の状態を確認できる透明
性が要求される傾向が強くなっている。
【０００３】これまで、金属酸化物をプラスチックフィ
ルム基材上に形成したものはガスバリア性と透明性に優
れていることがよく知られている。なかでも酸化ケイ素
と酸化アルミニウムをプラスチックフィルム上に蒸着し
たものが、透明でかなり高度のガスバリア性能をもつた
め注目されている。酸化ケイ素をプラスチックフィルム
上に形成したものが特公昭５３−１２９５３号公報によ
り知られている。また酸化アルミニウムを高分子樹脂フ
ィルム基材上に形成したものが特開昭６２−１７９９３
５号公報により知られているが、雑誌「ジャパンフード
サイエンス」１９９０，１２，５８〜６３ページ（渡邊
英男氏著）にあるように非常に高いガスバリア性能を安
定して得ることは困難であった。これを改良したものと
して特開平５−３３８０７２号公報にある不完全酸化ア
ルミニウムを形成し金属を含有する層を内部に持つ構造
が開示されている。またＥＰ０４３７９４６Ａ２にある
不完全酸化アルミニウムを高分子フィルム上に形成する
方法も知られている。
ルム基材上に形成したものはガスバリア性と透明性に優
れていることがよく知られている。なかでも酸化ケイ素
と酸化アルミニウムをプラスチックフィルム上に蒸着し
たものが、透明でかなり高度のガスバリア性能をもつた
め注目されている。酸化ケイ素をプラスチックフィルム
上に形成したものが特公昭５３−１２９５３号公報によ
り知られている。また酸化アルミニウムを高分子樹脂フ
ィルム基材上に形成したものが特開昭６２−１７９９３
５号公報により知られているが、雑誌「ジャパンフード
サイエンス」１９９０，１２，５８〜６３ページ（渡邊
英男氏著）にあるように非常に高いガスバリア性能を安
定して得ることは困難であった。これを改良したものと
して特開平５−３３８０７２号公報にある不完全酸化ア
ルミニウムを形成し金属を含有する層を内部に持つ構造
が開示されている。またＥＰ０４３７９４６Ａ２にある
不完全酸化アルミニウムを高分子フィルム上に形成する
方法も知られている。
【０００４】しかしこれら金属酸化物蒸着フィルムは、
基材フィルムの選定、製膜後の履歴により蒸着後のガス
バリア性能が一定せず、安定して高いガスバリア性能を
得ることが困難であった。
基材フィルムの選定、製膜後の履歴により蒸着後のガス
バリア性能が一定せず、安定して高いガスバリア性能を
得ることが困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述のような
問題点を解決することを目的とする。すなわち本発明
は、基材フィルムの選定、製膜後の履歴によらず高いガ
スバリア性能を有する金属酸化物蒸着フィルムを安定し
て製造することを目的とするものである。
問題点を解決することを目的とする。すなわち本発明
は、基材フィルムの選定、製膜後の履歴によらず高いガ
スバリア性能を有する金属酸化物蒸着フィルムを安定し
て製造することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
フイルムからなる基体の表面を１０Ｗ・分／ｍ2 以上の
処理強度で低温プラズマ処理し、連続して該処理面に反
応性蒸着により金属酸化物蒸着膜を設けることを特徴と
する金属酸化物蒸着フィルムの製造方法である。
フイルムからなる基体の表面を１０Ｗ・分／ｍ2 以上の
処理強度で低温プラズマ処理し、連続して該処理面に反
応性蒸着により金属酸化物蒸着膜を設けることを特徴と
する金属酸化物蒸着フィルムの製造方法である。
【０００７】本発明でいうプラスチックフィルムとは、
有機重合体を溶融または、溶解押出しし、必要に応じて
長手方向および／または幅方向に延伸したものである。
有機重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリ
エステル、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２な
どのポリアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファィド、
ポリフェニレンオキサイド、テトラフルオロエチレン、
１塩化３弗化エチレン、弗素化エチレンプロピレン共重
合体などがあげられる。
有機重合体を溶融または、溶解押出しし、必要に応じて
長手方向および／または幅方向に延伸したものである。
有機重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリ
エステル、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２な
どのポリアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサルフォ
ン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファィド、
ポリフェニレンオキサイド、テトラフルオロエチレン、
１塩化３弗化エチレン、弗素化エチレンプロピレン共重
合体などがあげられる。
【０００８】また、これらの共重合体や、他の有機重合
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。
体との共重合体であっても良く、他の有機重合体を含有
するものであっても良い。
【０００９】さらに、これらの有機重合体に公知の添加
剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑
剤、着色剤などが添加されていても良い。
剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑
剤、着色剤などが添加されていても良い。
【００１０】これらのなかで特に、ポリエチレン、ポリ
プロピレンなどのポリオレフィンやポリエステル、中で
も未延伸のポリプロピレンフィルムと長手方向および幅
方向に延伸された二軸延伸ポリプロピレンフィルムと二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが包装用途
に最も好ましく用いられており特に好ましい。
プロピレンなどのポリオレフィンやポリエステル、中で
も未延伸のポリプロピレンフィルムと長手方向および幅
方向に延伸された二軸延伸ポリプロピレンフィルムと二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが包装用途
に最も好ましく用いられており特に好ましい。
【００１１】本発明のプラスチックフィルムの厚さは、
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、更に好ましくは、５〜１００μｍの範囲であるこ
とが望ましい。最も好ましくは、８〜３０μｍである。
特に制限を受けないが、包装材料としての適性から３〜
２００μｍの範囲が望ましい。機械的特性や可撓性の点
では、更に好ましくは、５〜１００μｍの範囲であるこ
とが望ましい。最も好ましくは、８〜３０μｍである。
【００１２】本発明における低温プラズマ処理とは、低
圧力下でのグロー放電処理をいい、反応性蒸着に先立ち
行なわれ、引き続き連続して反応性蒸着が行なわれるこ
とが重要である。一般に、蒸着膜の接着性を向上させる
目的で低温プラズマ処理が行なわれており、特開平５−
３３８０７２などにも原反の前処理としてグロー放電処
理の例示があるが、これらは処理が行なわれた原反を蒸
着工程にかけることが一般的である。この場合、表面特
性の処理後の経時によりガスバリア性能が一定しない問
題がある。本発明の目的である、基材フィルムの種類や
履歴に影響を受けにくい高いガスバリア性能は、低温プ
ラズマ処理の後、連続して蒸着を行なうことで初めて可
能となったものである。
圧力下でのグロー放電処理をいい、反応性蒸着に先立ち
行なわれ、引き続き連続して反応性蒸着が行なわれるこ
とが重要である。一般に、蒸着膜の接着性を向上させる
目的で低温プラズマ処理が行なわれており、特開平５−
３３８０７２などにも原反の前処理としてグロー放電処
理の例示があるが、これらは処理が行なわれた原反を蒸
着工程にかけることが一般的である。この場合、表面特
性の処理後の経時によりガスバリア性能が一定しない問
題がある。本発明の目的である、基材フィルムの種類や
履歴に影響を受けにくい高いガスバリア性能は、低温プ
ラズマ処理の後、連続して蒸着を行なうことで初めて可
能となったものである。
【００１３】このための方式としては、いわゆるエアツ
ーエア方式の蒸着機の前段に、同じくエアツーエア方式
の低温プラズマ処理装置を設けるなどの手段が採用でき
るが、装置構成上の問題から、蒸着装置の中に低温プラ
ズマ処理を行なうゾーンを設け、連続的に蒸着を行なう
ことがより好ましい。
ーエア方式の蒸着機の前段に、同じくエアツーエア方式
の低温プラズマ処理装置を設けるなどの手段が採用でき
るが、装置構成上の問題から、蒸着装置の中に低温プラ
ズマ処理を行なうゾーンを設け、連続的に蒸着を行なう
ことがより好ましい。
【００１４】低温プラズマ処理を行なうためには、プラ
ズマ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極とし
て、プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型
マグネトロン電極を選択することが必要である。マグネ
トロン電極とは、電極背後に置かれた磁石からの磁力線
により、電極表面に電子が加速される閉ループが形成さ
れるもので、低圧での放電に適したものである。
ズマ放電の安定性、処理強度などの点で放電電極とし
て、プレーナーマグネトロン電極、または、同軸円柱型
マグネトロン電極を選択することが必要である。マグネ
トロン電極とは、電極背後に置かれた磁石からの磁力線
により、電極表面に電子が加速される閉ループが形成さ
れるもので、低圧での放電に適したものである。
【００１５】かかる電極を用いて低温プラズマ処理を行
なうために特定のガス導入を行なうが、この場合の低温
プラズマ処理は５×１０−4 Ｔｏｒｒ以上３×１０−2
Ｔｏｒｒ以下の圧力で行なわれることが重要である。５
×１０−4 Ｔｏｒｒ未満では放電が安定せず、３×１０
−2 Ｔｏｒｒを超えるとアーク放電が生じ、連続して、
安定して低温プラズマ処理を行なうことが困難である。
なうために特定のガス導入を行なうが、この場合の低温
プラズマ処理は５×１０−4 Ｔｏｒｒ以上３×１０−2
Ｔｏｒｒ以下の圧力で行なわれることが重要である。５
×１０−4 Ｔｏｒｒ未満では放電が安定せず、３×１０
−2 Ｔｏｒｒを超えるとアーク放電が生じ、連続して、
安定して低温プラズマ処理を行なうことが困難である。
【００１６】この放電を行なうための電源周波数は直流
からラジオ周波数の範囲で選択できるが、電力導入の容
易さ、放電の安定性から直流（ＤＣ）が最も好ましい。
からラジオ周波数の範囲で選択できるが、電力導入の容
易さ、放電の安定性から直流（ＤＣ）が最も好ましい。
【００１７】かかる電極を使用して行なう低温プラズマ
処理時に導入するガスとしては一般Ａｒなどの希ガス
類、酸素や窒素や炭酸ガス、さらにはこれらの混合ガス
を用いることができるが、処理効果の点から炭酸ガスが
最も好ましい。これらガスはプラズマ処理を行なう近傍
に導入することが望ましく、プラズマ処理を行なう領域
に図１の１３に示したようなカバーを設け、プラズマ処
理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くすることでより安
定したプラズマ放電処理が可能となる。
処理時に導入するガスとしては一般Ａｒなどの希ガス
類、酸素や窒素や炭酸ガス、さらにはこれらの混合ガス
を用いることができるが、処理効果の点から炭酸ガスが
最も好ましい。これらガスはプラズマ処理を行なう近傍
に導入することが望ましく、プラズマ処理を行なう領域
に図１の１３に示したようなカバーを設け、プラズマ処
理の領域のみ、蒸着層より圧力を高くすることでより安
定したプラズマ放電処理が可能となる。
【００１８】低温プラズマ処理の処理強度は、単位面積
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
（１ｍ2 ）当たりの、電力（Ｗ）×単位時間（１分）す
なわち、Ｅ値であらわし、処理強度が大きくなるほど、
ガスバリア性は向上する。優れたガスバリア性を得るた
めには、１０Ｗ・分／ｍ2 以上の処理強度が望ましい。
【００１９】本発明における金属酸化物蒸着膜を形成す
るための方法は、酸化雰囲気下での反応性蒸着による。
酸化雰囲気とは酸素ガス単独あるいは酸素ガスを不活性
ガスで希釈したものを真空蒸着機中に必要量導入したも
のをいう。不活性ガスとはＡｒやＨｅなどの希ガスなら
びに窒素ガスおよびこれらの混合ガスを指す。反応性蒸
着とはこういった酸化雰囲気下で金属あるいは金属酸化
物を蒸発源から蒸発させ、基材フィルム近傍で酸化反応
を起こさせ、基材フィルム上に形成する手法である。こ
のための蒸発源としては抵抗加熱方式のボート形式や、
輻射あるいは高周波加熱によるルツボ形式や、電子ビー
ム加熱による方式などがあるが、特に限定されない。
るための方法は、酸化雰囲気下での反応性蒸着による。
酸化雰囲気とは酸素ガス単独あるいは酸素ガスを不活性
ガスで希釈したものを真空蒸着機中に必要量導入したも
のをいう。不活性ガスとはＡｒやＨｅなどの希ガスなら
びに窒素ガスおよびこれらの混合ガスを指す。反応性蒸
着とはこういった酸化雰囲気下で金属あるいは金属酸化
物を蒸発源から蒸発させ、基材フィルム近傍で酸化反応
を起こさせ、基材フィルム上に形成する手法である。こ
のための蒸発源としては抵抗加熱方式のボート形式や、
輻射あるいは高周波加熱によるルツボ形式や、電子ビー
ム加熱による方式などがあるが、特に限定されない。
【００２０】蒸発させる金属あるいは金属酸化物として
Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎやこれら酸
化物の中から選択できるが、生産性、ガスバリア性能の
点からＡｌと、ＳｉとＳｉ酸化物がより好ましく、さら
に生産コストの点からＡｌが最も好ましい。
Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎやこれら酸
化物の中から選択できるが、生産性、ガスバリア性能の
点からＡｌと、ＳｉとＳｉ酸化物がより好ましく、さら
に生産コストの点からＡｌが最も好ましい。
【００２１】金属酸化物蒸着膜は、完全酸化膜であり完
全透明であることが最も好ましいが、一般に完全酸化膜
を形成しようとすると、過剰に酸化された部分が形成さ
れる確率が高く、この部分のガスバリア性能が劣り、全
体として高いガスバリア性能を得ることができないこと
が知られている。このため、多少金属成分の残った不完
全酸化膜であっても、透明性に関し実用上問題なければ
好ましく形成できる。透明性に関し、光線透過率が原反
フィルムに対して蒸着後のものが８０％以上であればよ
り好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
全透明であることが最も好ましいが、一般に完全酸化膜
を形成しようとすると、過剰に酸化された部分が形成さ
れる確率が高く、この部分のガスバリア性能が劣り、全
体として高いガスバリア性能を得ることができないこと
が知られている。このため、多少金属成分の残った不完
全酸化膜であっても、透明性に関し実用上問題なければ
好ましく形成できる。透明性に関し、光線透過率が原反
フィルムに対して蒸着後のものが８０％以上であればよ
り好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
【００２２】金属酸化物蒸着膜の膜厚としては、ガスバ
リア性および可撓性などの点で、５〜１００ｎｍの範囲
が好ましい。５ｎｍ未満では、ガスバリア性が十分でな
く、１００ｎｍを超えると、蒸着時の熱負けの発生や蒸
着膜の可撓性が悪くなり、さらに折曲げなどにより、割
れや、剥離が生じやすくなる。更に好ましくは、１０〜
５０ｎｍである。
リア性および可撓性などの点で、５〜１００ｎｍの範囲
が好ましい。５ｎｍ未満では、ガスバリア性が十分でな
く、１００ｎｍを超えると、蒸着時の熱負けの発生や蒸
着膜の可撓性が悪くなり、さらに折曲げなどにより、割
れや、剥離が生じやすくなる。更に好ましくは、１０〜
５０ｎｍである。
【００２３】以下、本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。本発明の一例である酸化アルミニウム蒸着フィルム
の製造方法を図１を用いて説明する。
る。本発明の一例である酸化アルミニウム蒸着フィルム
の製造方法を図１を用いて説明する。
【００２４】真空容器１内に設置されたフィルム巻出し
軸２より巻き出されたプラスチックフィルム５は、冷却
ドラム３に沿って走行しながらフィルム巻取り軸４に巻
き取られる。同時に、蒸発器６から蒸発金属あるいは金
属酸化物７のアルミニウム金属が蒸発され、蒸着部付近
に反応性蒸着用酸素含有ガス１２をガス流量制御装置１
１をへて導入することによりプラスチックフィルム５上
に酸化アルミニウム蒸着膜が形成される。酸化アルミニ
ウム蒸着膜が形成される前部分にマグネトロン電極８を
設け、電極カバー１３内に低温プラズマ処理用ガス１０
をガス流量制御装置９をへて導入しながら低温プラズマ
処理を行なう。
軸２より巻き出されたプラスチックフィルム５は、冷却
ドラム３に沿って走行しながらフィルム巻取り軸４に巻
き取られる。同時に、蒸発器６から蒸発金属あるいは金
属酸化物７のアルミニウム金属が蒸発され、蒸着部付近
に反応性蒸着用酸素含有ガス１２をガス流量制御装置１
１をへて導入することによりプラスチックフィルム５上
に酸化アルミニウム蒸着膜が形成される。酸化アルミニ
ウム蒸着膜が形成される前部分にマグネトロン電極８を
設け、電極カバー１３内に低温プラズマ処理用ガス１０
をガス流量制御装置９をへて導入しながら低温プラズマ
処理を行なう。
【００２５】
【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値は以下の測定法による。
性値は以下の測定法による。
【００２６】（１）水蒸気透過率 モダンコントロール社製水蒸気透過率計“ＰＥＲＭＡＴ
ＲＡＮ”−Ｗ１Ａを用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件
で測定した。
ＲＡＮ”−Ｗ１Ａを用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件
で測定した。
【００２７】（２）酸素透過率 モダンコントロール社製酸素透過率測定装置ＯＸ−ＴＲ
ＡＮ１００を用いて、２３℃、０％ＲＨの条件で測定し
た。
ＡＮ１００を用いて、２３℃、０％ＲＨの条件で測定し
た。
【００２８】
【実施例】以下、実施例について説明する。
【００２９】実施例１ 汎用の包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６
０、厚さ１２μｍ）を基体として、蒸着装置内での低温
プラズマ処理と、引き続きこの上に反応性蒸着法によ
り、酸化アルミニウム膜を形成した。
ートフィルム（東レ（株）製“ルミラー”タイプＰ６
０、厚さ１２μｍ）を基体として、蒸着装置内での低温
プラズマ処理と、引き続きこの上に反応性蒸着法によ
り、酸化アルミニウム膜を形成した。
【００３０】電子ビーム加熱型真空蒸着機中で１×１０
−3 Ｔｏｒｒの圧力に炭酸ガスを導入し、ＤＣプレーナ
型マグネトロン電極を使用し、Ｅ値１００Ｗ・分／ｍ2
の強度で低温プラズマ処理を行ない、続いて、アルミニ
ウム蒸発部に酸素を導入して酸化アルミニウムの反応性
蒸着を行なった。この酸化アルミニウム蒸着膜の光線透
過率は、原反フィルム８８％に対して、８６％となっ
た。この酸化アルミニウム蒸着フィルムを実施例１とし
た。
−3 Ｔｏｒｒの圧力に炭酸ガスを導入し、ＤＣプレーナ
型マグネトロン電極を使用し、Ｅ値１００Ｗ・分／ｍ2
の強度で低温プラズマ処理を行ない、続いて、アルミニ
ウム蒸発部に酸素を導入して酸化アルミニウムの反応性
蒸着を行なった。この酸化アルミニウム蒸着膜の光線透
過率は、原反フィルム８８％に対して、８６％となっ
た。この酸化アルミニウム蒸着フィルムを実施例１とし
た。
【００３１】実施例２、実施例３、実施例４ 実施例１の低温プラズマ処理強度を２０Ｗ・分／ｍ2 、
５０Ｗ・分／ｍ2 、２００Ｗ・分／ｍ2 としたときの酸
化アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例２、実施
例３、実施例４とした。
５０Ｗ・分／ｍ2 、２００Ｗ・分／ｍ2 としたときの酸
化アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例２、実施
例３、実施例４とした。
【００３２】実施例５ 実施例１の包装用タイプの二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフイルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体とした酸化アル
ミニウム蒸着フィルムを実施例５とした。この酸化アル
ミニウム蒸着フィルムの光線透過率は、原反フィルム９
２％に対して、８９％となった。
タレートフイルムの替わりに、包装用タイプの二軸延伸
ポリプロピレンフィルム（東レ（株）製“トレファン”
タイプＹ７４６、厚さ１８μｍ）を基体とした酸化アル
ミニウム蒸着フィルムを実施例５とした。この酸化アル
ミニウム蒸着フィルムの光線透過率は、原反フィルム９
２％に対して、８９％となった。
【００３３】実施例６、実施例７、実施例８ 実施例５の低温プラズマ処理強度を２０Ｗ・分／ｍ2 、
５０Ｗ・分／ｍ2 、２００Ｗ・分／ｍ2 としたときの酸
化アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例６、実施
例７、実施例８とした。
５０Ｗ・分／ｍ2 、２００Ｗ・分／ｍ2 としたときの酸
化アルミニウム蒸着フィルムをそれぞれ実施例６、実施
例７、実施例８とした。
【００３４】比較例１、比較例２ 実施例１で低温プラズマ処理を行なわない酸化アルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例１とし、５Ｗ・分／ｍ2 で処
理したものを比較例２とした。
ウム蒸着フィルムを比較例１とし、５Ｗ・分／ｍ2 で処
理したものを比較例２とした。
【００３５】比較例３、比較例４ 実施例５で低温プラズマ処理を行なわない酸化アルミニ
ウム蒸着フィルムを比較例３とし、５Ｗ・分／ｍ2 で処
理したものを比較例４とした。
ウム蒸着フィルムを比較例３とし、５Ｗ・分／ｍ2 で処
理したものを比較例４とした。
【００３６】実施例９ 実施例１で低温プラズマ処理を４×１０−4 Ｔｏｒｒで
実施した。この場合の酸化アルミニウム蒸着フィルムを
実施例９とした。ただし、この場合放電が安定せず均一
な処理は困難であった。
実施した。この場合の酸化アルミニウム蒸着フィルムを
実施例９とした。ただし、この場合放電が安定せず均一
な処理は困難であった。
【００３７】実施例１０ 実施例１で低温プラズマ処理を５×１０−2 Ｔｏｒｒで
実施した。この場合の酸化アルミニウム蒸着フィルムを
実施例１０とした。ただし、この場合アーク放電が頻発
し、安定して処理が行なえなかった。
実施した。この場合の酸化アルミニウム蒸着フィルムを
実施例１０とした。ただし、この場合アーク放電が頻発
し、安定して処理が行なえなかった。
【００３８】実施例１〜実施例１０、比較例１〜比較例
４の特性を表１に示す。
４の特性を表１に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【発明の効果】本発明の金属酸化物蒸着フィルムの製造
方法によれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定し
て、かつ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られ
る金属酸化物蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性
を活用して、食品、医薬品、電子部品、機械部品などの
包装材料として広く用いることができる。
方法によれば、ガスバリア性の優れたフィルムを安定し
て、かつ廉価に製造できる効果があり、本発明で得られ
る金属酸化物蒸着フィルムは、その優れたガスバリア性
を活用して、食品、医薬品、電子部品、機械部品などの
包装材料として広く用いることができる。
【図１】本発明の製造方法を実施するための低温プラズ
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
マ処理用マグネトロン電極を備えた真空蒸着装置の一例
を示した概略図である。
１：真空容器 ２：フィルム巻出し軸 ３：冷却ドラム ４：フィルム巻取り軸 ５：プラスチックフィルム ６：蒸発器 ７：蒸発金属あるいは金属酸化物 ８：マグネトロン電極 ９：ガス流量制御装置 １０：低温プラズマ処理用ガス １１：ガス流量制御装置 １２：反応性蒸着用酸素含有ガス １３：電極カバー
Claims (3)
- 【請求項１】 プラスチックフイルムからなる基体の表
面を１０Ｗ・分／ｍ2以上の処理強度で低温プラズマ処
理し、連続して該処理面に反応性蒸着により金属酸化物
蒸着膜を設けることを特徴とする金属酸化物蒸着フィル
ムの製造方法。 - 【請求項２】 低温プラズマ処理を、反応性蒸着を行な
う蒸着装置の中でマグネトロン電極を用いて、５×１０
−4 Ｔｏｒｒ以上３×１０−2 Ｔｏｒｒ以下の圧力で行
ない、連続して不完全酸化金属酸化物蒸着膜を形成する
ことを特徴とする請求項１の金属酸化物蒸着フィルムの
製造方法。 - 【請求項３】 金属酸化物が酸化アルミニウムであるこ
とを特徴とする請求項１または請求項２に記載の金属酸
化物蒸着フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2694894A JPH07233463A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | 金属酸化物蒸着フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2694894A JPH07233463A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | 金属酸化物蒸着フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07233463A true JPH07233463A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12207385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2694894A Pending JPH07233463A (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | 金属酸化物蒸着フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07233463A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001138430A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-22 | Dainippon Printing Co Ltd | ボイルないしレトルト処理用積層包装材 |
| WO2014050951A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 大日本印刷株式会社 | 透明蒸着フィルム |
| JP2018196941A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア積層体の製造方法 |
| WO2019182017A1 (ja) | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 大日本印刷株式会社 | バリア性積層フィルム及び該バリア性積層フィルムを用いた包装材料 |
| WO2020250969A1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 大日本印刷株式会社 | バリアフィルム、積層体及び包装製品 |
-
1994
- 1994-02-24 JP JP2694894A patent/JPH07233463A/ja active Pending
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| US9822440B2 (en) | 2012-09-28 | 2017-11-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transparent vapor-deposited film |
| JP2018196941A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア積層体の製造方法 |
| WO2019182017A1 (ja) | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 大日本印刷株式会社 | バリア性積層フィルム及び該バリア性積層フィルムを用いた包装材料 |
| KR20200135828A (ko) | 2018-03-22 | 2020-12-03 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 배리어성 적층 필름 및 상기 배리어성 적층 필름을 이용한 포장 재료 |
| WO2020250969A1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 大日本印刷株式会社 | バリアフィルム、積層体及び包装製品 |
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