JPH01312863A - 樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造方法

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Publication number
JPH01312863A
JPH01312863A JP14225488A JP14225488A JPH01312863A JP H01312863 A JPH01312863 A JP H01312863A JP 14225488 A JP14225488 A JP 14225488A JP 14225488 A JP14225488 A JP 14225488A JP H01312863 A JPH01312863 A JP H01312863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
lead frame
thin film
semiconductor device
manufacturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP14225488A
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English (en)
Inventor
Jiro Fukushima
二郎 福島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP14225488A priority Critical patent/JPH01312863A/ja
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、リードフレーム−Fの半導体素子を樹脂封+
hする樹脂封止型半導体装置の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種樹脂封止型半導体装置の製造方法は次に示
す手順によって行われる。すなわち、第2図に示すよう
に上下2つの金型1.2を型締めすることにより樹脂封
止前のリードフレーム3を挟圧保持した後、このリード
フレーム3上の半導体素子4を樹脂封止する。この場合
、両金型1゜2のキャビティ5内にはタブレット形状の
モールド樹脂が圧入される。なお、6はリードフレーム
3のタイバー、7は半導体素子4とリード8を接続する
ワイヤである。この後、両金型1. 2の型開きをして
成形品を取り出し、めっき等の外装処理とリード成形加
工を施す。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法にお
いては、モールド樹脂(図示せず)および金型1,2が
約180℃の温度に加熱され、かつ約50〜1.00 
kg/ cII!の圧力に加圧されて行われるため、両
金型1.2のリードフレーム3に対する当接部位に熱歪
があったり、またリードフレーム3の表裏両面上であっ
て両金型1.2が当接する部位Aにフレーム生産時にお
けるフレーム厚さのばらつきあるいは圧延、パンチング
時に発生する損傷があったりすると、この部位へに樹脂
封止時にモールド樹脂が浸入してばりが発生していた。
この結果、めっき処理工程の以前にぼり取り工程および
その修正、検査工程を必要とし、半導体装置の製造を煩
雑にするばかりか、製造に多大の時間を費やし、半導体
装置の生産性が低下するという問題があった。また、ぼ
り取り工程が必要であることは、封止樹脂部分に分離・
除去力が作用して損傷することがあり、品質としての信
頼性が低下するという問題もあった。
因に、ぼり取り工程には、電解ぼり取り、水圧ぼり取り
、砂や胡桃の殻からなる粉末を用いた液体ホーニング、
ショツトブラスト法、ブラシ掛は法あるいはこれら方法
の組み合わせによるものがある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、リー
ドフレーム上におけるぼり発生を防止することができ、
もって半導体装置の生産性および品質上の信頼性を高め
ることができる樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供
するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る樹脂封止型半導体装置の製造方法は、リー
ドフレームの表裏両面上であって、少なくとも両金型が
当接する部位に銀薄膜あるいは銅薄膜を形成し、この薄
膜の厚さを0.1〜10μmの寸法に設定するものであ
る。
〔作 用〕
本発明においては、樹脂封止時にリードフレームの表裏
両面上であって金型が当接する部位に対し銀薄膜あるい
は銅薄膜によってモールド樹脂の浸入を阻止することが
できる。
〔実施例〕
以下、本発明における樹脂封止型半導体装置の製造方法
について説明する。
第1図は本発明に係る樹脂封止型半導体装置の製造方法
を説明するための断面図で、同図において第2図と同一
の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略
する。
先ず、上下2つの金型1,2を型締めすることにより樹
脂封止前のリードフレーム3を挟圧保持する。この際、
予めリードフレーム3の表裏両面上であって、少なくと
も両金型1,2が当接する部位Aに電気めっき法によっ
て銀薄膜21を形成する。この銀薄膜21の厚さは0.
1−10μmの寸法に設定されている。次いで、リード
フレーム3上の半導体素子4を樹脂封止する。しかる後
、両金型1.2の型開きをして成形品を取り出し、めっ
き等の外装処理とリード成形加工を施す。
このようにして、樹脂封止型半導体装置を製造すること
ができる。
したがって、本発明においては、樹脂封止時にリードフ
レーム3の表裏両面上であって金型l。
2が当接する部位Aに対し銀薄膜21によってモールド
樹脂の浸入を阻止することができる。すなわち、リード
フレーム3が損傷することにより凹部があっても、これ
をi艮薄月り21が1里めることになるからである。ま
た、両金型1.2に熱歪があっても、銀薄膜21によっ
て型締め時における面圧の均一性を保持することができ
ると共に、面圧を向上させることができる。
なお、本実施例においては、銀薄膜21の厚さを0.1
〜10μmの寸法に設定する例を示したが、本発明は特
に1〜5μ編の寸法に設定することが好ましい。
また、本実施例においては、外装処理としてのめっき処
理を半田電気めっきあるいは半田液浸漬処理を施す。こ
の場合、半田めっき処理は、銀薄膜21上に直接であっ
ても、銀薄II! 2 ]を除去してからであっても何
等差し支えない。
さらに、本実施例においては、リードフレーム3上に銀
薄膜21を形成する例を示したが、本発明はこれに限定
されるものではなく、銀薄膜21の代わりに銅薄膜であ
っても実施例と同様の効果を奏する。
因に、本発明における製造方法を新しい金型に適用した
ところリードフレーム上の樹脂ぼりの発生は皆無であっ
たが、きわめて古い金型に適用したところ若干リードフ
レーム表面に樹脂ばりが発生した。しかしながら、これ
はリードフレームに対する密着性、接着性に乏しいため
、めっき処理前の通常の脱脂および洗浄工程で簡単に除
去することができ、特にぼり取り工程が必要でないこと
が立証されている。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、リードフレームの
表裏両面上であって、少なくとも両金型が当接する部位
に銀薄膜あるいは銅薄膜を形成し、この薄膜の厚さを0
.1〜lOμmの寸法に設定するので、樹脂封止時にリ
ードフレームの表裏両面上であって金型が当接する部位
に対し薄膜によってモールド樹脂の浸入を阻止すること
ができる。したがって、従来必要としたぼり取り工程お
よびその修正、検査工程が不要になるから、半導体装置
製造の簡素化および製造時間の短縮化を図ることができ
、半導体装置の生産性を高めることができる。また、ぼ
り取り工程が不要であることは、従来のように封止樹脂
部分に分離・除去力が作用して損傷することがないから
、品質としての信十真性を向上させることもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る樹脂封止型半導体装置の製造方法
を説明するための断面図、第2図は従来の樹脂封止型半
導体装置の製造方法を説明するための断面図である。 1.2・・・・金型、3− ・−−リードフレーム、4
・・・・半導体素子、21・・・・銀薄膜、A・・・・
金型が当接する部位。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)上下2つの金型を型締めすることによりリードフ
    レームを挟圧保持した後、このリードフレーム上の半導
    体素子をモールド樹脂によって封止する樹脂封止型半導
    体装置の製造方法において、前記リードフレームの表裏
    両面上であって、少なくとも前記両金型が当接する部位
    に銀薄膜を形成し、この銀薄膜の厚さを0.1〜10μ
    mの寸法に設定することを特徴とする樹脂封止型半導体
    装置の製造方法。
  2. (2)請求項1において、銀薄膜が銅薄膜であることを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
JP14225488A 1988-06-09 1988-06-09 樹脂封止型半導体装置の製造方法 Pending JPH01312863A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020047627A (ja) * 2018-09-14 2020-03-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法

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JP2020047627A (ja) * 2018-09-14 2020-03-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法

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