JPH0823062A - 樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造方法

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Publication number
JPH0823062A
JPH0823062A JP15401294A JP15401294A JPH0823062A JP H0823062 A JPH0823062 A JP H0823062A JP 15401294 A JP15401294 A JP 15401294A JP 15401294 A JP15401294 A JP 15401294A JP H0823062 A JPH0823062 A JP H0823062A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
resin
molding die
semiconductor device
subjected
Prior art date
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Pending
Application number
JP15401294A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Koshio
康弘 小塩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP15401294A priority Critical patent/JPH0823062A/ja
Publication of JPH0823062A publication Critical patent/JPH0823062A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、金属平板を圧延処理する工程11と、金属平板表面
に金属メッキを施す工程12と、金属メッキを施した金
属平板表面を圧延処理する工程13と、金属平板を加工
しこれをリードフレームとする工程14と、リードフレ
ーム上に半導体素子を搭載する工程15と、半導体素子
を搭載したリードフレームを上側金型及び下側金型で覆
い樹脂封止する工程16とを具備する。 【効果】 バリ取り工程を省略することが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止型半導体装置
の製造方法に関する。特に、樹脂封止後に不可避的に発
生していたバリの発生を抑止させた樹脂封止型半導体装
置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、樹脂封止型半導体装置は図7
に示す工程を経て製造されていた。図7はペレット製造
工程については省略し、特に、リードフレームの製造工
程を中心に概略を示したものである。
【0003】始めに、0.20mm(0.15、0.2
5mmでも可)の厚さの銅を主成分とする合金(Cu母
材)をやや強い圧力にて圧延する(31)。続いて、プ
レス加工もしくはエッチング加工により、Cu母材をリ
ードフレーム形状に整形する(32)。さらに、図示し
ないプロセスにより半導体素子を集積したペレットを準
備し、これをリードフレームのベッド上に搭載する(ダ
イマウント)。続いて、金細線等によりリードとペレッ
ト上のボンディングパッドとを電気的に接続する(ボン
ディング)(33)。さらに、図示しない上側金型及び
下側金型によって当該リードフレーム、ペレット等を覆
い、樹脂封止部材を注入することにより樹脂モールドを
行う(34)。
【0004】図8は樹脂モールド後のバリ37の発生状
況を示している。39はモールド部材、38は外部リー
ドである。これは、金型の出来上がり寸法のばらつき、
装置の反り、金型同士の加圧力の不足等の要因が重なり
あうことにより生じていると思われる。しかし、このバ
リ37の存在により、これに引き続く工程である、外部
リード38の半田メッキ工程等において不具合が生じて
しまう。以下、これを具体的に説明する。図8には典型
的なバリの発生状況を図示したが、時折、リードの先端
までバリが到達してしまうことがある。この場合には、
リードの先端にも半田メッキがなされないこととなり、
完成半導体装置を実装する際に、半田付け不良を生じる
等の問題点を引き起こすこともあった。
【0005】したがって、従来はリード半田メッキを行
う前に、図7に示すように、バリ取り工程を挿入してい
た(35)。このバリ取り工程は、一般に、酸性溶液に
リードを浸し、軽くエッチングすることによりバリ37
を浮かし、引き続いて、高圧水によって、バリ37を吹
き飛ばすことにより行う。
【0006】バリ取り工程35が終了した後、外部リー
ドの半田メッキ、リード切断・曲げ、樹脂封止部材表面
へのマーキング等の工程を行う(36)。以上説明した
ように、従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、樹
脂モールド工程後に、外部リードの表面にバリが不可避
的に発生してしまう。外部リード表面のバリは、これに
引き続く工程に於いて不具合を発生させる。従って、こ
れを取り除くため、上述のようなバリ取り工程を行う必
要があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、樹脂モール
ド工程後に、外部リードの表面にバリが不可避的に発生
してしまい、これを取り除くために、バリ取り工程を行
う必要があった。本発明は、上記欠点を除去し、バリ取
り工程を不要とした樹脂封止型半導体装置の製造方法を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、金属平板を圧延処理する工程と、金属
平板表面に金属メッキを施す工程と、金属メッキを施し
た金属平板表面を圧延処理する工程と、金属平板を加工
しこれをリードフレームとする工程と、リードフレーム
上に半導体素子を搭載する工程と、半導体素子を搭載し
たリードフレームを上側金型及び下側金型で覆い樹脂封
止する工程とを具備することを特徴とする樹脂封止型半
導体装置の製造方法を提供する。
【0009】
【作用】本発明で提供する手段を用いると、金属メッキ
の硬度が金属平板の硬度よりも小さくなり、上側金型と
下側金型とによって挟み込んだときに、リードフレーム
に変形が生じ、金型の出来上がり寸法のばらつき、装置
の反り、金型同士の加圧力の不足等が生じていても、樹
脂封止材の流出を防止することが可能となる。この結
果、樹脂封止工程後のバリの発生を防ぐことが可能とな
り、従来工程のようなバリ取り工程を省略することが可
能になる。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の樹脂封止型
半導体装置の製造方法の詳細を説明する。図1に本発明
の樹脂封止型半導体装置の製造フローを示す。すなわ
ち、順に、Cu母材の圧延(11)、Cuメッキ処理
(12)、圧延加工(13)、プレス加工(14)、ダ
イマウント・ボンディング等の工程(15)、樹脂モー
ルド(16)、リードの半田メッキ・リード切断、曲げ
・マーキング加工(17)から構成される。以下、この
製造フローをふえんして説明する。
【0011】Cu母材18は、銅を主成分とする合金で
あり、厚さは約0.25mmである。これは、図2に示
すように、やや圧力を高めにして、圧延ローラー19を
用いて圧延処理するものであり、この圧延処理は、母材
18の表面の硬度を高め、平坦化するために行う。
【0012】続いて、図3に示すように、電解液22を
満たした電解漕20に、Cu母材18を浸し、電源21
より電流を供給することにより、銅メッキを施す。続い
て、図4に示すように、600℃で10分程度、熱処理
を施しながら再び圧延ローラー23を用いて圧延処理を
施す。ここでは、主として、銅メッキの圧延を行い、そ
の目的は、銅メッキの硬度を調整し、平坦化するためで
ある。従って、図2に示した圧延工程と比較すると、圧
力はやや低めである。上述の工程により、リードフレー
ムは厚さ0.20mmの銅母材18と厚さ5〜10μm
の銅メッキ層とから積層形成する。銅母材の硬度は約1
60〜180Hvであり、銅メッキ層の硬度は60〜7
0Hvである。
【0013】続いて、プレス加工もしくはエッチング加
工によって、Cu母材18をリードフレーム形状に加工
する。図5に、このようにして加工されたリードフレー
ム24を示す。
【0014】続いて、図示しないが、接着剤を用いて半
導体素子の集積された半導体ペレットをリードフレーム
24のベッド上に搭載し、金細線等によりリードとペレ
ット上のボンディングパッドとを電気的に接続する。
【0015】続いて、樹脂モールド工程を行うが、この
時のリードフレーム等の断面図を図6に示す。すなわ
ち、リードフレーム24のCu母材25には上述の工程
により、銅メッキ層26が形成されている。上側金型2
8と下側金型29とによりリードフレームは挟み込ま
れ、この上側金型28及び下側金型29によって覆われ
た空間にリードフレーム、ペレット等が保持され、ここ
に樹脂封止部材27が注入される。ところが、本発明で
は、上述したように銅母材の硬度は約160〜180H
vであり、銅メッキ層の硬度は60〜70Hvであるた
め、柔らかい銅メッキ層が金型の圧力により沈み(3
0)、樹脂封止部材27の流出をくい止める。この結
果、バリの発生が抑制される。両金型の加圧を、25〜
30kg/mm2に設定し、リードフレームの硬度を上
述の硬度とすると、銅メッキ層の沈みは、約5μm程度
観測された。従って、バリを完全になくすためには、5
μm以上の銅メッキ層が必要となる。
【0016】続いて、外部リードの半田メッキ、リード
切断・曲げ、樹脂封止部材表面へのマーキング等の工程
を行う。以上説明したように、本発明の樹脂封止型半導
体装置の製造方法によると、銅メッキの硬度が金属平板
(銅母材)の硬度よりも小さくなり、上側金型と下側金
型とによって挟み込んだときに、リードフレーム表面に
変形が生じ、金型の出来上がり寸法のばらつき、装置の
反り、金型同士の加圧力の不足等が生じていても、樹脂
封止材の流出を防止することが可能となる。この結果、
樹脂封止工程後のバリの発生を防ぐことが可能となり、
従来必要であったバリ取り工程を省略することが可能に
なる。なお、バリ取り工程を省略しないとしても、当該
バリ取り工程に要する工程時間をより低減することも可
能となる。
【0017】この結果、より安価に樹脂封止型半導体装
置を製造することも可能となる。なお、本発明の主旨を
逸脱しない限り種々の変更が可能であることは言うまで
もない。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の樹脂封止
型半導体装置の製造方法によると、バリ取り工程を省略
することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示した製造工程図である。
【図2】本発明の実施例を示した斜視図である。
【図3】本発明の実施例を示した斜視図である。
【図4】本発明の実施例を示した斜視図である。
【図5】本発明の実施例を示した斜視図である。
【図6】本発明の実施例を示した断面図である。
【図7】従来例を示した製造工程図である。
【図8】従来例を示した斜視図である。
【符号の説明】
11 銅母材の圧延工程 12 銅メッキ工程 13 圧延加工工程 14 リードフレーム加工工程 15 ダイマウント・ボンディング工程 16 樹脂モールド工程 17 リード処理工程

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属平板を圧延処理する工程と、 前記金属平板表面に金属メッキを施す工程と、 前記金属メッキを施した前記金属平板表面を圧延処理す
    る工程と、 前記金属平板を加工しこれをリードフレームとする工程
    と、 前記リードフレーム上に半導体素子を搭載する工程と、 前記半導体素子を搭載した前記リードフレームを上側金
    型及び下側金型で覆い樹脂封止する工程とを具備するこ
    とを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
JP15401294A 1994-07-06 1994-07-06 樹脂封止型半導体装置の製造方法 Pending JPH0823062A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19745243B4 (de) * 1996-10-11 2007-10-04 Denso Corp., Kariya Verfahren zum Herstellen eines mit Harz verschlossenen Halbleiterbauelements und Prägevorrichtung dafür
WO2017133941A1 (de) * 2016-02-05 2017-08-10 Robert Bosch Gmbh Moldmodul, verfahren zur herstellung eines moldmoduls und moldwerkzeug für die moldumspritzung eines moldmoduls

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DE19745243B4 (de) * 1996-10-11 2007-10-04 Denso Corp., Kariya Verfahren zum Herstellen eines mit Harz verschlossenen Halbleiterbauelements und Prägevorrichtung dafür
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