JPH01251601A - 薄膜抵抗素子 - Google Patents

薄膜抵抗素子

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JPH01251601A
JPH01251601A JP63054986A JP5498688A JPH01251601A JP H01251601 A JPH01251601 A JP H01251601A JP 63054986 A JP63054986 A JP 63054986A JP 5498688 A JP5498688 A JP 5498688A JP H01251601 A JPH01251601 A JP H01251601A
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JP
Japan
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pattern
resistance value
patterns
adjustment
resistor
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JP63054986A
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Tomoshige Yamamoto
友繁 山本
Shuichi Tanaka
秀一 田中
Mitsuhiko Osada
光彦 長田
Ikuo Nishimoto
育夫 西本
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Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばレーザビームの走査などにより抵抗値
の調節(以下トリミングと称する)を行なう抵抗体調整
パターンを有する薄膜抵抗素子に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図ないし第6図は、この種の薄膜抵抗素子の一例を
示す要部拡大平面図である。同図において、1は絶縁性
基板、2,3は抵抗体パターンの抵抗値測定用端子とし
て用いられる導体パターン、4は抵抗値を不連続的に調
節する抵抗値不連続調節パターン、5は抵抗値の調節が
行なわれない抵抗値非調節パターンでアシ、この不連続
調節パターン4と非調節パターン5とは、互いにパター
ンの長さ(抵抗値)が異なるとともに電気的に並列接続
されて抵抗値調節用の抵抗体調整パターン6が形成され
、前述した導体パターン2.3間に多数個連続して直列
接続されている。なお、前述した各禰のパターン2.3
,4.5は絶縁性基板1上に例えば白金等の金属薄膜を
形成し、この金属薄膜をフォトエツチング等により加工
して形成される。
このように構成される薄膜抵抗素子において、抵抗値調
節は、同図に示すように不連続調節パターン4の一部に
矢印A、B、Cのいずれかの方向もしくはそれらの逆方
向から例えばYAGレーザのレーザビームを走査させる
ことにより焼切シ、切断部γを形成することにより、抵
抗体調整パターン6の電気的通路を長くシ、抵抗値を上
昇させ、導体パターン2,3間に所望の抵抗値を得てい
る。
また、このように構成される薄膜抵抗素子において、不
連続調節パターン4にデジタルトリミングを行なうため
には、粗調から微調まで複数種類の抵抗体調整パターン
6が必要とされ、通常、1種類の増分に対して1種類の
パターンを必要としている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このように構成される薄膜抵抗素子にお
いて、第3図に示す抵抗体調整パターン6では、矢印A
方向、矢印B方向もしくはその逆方向からトリミングを
行なうことができ、1つのパターン増分の違うトリミン
グを行なえるが、目的の増分を得てしかもトリミング精
度およびレーザビームの走査によるダメージを考慮する
と、抵抗体調整パターン6のパターンループ内に広いス
ペースSが必要となる。また、第4図〜第6図に示す抵
抗体調整パターン6では、パターン外部からパターン内
部に向う矢印A、B、Cの方向にトリミングするのが通
常であυ、ある1つの増分を得ることしかできず、この
場合も第3図と同様にパターンループ内に広いスペース
Sが必要となる。
また、例えばパターン幅を約20μmとし、レーザビー
ムのダメージ径を約70μm程度とした場合、第4図に
示す不連続調節パターン40周辺部にパターンが存在し
ていないことから、無駄なスペースとなる。また、この
種の薄膜抵抗素子は、抵抗体調整パターン6が全体の7
0〜80係の面積を占めていることから、これらの抵抗
体調整パターン6の縮少は極めて重要な課題となってい
る。
したがって本発明は、前述した従来の問題に鑑みてなさ
れたものであシ、その目的は、抵抗体調整パターンの占
有面積を最小限に抑えかつ1つのパターンで2種類の増
分を得ることができる薄膜抵抗素子を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、互いに展開長の異なる抵抗値不連続調節パタ
ーンおよび抵抗値非調節パターンを互いにジグザグ状に
°屈曲する曲折パターンにより形成するものである。
〔作用〕
本発明においては、抵抗値不連続調節パターンおよび抵
抗値非調節パターンが曲折パターンで形成されるので、
デッドスペースが小さくなる。
〔実施例〕
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は本発明による薄膜抵抗素子の一実施例を示す要
部平面図であシ、前述の図と同一部分には同一符号を付
しその説明は省略する。同図において、抵抗体パターン
の抵抗値測定用端子として用いられる導体パターン2,
3間には、パターンルーズのほぼ中央部において交互に
屈曲するジグザグ状の曲折パターン4aを有する抵抗値
不連続調節パターン4Aと、同様にパターンルーズのほ
ぼ中央部において交互に屈曲するジグザグ状の曲折パタ
ーン5&を有する抵抗値非調節パターン5Aとを並列接
続させた抵抗体調整パターン6Aが多数個連続して直列
接続されて形成されている。この場合、曲折パターン4
&が形成された抵抗値不連続調節パターン4Aと、曲折
パターン5aが形成された抵抗値非調節パターン5Aと
は、抵抗体調整パターン6Aの中心mcに対して左右の
展開長を互いに異る値に組合されて形成されている。
なお、これらの抵抗体調整パターン6Aは、例えば白金
等の金属薄膜をフォトエツチング法などにより加工して
形成されておシ、互いにパターン幅およびパターン長(
抵抗値)がそれぞれほぼ同等値を有して形成されている
このように構成された薄膜抵抗素子は、抵抗値不連続調
節パターン4Aおよび抵抗値非調節パターン5Aにそれ
ぞれパターンループが内側方向に凹状に折曲る曲折パタ
ーン4&および曲折パターン5aを形成したことにより
、パターンループ内に無駄なスペースがなくなり、抵抗
体調整パターン6人の全体形状を小さくすることができ
るとともにトリミングポイントの終点を中央部から後方
部に変更させることにより、パターンは既に何本か切断
されておシ、仮にブリッジ(パターンが完全に切断され
ず、一部が非切断部となって残る部分)が最後のパター
ンに発生したとしても同等影響を受けることはなくなる
。また、矢印入方向が切断された場合と、矢印B方向が
切断された場合とを比較すると、左右のパターン4A、
5Aの展開長が異なるので、各々異彦る抵抗値の増分が
得られる。
第2図は本発明による薄膜抵抗素子の他の実施例を示す
要部平面図であυ、前述の図と同一部分には同一符号を
付しである。同図において、第1図と異なる点は、抵抗
値不連続調節パターン4Bおよび抵抗値非調節パターン
5Bがそれぞれパターンルーズのほぼ中央部において交
互に複数回屈曲するジグザグ状の折曲パターン4bおよ
び5bを有して抵抗体調整パターン6Bが形成されてい
る。
このような構成によると、他のパターンに影響を与える
ことなく、矢印入方向もしくは矢印B方向にレーザビー
ムを走査してパターン内でトリミングを終了すること殊
できる。例えば、パターン幅を20μm、レーザビーム
によるダメージ径を70μmとしても、同図に一点破線
で示す領域の影響を受ける範囲内には切断されたパター
ンのみ入っておらず、しかも無駄なくパターンで埋って
おシ、ゲットスペースを少なくすることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、抵抗値不連続調節
パターンおよび抵抗値非調節パターンを互いにジグザグ
状に屈曲する曲折パターンにより形成したので、トリミ
ング精度およびレーザのダメージ径によ)最小の寸法を
決めることができ、目的の増分による無駄なスペースを
省くことができる。また、2s類の増分の1つを選択す
ることができるため、所望の抵抗値に合ったパターンを
切断することができ、抵抗体調整パターンの種類を少な
くて今までと同等の抵抗値調節を行なうことができ、ス
ペースを省くことができるなどの極めて優れた効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による薄膜抵抗素子の一実施例を示す要
部平面図、第2図仲本発明による薄膜抵抗素子の他の実
施例を示す要部平面図、第3図〜第6図は従来の薄膜抵
抗素子を説明する要部平面図である。 1・・・・絶縁性基板、2,3・・・・導体パターン、
4A、4B ・・・・抵抗値不連続調節パターン、4a
、4b・・・・曲折パターン、5A、5B・・・・抵抗
値非調節パターン、5a、5b a・−・曲折パターン
、6A、6B・・・・抵抗体調整パターン、1・・・・
切断部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 抵抗値調節を不連続的に行なう抵抗値不連続調節パター
    ンと抵抗値調節の行なわない抵抗値非調節パターンとを
    並列接続させてなる抵抗体調整パターンが抵抗値測定用
    端子パターン間に複数組直列接続されて絶縁性基板上に
    導電性薄膜により配列して形成された薄膜抵抗素子にお
    いて、前記抵抗値不連続調節パターンおよび抵抗値非調
    節パターンを互いにジグザグ状に屈曲する曲折パターン
    により形成することを特徴とした薄膜抵抗素子。
JP63054986A 1987-12-21 1988-03-10 薄膜抵抗素子 Expired - Fee Related JPH0770364B2 (ja)

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JP63054986A JPH0770364B2 (ja) 1987-12-21 1988-03-10 薄膜抵抗素子

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-321541 1987-12-21
JP32154187 1987-12-21
JP63054986A JPH0770364B2 (ja) 1987-12-21 1988-03-10 薄膜抵抗素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01251601A true JPH01251601A (ja) 1989-10-06
JPH0770364B2 JPH0770364B2 (ja) 1995-07-31

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007514A (ja) * 2001-06-19 2003-01-10 Murata Mfg Co Ltd 抵抗器、およびこれを用いた液量センサ
JP2013065784A (ja) * 2011-09-20 2013-04-11 Koa Corp 薄膜抵抗体

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55146909A (en) * 1979-05-02 1980-11-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of correcting resistance value of resistor

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JP2013065784A (ja) * 2011-09-20 2013-04-11 Koa Corp 薄膜抵抗体

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JPH0770364B2 (ja) 1995-07-31

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