JPH01108703A - 薄膜抵抗素子 - Google Patents
薄膜抵抗素子Info
- Publication number
- JPH01108703A JPH01108703A JP62265356A JP26535687A JPH01108703A JP H01108703 A JPH01108703 A JP H01108703A JP 62265356 A JP62265356 A JP 62265356A JP 26535687 A JP26535687 A JP 26535687A JP H01108703 A JPH01108703 A JP H01108703A
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- Pending
Links
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
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- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
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Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザビームによシ抵抗値の調節（以下トリミ
ングと称する）を行なう抵抗体調整パターンを有する薄
膜抵抗素子に関するものである。
ングと称する）を行なう抵抗体調整パターンを有する薄
膜抵抗素子に関するものである。
第２図はこの種の薄膜抵抗素子の一例を示す要部拡大平
面図である。同図において、１は絶縁性基板、２，３は
抵抗体パターンの抵抗値測定用端子として用いられる導
体パターン、４は抵抗値を不連続的に調節する抵抗値不
連続調節パターン、５は抵抗値の調節が行なわれない抵
抗値非調節パターンであシ、この不連続調節パターン４
と非調節パターン５とは、互いにパターンの長さ（抵抗
値）が異なるとともに電気的に並列接続されて抵抗値調
節用の抵抗体調整パターン６が形成され、前述し大導体
パターン２．３間に多数個連続して直列接続されている
。なお、前述した各種のパターン２，３，４．５は絶縁
性基板１上Ｋ例えば白金等の金属薄膜を形成し、この金
属薄膜をフォトエツチング等によシ加工して形成される
。
面図である。同図において、１は絶縁性基板、２，３は
抵抗体パターンの抵抗値測定用端子として用いられる導
体パターン、４は抵抗値を不連続的に調節する抵抗値不
連続調節パターン、５は抵抗値の調節が行なわれない抵
抗値非調節パターンであシ、この不連続調節パターン４
と非調節パターン５とは、互いにパターンの長さ（抵抗
値）が異なるとともに電気的に並列接続されて抵抗値調
節用の抵抗体調整パターン６が形成され、前述し大導体
パターン２．３間に多数個連続して直列接続されている
。なお、前述した各種のパターン２，３，４．５は絶縁
性基板１上Ｋ例えば白金等の金属薄膜を形成し、この金
属薄膜をフォトエツチング等によシ加工して形成される
。
このように構成される薄膜抵抗素子において、抵抗値調
節は、同図に示すように不連続調節パターン４の一部に
矢印Ａ方向にレーザビームを走査させることｋよ多切断
し、切断部７を形成するととくより、抵抗体調整パター
ン６の電気的通路を長くシ、抵抗値を上昇させ、導体パ
ｉ−ン２．３間に所望の抵抗値を得ている。
節は、同図に示すように不連続調節パターン４の一部に
矢印Ａ方向にレーザビームを走査させることｋよ多切断
し、切断部７を形成するととくより、抵抗体調整パター
ン６の電気的通路を長くシ、抵抗値を上昇させ、導体パ
ｉ−ン２．３間に所望の抵抗値を得ている。
しかしながら、このように構成される薄膜抵抗素子は、
不連続調節パターン４の一部をレーザトリミングする場
合、レーザビームのスポット径が大きいと、縦方向に隣
接する不連続調節パターン４および横方向に隣接する非
調節パターン部と近接している六めＫこれらのパターン
４．５：等を損傷させ、信頼性を低下させてしまうとい
う問題があった。まな、信頼性を向上させるために不連
続調節パターン４０２個所を切断するには、レーザビー
ムを長い距離走査させなければならず、そのためＫは抵
抗体調整パターン６相互間および隣接する抵抗体調整パ
ターンＣとの間のスペースｔ−広く確保する必要が生じ
、しながって無駄なスペースが多くな９、抵抗体調整パ
ターン６の高集積化もしくは薄膜抵抗素子の小型化への
常置となる。
不連続調節パターン４の一部をレーザトリミングする場
合、レーザビームのスポット径が大きいと、縦方向に隣
接する不連続調節パターン４および横方向に隣接する非
調節パターン部と近接している六めＫこれらのパターン
４．５：等を損傷させ、信頼性を低下させてしまうとい
う問題があった。まな、信頼性を向上させるために不連
続調節パターン４０２個所を切断するには、レーザビー
ムを長い距離走査させなければならず、そのためＫは抵
抗体調整パターン６相互間および隣接する抵抗体調整パ
ターンＣとの間のスペースｔ−広く確保する必要が生じ
、しながって無駄なスペースが多くな９、抵抗体調整パ
ターン６の高集積化もしくは薄膜抵抗素子の小型化への
常置となる。
さらに信頼性を向上させるためにレーザビームのスポッ
ト径を小さくすると、第３図に示すように切断部７が完
全に切断されないパターン部８が生じる場合が発生し、
信頼性の向上にはつながらなかりた。
ト径を小さくすると、第３図に示すように切断部７が完
全に切断されないパターン部８が生じる場合が発生し、
信頼性の向上にはつながらなかりた。
したがって本発明は、前述した従来の問題に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、レーザトリミングの信頼
性の向上および空きスペースの有効利用を実現可能とし
大薄膜抵抗素子を提供するととくある。
れたものであり、その目的は、レーザトリミングの信頼
性の向上および空きスペースの有効利用を実現可能とし
大薄膜抵抗素子を提供するととくある。
本発明による薄膜抵抗素子は、抵抗値不連続調節パター
ンの切断部にパターン形状が外側に突出する凸部を設は
大ものである。
ンの切断部にパターン形状が外側に突出する凸部を設は
大ものである。
本発ＦＩｉ４においては、不連続調節パターンに凸部を
設けたことＫより、同等の抵抗値を得るのく少ない面積
で可能となる。
設けたことＫより、同等の抵抗値を得るのく少ない面積
で可能となる。
以下図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図は本発明による薄膜抵抗素子の一実施例を示す要
部平面図でア）、前述の図と同一部分には同一符号を付
しその説明は省略する。同図において、抵抗体パターン
の抵抗値測定用端子としての導体パターン２．３間には
、切断部となるパターン形状が外側に突出する凸部４ａ
を有する抵抗値不連続調節パターン４Ａと、パターン形
状に凹部を有する抵抗値非調節パターン５Ａとを並列接
続して形成された抵抗体調整パターン６Ａが多数個連続
して直列接続されている。なお、これらの不連続調節パ
ターン４Ａおよび非調節パターン５Ａは、例えば白金等
の金属薄膜をフォトエツチング等により加工して形成さ
れておシ、互いにパターン幅がほぼ同等でパターンの長
さ（抵抗値）が異なシ、不連続調節パターン４人は抵抗
値を小さく、非調節パターン５人は抵抗値を大きくして
形成されている。
部平面図でア）、前述の図と同一部分には同一符号を付
しその説明は省略する。同図において、抵抗体パターン
の抵抗値測定用端子としての導体パターン２．３間には
、切断部となるパターン形状が外側に突出する凸部４ａ
を有する抵抗値不連続調節パターン４Ａと、パターン形
状に凹部を有する抵抗値非調節パターン５Ａとを並列接
続して形成された抵抗体調整パターン６Ａが多数個連続
して直列接続されている。なお、これらの不連続調節パ
ターン４Ａおよび非調節パターン５Ａは、例えば白金等
の金属薄膜をフォトエツチング等により加工して形成さ
れておシ、互いにパターン幅がほぼ同等でパターンの長
さ（抵抗値）が異なシ、不連続調節パターン４人は抵抗
値を小さく、非調節パターン５人は抵抗値を大きくして
形成されている。
このように構成された薄膜抵抗素子は、不連続調節パタ
ーン４Ａの切断部にパターン凸部４ａを形成したことに
よシ、凸部４１がレーザビームの距離の短かい１回の走
査によりパターンの２個所が連続して切断されるので、
確実なレーザトリミングが可能となる。また、凸部４ａ
を設けたことＫよシ、隣接する抵抗体調整パターン６Ａ
、 ｓＡ′相互間の距離が大きくなるので、レーザビー
ムスポット径が大きくても他の抵抗体調整パターン６Ａ
。
ーン４Ａの切断部にパターン凸部４ａを形成したことに
よシ、凸部４１がレーザビームの距離の短かい１回の走
査によりパターンの２個所が連続して切断されるので、
確実なレーザトリミングが可能となる。また、凸部４ａ
を設けたことＫよシ、隣接する抵抗体調整パターン６Ａ
、 ｓＡ′相互間の距離が大きくなるので、レーザビー
ムスポット径が大きくても他の抵抗体調整パターン６Ａ
。
ＳＡ′＜損傷を与えることがなくなる。さらに凸部４畠
を設けたことにより、この凸部４亀の周辺部に広い空き
スペースが形成されるので、同図に示すように辷の空き
スペースに新たに抵抗体パターン９を形成することが可
能とな）、無駄なスペースがなくなる。
を設けたことにより、この凸部４亀の周辺部に広い空き
スペースが形成されるので、同図に示すように辷の空き
スペースに新たに抵抗体パターン９を形成することが可
能とな）、無駄なスペースがなくなる。
以上説明したように本発明によれば、抵抗値不連続調節
パターンの切断部にパターン形状が外側に突出するパタ
ーン凸部を設けたことＫよル、レーザトリミングの信頼
性が向上できるとともにスペースを有効に利用できるな
どの極めて優れた効果が得られる。
パターンの切断部にパターン形状が外側に突出するパタ
ーン凸部を設けたことＫよル、レーザトリミングの信頼
性が向上できるとともにスペースを有効に利用できるな
どの極めて優れた効果が得られる。
第１図は本発明による薄膜抵抗素子の一実施例を示す要
部平面図、第２図は従来の薄膜抵抗素子を示す要部平面
図、第３図はレーザトリミングによる問題点を説明する
断面図である。 １・・・・絶縁性基板、２，３・・・・導体パターン、
４Ａ ・・・・抵抗値不連続パターン、４ｍ・・・・
凸部、５Ａ ・・・・抵抗値非調節パターン、５ｍ
・・・・凹部、ｓａ、ｓｒ、ｓ・・・・抵抗体調整パタ
ーン、７・・・・切断部。
部平面図、第２図は従来の薄膜抵抗素子を示す要部平面
図、第３図はレーザトリミングによる問題点を説明する
断面図である。 １・・・・絶縁性基板、２，３・・・・導体パターン、
４Ａ ・・・・抵抗値不連続パターン、４ｍ・・・・
凸部、５Ａ ・・・・抵抗値非調節パターン、５ｍ
・・・・凹部、ｓａ、ｓｒ、ｓ・・・・抵抗体調整パタ
ーン、７・・・・切断部。
Claims (1)
- 抵抗値調節を不連続的に行なう抵抗値不連続調節パタ
ーンと抵抗値調節の行なわない抵抗値非調節パターンと
からなる複数の抵抗体調整パターンを抵抗値測定用端子
パターン間に直列接続させ絶縁性基板上に導電性薄膜に
より配列形成された薄膜抵抗素子において、前記抵抗値
不連続調節パターンの切断部にパターン形状が外側に突
出する凸部を設けたことを特徴とする薄膜抵抗素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62265356A JPH01108703A (ja) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | 薄膜抵抗素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62265356A JPH01108703A (ja) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | 薄膜抵抗素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01108703A true JPH01108703A (ja) | 1989-04-26 |
Family
ID=17416038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62265356A Pending JPH01108703A (ja) | 1987-10-22 | 1987-10-22 | 薄膜抵抗素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01108703A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013065784A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Koa Corp | 薄膜抵抗体 |
-
1987
- 1987-10-22 JP JP62265356A patent/JPH01108703A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013065784A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Koa Corp | 薄膜抵抗体 |
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