JPH0115862B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0115862B2
JPH0115862B2 JP53104636A JP10463678A JPH0115862B2 JP H0115862 B2 JPH0115862 B2 JP H0115862B2 JP 53104636 A JP53104636 A JP 53104636A JP 10463678 A JP10463678 A JP 10463678A JP H0115862 B2 JPH0115862 B2 JP H0115862B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
photosensitive material
plate
diffusion plate
free end
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53104636A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5532044A (en
Inventor
Keiji Mori
Juji Oshikoshi
Yoshinobu Nishihama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10463678A priority Critical patent/JPS5532044A/ja
Publication of JPS5532044A publication Critical patent/JPS5532044A/ja
Publication of JPH0115862B2 publication Critical patent/JPH0115862B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、写真現像処理装置(以下単に処理機
と称す)の改良に関するものである。
写真感光材料、特に湾曲させて搬送することが
出来ないアルミニウム板を支持体とするPS版
(Pre−Sensitized Offset Plate)等を現像する
処理機の場合には、感光材料を水平状に移送しな
がら、現像液をスプレー状に吹付けて現像処理を
行うことが行なわれている。
この処理機に於ては、現像液を感光材料の全幅
面にわたつて現像液を吹付けなければならないの
で、多量の現像液が準備されなければならなかつ
た。更に、現像液を経済的に利用する為に吹き付
けた液を回収して循環再使用しており、空気との
反応による現像液性能の劣化が起り、作業者が現
像作業の途中で、しばしば、劣化した現像液を交
換してやらなければならず、現像作業の管理が非
常に面倒なものとなつていた。
本発明は、従来のこのような欠点に鑑み、改良
された処理機を提供することを目的としたもので
ある。
本発明において、かゝる目的を達成する為に、
感光材料の移送方向に向かつて、漸次移送路に接
近する現像液拡散板を備えたもので、移送される
感光材料上に施された現像液を前記拡散板によつ
て均一におし拡げることを可能とし、少量の現像
液で、かつ、簡便に現像処理を達成することが可
能としたものである。
以下に、本発明を図面により詳細に説明する。
第1図は、本発明をPS版用処理機に応用した
一実施態様の斜視図を、第2図はその側面図を示
したものである。
ローラ対11,19は、PS版16の搬送を行
うもので、ローラ対11は処理機の人口側に設け
たものである。13はローラ対11,19間で現
像液を供給するパイプで、PS版16の幅方にわ
たつて延長され、PS版と向い合う該パイプ下面
には現像液を滴下させる複数個の穴20が設けら
れている。
21は現像液貯蔵溜(図示せず)からポンプを
介して現像液をパイプ13へ導く導管の一部を示
す。
14は液拡散板で、入口側で、一端が止め具1
7によつて固定されており、PS板の移送方向に
向つてその自由端が漸次移送軌跡Aに接近するよ
うに設けられている。12はPS版の下側案内面
である。液拡散板14はポリエチレンテレフタレ
ート、セスローストリアセテート、ポリ塩化ビニ
ル等のプラスチツクシートから成り、PS版が搬
送されていない時には、その自由端が、下側案内
面12に対して閉じ、PS版が搬送され、これら
の案内面に送られてきた時にのみ、第2図に示す
様に弾性的に変位するように構成される。又、液
拡散板14の材質は、上述したプラスチツクシー
トに限らず、ステンレス薄板を用いてもよい。こ
の場合には、該板を予め第2図に示す様に湾曲加
工して、その直線部lが下側案内面12の上面か
らPS版16を通過させる間隔だけ上方に配置す
ることによつて、PS版16にスリ傷を与えるこ
となく、該版を現像処理することが出来る。
次に、この装置の作用について説明する。
PS版16が入口より挿入されると、版の存在
を検出する検出器(図示せず)により、パイプか
ら所定時間だけ現像液が滴下される様に供液制御
が行なわれる。液拡散板14の直前で供液された
PS版は、順次拡散板14の部分に送られ、PS版
上面(感光面)と拡散板14下面が現像液を介し
て摺接する。
感光面上に現像液を滴下するだけでは、現像液
が拡がらないが、拡散板により圧力を加えること
により、現像液を均一に薄く拡散させることが出
来る。拡散された現像液は、第2図において拡散
板14とPS板16の接触部(長さlで示す)に
おいて現像に必要な時間だけ、拡散状態を維持さ
れる。直線部(接触部の長さ)lはPS版16の
搬送速度に依存する。
第1図に示す態様で、液拡散板としてポリエチ
レンテレフタレート(厚さ175μ)を用い、直線
部長さlを400mmとして実験を行つた。PS版は
GAP−N(富士フイルム(株)商品名)1003×800サ
イズを用い、400mm/minの搬送速度で搬送し、
現像液としてDP−1(富士フイルム(株)商品名)を
水で3倍希釈したものを用いたが、版当り50mlの
使用量で、従来の現像機で現像されたPS版と全
く同様な画像再現性の特性曲線が得られた。現像
液の使用量は従来の処理機の場合と比較して80%
以下に減少した。
本発明は、以上に述べた通りであるが、現像液
を薄く拡散させ、かつこの感光層上に拡散された
状態を保持するという構成を採用しているので、
従来のスプレー現像処理方式に較べて、はるかに
少量の現像液量で、経済的に低コストで現像を行
うことが出来る。
又、版当りの現像液量が少ないので、従来の様
に液を大量消費する現像方式に見られるような液
の回収、循環再使用をする必要がなく、現像液の
管理が簡便となると共に常に新鮮な液で現像出来
るという実用上極めて大きな効果を奏することが
出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施態様の斜視図、第2図
は第1図を側面より見た図面をそれぞれ示す。 13……供給パイプ、14……液拡散板、16
……感光材料、11,19……移送用ローラ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 写真感光材料を水平状に搬送する過程におい
    て、現像液を該感光材料の感光面へ施して現像処
    理を行うようにした写真現像処理装置において、
    現像液を感光材料に供給する供給手段と、一端が
    固定され自由端が感光材料の移送方向に向かつ
    て、漸次感光材料移送路に近接する弾性部材から
    構成される現像液拡散板とを設け、感光材料が搬
    送されていないときは前記現像液拡散板の前記自
    由端によつて前記感光材料移送路が閉じられ、感
    光材料が搬送されてきたときのみ前記現像液拡散
    板の前記自由端が弾性的に変位することによつ
    て、前記供給手段から感光材料上に施された未使
    用の現像液が延伸されるようにした事を特徴とす
    る写真現像処理装置。
JP10463678A 1978-08-28 1978-08-28 Photographic developing treating device Granted JPS5532044A (en)

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JP10463678A JPS5532044A (en) 1978-08-28 1978-08-28 Photographic developing treating device

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JP10463678A JPS5532044A (en) 1978-08-28 1978-08-28 Photographic developing treating device

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Publication Number Publication Date
JPS5532044A JPS5532044A (en) 1980-03-06
JPH0115862B2 true JPH0115862B2 (ja) 1989-03-20

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JP10463678A Granted JPS5532044A (en) 1978-08-28 1978-08-28 Photographic developing treating device

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