JPS62278556A - 現像むらが改良されるポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法 - Google Patents
現像むらが改良されるポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法Info
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- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポジ型感光性平版印刷版を少量の現像液で使
い捨て現像する処理方法に関する。
い捨て現像する処理方法に関する。
露光済みのポジ型感光性平版印刷版(以下、単にポジ型
28版という。)を多数枚処理する場合には現在自動現
像機を用いることが一般的であり、同時に用いられる現
像液は臭いや公害等の問題から、有機溶剤を多量に含ま
ない水を主溶媒とするアルカリ性現像液が主流となって
いる。
28版という。)を多数枚処理する場合には現在自動現
像機を用いることが一般的であり、同時に用いられる現
像液は臭いや公害等の問題から、有機溶剤を多量に含ま
ない水を主溶媒とするアルカリ性現像液が主流となって
いる。
自動現像機において露光済みのポジ型PS版会処理する
場合には、ポジ型28版を水平搬送しながら現像液をス
プレー状に吹付けて現像処理する方法や、多量の現像液
を収容した現像処理槽にポジ型28版を湾曲させて搬送
しながら浸漬させて現像処理する方法が行なわれている
。こうした処理機においては、いずれもポジ型28版を
一版処理するのに多量の現像液が準備されなければなら
なかった。
場合には、ポジ型28版を水平搬送しながら現像液をス
プレー状に吹付けて現像処理する方法や、多量の現像液
を収容した現像処理槽にポジ型28版を湾曲させて搬送
しながら浸漬させて現像処理する方法が行なわれている
。こうした処理機においては、いずれもポジ型28版を
一版処理するのに多量の現像液が準備されなければなら
なかった。
また現像液を経済的に利用する為に循環再使用しており
、その結果、処理による現像液劣化に加えて空気中から
の炭酸ガスの吸収による現像液劣化が起こり、しばしば
、劣化した現像液を交換しなければならず、現像作業の
管理が非常に面倒であった。
、その結果、処理による現像液劣化に加えて空気中から
の炭酸ガスの吸収による現像液劣化が起こり、しばしば
、劣化した現像液を交換しなければならず、現像作業の
管理が非常に面倒であった。
また、上記の欠点を改善する目的で、ポジ型PS版を多
量の循環再使用する現像液で処理する方法において、現
像補充液を補充して現像処理を安定に保つ方法が知られ
ている。(特開昭50−144502号、同55−11
5039号、同58−95349号参照)しかし、こう
した液を補充する方法においても液交換の頻度は減少す
るが液交換の必要があり、また、補充の精度の問題とポ
ジ型PS版間の品種差による補充の変動は解決できなか
った。
量の循環再使用する現像液で処理する方法において、現
像補充液を補充して現像処理を安定に保つ方法が知られ
ている。(特開昭50−144502号、同55−11
5039号、同58−95349号参照)しかし、こう
した液を補充する方法においても液交換の頻度は減少す
るが液交換の必要があり、また、補充の精度の問題とポ
ジ型PS版間の品種差による補充の変動は解決できなか
った。
また、その上に補充装置を必要とし、補充製蓋自体が高
価であるばかりか、それ自体の管理をする必要もあった
。
価であるばかりか、それ自体の管理をする必要もあった
。
本発明者らは、これらの欠点を改良する方法として、少
量の新しい現像液を用いて現像処理を行ない、使い捨て
にして処理する方法を開発し、既に出願した(特願昭6
0−85165号)。少′量の現像液をポジWPS版上
に薄い液膜として与える方法としてはローラやブラシま
たはスリットを用いた塗布によって行なうのが一般的で
ある。しかしながら従来使用されているようなポジ現像
液を用いてポジ型28版を塗布現像した場合、現像液が
はしかれてしまい、ポジ型28版上に均一に広がらない
現象を起こし、現像むらを発生する問題があることを我
々は見い出しだ。
量の新しい現像液を用いて現像処理を行ない、使い捨て
にして処理する方法を開発し、既に出願した(特願昭6
0−85165号)。少′量の現像液をポジWPS版上
に薄い液膜として与える方法としてはローラやブラシま
たはスリットを用いた塗布によって行なうのが一般的で
ある。しかしながら従来使用されているようなポジ現像
液を用いてポジ型28版を塗布現像した場合、現像液が
はしかれてしまい、ポジ型28版上に均一に広がらない
現象を起こし、現像むらを発生する問題があることを我
々は見い出しだ。
本発明は、前記の従来の処理方法に関する種々の問題点
を解決する現像処理方法を提供するものであυ、その第
1の目的は常に安定した均一な現像を行なうだめの現像
処理方法を提供することにある。第2の目的は現像液の
管理と液交換の不要な作業性のすぐれた現像処理方法を
提供することにある。第3の目的は、補充装置及び補充
液の不要な安価な現像処理方法を提供することにある。
を解決する現像処理方法を提供するものであυ、その第
1の目的は常に安定した均一な現像を行なうだめの現像
処理方法を提供することにある。第2の目的は現像液の
管理と液交換の不要な作業性のすぐれた現像処理方法を
提供することにある。第3の目的は、補充装置及び補充
液の不要な安価な現像処理方法を提供することにある。
第4の目的は、少量の新しい現像液を用いて現像を行い
使い捨てにする現像方法でポジ型28版を現像したとき
にはじきを生ぜずに現像液が均一に広がり、現像むらを
発生しない現像処理方法を提供すること番である。
使い捨てにする現像方法でポジ型28版を現像したとき
にはじきを生ぜずに現像液が均一に広がり、現像むらを
発生しない現像処理方法を提供すること番である。
前記の目的は、自動現像機を用いて画像露光されたポジ
WPS版を自動的に搬送し現像を行なう現像処理方法に
おいて、処理のたびごとに未使用の水を主溶媒とする表
面張力が50dyne/cm以下のアルカリ性現像液を
該ポジ型28版上に供給して厚さ0.01〜1mmの液
膜とし与え現像処理することにより達成される。
WPS版を自動的に搬送し現像を行なう現像処理方法に
おいて、処理のたびごとに未使用の水を主溶媒とする表
面張力が50dyne/cm以下のアルカリ性現像液を
該ポジ型28版上に供給して厚さ0.01〜1mmの液
膜とし与え現像処理することにより達成される。
本発明の処理方法は、ポジ型28版上に現像液を厚さ0
.01〜1關の薄い液膜として与えて現像を行なう方法
でおるが、従来知られた現像液ではポジ型28版に対し
て均一に現像液が広がらない。
.01〜1關の薄い液膜として与えて現像を行なう方法
でおるが、従来知られた現像液ではポジ型28版に対し
て均一に現像液が広がらない。
本発明者らは鋭意研究の結果、現像液の表面張力を50
(lync / cm IJ下にすると、種々のポジ
型28版に対しても均一な液膜を形成することができる
ことを見い出した。
(lync / cm IJ下にすると、種々のポジ
型28版に対しても均一な液膜を形成することができる
ことを見い出した。
本発明において、上記液膜の厚さは0.01〜1龍の範
囲でちるが、該液膜の厚さが0.01 y未満では現像
液のけじきによる現像むらの問題が実質的に発生せず、
一方1朋を超える多量の現像液を用いるならば現像液の
はじきによる現像むらが発生しにぐいため本発明の表面
張力における特徴をもたせる必要がない。
囲でちるが、該液膜の厚さが0.01 y未満では現像
液のけじきによる現像むらの問題が実質的に発生せず、
一方1朋を超える多量の現像液を用いるならば現像液の
はじきによる現像むらが発生しにぐいため本発明の表面
張力における特徴をもたせる必要がない。
また、「均一な液j摸」とは、1枚の28版の画像面ば
おいて、液膜厚の最大および最小÷÷÷→−1−の液膜
が平均液 膜の±30%以内であることをいう。
おいて、液膜厚の最大および最小÷÷÷→−1−の液膜
が平均液 膜の±30%以内であることをいう。
本発明において、用いる現像液は表面張力が50dyn
e/cIrL以下であれば良いが、さらに好ましくは4
0 dyne 7cm以下になるとより効果的でおる。
e/cIrL以下であれば良いが、さらに好ましくは4
0 dyne 7cm以下になるとより効果的でおる。
本発明において、厚さ0.01〜1nの範囲の均一な現
像液の液膜を形成する方法としては、一般に知られてい
る種々の塗布方法が使用できる。具体的にはロールを複
数本用いる方法、粗面化ロールを用いる方法、スリット
を用いる方法、ブレードを用いる方法、エアーナイフを
用いる方法等がある。
像液の液膜を形成する方法としては、一般に知られてい
る種々の塗布方法が使用できる。具体的にはロールを複
数本用いる方法、粗面化ロールを用いる方法、スリット
を用いる方法、ブレードを用いる方法、エアーナイフを
用いる方法等がある。
本発明に用いる現像液はアルカリ剤を主成分とした水溶
液で、アルカリ剤としては例えば珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、′水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリ
ウム、第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第三
リン酸アンモニラム、第ニリン酸アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸ナ
トリウム、モノ、ジまたはトリエタノールアミンおよび
水酸化テトラアルキルアンモニウム等の有機アルカリ剤
などがある。
液で、アルカリ剤としては例えば珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、′水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリ
ウム、第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第三
リン酸アンモニラム、第ニリン酸アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸ナ
トリウム、モノ、ジまたはトリエタノールアミンおよび
水酸化テトラアルキルアンモニウム等の有機アルカリ剤
などがある。
従来のポジ型PS版は、アルカリ剤として、珪酸塩を主
として含む強アルカリ性水溶液から成る現像液を用いて
循環使用して処理されていた。しかしながら、本発明の
ごとく現像液を使い捨てにして用いる場合、珪酸塩は必
須成分ではなくむしろ害の方が多いことも我々は見い出
した。従来、ポジ型PS版用現像液に珪酸塩を用いてい
るのは、現像液の繰り返し使用時に現像活性を安定に保
つことを主目的としているが、本発明のように現像液を
繰り返して使用しない場合は珪酸塩は多く含有しない方
がよい。珪酸塩を多く含むと現像液に沈殿物を生じたり
、自動現像機内に白い沈殿物として付着して装置を汚す
原因になる。
として含む強アルカリ性水溶液から成る現像液を用いて
循環使用して処理されていた。しかしながら、本発明の
ごとく現像液を使い捨てにして用いる場合、珪酸塩は必
須成分ではなくむしろ害の方が多いことも我々は見い出
した。従来、ポジ型PS版用現像液に珪酸塩を用いてい
るのは、現像液の繰り返し使用時に現像活性を安定に保
つことを主目的としているが、本発明のように現像液を
繰り返して使用しない場合は珪酸塩は多く含有しない方
がよい。珪酸塩を多く含むと現像液に沈殿物を生じたり
、自動現像機内に白い沈殿物として付着して装置を汚す
原因になる。
本発明で用いる現像液は実質的に珪酸塩を含まないこと
が沈殿物を生ぜず安定な現像が行われる点から好ましい
。ここで言う、実質的に珪酸塩を含まないという意味は
、具体的忙は珪酸塩の含有率が1.01看チ以下である
ことをいい、該含有率は好ましくは0.5重tチ以下で
あるが、まったく含まないことが最も好ましい。
が沈殿物を生ぜず安定な現像が行われる点から好ましい
。ここで言う、実質的に珪酸塩を含まないという意味は
、具体的忙は珪酸塩の含有率が1.01看チ以下である
ことをいい、該含有率は好ましくは0.5重tチ以下で
あるが、まったく含まないことが最も好ましい。
本発明に用いる現像液は、アルカリ剤の添加のみで表面
張力が50 dyne 7cm以下になることもあるが
、多くの場合アルカリ剤のみで表面張力が十分に低下し
ないため、添加剤を加えて表面張力を下げる必要がある
。このような添加剤としては、界面活性剤、有機溶剤、
無機物、アルカリ可溶性ポリマー等があり、界面活性剤
と有機溶剤の効果は特に大きい。界面活性剤にはノニオ
ン型、アニオン型、カチオン型、両性型等があるが、特
に好ましいのは、アニオン型とカチオン型である。
張力が50 dyne 7cm以下になることもあるが
、多くの場合アルカリ剤のみで表面張力が十分に低下し
ないため、添加剤を加えて表面張力を下げる必要がある
。このような添加剤としては、界面活性剤、有機溶剤、
無機物、アルカリ可溶性ポリマー等があり、界面活性剤
と有機溶剤の効果は特に大きい。界面活性剤にはノニオ
ン型、アニオン型、カチオン型、両性型等があるが、特
に好ましいのは、アニオン型とカチオン型である。
アニオン界面活性剤としては、例えば高級アルコール(
aS〜C2□)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウリルア
ルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコ
ールサルフェートのすl−IJウム塩、ラウリルアルコ
ールサルフェートのアンモニウム塩、「ティーポールB
−81J(商品名・シェル化学展)、第二ナトリウムア
ルキルサルフェートなど〕、脂肪、挨アルコールリン酸
エステル塩類(例エバ、セチルアルコールリン酸エステ
ルのナトリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸
塩類(例エバ、ドデシルベンゼンスルホ/酸のナトリウ
ム塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム
塩、シナ7タリンジスルホ/酸のナトリウム塩、メタニ
トロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキ
ルアミドのスルホン酸塩類(例えば、C,7H330O
NCH20H2SO3N aなど)、H3 二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナ
トリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウ
ムスルホコハク酸シヘキシルエステルなど)がある。こ
れらの中で特にアルキルナフタレンスルホン酸塩類が好
適に用いられる。
aS〜C2□)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウリルア
ルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコ
ールサルフェートのすl−IJウム塩、ラウリルアルコ
ールサルフェートのアンモニウム塩、「ティーポールB
−81J(商品名・シェル化学展)、第二ナトリウムア
ルキルサルフェートなど〕、脂肪、挨アルコールリン酸
エステル塩類(例エバ、セチルアルコールリン酸エステ
ルのナトリウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸
塩類(例エバ、ドデシルベンゼンスルホ/酸のナトリウ
ム塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム
塩、シナ7タリンジスルホ/酸のナトリウム塩、メタニ
トロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキ
ルアミドのスルホン酸塩類(例えば、C,7H330O
NCH20H2SO3N aなど)、H3 二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナ
トリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウ
ムスルホコハク酸シヘキシルエステルなど)がある。こ
れらの中で特にアルキルナフタレンスルホン酸塩類が好
適に用いられる。
これらアニオン型界面活性剤の添加量は0.001〜5
重量係、さらに好ましくは0.01〜1.Oi量チの範
囲である。チオン型界面活性剤としては、各種の化合物
があるが、例えば有機アミン系化合物と第四級アンモニ
ウム塩系化合物を挙げることができる。
重量係、さらに好ましくは0.01〜1.Oi量チの範
囲である。チオン型界面活性剤としては、各種の化合物
があるが、例えば有機アミン系化合物と第四級アンモニ
ウム塩系化合物を挙げることができる。
有機アミン系化合物の例としては、ポリオキシエチレン
アルキルアミン、N−アルキルプロピレンジアミン、N
−アルキルポリエチレンポリアミン、N−アルキルポリ
エチレンポリアミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニ
ド、長鎖アミ/オキシド、アルキルイミダシリン、1−
ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダゾリ/、1−ア
セチルアミノエチル−2−アルキルイミダシリン、2−
アル#’Y’ 4−メチル−4−ヒドロキシメチルオキ
サゾリン等がある。または第四級アンモニウム塩系化合
物の例としては、長鎖第1アミン塩、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩
、アルキルメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベ
ンジルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アル
キルキノリニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、ア
ルキルピリジニウム硫酸塩、ステアミドメチルピリジニ
ウム塩、アフルアミンエチルジエチルアミン塩、アシル
アミノエチルメチルジエチルアンモニウム塩、アルキル
アミドプロピルジメチルベンジルアンモニウム塩、脂肪
酸ポリエチレンポリアミドアシルアミノエチルビリジニ
ウム塩、アシルコラミノホルミルメチルピリジニウム塩
、ステアロオキシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエ
タノールアミン、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、
トリオキシエチレン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪
酸ジプチルアミノエタノール、セチルオキシメチルピリ
ジニウム塩、p−インオクチルフェノキシエトキシエチ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩等がある。これらの
化合物の中では、特に水溶性の第四級アンモニウム塩の
カチオン型界面活性剤が効果に優れ、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニ
ウム塩、エチレンオキシド付加アンモニウム塩等を挙ケ
ることができる。またカチオン成分をくシ返し単位とし
て有する重合体も一般的((はカチオン型界面活性剤で
あり、効果的である。特に、親油性モノマーと共重合し
て得られた第四級アンモニウム塩を含む重合体は好適に
用いることができる。上記カチオン型界面活性剤の添加
量は0.001〜5重量%、より好ましくは0.01〜
1.0重量%の範囲である。また重量平均分子量は30
0〜50,000の範囲で特に好ましくは500〜5.
OOOの範囲である。
アルキルアミン、N−アルキルプロピレンジアミン、N
−アルキルポリエチレンポリアミン、N−アルキルポリ
エチレンポリアミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニ
ド、長鎖アミ/オキシド、アルキルイミダシリン、1−
ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダゾリ/、1−ア
セチルアミノエチル−2−アルキルイミダシリン、2−
アル#’Y’ 4−メチル−4−ヒドロキシメチルオキ
サゾリン等がある。または第四級アンモニウム塩系化合
物の例としては、長鎖第1アミン塩、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩
、アルキルメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベ
ンジルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩、アル
キルキノリニウム塩、アルキルイソキノリニウム塩、ア
ルキルピリジニウム硫酸塩、ステアミドメチルピリジニ
ウム塩、アフルアミンエチルジエチルアミン塩、アシル
アミノエチルメチルジエチルアンモニウム塩、アルキル
アミドプロピルジメチルベンジルアンモニウム塩、脂肪
酸ポリエチレンポリアミドアシルアミノエチルビリジニ
ウム塩、アシルコラミノホルミルメチルピリジニウム塩
、ステアロオキシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエ
タノールアミン、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、
トリオキシエチレン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪
酸ジプチルアミノエタノール、セチルオキシメチルピリ
ジニウム塩、p−インオクチルフェノキシエトキシエチ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩等がある。これらの
化合物の中では、特に水溶性の第四級アンモニウム塩の
カチオン型界面活性剤が効果に優れ、アルキルトリメチ
ルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニ
ウム塩、エチレンオキシド付加アンモニウム塩等を挙ケ
ることができる。またカチオン成分をくシ返し単位とし
て有する重合体も一般的((はカチオン型界面活性剤で
あり、効果的である。特に、親油性モノマーと共重合し
て得られた第四級アンモニウム塩を含む重合体は好適に
用いることができる。上記カチオン型界面活性剤の添加
量は0.001〜5重量%、より好ましくは0.01〜
1.0重量%の範囲である。また重量平均分子量は30
0〜50,000の範囲で特に好ましくは500〜5.
OOOの範囲である。
これらカチオン型界面活性剤も単独で用いられるが、2
種μ上を併用してもよい。
種μ上を併用してもよい。
また、有機溶剤としては、メタノール、エタノール、n
−プロパツール、1so−プロパツール、n−7’タノ
ール、5ec−ブタノール、tert−ブタノール等の
アルコール、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ、
その他アセトン、メチルエチルケトン、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコー
ルモノフェニルエーテル、f IJセリン、ベンジルア
ルコール等がある。有機溶剤の場合には、界面活性剤に
比べて多く添加する必要があり、その添加量は0.1〜
30重景チの範囲、より好ましくは0.5〜5重量%の
範囲であるっまた、本発明に用いる現像液には更に以下
のような添加剤を加えることができる。例えば特開昭5
8−75152号記載のNa0l、 KOl 、 KB
r等の中性塩、tfj開昭59−190952号記載の
EDTA 、 NTA等のキレート剤、特開昭59−1
21336号記載の〔Co (Nl−I3 ) ) 6
Cj11h等の錯体、特開昭50−51324号のアル
キルナフタレ/スルホ/酸ソーダ、N−テトラゾフルー
N、N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオンまた
は両性界面活性剤、特開昭56−142528号記載の
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとア
クリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、
特開昭58−59444号記載の塩化リチウム等の無機
リチウム化合物、特公昭50−34442号記載の安息
香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭59−7
5255号記載のS i + T i等を含む有機金属
界面活性剤、特開昭59−84241号記載の有機硼素
化合物が挙げられる。
−プロパツール、1so−プロパツール、n−7’タノ
ール、5ec−ブタノール、tert−ブタノール等の
アルコール、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ、
その他アセトン、メチルエチルケトン、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコー
ルモノフェニルエーテル、f IJセリン、ベンジルア
ルコール等がある。有機溶剤の場合には、界面活性剤に
比べて多く添加する必要があり、その添加量は0.1〜
30重景チの範囲、より好ましくは0.5〜5重量%の
範囲であるっまた、本発明に用いる現像液には更に以下
のような添加剤を加えることができる。例えば特開昭5
8−75152号記載のNa0l、 KOl 、 KB
r等の中性塩、tfj開昭59−190952号記載の
EDTA 、 NTA等のキレート剤、特開昭59−1
21336号記載の〔Co (Nl−I3 ) ) 6
Cj11h等の錯体、特開昭50−51324号のアル
キルナフタレ/スルホ/酸ソーダ、N−テトラゾフルー
N、N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオンまた
は両性界面活性剤、特開昭56−142528号記載の
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとア
クリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、
特開昭58−59444号記載の塩化リチウム等の無機
リチウム化合物、特公昭50−34442号記載の安息
香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭59−7
5255号記載のS i + T i等を含む有機金属
界面活性剤、特開昭59−84241号記載の有機硼素
化合物が挙げられる。
本発明の方法が適用されるポジ型28版としては0−キ
ノ/ジアジド化合物と有機硼素化合物からなる感光層を
親水性の支持体上に設け、露光によって露光部がアルカ
リ水によって溶解する感光層を有するポジ型28版が望
ましい。0−キノンジアジド化合物としては、例えば米
国特許第3,046,110号、同第3,046,11
1号、同第3,046,121号、同第3,046,1
15号、同第3,046,118号、同第3,046,
119号、同第3,046,120号、同第3,046
,121号、同第3,046,122号、同第3,04
6,123号、同第3,061,430号、同第3,1
02,809号、同第3,106,465号、同第3,
635,709号、同第3,647,443号の各明細
書をはじめ、多数の刊行物に記されている。これらの内
でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物の0−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジ
アジドカルボン酸エステル、および芳香族アミン化合物
の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたは0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、
特〈米]同特許第3,635,709号に記されている
ピロガロールとアセトンとの縮合物に0−ナフトキノ/
ジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米11
特許第4.028,111号に記されている末端にヒド
ロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸、またはO−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸?エステル反応させたもの、英国特許第1,49
4,043号に記されているようなp−ヒドロキシスチ
レンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノ
マー・との共重合体に〇−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸またはO−ナフトキノンジアジドカルボ/酸をエス
テル反応させたもの、米国特許第3,759,711号
に記されているよりなp−アミノスチレンと他の共重合
しうるモノマーとの共重合体に0−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸または0−ナフトキノンジアジドカルボン
酸をアミド反応させたものを好ましく適用できる。
ノ/ジアジド化合物と有機硼素化合物からなる感光層を
親水性の支持体上に設け、露光によって露光部がアルカ
リ水によって溶解する感光層を有するポジ型28版が望
ましい。0−キノンジアジド化合物としては、例えば米
国特許第3,046,110号、同第3,046,11
1号、同第3,046,121号、同第3,046,1
15号、同第3,046,118号、同第3,046,
119号、同第3,046,120号、同第3,046
,121号、同第3,046,122号、同第3,04
6,123号、同第3,061,430号、同第3,1
02,809号、同第3,106,465号、同第3,
635,709号、同第3,647,443号の各明細
書をはじめ、多数の刊行物に記されている。これらの内
でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物の0−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステルまたは0−ナフトキノンジ
アジドカルボン酸エステル、および芳香族アミン化合物
の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたは0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、
特〈米]同特許第3,635,709号に記されている
ピロガロールとアセトンとの縮合物に0−ナフトキノ/
ジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米11
特許第4.028,111号に記されている末端にヒド
ロキシ基を有するポリエステルに0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸、またはO−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸?エステル反応させたもの、英国特許第1,49
4,043号に記されているようなp−ヒドロキシスチ
レンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノ
マー・との共重合体に〇−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸またはO−ナフトキノンジアジドカルボ/酸をエス
テル反応させたもの、米国特許第3,759,711号
に記されているよりなp−アミノスチレンと他の共重合
しうるモノマーとの共重合体に0−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸または0−ナフトキノンジアジドカルボン
酸をアミド反応させたものを好ましく適用できる。
これらの0−キノンジアジド化合物と混合して使用され
る強アルカリ水に可溶の有機高分子化合物としては、た
とえばノボランク型フェノール樹脂がある。具体的には
フェノールホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に特開昭50−125806号に
記されている様に上記のようにフェノール樹脂と共に、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用する
とより一層好ましい。強アルカリ水に可溶の有機高分子
化合物は、感光層中に約50〜約85重景、より好まし
くは60〜80重量%含有させられる。
る強アルカリ水に可溶の有機高分子化合物としては、た
とえばノボランク型フェノール樹脂がある。具体的には
フェノールホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に特開昭50−125806号に
記されている様に上記のようにフェノール樹脂と共に、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用する
とより一層好ましい。強アルカリ水に可溶の有機高分子
化合物は、感光層中に約50〜約85重景、より好まし
くは60〜80重量%含有させられる。
本発明の現像処理方法は、前述のようにポジ型PS版上
に現像液を塗布して、使い捨て現像する場合に現像液の
表面張力を50 dyne / cm以下にして現像処
理することで、少量の現像液でも均一に現像することが
できるようになる。
に現像液を塗布して、使い捨て現像する場合に現像液の
表面張力を50 dyne / cm以下にして現像処
理することで、少量の現像液でも均一に現像することが
できるようになる。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
ポジ型PS版として米国特許第3,635.709号明
細書の実施例1に記載されているアセトンとピロガロー
ルの縮重合によって得られるポリヒドロキシフェニルの
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テノ11部とノボラック型クレゾールホルムアルデヒド
樹脂2重量部、オイルブルー#603の0.03重量部
を20重量部の酢酸−2−メトキシエチルと20重量部
のメチルエチルケトンに溶解して作製した感光液を砂目
室て後、陽極酸化されたアルミニウム板に塗布し80°
Cで2分間乾燥させ乾燥塗布重量2.5g/TrL2の
PS版を得た。サイズは1000 xx X 8001
111にした。
細書の実施例1に記載されているアセトンとピロガロー
ルの縮重合によって得られるポリヒドロキシフェニルの
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テノ11部とノボラック型クレゾールホルムアルデヒド
樹脂2重量部、オイルブルー#603の0.03重量部
を20重量部の酢酸−2−メトキシエチルと20重量部
のメチルエチルケトンに溶解して作製した感光液を砂目
室て後、陽極酸化されたアルミニウム板に塗布し80°
Cで2分間乾燥させ乾燥塗布重量2.5g/TrL2の
PS版を得た。サイズは1000 xx X 8001
111にした。
このPS版にステップウェッジと網点の入った透明ポジ
原画を密着させ3Kwメタルハライドランプで70αの
距離から60秒間画像露光した。
原画を密着させ3Kwメタルハライドランプで70αの
距離から60秒間画像露光した。
まだ、現像液として下記のような珪酸ナトリウムを約0
.5重量%含有するものを調製した。なお、表面張力は
20°Cにおいて35 dyne 7cmであった。
.5重量%含有するものを調製した。なお、表面張力は
20°Cにおいて35 dyne 7cmであった。
現像液
0珪酸ソ一ダJIS3号(Si0229%) 1
00&0アニオ/型界面活性剤 9.
!7(商品名ペレックスNBL、花王アトラス(株)製
)0水酸化ナトリウム 25g0
水 61上記の現像液を
第1図に示す自動現像機の現像液タンクIK仕込み30
°Cに調節し毎分200m+!の流量で現像液供給ノズ
ル2からPS版に供給し、その直後に液ならしローラ3
で均一に現像液をならした。PS版の搬送スピードは2
cm / secとしだ。そして前記のごとく露光し
たボン型28版を現像処理した。
00&0アニオ/型界面活性剤 9.
!7(商品名ペレックスNBL、花王アトラス(株)製
)0水酸化ナトリウム 25g0
水 61上記の現像液を
第1図に示す自動現像機の現像液タンクIK仕込み30
°Cに調節し毎分200m+!の流量で現像液供給ノズ
ル2からPS版に供給し、その直後に液ならしローラ3
で均一に現像液をならした。PS版の搬送スピードは2
cm / secとしだ。そして前記のごとく露光し
たボン型28版を現像処理した。
その結果28版のどの部分にも現像液が同じ厚さで被覆
され、均一な現像により良好な印刷版か得られた。
され、均一な現像により良好な印刷版か得られた。
比較例1
実施例1に用いた現像液からアニオン型界面活性剤を除
き、そのほかは実施例1と同様にして現像処理を行なっ
たところ、現像液がローラでならされた後、現像液が中
央部に集まってしまい、ポジ型PS版の周辺部の現像液
量が極端に少なく々す、その結果ポジ型PS版周辺部の
現像性が不良となり、印刷時に汚れを生じた。
き、そのほかは実施例1と同様にして現像処理を行なっ
たところ、現像液がローラでならされた後、現像液が中
央部に集まってしまい、ポジ型PS版の周辺部の現像液
量が極端に少なく々す、その結果ポジ型PS版周辺部の
現像性が不良となり、印刷時に汚れを生じた。
苗1図は本発明の実施例に用いた自動現像機の略側断面
図である。 1 現像液夕/り 2 現像液供給ノズル 37グならしローラ 4 ・搬送ローラ対 5 ブラシローラ 6 スクイズローラ 7.8 ・・送液ポンプ 9 水洗水供給ノズル 10 発液夕/り 11 水洗水夕/り 12 ポジ型PS版 出、頓入 小西六写真工業株式会社 第1図 1 −一−−王見イ良:a−yニア 2−−−−刻む4本j次f共上tノスー7し3−一−に
L75レローク 4−一−−劫更ρしロー2灯 5−m−ブラシローラ 6−一一一スフィス゛1コーラ 7.8−−ジL5々−・↑・°シフ。
図である。 1 現像液夕/り 2 現像液供給ノズル 37グならしローラ 4 ・搬送ローラ対 5 ブラシローラ 6 スクイズローラ 7.8 ・・送液ポンプ 9 水洗水供給ノズル 10 発液夕/り 11 水洗水夕/り 12 ポジ型PS版 出、頓入 小西六写真工業株式会社 第1図 1 −一−−王見イ良:a−yニア 2−−−−刻む4本j次f共上tノスー7し3−一−に
L75レローク 4−一−−劫更ρしロー2灯 5−m−ブラシローラ 6−一一一スフィス゛1コーラ 7.8−−ジL5々−・↑・°シフ。
Claims (1)
- 自動現像機を用いて画像露光されたポジ型感光性平版印
刷版を自動的に搬送し現像を行なう現像処理方法におい
て、処理のたびごとに未使用の水を主溶媒とする表面張
力50dyne/cm以下のアルカリ性現像液を該ポジ
型感光性平版印刷版上に供給して厚さ0.01〜1mm
の液膜として与えて現像処理することを特徴とするポジ
型感光性平版印刷版の現像処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12172786A JPS62278556A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 現像むらが改良されるポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12172786A JPS62278556A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 現像むらが改良されるポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62278556A true JPS62278556A (ja) | 1987-12-03 |
Family
ID=14818383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12172786A Pending JPS62278556A (ja) | 1986-05-27 | 1986-05-27 | 現像むらが改良されるポジ型感光性平版印刷版の現像処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62278556A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63158552A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
EP0410791A2 (en) * | 1989-07-28 | 1991-01-30 | Konica Corporation | Apparatus for processing a photographic light-sensitive material |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5522759A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developing method of positive type photosensitive lithographic printing plate |
JPS5532044A (en) * | 1978-08-28 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic developing treating device |
-
1986
- 1986-05-27 JP JP12172786A patent/JPS62278556A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5522759A (en) * | 1978-08-08 | 1980-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developing method of positive type photosensitive lithographic printing plate |
JPS5532044A (en) * | 1978-08-28 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic developing treating device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63158552A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
EP0410791A2 (en) * | 1989-07-28 | 1991-01-30 | Konica Corporation | Apparatus for processing a photographic light-sensitive material |
EP0410791A3 (en) * | 1989-07-28 | 1992-04-15 | Konica Corporation | Apparatus for processing a photographic light-sensitive material |
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