JP7474673B2 - めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 - Google Patents
めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7474673B2 JP7474673B2 JP2020166988A JP2020166988A JP7474673B2 JP 7474673 B2 JP7474673 B2 JP 7474673B2 JP 2020166988 A JP2020166988 A JP 2020166988A JP 2020166988 A JP2020166988 A JP 2020166988A JP 7474673 B2 JP7474673 B2 JP 7474673B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- resistor
- tank
- treatment liquid
- plating tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 324
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 85
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 74
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 55
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 20
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 16
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 120
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;sulfuric acid Chemical compound OO.OS(O)(=O)=O XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/002—Cell separation, e.g. membranes, diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/008—Current shielding devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/04—Removal of gases or vapours ; Gas or pressure control
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/10—Agitating of electrolytes; Moving of racks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/20—Regeneration of process solutions of rinse-solutions
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/02—Analysing fluids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/22—Details, e.g. general constructional or apparatus details
- G01N29/222—Constructional or flow details for analysing fluids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/04—Electroplating with moving electrodes
- C25D5/06—Brush or pad plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/12—Semiconductors
- C25D7/123—Semiconductors first coated with a seed layer or a conductive layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
図1は、本実施形態のめっき装置の全体構成を示す斜視図である。図2は、本実施形態のめっき装置の全体構成を示す平面図である。図1、2に示すように、めっき装置1000は、ロードポート100、搬送ロボット110、アライナ120、プリウェットモジュール200、プリソークモジュール300、めっきモジュール400、洗浄モジュール500、スピンリンスドライヤ600、搬送装置700、および、制御モジュール800を備える。
次に、めっきモジュール400の構成を説明する。本実施形態における24台のめっきモジュール400は同一の構成であるので、1台のめっきモジュール400のみを説明する。図3は、第1実施形態のめっきモジュール400の構成を概略的に示す縦断面図である。図3に示すように、めっきモジュール400は、めっき液を収容するためのめっき槽410を備える。めっき槽410は、上面が開口した円筒形の内槽412と、内槽412の上縁からオーバーフローしためっき液を溜められるように内槽412の周囲に設けられた外槽414と、を含んで構成される。
412 内槽
412a 側壁
412b 供給口
412c 排出口
414 外槽
416 傾斜機構
420 メンブレン
422 カソード領域
424 アノード領域
430 アノード
440 基板ホルダ
442 昇降機構
450 抵抗体
452 貫通孔
454 裏面
460 供給配管
462 バイパス配管
470 リザーバタンク
472 ポンプ
480 流量調整機構
482 配管気泡検出センサ
484 脱気モジュール
490 抵抗体気泡検出センサ
492 超音波発信部材
494 超音波受信部材
800 制御モジュール
810 処理装置
820 記憶媒体
1000 めっき装置
Bub 気泡
Wf 基板
Wf-a 被めっき面
Claims (18)
- めっき槽と、
被めっき面を下方に向けた状態で基板を保持するための基板ホルダと、
前記基板ホルダを昇降させるための昇降機構と、
前記基板ホルダに保持された基板と対向するように前記めっき槽内に配置されたアノードと、
前記アノードと前記基板との間に配置された抵抗体と、
前記アノードが配置された領域と前記抵抗体が配置された領域とを隔てるメンブレンと、
リザーバタンクに蓄えられた処理液を前記抵抗体より下方から前記めっき槽に供給するための供給配管と、
前記供給配管を介してめっき槽に供給された処理液を前記抵抗体より下方から前記リザーバタンクに排出するためのバイパス配管と、
を含み、
前記供給配管および前記バイパス配管は、前記めっき槽の前記メンブレンと前記抵抗体との間に接続されており、
前記めっき槽を処理液で満たす際に、処理液の液面が前記抵抗体よりも低い状態で前記バイパス配管、前記リザーバタンク、および前記供給配管を介した処理液の循環を所定時間行った後に、処理液の循環を停止し、前記めっき槽を処理液で満たす、ように構成されている、
めっき装置。 - 前記バイパス配管から排出された処理液を含む前記リザーバタンクに蓄えられた処理液を、前記供給配管を介して前記めっき槽へ吐出するためのポンプをさらに含む、
請求項1に記載のめっき装置。 - 前記バイパス配管を流れる処理液の流量を調整するように構成された流量調整機構をさ
らに含み、
前記流量調整機構は、前記バイパス配管、前記リザーバタンク、および前記供給配管を介した処理液の循環を所定時間行った後に、処理液の循環を停止するように構成されている、
請求項1または2に記載のめっき装置。 - 前記供給配管または前記バイパス配管を流れる処理液中の気泡の存在を検出するように構成された配管気泡検出センサをさらに含む、
請求項1または2に記載のめっき装置。 - 前記配管気泡検出センサは、超音波センサである、
請求項4に記載のめっき装置。 - 前記配管気泡検出センサの検出結果に応じて前記バイパス配管を流れる処理液の流量を調整するように構成された流量調整機構をさらに含む、
請求項4または5に記載のめっき装置。 - 前記抵抗体の前記アノードと対向する面における気泡の存在を検出するための抵抗体気泡検出センサをさらに含む、
請求項1から6のいずれか一項に記載のめっき装置。 - 前記抵抗体気泡検出センサは、前記抵抗体の前記アノードと対向する面に沿って超音波を発信するように構成された超音波発信部材と、前記超音波発信部から発信された超音波を受信するように構成された超音波受信部材と、を含む超音波センサである、
請求項7に記載のめっき装置。 - 前記めっき槽を傾斜させるように構成された傾斜機構をさらに含み、
前記超音波受信部材は、前記傾斜機構による前記めっき槽の傾斜に伴って傾斜した前記抵抗体の上端の近傍に配置される、
請求項8に記載のめっき装置。 - 前記供給配管または前記バイパス配管を流れる処理液を脱気するように構成された脱気モジュールをさらに含む、
請求項1から9のいずれか一項に記載のめっき装置。 - 前記抵抗体は、前記アノードと前記基板との間を仕切るように配置された、多孔質の板状部材または前記アノード側と前記基板側とを連通する複数の貫通孔が形成された板状部材を含む、
請求項1から10のいずれか一項に記載のめっき装置。 - 前記処理液は、めっき液、または、前記めっき槽を洗浄するための洗浄液である、
請求項1から11のいずれか一項に記載のめっき装置。 - カップ式のめっき装置のめっき槽に処理液を溜める際の気泡除去方法であって、
リザーバタンクに蓄えられた処理液を、前記めっき槽に収容されたアノードと基板との間に配置された抵抗体よりも下方から供給配管を介して前記めっき槽に供給する供給ステップを有し、
前記気泡除去方法は、処理液の液面が前記抵抗体よりも低い状態において、
前記供給ステップによって前記めっき槽に供給された処理液を前記抵抗体より下方からバイパス配管を介して前記リザーバタンクに排出する排出ステップと、
前記排出ステップによって排出された処理液を含む前記リザーバタンクに蓄えられた処理液を前記供給配管から前記めっき槽に供給する循環ステップと、
所定時間だけ前記循環ステップを行った後に処理液の循環を停止する停止ステップと、
を含み、
前記めっき槽は、前記アノードが配置された領域と前記抵抗体が配置された領域とを隔てるメンブレンを含み、
前記供給配管および前記バイパス配管は、前記めっき槽の前記メンブレンと前記抵抗体との間に接続されている、
気泡除去方法。 - 前記供給配管または前記バイパス配管を流れる処理液中の気泡の存在を検出する配管気泡検出ステップをさらに含む、 請求項13に記載の気泡除去方法。
- 前記配管気泡検出ステップの検出結果に応じて前記バイパス配管を流れる処理液の流量を調整する流量調整ステップをさらに含む、
請求項14に記載の気泡除去方法。 - 前記抵抗体の前記アノードと対向する面における気泡の存在を検出するための抵抗体気泡検出ステップをさらに含む、
請求項13から15のいずれか一項に記載の気泡除去方法。 - 前記抵抗体気泡検出ステップを実行する前に、前記めっき槽を傾斜させる傾斜ステップをさらに含む、
請求項16に記載の気泡除去方法。 - リザーバタンクに蓄えられた処理液を、カップ式のめっき装置のめっき槽に収容されたアノードと基板との間に配置された抵抗体よりも下方から供給配管を介して前記めっき槽に供給する供給ステップと、
処理液の液面が前記抵抗体よりも低い状態において、
前記供給ステップによって前記めっき槽に供給された処理液を前記抵抗体より下方からバイパス配管を介して前記リザーバタンクに排出する排出ステップと、
前記排出ステップによって排出された処理液を含む前記リザーバタンクに蓄えられた処理液を前記供給配管から前記めっき槽に供給する循環ステップと、
所定時間だけ前記循環ステップを行った後に処理液の循環を停止する停止ステップと、
を含む、めっき槽に処理液を溜める際の気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記めっき槽は、前記アノードが配置された領域と前記抵抗体が配置された領域とを隔てるメンブレンを含み、
前記供給配管および前記バイパス配管は、前記めっき槽の前記メンブレンと前記抵抗体との間に接続されている、
記憶媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020166988A JP7474673B2 (ja) | 2020-10-01 | 2020-10-01 | めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 |
US17/462,957 US11542623B2 (en) | 2020-10-01 | 2021-08-31 | Plating apparatus, air bubble removing method, and storage medium that stores program to cause computer in plating apparatus to execute air bubble removing method |
TW110132545A TW202223168A (zh) | 2020-10-01 | 2021-09-02 | 鍍覆裝置、氣泡去除方法、及儲存有用以在鍍覆裝置之電腦上實行氣泡去除方法之程式的記憶媒體 |
KR1020210124805A KR20220044407A (ko) | 2020-10-01 | 2021-09-17 | 도금 장치, 기포 제거 방법, 및 기포 제거 방법을 도금 장치의 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 저장한 기억 매체 |
CN202111142362.0A CN114277423A (zh) | 2020-10-01 | 2021-09-28 | 镀覆装置、气泡除去方法、以及存储介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020166988A JP7474673B2 (ja) | 2020-10-01 | 2020-10-01 | めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022059327A JP2022059327A (ja) | 2022-04-13 |
JP7474673B2 true JP7474673B2 (ja) | 2024-04-25 |
Family
ID=80868613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020166988A Active JP7474673B2 (ja) | 2020-10-01 | 2020-10-01 | めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11542623B2 (ja) |
JP (1) | JP7474673B2 (ja) |
KR (1) | KR20220044407A (ja) |
CN (1) | CN114277423A (ja) |
TW (1) | TW202223168A (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005042158A (ja) | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Ebara Corp | めっき方法及びめっき装置 |
JP2010065287A (ja) | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Ebara Corp | 電解処理装置及び電解処理方法 |
US20140166476A1 (en) | 2012-12-11 | 2014-06-19 | Lam Research Corporation | Bubble and foam solutions using a completely immersed air-free feedback flow control valve |
JP2014139341A (ja) | 2012-12-11 | 2014-07-31 | Novellus Systems Incorporated | 電気充填真空めっきセル |
JP2017115170A (ja) | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
US20180237933A1 (en) | 2010-12-01 | 2018-08-23 | Novellus Systems, Inc. | Electroplating apparatus and process for wafer level packaging |
JP2018145513A (ja) | 2017-03-09 | 2018-09-20 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置 |
US10954602B1 (en) | 2019-10-25 | 2021-03-23 | United Semiconductor (Xiamen) Co., Ltd. | Method of electro-chemical plating |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5516417A (en) * | 1993-10-22 | 1996-05-14 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for applying composite plating on hollow member |
JP3513130B2 (ja) * | 2001-10-11 | 2004-03-31 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | メッキ装置及びメッキ方法 |
JP2008019496A (ja) | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電解めっき装置および電解めっき方法 |
TW201218277A (en) * | 2010-09-09 | 2012-05-01 | Novellus Systems Inc | By-product mitigation in through-silicon-via plating |
CN107022776B (zh) * | 2017-06-12 | 2019-02-05 | 俊杰机械(深圳)有限公司 | 一种pcb板掉板监测装置及电镀装置 |
-
2020
- 2020-10-01 JP JP2020166988A patent/JP7474673B2/ja active Active
-
2021
- 2021-08-31 US US17/462,957 patent/US11542623B2/en active Active
- 2021-09-02 TW TW110132545A patent/TW202223168A/zh unknown
- 2021-09-17 KR KR1020210124805A patent/KR20220044407A/ko active Search and Examination
- 2021-09-28 CN CN202111142362.0A patent/CN114277423A/zh active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005042158A (ja) | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Ebara Corp | めっき方法及びめっき装置 |
JP2010065287A (ja) | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Ebara Corp | 電解処理装置及び電解処理方法 |
US20180237933A1 (en) | 2010-12-01 | 2018-08-23 | Novellus Systems, Inc. | Electroplating apparatus and process for wafer level packaging |
US20140166476A1 (en) | 2012-12-11 | 2014-06-19 | Lam Research Corporation | Bubble and foam solutions using a completely immersed air-free feedback flow control valve |
JP2014132115A (ja) | 2012-12-11 | 2014-07-17 | Lam Research Corporation | 完全浸漬された無空気の帰還流量制御弁を用いた気泡および発泡解消方法 |
JP2014139341A (ja) | 2012-12-11 | 2014-07-31 | Novellus Systems Incorporated | 電気充填真空めっきセル |
JP2017115170A (ja) | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
JP2018145513A (ja) | 2017-03-09 | 2018-09-20 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置 |
US10954602B1 (en) | 2019-10-25 | 2021-03-23 | United Semiconductor (Xiamen) Co., Ltd. | Method of electro-chemical plating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202223168A (zh) | 2022-06-16 |
CN114277423A (zh) | 2022-04-05 |
KR20220044407A (ko) | 2022-04-08 |
JP2022059327A (ja) | 2022-04-13 |
US20220106698A1 (en) | 2022-04-07 |
US11542623B2 (en) | 2023-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3074366B2 (ja) | 処理装置 | |
KR102338157B1 (ko) | 도금 장치, 프리웨트 처리 방법 및 세정 처리 방법 | |
US9027573B2 (en) | Substrate processing apparatus for maintaining a more uniform temperature during substrate processing | |
JP6472726B2 (ja) | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 | |
JP6971137B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR102493634B1 (ko) | 도금 방법 및 도금 장치 | |
US10458010B2 (en) | Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method, and storage medium | |
CN114616360B (zh) | 预湿模块和预湿方法 | |
JP7474673B2 (ja) | めっき装置、気泡除去方法、および気泡除去方法をめっき装置のコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体 | |
JP2019220518A (ja) | 基板処理装置および処理液再利用方法 | |
JP6914062B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP7008863B1 (ja) | プリウェットモジュール、脱気液循環システム、およびプリウェット方法 | |
JP6762214B2 (ja) | 基板液処理装置、および基板液処理方法 | |
JP3697063B2 (ja) | 洗浄システム | |
JP2022077385A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
TWI808112B (zh) | 基板處理方法及基板處理裝置 | |
JP3118443B2 (ja) | ウェーハ洗浄装置 | |
KR102467232B1 (ko) | 프리웨트 모듈, 탈기액 순환 시스템, 및 프리웨트 방법 | |
JP7467782B1 (ja) | めっき装置およびめっき液排出方法 | |
JPH08195372A (ja) | 洗浄装置およびその方法 | |
WO2023282064A1 (ja) | 基板処理システム、及び基板処理方法 | |
JP7253125B1 (ja) | めっき装置、及び、めっき方法 | |
WO2023032191A1 (ja) | めっき方法及びめっき装置 | |
US20220359233A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
WO2022180780A1 (ja) | 基板ホルダの保管方法、めっき装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210601 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240415 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7474673 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |