JP7242673B2 - レリーフ構造を製造するためのレリーフ前駆体を識別する方法 - Google Patents
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Description
本発明は、レリーフ前駆体、殊に印刷版前駆体を識別する方法と、レリーフ前駆体から出発してレリーフ、殊に印刷版を製造する方法と、レリーフと、その使用とに関する。
レリーフ前駆体は、支持体層と、感光層と、さらなる層とから成ることが一般的である。レリーフは、後続の工程で未露光領域を除去することができるように感光層を露光により変化させることで作製されることが一般的である。レリーフ前駆体は、多くのバリエーションで提供および使用されるため、例えば、層厚、反応性、層の数および種類、硬度、ならびにさらなる特性において異なり得る。これにより、レリーフ前駆体の加工は、レリーフ前駆体が誤ったプロセスパラメータで加工された場合または誤ったデータが使用された場合に、取り違いおよび不良品を引き起こし易くなる。
取り違いをなくすために、様々な前駆体タイプが、異なるように着色される。欧州特許第１６７９５４９号明細書には、例えば、この目的のための発光染料の使用が記載されている。しかしながら、このカラーコードは、レリーフ前駆体の特性についてのさらなる情報を包含していない。
別の可能性としては、レリーフ前駆体の個別層の上または間に識別子を付けることがある。インクまたはラベルによる印付けは、これらが破損なしにはレリーフ構造製造のためのプロセス工程に耐えないことから、実用的ではないと判明している。特開平１１－１３３５９０号公報には、レリーフ前駆体の上側にある保護フィルム上にマーキングを付けることが記載されている。このフィルムは、一般的に加工前に除去されるため、情報は、加工の間にはもはや利用することはできない。
欧州特許出願公開第２７２２７１３号明細書には、コーディングを、レリーフ前駆体の支持体フィルムと感光層との間に導入することが記載されている。このコーディングは、後続のプロセス工程においても維持されるが、この層を製造すること、およびコーディングが別のプロセス工程に影響を与えず、それでいて良好に読み取り可能であるようにすることにはコストがかかる。マスク層が組み込まれているレリーフ前駆体の場合、コーディングは、マスク層の吸収率が高いことから読み取ることができない。
米国特許第９，３７５，９１６号明細書には、支持体層の裏側またはレリーフの凹部内にマーキングを付け、それにより、後続の工程におけるアラインメント（位置合わせ）を確実なものにすることが提案されている。しかしながら、ここでマーキングは、レリーフの作製後に初めて付けられるため、レリーフ作製の間にプロセスエラーを防止することができない。
同様に、特開２０００－１８１０５１号公報には、複数回の使用後かつ保管においてレリーフ構造を識別することができるように、レリーフの凹部にマーキングを付けることが提案されている。しかしながら、これにより、さらなるマスクの作製およびさらなる露光工程が必要とされるため、プロセスが複雑かつ長いものになる。
よって、本発明の課題は、記載の欠点を有さず、かつデータの長期的なコーディングと、プロセス制御のためのその読み取りおよび使用とを可能にする、レリーフ前駆体を長期的に識別するための方法を提供することである。
この課題は、支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体またはレリーフを識別する方法であって、
ａ） 支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体を用意する工程、
ｂ） レリーフ前駆体またはレリーフのタイプを識別し、かつ場合によってその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを、少なくとも１個の二次元コードの形態で用意する工程、
ｃ） 二次元コードをレリーフとしてレリーフ形成層に導入する工程
を有する、方法により解決される。
ａ） 支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体を用意する工程、
ｂ） レリーフ前駆体またはレリーフのタイプを識別し、かつ場合によってその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを、少なくとも１個の二次元コードの形態で用意する工程、
ｃ） 二次元コードをレリーフとしてレリーフ形成層に導入する工程
を有する、方法により解決される。
本発明によると、二次元コードは、レリーフ前駆体の画像構造化の間に作製され、続いて、三次元レリーフとして維持される。二次元または三次元の形態でコーディングされたデータの読み取りおよびデータ送信により、製造プロセスを制御することができる。コードは、機械で、好ましくは非接触式に読み取ることが可能である。
工程ａ）において、寸法安定性の支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体が提供される。支持体としては、任意でさらなる層を有し得る寸法安定性の支持体材料を使用することができる。適切な寸法安定性の支持体の例は、金属、例えば、鋼、アルミニウム、銅もしくはニッケル製の、またはプラスチック、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミドおよびポリカーボネート製の、織物および不織布、例えばガラス繊維織物製の、ならびにガラス繊維とプラスチックとの複合材製のプレート、フィルム、ならびに円錐形および円筒形の管（スリーブ）である。寸法安定性の支持体としては、殊に、寸法安定性の支持体フィルムまたは金属板、例えば、ポリエチレンフィルムまたはポリエステルフィルム、鋼板またはアルミニウム板が考えられる。これらの支持体フィルムまたは板は、５０～１１００μｍ、好適には７５～４００μｍ、例えば、約２５０μｍの厚さであることが一般的である。プラスチックフィルムが使用される場合、その厚さは、１００～２００μｍ、好ましくは１２５～１７５μｍの範囲にあることが一般的である。鋼が支持体材料として使用される場合、０．０５～０．３ｍｍの厚さを有する鋼板が好ましい。腐食から保護するためには、スズめっき鋼板が使用されることが好ましい。これらの支持体フィルムまたは支持体板には、薄い接着促進層、例えば０．０５～５μｍの厚さの層が、基材層に面した側の支持体フィルム上に被覆されていてもよい。
さらなる接着改善中間層が、支持体層に面していない側の接着層上に存在していてもよく、０．１～５０μｍ、殊に１～１０μｍの層厚を有する。
レリーフ前駆体は、少なくとも１個のレリーフ形成層を含む。レリーフ形成層は、支持体上に直接施与されていてもよい。しかしながら、支持体とレリーフ形成層との間には、さらに別の層、例えば、接着層または弾性もしくは圧縮可能な下層が存在していてもよい。
レリーフ形成層は、１個より多くの層から成っていてもよく、レリーフ形成層は、２～２０個の層、好適には２～５個の層、特に好ましくは２～３個の層、極めて特に好ましくは１個の層を含むことが一般的である。これらの層は、同じ構成要素を含んでいても、または異なる構成要素を含んでいてもよく、これらを同じまたは異なる割合で含んでいてもよい。これらの層は、同じ構成要素を含むことが好ましい。支持体層の最も近くにあるレリーフ形成層は、すでに固化、架橋、および／または反応されていることが好ましい。これらの固化、架橋、反応された層上には、さらに固化、架橋、または反応可能な少なくとも１個のレリーフ形成層が配置されている。
レリーフ形成層の厚さは、０．１ｍｍ～７ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍ～４ｍｍ、特に好ましくは０．７ｍｍ～３ｍｍ、極めて特に好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍであることが一般的である。幾つかの場合において、層厚は、好ましくは２ｍｍ～７ｍｍ、特に好ましくは２．５ｍｍ～７ｍｍ、極めて特に好ましくは２．８ｍｍ～７ｍｍである。
任意で、レリーフ前駆体は、さらなる層を含んでいてもよい。例えば、レリーフ形成層上には、１個以上の機能層が存在していてもよい。機能層は、例えば、保護機能、マスキング機能、バリア機能、構造化機能、接着もしくは分離機能、またはそれらの組み合わせを有し得る。これらの機能層は、上流の工程においてまたは加工の間に完全または部分的に除去されても、または長期的に存在していてもよい。例えば、レリーフ形成層を汚染および損傷から保護する保護層が存在していてもよい。これは、コードの導入前に除去されることが一般的である。
適切な試験により、レリーフ前駆体の識別およびさらなる加工に必要とされるデータが収集され、アナログまたはデジタル形式で少なくとも二次元コードとして提供される。この二次元コードは、例えば、レリーフ前駆体のパッケージまたはレリーフ前駆体自体の内部または上に、例えばラベルまたはＲＦＩＤコードとして取り付けられていても、配達用紙または別の書類に印刷されていてもよい。これらのデータは、レリーフ前駆体のタイプについてのデータと、場合によってレリーフまたは機能する印刷版の作製に必要なプロセス関連データまたはその範囲とを含む。レリーフ前駆体のタイプについてのデータは、例えば、商品番号、バッチ番号、識別番号、プレートまたは層の厚さについての情報、レリーフ前駆体の長さおよび幅についての情報、プレートタイプ、またはそれらの任意の組み合わせを含む。プロセスパラメータについてのデータは、例えば、露光条件、アブレーション条件、温度条件、洗浄条件、現像条件、乾燥条件、保管条件、デバイス構成および設定、プロセスフローの優先順位、ならびにそれらの任意の組み合わせである。プロセス関連データは、オペレータへのメッセージまたは助言、例えば、警告、入力要求、パラメータもしくはデバイス設定もしくはデバイス状態のチェックの要求、次のプロセス工程に関する指示および情報、またはそれらの組み合わせも包含し得る。同様に、タイプおよびプロセス条件についてのデータは、任意の手法で組み合わされてもよい。さらに、コードは、受入検査の際に、発送の際に、印刷機の適切な場所での使用の際に、およびレリーフ前駆体を識別するために使用することが可能である。
工程ｃ）において、このコードは、レリーフとしてレリーフ形成層に導入され、これについては、複数の可能性がある。レリーフは、基台上に凸部として形成されていても、層内部に凹部として形成されていてもよい。レリーフの作製後、コードは、前駆体上に強くかつ長期的に固定されるため、すべての後続の工程で長期的に利用可能かつ読み取り可能である。コードを含むレリーフは、後続の工程において、故意に機械的に除去しなければ、失われることはない（別のマーキング、例えば貼付された識別子は、例えば現像浴中で剥離し得る）。レリーフの作製後、コードは三次元の形態にあり、凸部表面から凹部表面までの平均間隔として定められるレリーフ高さは、０．０１μｍ～１０ｍｍの範囲、好ましくは０．１μｍ～１０ｍｍの範囲、特に好ましくは１μｍ～７ｍｍの範囲、極めて特に好ましくは２μｍ～５ｍｍの範囲にある。コードは、レリーフ前駆体の任意の箇所に付けられてもよく、好適には、コードは、後の使用において妨げにならない、切断される、または使用されない領域に付けられる。これは、一般的にエッジ領域において当てはまる。しかしながら、１つ以上のコードは、１つ以上の任意の箇所に置くことも可能であり、これは特に、レリーフが複数の部分に分割される場合に有利である。ここで、相応する部分に合わせてサイズ調整されたコードを付けることができる。
本発明による方法の一実施形態において、レリーフ形成層は、彫刻可能層であり、工程ｃ）で、二次元コードは、レリーフとして、材料除去方法によりレリーフ形成層に導入される。彫刻可能層は、機械的に除去可能な、または高エネルギー放射線により分解可能および／もしくは気化可能な材料を含むことが一般的である。これは、無機もしくは有機材料またはそれらの組み合わせのどちらであってもよい。有機材料が使用されることが好ましい。さらに、レリーフ形成層は、放射線を吸収し、好適には熱に変換する物質を含有していてもよい。これとしては、例えば、相応する波長範囲で吸収する顔料および染料が挙げられる。レリーフを彫刻するための電磁放射線としては、３００ｎｍ～２００００ｎｍの範囲、好ましくは５００ｎｍ～２００００ｎｍの範囲、特に好ましくは８００ｎｍ～１５０００ｎｍの範囲、極めて特に好ましくは８００ｎｍ～１１０００ｎｍの範囲にある波長を有する放射線が使用されることが一般的である。固体レーザーのみならず、気体レーザーまたはファイバーレーザーも使用される。レーザー彫刻Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ）またはＣＯ２レーザー（９４００ｎｍおよび１０６００ｎｍ）が使用されることが好ましい。ここで、レリーフ層を選択的に除去するためには、所望の印刷画像およびコードが作製されるように１つ以上のレーザー光線を制御する。
この場合、コードは、タイプについての情報（商品番号、バッチ番号、識別番号、印刷版または層の厚さについての情報、長さおよび幅についての情報、タイプ）のみならず、さらなるプロセス工程の条件についてのデータも含み得る。さらなるプロセス工程についての例は、機械的特性を改善するための熱後処理、彫刻の残留物を除去するための洗浄処理、または平坦化である。熱後処理の場合、データは、例えば、温度、温度プロファイル、および後処理時間についての情報を含み得る。さらなるプロセス工程としての印刷版の洗浄の場合、データは、例えば、洗浄剤、洗浄方式、温度、周囲条件（圧力、雰囲気、ダストクラスなど）、および洗浄時間についての情報を含み得る。
本発明による方法のさらなる実施形態において、レリーフ形成層は、光感受性層であり、工程ｃ）で、二次元コードは、直接像様露光と、露光または未露光領域の後続の除去とにより、レリーフ形成層に導入される。光感受性層は、開始剤または開始剤系、開始剤により反応させられる反応性化合物、および場合によってさらなる成分、例えば、バインダー、添加剤、着色剤などを含む。ここで、誘発された反応は、レリーフ形成層の露光領域の固化または溶解度低下をもたらすか、露光領域の軟化／液化または溶解度増加をもたらす。溶解度または硬さの違いは、三次元レリーフを作製するために、可溶性のまたはより流動性のある領域の除去により、後続の現像工程において利用される。固化または溶解度低下を目指すことが好ましい。これについては、重合反応および／または架橋反応、例えば、ラジカル反応または縮合反応が適している。ラジカル重合および架橋が使用されることが好ましい。またこれは、光化学的または熱的に開始されてもよい。光化学的に開始する場合、露光時にラジカルを生成する光開始剤が使用され、熱的な変法の場合、熱活性化によるラジカルへの分解が利用される。光活性化が使用されることが好ましい。別の可能性は、光化学的に酸または塩基を生成することであり、それにより、架橋または重合が開始するか、溶解度が変化する。ポリマーの溶解度は、例えば保護基が酸触媒または塩基触媒により開裂することで増加し得る。
レリーフ形成層は、１種以上の開始剤、または少なくとも２種の成分から構成される開始剤系を含有し、開始剤は、加熱および／または電磁放射線照射により、重合および／または架橋を起こすラジカルを生成する。そのような開始剤は、当業者に公知であり、例えば、以下の文献に記載されている：Ｂｒｕｃｅ Ｍ．Ｍｏｎｒｏｅ等、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ，９３，４３５（１９９３）、Ｒ．Ｓ．Ｄａｖｉｄｓｏｎ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ Ａ：Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，７３，８１（１９９３）、Ｊ．Ｐ．Ｆａｕｓｓｉｅｒ、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ－Ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：Ｒａｐｒａ Ｒｅｖｉｅｗ、第９巻、Ｒｅｐｏｒｔ，ＲａｐｒａＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９８）、Ｍ．Ｔｓｕｎｏｏｋａ等、２５ Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２１，１（１９９６）、Ｆ．Ｄ．Ｓａｅｖａ，Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１５６，５９（１９９０）、Ｇ．Ｇ．Ｍａｓｌａｋ，Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１６８，１（１９９３）、Ｈ．Ｂ．Ｓｈｕｓｔｅｒ等、ＪＡＧＳ，１１２，６３２９（１９９０）、およびＩ．Ｄ．Ｆ．Ｅａｔｏｎ等、ＪＡＧＳ，１０２，３２９８（１９８０）、Ｐ．ＦｏｕａｓｓｉｅｒおよびＪ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ、Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｉｎｇ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、７７～１１７頁（１９９３）、またはＫ．Ｋ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ ａｎｄ Ｃａｔｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｔｉｏｎ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ＆ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ ａｎｄ Ｐａｉｎｔｓ、第３巻、Ｓｉｔａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＬＴＤ，Ｌｏｎｄｏｎ １９９１；またはＲ．Ｓ．Ｄａｖｉｄｓｏｎ、Ｅｘｐｌｏｒｉｎｇ ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ，ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｕ．Ｖ．ａｎｄ Ｅ．Ｂ．Ｃｕｒｉｎｇ、Ｓｉｔａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＬＴＤ、Ｌｏｎｄｏｎ １９９９。さらなる開始剤は、特公昭４５－３７３７７号公報、特願昭４４－８６５１６号公報、米国特許第３５６７４５３号明細書、米国特許第４３４３８９１号明細書、欧州特許第１０９７７２号明細書、欧州特許第１０９７７３号明細書、特開昭６３－１３８３４５号公報、特開昭６３－１４２３４５号公報、特開昭６３－１４２３４６号公報、特開昭６３－１４３５３７号公報、特公昭４６－４２３６３号公報、特開昭５９－１５２３９６号公報、特開昭６１－１５１１９７号公報、特開昭６３－４１４８４号公報、ＪＰ２２４９、およびＪＰ２４７０５、特公昭６２－６２２３号公報、特公昭６３－１４３４０号公報、ＪＰ１５５９１７４８３１、ＪＰ１３０４４５３、およびＪＰ１１５２１０９に記載されている。
レリーフ形成層は、配合物全体を基準として、開始剤または開始剤系を、０．１～２０重量％の範囲の濃度で含有することが一般的である。好ましい開始剤濃度は、１～１０重量％の範囲、特に好ましくは１～８重量％の範囲、極めて特に好ましくは１～６重量％の範囲にある。
レリーフ形成層は、１種以上のバインダーと相溶性である少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーを、公知の手法でさらに含む。エチレン性不飽和モノマーは、２種以上の異なるモノマーの混合物であってもよい。適切な化合物は、少なくとも１個のオレフィン性二重結合を有し、重合可能である。よって、これらは、以下でモノマーと称される。アクリル酸またはメタクリル酸と、単官能性もしくは多官能性アルコール、アミン、アミノアルコールもしくはヒドロキシエーテルおよびヒドロキシエステルとのエステルまたはアミド、フマル酸もしくはマレイン酸のエステル、ビニルエーテル、ビニルエステル、ならびにアリル化合物が特に有利であると分かった。
一般的に、これらのモノマーは、室温の場合、気体状の化合物ではない。エチレン性不飽和モノマーは、少なくとも２個のエチレン性不飽和基、特に好ましくは２～６個のエチレン性不飽和基、極めて特に好ましくは２個以上のエチレン性不飽和基を含むことが好ましい。Ｃ－Ｃ三重結合を有する化合物も、放射線感受性混合物中で使用することが可能である。エチレン性不飽和基は、少なくとも１個のアクリレート基および／またはメタクリレート基であることが好ましいが、スチレン誘導体、アクリルアミド、ビニルエステルおよびビニルエーテルも使用することができる。エチレン性不飽和モノマーは、６００ｇ／ｍｏｌ未満、好ましくは４５０ｇ／ｍｏｌ未満、特に好ましくは４００ｇ／ｍｏｌ未満、極めて特に好ましくは３５０ｇ／ｍｏｌ未満、殊に３００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有することが一般的である。
一実施形態において、エチレン性不飽和モノマーは、配合物全体を基準として、０．５～６０重量％の範囲、好ましくは１～５０重量％の範囲、特に好ましくは１～４０重量％の範囲、極めて特に好ましくは２～４０重量％の範囲の濃度で含有されている。
レリーフ形成層は、不活性添加物として、また反応に関与して固化に寄与する反応物としても存在し得るバインダーをさらに含有し得る。バインダーが反応に関与している場合、これらは、例えば、二重結合のような、三重結合のような、または抽出可能な水素を有する基、例えば、チオール、フェノールもしくはアミンのような相応する官能基を有する。
フレキソ印刷要素のレリーフ形成層を製造するためのエラストマーバインダーは、当業者に公知である。例としては、スチレン－ジエン－ブロックコポリマー、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン－ブタジエン－ゴム、ニトリル－ブタジエン－ゴム、ブチルゴム、スチレン－イソプレン－ゴム、スチレン－ブタジエン－イソプレン－ゴム、ポリノルボルネンゴム、またはエチレン－プロピレン－ジエン－ゴム（ＥＰＤＭ）が挙げられる。疎水性バインダーが使用されることが好ましい。そのようなバインダーは、有機溶媒またはそれらの混合物に可溶である。
エラストマーは、アルケニル芳香族および１，３－ジエンから構成される熱可塑性エラストマーブロックコポリマーであることが好ましい。ブロックコポリマーは、直鎖状、分枝鎖状、または放射状のブロックコポリマーであり得る。通常、これは、Ａ－Ｂ－Ａタイプの３ブロックコポリマーであるが、Ａ－Ｂタイプの２ブロックポリマーであっても、または複数の交互になったエラストマー状および熱可塑性ブロックを有するもの、例えばＡ－Ｂ－Ａ－Ｂ－Ａであってもよい。２または複数の異なるブロックコポリマーの混合物も使用することが可能である。ジエン単位は、１，２－または１，４－で架橋され得る。スチレン－ブタジエンまたはスチレン－イソプレンのタイプのブロックコポリマーおよびスチレン－ブタジエン－イソプレンのタイプのブロックコポリマーの双方が使用され得る。さらに、スチレンから構成される末端ブロックと統計スチレン－ブタジエン中央ブロックとを有する熱可塑性エラストマーブロックコポリマーも使用可能である。またブロックコポリマーは、例えばＳＥＢＳゴムのように、完全または部分的に水素化されていてもよい。好ましいエラストマーバインダーは、Ａ－Ｂ－Ａタイプの３ブロックコポリマーまたは（ＡＢ）ｎタイプの放射状ブロックコポリマー［式中、Ａはスチレン、Ｂはジエンである］、ならびにスチレンとジエンとから構成される統計コポリマーおよびランダムコポリマーである。
水現像可能なレリーフ前駆体の場合、水溶性、水膨潤性、水分散性、または乳化性のポリマーが使用される。完全または部分加水分解されたポリ酢酸ビニルのみならず、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレンスルホネート、ポリウレタン、ポリアミド（これらは、例えば欧州特許第００８５４７２号明細書または西独国特許出願公開第１５２２４４４号明細書に記載されている）、およびそれらの任意の組み合わせが使用されてもよい。そのようなポリマーの例は、欧州特許第００７９５１４号明細書、欧州特許第０２２４１６４号明細書、および欧州特許第００５９９８８号明細書に記載されている。これらのポリマーは、直鎖状、分枝鎖状、星形、または樹枝状であってもよく、またホモポリマー、統計コポリマー、ブロックコポリマー、または交互コポリマーとして存在していてもよい。挙げられたポリマーには、溶解度を上昇させ得るおよび／または架橋反応に関与し得る官能基が備えられていることが非常に多い。これらの基としては、例えば、カルボキシ基、ＳＯ３基、ＯＨ基、チオール基、エチレン性不飽和基、（メタ）アクリレート基、エポキシド基、およびそれらの任意の組み合わせが挙げられる。
熱架橋性レリーフ前駆体の場合、例えば、ラジカル反応により、縮合反応により、またはカチオン性もしくはアニオン性付加反応により固化、架橋、または重合する別のポリマーおよび組成物も使用可能である。縮合反応の場合、殊に、エステル化およびウレタン形成が用いられる。エポキシドは、例えば、光化学的または熱的に活性可能なカチオン重合性または架橋性の材料として使用可能である。そのような反応は、当業者に公知の触媒を用いて、さらに加速または開始することが可能である。
バインダーの総量は、レリーフ形成層の場合、レリーフ形成層のすべての構成要素の合計を基準として、３０～９０重量％、好ましくは４０～８５重量％、特に好ましくは４５～８５重量％であることが一般的である。
レリーフ形成層は、可塑剤、溶媒、さらなるバインダー、着色剤、安定化剤、制御剤、ＵＶ吸収剤、分散助剤、架橋剤、粘度調整剤、可塑剤、染料、顔料、添加剤、界面活性物質、およびそれらの任意の組み合わせから成る群より選択されるさらなる構成要素を含み得る。これらの添加剤または補助物質および添加物質は、放射線感受性混合物中に、配合物全体を基準として、０．００１～６０重量％の範囲、好ましくは０．０１～５０重量％の範囲、特に０．１～５０重量％の範囲、極めて特に１～５０重量％の範囲の総濃度で含有されている。ここで、個々の添加剤は、配合物全体を基準として、０．００１～４０重量％、好ましくは０．０１～４０重量％の範囲、特に０．１～４０重量％の範囲、極めて特に０．１～３５重量％の範囲の濃度で含有されている。
さらに、レリーフ形成層は、さらなる官能性添加物、例えば米国特許第８，８０８，９６８号明細書に記載のように、少量のホスファイト、ホスフィン、チオエーテル、およびアミノ官能性化合物を含有していてもよい。
さらに、レリーフ形成層は、米国特許第８，１１４，５６６号明細書に記載のように、界面活性物質、例えば、疎水性ワックスまたはシリコーン処理もしくは過フッ化化合物を含有していてもよい。
さらに、レリーフ形成層の放射線感受性混合物中には、光開始剤が吸収を示す化学線領域において特筆すべき自己吸収（Ｅｉｇｅｎａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ）のない、熱重合に対する阻害剤が、例えば、２．６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ヒドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、β－ナフトール、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ｍ－ジニトロベンゼン、またはクロラニル；チアジン染料、例えば、チオニンブルーＧ（Ｃ．Ｉ．５２０２５）、メチレンブルーＢ（Ｃ．Ｉ．５２０１５）、またはトルイジンブルー（Ｃ．Ｉ．５２０４０）；またはＮ－ニトロソアミン、例えば、Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、またはＮ－ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミンの塩、例えば、カリウム塩、カルシウム塩、またはアルミニウム塩が含有されていてもよい。さらに、例えばＡ．Ｖａｌｅｔ、Ｌｉｃｈｔｓｃｈｕｔｚｍｉｔｔｅｌ ｆｕｅｒ Ｌａｃｋｅ、３３頁以降、Ｖｉｎｃｅｎｔｚ Ｖｅｒｌａｇ Ｈａｎｎｏｖｅｒ １９９６に記載のように、別の阻害剤または安定化剤、ここでは特に、立体障害フェノールおよびアミンが使用されてもよい。
適切な着色剤、例えば、染料、顔料、またはフォトクロミック添加物も、レリーフ形成層の放射線感受性混合物中に、混合物を基準として、０．０００１～２重量％の量で含有されていてもよい。
レリーフ形成層中のＵＶ吸収剤も同様に利点があり、レリーフ形成に有利な影響を与えることができる。ＵＶ吸収剤として適切な化合物は、例えば、Ａ．Ｖａｌｅｔ、Ｌｉｃｈｔｓｃｈｕｔｚｍｉｔｔｅｌ ｆｕｅｒ Ｌａｃｋｅ、２０頁以降、Ｖｉｎｃｅｎｔｚ Ｖｅｒｌａｇ Ｈａｎｎｏｖｅｒ １９９６に記載されている。例としては、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシフェニル－ｓ－トリアジン、オキサルアニリド、ヒドロキシフェニルピリミジン、サリチル酸誘導体、およびシアノアクリレート、ならびにそれらの任意の組み合わせがある。
直接像様露光は、架橋すべき領域を選択的に露光することにより達成することが可能である。これは例えば、適切に制御される１つ以上のレーザー光線を用いて、放射線を放出する特定の像点が活性化されるモニターを使用することにより、可動ＬＥＤストリップを使用することにより、個々のＬＥＤに狙いを定めてスイッチをオンおよびオフするＬＥＤアレイにより、放射線源の放射線の通過を可能にする像点が透明に切り替わる電子制御可能なマスクを使用することにより、ミラーを適切に向けることで像点が放射線源の放射線で露光される投影システムを使用することにより、またはそれらの組み合わせにより達成することが可能である。直接露光は、制御されたレーザー光線を用いて、またはミラーを有する投影システムを用いて行われることが好ましい。ここで、開始剤または開始剤系の吸収スペクトルと放射線源の放出スペクトルとは、少なくとも部分的に重なっている必要がある。
ここで、開始剤または開始剤系の吸収は、２００ｎｍ～２０００ｎｍの範囲、好ましくは２５０ｎｍ～１１００ｎｍの範囲、特に好ましくはＵＶ範囲、極めて特に好ましくは３００ｎｍ～４５０ｎｍの範囲にある。
ここで、電磁放射線の波長は、２００ｎｍ～２００００ｎｍの範囲、好ましくは２５０ｎｍ～１１００ｎｍの範囲、特に好ましくはＵＶ範囲、極めて特に好ましくは３００ｎｍ～４５０ｎｍの範囲にある。電磁放射線の広帯域の照射のみならず、狭帯域または単色の波長範囲を使用することが有利である場合があり、例えば、これらは、相応するフィルタ、レーザー、または発光ダイオード（ＬＥＤ）を使用して作り出すことが可能である。これらの場合、単独または組み合わせで、３５０ｎｍ、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４００ｎｍ、４０５ｎｍ、５３２ｎｍ、８３０ｎｍ、１０６４ｎｍ（およびそれよりも約５ｎｍ～１０ｎｍ上および／または下）の波長が好ましい。
レリーフ形成層の露光または未露光領域の除去は、層の性質に応じて、機械的および化学的のどちらでも、レリーフ形成層における非架橋領域を溶解、乳化、および／または分散させることが可能な洗浄剤、例えば、有機溶媒、それらの混合物、水、水溶液、または水性有機溶媒混合物による処理により行うことが可能である。
この現像工程では、当業者にとって慣例的なあらゆる方法を用いることができる。溶媒またはそれらの混合物、水溶液、および水性有機溶媒混合物は、配合物を安定化させ、かつ／または非架橋領域の成分の溶解度を増加させる助剤を含有していてもよい。そのような助剤の例としては、乳化剤、界面活性剤、塩、酸、塩基、安定化剤、腐食防止剤、およびそれらの適切な組み合わせがある。これらの溶液での現像のために、当業者に公知のあらゆる方法、例えば、現像媒体での浸漬、洗浄もしくは噴霧、現像媒体の存在下でのブラッシング、およびそれらの適切な組み合わせを使用することができる。中性水溶液または水で現像されることが好ましく、回転ブラシまたはプラッシュパイルを用いて除去を補助する。現像に影響を与えるさらなる可能性は、現像媒体の温度を制御し、例えば温度を上昇させることにより現像を加速させることである。この工程では、放射線感受性層上になおも存在するさらなる層も、これらの層が、現像時に剥離可能であり、かつ現像媒体中に十分に溶解および／または分散可能な場合、除去することができる。
有機溶媒が使用される場合、４０℃の温度を上回る、特に好ましくは６０℃を上回る高い引火点を有するものが使用されることが好ましい。引火点は、特定の場合において、１００℃を上回ってもよい。
通常の洗浄剤は、例えば欧州特許第３３２０７０号明細書に記載されている。これらは、脂肪族、脂環式、または芳香族炭化水素および１種以上のアルコールを含有することが一般的である。市場で使用されている洗浄剤の多くは、主成分としての非極性炭化水素と、中極性アルコールとを、１０～３０重量％の量で含有する。幾つかの場合において、テルペンおよびさらなる成分、例えば米国特許出願公開第２０１６／００５４６５６号明細書に記載のものがさらに使用される。
水性洗浄剤の場合、水道水のみならず、さらなる構成要素、例えば、分散剤、乳化剤、酸、塩基、凝集剤、塩を含有し、かつたいていの場合７超のｐＨ値を有する水溶液が使用される。分散剤および／または乳化剤としては、カチオン性、アニオン性もしくは非イオン性物質、またはそれらの組み合わせが使用される。アニオン性化合物についての例は、カルボキシレート、例えば、ラウリン酸ナトリウムもしくはオレイン酸ナトリウム、硫酸エステル塩、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、セチル硫酸ナトリウム、オレイル硫酸ナトリウム、アルキルスルホネート、リン酸エステル、または極性および非極性ブロックを有するブロックコポリマーである。
有機および無機酸としては、例えば、硫酸、硝酸、リン酸、ギ酸、酢酸、カルボン酸、シュウ酸、クエン酸、マレイン酸、またはｐ－トルエンスルホン酸が使用され得る。塩基についての例は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば、ＬｉＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、またはＣａＯＨである。
多くの場合、その水溶性がより低いポリマーの使用を可能にする、水と溶媒との混合物も使用される。溶媒についての例は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、セロソルブ、グリセリン、ポリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、およびアセトンである。
さらなる実施形態において、レリーフ形成層の除去は、熱により、すなわち熱を導入し、軟化または部分的に液化した層材料を除去することにより行われる。露光されたレリーフ前駆体の加熱は、当業者に公知のあらゆる方法により、例えば、ＩＲ光の照射、高温ガス（例えば空気）の適用、高温ローラ、またはそれらの任意の組み合わせにより実施することが可能である。（粘性の）液体領域を除去するためには、当業者にとって慣例的なあらゆるプロセスおよび方法、例えば、吹き飛ばし、吸引、軽く当てる拭い取り（Ａｂｔｕｐｆｅｎ）、噴射（粒子および／または液滴による）、剥ぎ取り（Ａｂｓｔｒｅｉｆｅｎ）、拭き取り、現像媒体への転写、およびそれらの任意の組み合わせを使用することが可能である。液体材料は、加熱されたレリーフ前駆体表面と連続的に接触させられる現像媒体により取り込まれる（吸収および／または吸着）ことが好ましい。このプロセスは、所望のレリーフ高さが達成されるまで繰り返される。現像媒体としては、液化材料を取り込むことが可能であり、かつ天然および／またはプラスチック繊維から成ることが可能な紙、織物、不織布、およびフィルムが使用可能である。現像時に用いられる温度で安定な、ポリマー、例えば、セルロース、木綿、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタンおよびそれらの任意の組み合わせから構成される不織布または非織繊維ウェブが使用されることが好ましい。
任意で、前の工程に続いて、さらなる処理工程が実施されてもよい。これとしては、例えば、熱処理、乾燥、電磁放射線による、プラズマによる、ガスまたは液体による処理、識別特徴の取り付け、裁断、被覆、およびそれらの任意の組み合わせが挙げられる。熱処理は、例えば、反応を開始および／または完了するために、レリーフ構造の機械的および／または熱的耐久性を向上させるために、また揮発性構成要素を除去するために用いられ得る。熱処理には、公知の方法、例えば、加熱されたガスまたは液体、ＩＲ放射線、およびそれらの任意の組み合わせによる加熱が使用され得る。ここで、炉、送風機、ランプ、およびそれらの任意の組み合わせが使用され得る。殊に反応性物質がなおもさらに使用される場合、ガス、プラズマ、および／または液体での処理により、接着剤除去のみならず、表面変性ももたらすことができる。
電磁放射線での処理は、例えば、レリーフ構造の表面から接着剤をなくすために、重合反応および／または架橋反応を起こすおよび／または完了するために使用され得る。ここで、照射される電磁波の波長は、先に記載のように、２００ｎｍ～２０００ｎｍの範囲にある。
コードは、タイプについての情報（商品番号、バッチ番号、識別番号、プレートまたは層の厚さについての情報、長さおよび幅についての情報、タイプ）のみならず、さらなるプロセス工程の条件についてのデータを含み得る。さらなるプロセス工程についての例は、乾燥のための熱後処理、表面の完全な架橋および／もしくは接着剤除去のための後露光、液体での処理、またはそれらの組み合わせである。熱後処理の場合、データは、例えば、温度、温度プロファイル、および時間についての情報を含み得る。後露光の場合、データは、例えば、ランプタイプ、波長、温度、および時間についての情報を含み得る。
本発明による方法のさらなる実施形態において、レリーフ形成層は、撮像可能なマスク層が施与される光重合性層であり、工程ｃ）は、以下の工程：
ｃａ） 撮像可能なマスク層を撮像する工程、ここで、二次元コードがマスク層に書き込まれる、
ｃｂ） 光重合性レリーフ層を、形成されたマスクを通して電磁放射線で露光する工程、
ｃｃ） 撮像可能なマスクの残部と、光重合性レリーフ層の未露光の光重合していない部分とを除去する工程
を含む。
ｃａ） 撮像可能なマスク層を撮像する工程、ここで、二次元コードがマスク層に書き込まれる、
ｃｂ） 光重合性レリーフ層を、形成されたマスクを通して電磁放射線で露光する工程、
ｃｃ） 撮像可能なマスクの残部と、光重合性レリーフ層の未露光の光重合していない部分とを除去する工程
を含む。
この実施形態では、レリーフ形成層が工程ｃａ）で間接的な方法により撮像され、これに際してマスク層が撮像され、ここで、画像情報が、透明および非透明な領域の形態でマスク層に導入される。続いて、レリーフ前駆体は、マスクを通して露光され、ここで、放射線は、透明な領域を通してレリーフ形成層に到達し、化学反応を起こす。
ここで、マスク層は、場合によって存在する保護層の除去後にレリーフ前駆体上に施与される個別層であっても、レリーフ層と、またはレリーフ層の上方の任意の層のうちの１つと接触しており、かつ場合によって存在する保護層により覆われた、前駆体の一体層であってもよい。
マスク層は、例えばハロゲン化銀化学に基づく写真法により作製可能な市販のネガであってもよい。マスク層は、例えば、欧州特許出願公開第３１３９２１０号明細書、欧州特許第１７３５６６４号明細書、欧州特許出願公開第２９８７０３０号明細書、欧州特許第２３１３２７０号明細書に記載のように、像様露光によりそれ以外は不透明な層において透明な領域が生成される層複合材材料であってもよい。これは、例えば米国特許第６，９１６，５９６号明細書、欧州特許第８１６９２０号明細書に記載のように、透明な支持体層上の不透明な層をアブレーションすることにより行われても、欧州特許第９９２８４６号明細書に記載のように透明な支持体層上に不透明な層を選択的に施与することにより行われても、または例えば欧州特許出願公開第１１９５６４５号明細書に記載のように、例えばインクジェットを用いて不透明なインクで印刷することにより直接レリーフ形成層上に施与することにより行われてもよい。
好適には、マスク層は、レリーフ前駆体の一体層であり、レリーフ形成層と、またはレリーフ形成層上に配置された、バリア層であることが好ましい機能層と直接接触して存在している。さらに、一体型マスク層は、アブレーションにより撮像可能であり、さらに、溶媒により、または加熱および吸着／吸収により除去することが可能である。この層は、高エネルギーの電磁放射線での選択的照射により加熱および揮発させられ、それにより、構造をレリーフ前駆体に転写するために用いられる画像構造化されたマスクが作製される。そのために、この層は、ＵＶ範囲で非透過性である必要があり、かつ層を加熱し、そのアブレーションをもたらす放射線をＶＩＳ－ＩＲ範囲で吸収する必要がある。レリーフ高さが０．１～５μｍの範囲とより低い場合でも、アブレーション後には、マスク層もレリーフを成す。
ここで、３３０～４２０ｎｍのＵＶ範囲および／または３４０～６６０ｎｍのＶＩＳ－ＩＲ範囲におけるマスク層の光学密度は、１～５の範囲、好ましくは１．５～４の範囲、特に好ましくは２～４の範囲にある。
レーザーアブレーション可能なマスク層の層厚は、０．１～５μｍであることが一般的である。層厚は、０．３～４μｍ、特に好ましくは１μｍ～３μｍであることが好ましい。マスク層のレーザー感度（１ｃｍ２の層をアブレーションするために必要なエネルギーとして測定）は、０．１～１０ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは０．３～５ｍＪ／ｃｍ２、特に好ましくは０．５～５ｍＪ／ｃｍ２にあることが望ましい。
マスク層のアブレーションについて、先でレーザー彫刻の関連で記載されているように、同じ光源および波長が使用され得る。
工程ｃｂ）において、レリーフ形成層は、施与および撮像されたマスクを通して露光され、ここで、平面照射を可能にする源が露光に使用されることが一般的である。これは、例えば光線拡大のための光学装置を使用することにより、複数個の点型または直線型の源（例えば、ライトガイド、エミッタ）、例えば隣接して配置された蛍光ランプを平面配置することにより、直線型の源または細長い配置のＬＥＤ（アレイ）をレリーフ前駆体に対して移動させることにより、例えば、ＬＥＤストリップを均一に移動させることにより、またはそれらの組み合わせにより起こり得る。隣接して配置された蛍光ランプが使用されること、または１個以上のＬＥＤストリップとレリーフ前駆体との間の相対的移動が使用されることが好ましい。
ここで、照射は、連続的に、パルス状に、または複数の短期間で、連続的な放射線を用いて行われ得る。ここで、放射線の強度は、幅広い範囲にわたり変化することができ、その際、レリーフ形成層を後の現像プロセスのために十分に架橋させるのに十分な線量を確実に使用する。必要に応じて、さらなる熱処理の後に、放射線により誘発される反応は、露光された領域が少なくとも部分的に不溶性になり、それにより現像工程で除去可能ではなくなるまで進行している必要がある。放射線の強度および線量は、配合物の反応性と、現像の時間および効率に依存する。放射線の強度は、１～１５０００ｍＷ／ｃｍ２の範囲、好ましくは５～５０００ｍＷ／ｃｍ２の範囲、特に好ましくは１０～１０００ｍＷ／ｃｍ２の範囲にある。放射線の線量は、０．３～６０００Ｊ／ｃｍ２の範囲、好ましくは３～１００Ｊ／ｃｍ２の範囲、特に好ましくは６～２０Ｊ／ｃｍ２の範囲にある。放射線の作用は、不活性雰囲気、例えば、希ガス、ＣＯ２、および／または窒素においても、または多層要素を損傷させない液体のもとでも起こり得る。
ここで、電磁放射線の波長は、２００～２０００ｎｍの範囲、好ましくは２５０～１１００ｎｍの範囲、特に好ましくはＵＶ範囲、極めて特に好ましくは３００～４５０ｎｍの範囲にある。電磁波の広帯域の照射のみならず、狭帯域または単色の波長範囲を使用することが有利である場合があり、例えば、これらは、相応するフィルタ、レーザー、または発光ダイオード（ＬＥＤ）を使用して作り出すことが可能である。これらの場合、単独または組み合わせで、３５０ｎｍ、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４００ｎｍ、４０５ｎｍ、５３２ｎｍ、８３０ｎｍ、１０６４ｎｍ（およびそれよりも約５ｎｍ～１０ｎｍ上および／または下）の波長が好ましい。
工程ｃｃ）では、撮像可能なマスクと、光重合性レリーフ形成層の未露光の光重合していない部分との双方が除去され、ここで、先に直接露光の関連で記載された現像方法が使用され得る。ここで、マスク層と、レリーフ形成層の未露光の部分とは、様々な方法で除去することが可能であるため、挙げられた方法の組み合わせが使用されることがある。例えば、マスク層が水溶液により、レリーフ形成層が有機溶液により現像され得るか、またはその反対である。熱現像と液体を用いた現像との組み合わせも使用され得る。すべての層を同じプロセスで除去する現像方法を選択することが好ましい。
本発明による方法の特定の実施形態において、少なくとも１個の二次元コードは、バーコード、データマトリックスコード、ＱＲコード、またはドットコードである。さらなる適切なコードは、例えば、ＭｉｃｒｏＱＲ、ＤａｔａＭａｔｒｉｘ（ＥＣＣ２００）、ＧＳ１ ＤａｔａＭａｔｒｉｘ、ＰＤＦ４１７、ＭｉｃｒｏＰＤＦ４１７、ＧＳ１ Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ（ＣＣ－Ａ／ＣＣ－Ｂ／ＣＣ－Ｃ）、ＣＯＤＥ３９、ＩＴＦ、２ｏｆ５（Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ ２ｏｆ５）、ＣＯＯＰ ２ｏｆ５、ＮＷ－７（Ｃｏｄａｂａｒ）、ＣＯＤＥ１２８、ＧＳ１－１２８、ＧＳ１ ＤａｔａＢａｒ、ＣＯＤＥ９３、ＪＡＮ／ＥＡＮ／ＵＰＣ、Ｔｒｉｏｐｔｉｃ ＣＯＤＥ３９、ＣＯＤＥ３９ Ｆｕｌｌ ＡＳＣＩＩ、またはＰｈａｒｍａｃｏｄｅｓである。これらのコード、それらの作製、およびデータへの返送は、当業者に十分に知られている。さらに、様々なデータタイプを様々なコードで提供するために、例えば、レリーフ前駆体のタイプについてのデータをバーコードとして、およびプロセス制御についてのデータをデータマトリックスコードとして提供するために、これらのコードの組み合わせを使用することも可能である。
本発明による方法のさらなる特定の実施形態では、２種以上の異なるコードが、異なるプロセス工程に使用される。ここで、デバイスは、相応するプロセス工程についてのデータを含むコードのみを読み取ることができる。それにより、読み取られるデータの量を、個々のプロセス工程において限定することができる。
本発明の対象は、少なくとも１個の支持体と、レリーフ形成層と、マスク層とを含むレリーフ前駆体、殊に印刷版前駆体から出発して、レリーフ、殊に印刷版を製造する方法であって、以下の方法工程：
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） マスク層を撮像し、それによりマスクを形成する工程、
（Ｄ） 撮像されたレリーフ前駆体を、形成されたマスクを通して電磁放射線で露光する工程、
（Ｅ） 撮像可能なマスク層の残部と、レリーフ形成層の露光または未露光のどちらかの領域とを除去する工程、
（Ｆ） 任意で、得られたレリーフを後処理する工程、
（Ｇ） 任意で、レリーフ前駆体またはレリーフを、電磁放射線で、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、（Ｃ）と（Ｄ）との間、または（Ｄ）と（Ｅ）との間に裏面露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｃ）で、二次元コードの形態でマスク層に書き込まれ、工程（Ｃ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。工程（Ｇ）は、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、（Ｃ）と（Ｄ）との間、または（Ｄ）と（Ｅ）との間に行うことができ、支持体にレリーフを固定する役割を果たす。
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） マスク層を撮像し、それによりマスクを形成する工程、
（Ｄ） 撮像されたレリーフ前駆体を、形成されたマスクを通して電磁放射線で露光する工程、
（Ｅ） 撮像可能なマスク層の残部と、レリーフ形成層の露光または未露光のどちらかの領域とを除去する工程、
（Ｆ） 任意で、得られたレリーフを後処理する工程、
（Ｇ） 任意で、レリーフ前駆体またはレリーフを、電磁放射線で、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、（Ｃ）と（Ｄ）との間、または（Ｄ）と（Ｅ）との間に裏面露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｃ）で、二次元コードの形態でマスク層に書き込まれ、工程（Ｃ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。工程（Ｇ）は、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、（Ｃ）と（Ｄ）との間、または（Ｄ）と（Ｅ）との間に行うことができ、支持体にレリーフを固定する役割を果たす。
この方法において、コードに格納されたデータは、それぞれの個別工程前に読み取られ、プロセス工程を制御するために使用される。ここで、工程（Ａ）～（Ｅ）は、先で工程ａ）、ｂ）、ｃａ）、ｃｂ）、およびｃｃ）について記載したように実施される。工程（Ｆ）は任意であり、レリーフ前駆体の性質に依存する。これとしては、例えば、熱処理、乾燥、電磁放射線による、プラズマによる、ガスまたは液体による処理、識別特徴の取り付け、裁断、被覆、およびこれらの工程の任意の組み合わせが挙げられる。
液体で現像されるレリーフ前駆体の場合、液体の残分を除去するために、熱後処理を行うことが好ましい。熱処理は、例えば、反応を開始および／または完了するために、レリーフ構造の機械的および／または熱的耐久性を向上させるために、また揮発性構成要素を除去するために用いられ得る。熱処理には、公知の方法、例えば、加熱されたガスまたは液体、ＩＲ放射線、およびそれらの任意の組み合わせによる加熱が使用され得る。ここで、炉、送風機、ランプ、およびそれらの任意の組み合わせが使用され得る。ここで、温度は、３０～３００℃の範囲、好ましくは５０～２００℃の範囲、特に好ましくは６０～１５０℃の範囲にある。
殊に反応性物質がなおもさらに使用される場合、ガス、プラズマ、および／または液体での処理により、接着剤除去のみならず、表面変性ももたらすことができる。電磁放射線での処理は、例えば、レリーフ構造の表面から接着剤をなくすために、また重合反応および／または架橋反応を完了するために使用され得る。ここで、照射される電磁波の波長は、上記の放射線源が使用される場合、２００ｎｍ～２０００ｎｍの範囲にある。
任意の工程（Ｇ）は、電磁放射線に対して少なくとも部分的に透明な支持体材料を必要とする。この裏面露光は、支持体材料としての透明な寸法安定性材料、例えば、ポリマーフィルム、殊にポリエステルフィルムを通して行われることが好ましい。この露光は、支持体上におけるレリーフ層の接着性の改善をもたらすことができ、前面露光と組み合わせて用いられてレリーフ高さを調整することができる。ここで、いわゆる床または基台が形成され、この上にレリーフ凸部が強く固定されている。実施に際して、上記の放射線源、波長、および方法をすべて使用することができる。裏面露光は、さらなるマスク層なしまたはありで実施することが可能であり、このマスク層の配置および構造は、たいていの場合、レリーフ凸部が形成される領域においてマスク層が透明であるように構成されている。
本発明による方法の個々の実施形態において、コードに含まれるデータは、工程（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を、以下のプロセスパラメータ：
（ｉ） 工程（Ｄ）における露光の強度および／または時間
（ｉｉ） 工程（Ｄ）における波長または波長範囲
（ｉｉｉ） 工程（Ｅ）における現像温度および／または現像時間
（ｉｖ） 工程（Ｆ）における温度および／または処理時間
（ｖ） 工程（Ｇ）における強度および／または露光時間
（ｖｉ） 工程（Ｇ）における電磁放射線の波長
（ｖｉｉ） 方法工程（Ｄ）～（Ｇ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフ前駆体またはレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
（ｉ） 工程（Ｄ）における露光の強度および／または時間
（ｉｉ） 工程（Ｄ）における波長または波長範囲
（ｉｉｉ） 工程（Ｅ）における現像温度および／または現像時間
（ｉｖ） 工程（Ｆ）における温度および／または処理時間
（ｖ） 工程（Ｇ）における強度および／または露光時間
（ｖｉ） 工程（Ｇ）における電磁放射線の波長
（ｖｉｉ） 方法工程（Ｄ）～（Ｇ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフ前駆体またはレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
コードに含まれるデータは、レリーフの製造に実施される個々のプロセス工程を制御し、かつ殊に個々のプロセス工程にとって重要なパラメータを含む。工程（Ｄ）において、これらは特に、電磁放射線による露光の強度および／または時間であるか、強度および時間から生じる放射線量である。ここで、強度および線量は、上記の範囲内で動く。様々な放射線源、または制御可能な波長範囲を有する放射線源が使用される場合、これもデータに含まれる。波長範囲を特定の放射線源に割り当ててもよい場合、放射線源を指定することが可能である。放射線源が移動可能である場合、移動速度、移動方向、多重露光時の繰り返し周波数、前駆体表面からの間隔、放射線の照射角度、温度、およびその調整、またはこれらのパラメータの組み合わせが、データにさらに含まれ得る。
工程（Ｅ）については、殊に、現像温度および時間が重要であり、データに含まれる。さらに、さらなるデータ、例えば、使用すべき液体の種類、流量率、ブラシの回転数、ブラシの接触圧力、および場合によって使用され得るブラシの間隔、液体の品質（例えば、粘度、固形物含量、組成、温度、圧力、密度、伝熱性、表面張力、圧縮性など）を制御するためのセンサデータ、およびそれらの組み合わせが含まれ得る。熱現像の場合、データは、様々なデバイスコンポーネントまたはデバイスセグメントの温度のみならず、例えば、レリーフ前駆体の輸送速度、現像媒体の速度、サイクル数、ローラの接触圧力、現像媒体の種類および性質、接触圧力分布、ならびにそれらの組み合わせを含み得る。
工程（Ｆ）の後処理について、コードは、後処理の種類に応じた非常に様々なデータを含み得る。一般的に、後処理時間がデータに含まれる。熱後処理の場合、その温度がデータに含まれ得る。乾燥の場合、乾燥温度、そのプロファイルおよび分布、ならびに乾燥時間のみならず、ガス処理量、ガス圧、体積流量、ガス速度、質量流量、またはそれらの組み合わせが、データに含まれ得る。後露光の場合、電磁放射線による露光の波長範囲、強度、および／もしくは時間、または放射線量が、データに含まれ得る。液体、ガス、またはプラズマによる処理の場合、これらは、使用されるガス、液体、組成、温度、流量率、圧力、体積流量、質量流量、伝熱性、圧縮性、またはそれらの組み合わせを表し得る。レリーフを裁断する場合、例えば、長さ、幅、直径、位置、輪郭、および切断方向などの変数が、データに含まれ得る。
工程（Ｇ）において、これらは特に、電磁放射線による露光の強度および／または時間であるか、強度および時間から生じる放射線量である。ここで、強度および線量は、上記の範囲内で動く。様々な放射線源、または制御可能な波長範囲を有する放射線源が使用される場合、これもデータに含まれる。波長範囲を特定の放射線源に割り当ててもよい場合、放射線源を指定することが可能である。放射線源が移動可能である場合、移動速度、移動方向、繰り返し周波数、前駆体表面からの間隔、放射線の照射角度、温度、およびその調整、またはそれらの組み合わせが、データにさらに含まれ得る。
幾つかのプロセスにおいて、前駆体またはレリーフは、特定の速度で動かされ、この輸送速度は、個々のプロセス工程のデータに含まれ得る。この輸送速度は、すべてのプロセスにおいて、同じであっても、異なっていてもよい。すべてのプロセス工程が実施され、かつ連続的に進行する装置においては、均一な輸送速度が有利である。しかしながら、速度を決定するゆっくりとしたプロセスは、殊にプロセスチェーンの開始または終了時に、逸脱した速度で実施されてもよい。プロセス工程が別々の装置内で処理される場合、速度は異なることが好ましい。ここで、輸送速度は、１０～２０００ｍｍ／分の範囲、好ましくは２０～１５００ｍｍ／分の範囲、特に好ましくは５０～１０００ｍｍ／分の範囲、極めて特に好ましくは１００～１０００ｍｍ／分の範囲で動く。
さらに、本発明の対象は、少なくとも１個の支持体と、光感受性レリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体、殊にレリーフ前駆体から出発して、レリーフ、殊に印刷版を製造する方法であって、以下の方法工程：
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） 画像に従ってレリーフ前駆体を直接露光する工程、
（Ｄ） レリーフ形成層の露光または未露光領域を除去する工程、
（Ｅ） 任意で、得られた印刷版を後処理する工程、
（Ｆ） 任意で、レリーフ前駆体またはレリーフを、電磁放射線で、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、または（Ｃ）と（Ｄ）との間に裏面露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｃ）で、二次元コードの形態で直接露光によりレリーフ形成層に書き込まれ、工程（Ｃ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、および（Ｆ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。工程（Ｇ）は、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、または（Ｃ）と（Ｄ）との間に行うことができ、支持体にレリーフを固定する役割を果たす。この方法は、マスクが作製されるのではなく、画像に従って露光が直接行われるという点でのみ、先に記載の方法とは異なる。よって、すべてのさらなる工程およびこれらの工程を制御するデータについて、前述の記載および説明が当てはまる。
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） 画像に従ってレリーフ前駆体を直接露光する工程、
（Ｄ） レリーフ形成層の露光または未露光領域を除去する工程、
（Ｅ） 任意で、得られた印刷版を後処理する工程、
（Ｆ） 任意で、レリーフ前駆体またはレリーフを、電磁放射線で、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、または（Ｃ）と（Ｄ）との間に裏面露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｃ）で、二次元コードの形態で直接露光によりレリーフ形成層に書き込まれ、工程（Ｃ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、および（Ｆ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。工程（Ｇ）は、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、または（Ｃ）と（Ｄ）との間に行うことができ、支持体にレリーフを固定する役割を果たす。この方法は、マスクが作製されるのではなく、画像に従って露光が直接行われるという点でのみ、先に記載の方法とは異なる。よって、すべてのさらなる工程およびこれらの工程を制御するデータについて、前述の記載および説明が当てはまる。
この方法の特定の実施形態において、コードに含まれるデータは、工程（Ｄ）、（Ｅ）、および（Ｆ）のうちの１つ以上を、以下のプロセスパラメータ：
（ｉ） 工程（Ｄ）における現像温度および／または現像時間
（ｉｉ） 工程（Ｅ）における温度および／または現像時間
（ｉｉｉ） 工程（Ｆ）における強度および／または露光時間
（ｉｖ） 工程（Ｆ）における電磁放射線の波長
（ｖ） 方法工程（Ｄ）～（Ｆ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフ前駆体またはレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
（ｉ） 工程（Ｄ）における現像温度および／または現像時間
（ｉｉ） 工程（Ｅ）における温度および／または現像時間
（ｉｉｉ） 工程（Ｆ）における強度および／または露光時間
（ｉｖ） 工程（Ｆ）における電磁放射線の波長
（ｖ） 方法工程（Ｄ）～（Ｆ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフ前駆体またはレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
さらに、本発明の対象は、少なくとも１個の支持体と、レリーフ形成彫刻可能層とを含むレリーフ前駆体から出発して、レリーフを製造する方法であって、以下の方法工程：
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） 任意で、レリーフ前駆体を全面露光または熱処理する工程、
（Ｄ） 三次元レリーフを、材料除去方法によりレリーフ形成層に書き込む工程、
（Ｅ） 任意で、レリーフ表面の残渣を除去する工程、
（Ｆ） 任意で、得られたレリーフを後処理する工程、
（Ｇ） 任意で、得られたレリーフを電磁放射線で後露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｄ）で、二次元コードの形態でレーザー彫刻によりレリーフ形成層に書き込まれ、工程（Ｄ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。この方法は、レリーフの作製が材料除去方法により行われ、マスクを通した露光と、露光または未露光領域の除去とが省略される点で、先の方法とは異なる。さらなる工程は、先に記載のように実施することが可能であり、これらの工程を制御するデータは、先に記載のように得ることができる。
（Ａ） レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） 任意で、レリーフ前駆体を全面露光または熱処理する工程、
（Ｄ） 三次元レリーフを、材料除去方法によりレリーフ形成層に書き込む工程、
（Ｅ） 任意で、レリーフ表面の残渣を除去する工程、
（Ｆ） 任意で、得られたレリーフを後処理する工程、
（Ｇ） 任意で、得られたレリーフを電磁放射線で後露光する工程、
を有する方法において、レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｄ）で、二次元コードの形態でレーザー彫刻によりレリーフ形成層に書き込まれ、工程（Ｄ）の後に、このコードに含まれるデータが、工程（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を制御するために読み取られることを特徴とする、方法である。この方法は、レリーフの作製が材料除去方法により行われ、マスクを通した露光と、露光または未露光領域の除去とが省略される点で、先の方法とは異なる。さらなる工程は、先に記載のように実施することが可能であり、これらの工程を制御するデータは、先に記載のように得ることができる。
工程（Ｄ）では、材料を除去するあらゆる方法、例えば、機械的彫刻、アブレーション、または高エネルギー放射線を使用した彫刻が使用され得る。高エネルギーのレーザー光線を前駆体上に送り、画像に従った構造およびコードを作製する、いわゆるレーザー彫刻が使用されることが好ましい。ここで、除去すべき材料は、強く加熱、分解、および除去される。彫刻のための電磁放射線としては、３００～２００００ｎｍの範囲、好ましくは５００～２００００ｎｍの範囲、特に好ましくは８００～１５０００ｎｍの範囲、極めて特に好ましくは８００～１１０００ｎｍの範囲の波長を有する放射線が使用されることが一般的である。レーザー彫刻では、ＣＯ２レーザーが使用されることが好ましい。ここで、レリーフ層を選択的に除去するためには、所望の画像およびコードが作製されるように１つ以上のレーザー光線を制御する。そのために使用されるレーザー光線のエネルギーは、１０～１０００ワットの範囲、好ましくは２０～１５００ワットの範囲、特に好ましくは５０～１０００ワットの範囲にある。
工程（Ｅ）における残渣の除去は、機械的除去、液体での濯ぎ、吸引、吹き飛ばし、ブラッシング、またはそれらの組み合わせにより行われ得る。工程（Ｅ）は、殊に、残渣が吸引および／または吹き飛ばされる場合、工程（Ｄ）の間に行うことも可能である。液体を使用する場合、これが、殊に溶解または膨潤によりレリーフ構造を変化させないように注意する必要がある。吸引には、残渣が、例えばフィルタおよび／またはセパレータにより気相から除去され得るため、制御されずに周囲に到達することがないという利点がある。吹き飛ばしについては、レリーフ構造を損傷させることのない、および／または安全性の面で許容可能なガスが使用され得る。空気および不活性ガス、例えば、窒素、二酸化炭素、アルゴン、またはそれらの組み合わせが使用されることが好ましい。
工程（Ｆ）は、熱後処理、またはプラズマによる、ガスによる、もしくは液体による処理、識別特徴の取り付け、裁断、被覆、およびそれらの任意の組み合わせであり得る。
本発明の方法の特定の実施形態において、コードに含まれるデータは、工程（Ｅ）、（Ｆ）、および（Ｇ）のうちの１つ以上を、以下のプロセスパラメータ：
（ｉ） 工程（Ｅ）における時間および／または温度
（ｉｉ） 工程（Ｅ）における正圧または負圧
（ｉｉｉ） 工程（Ｆ）における温度および／または時間
（ｉｖ） 工程（Ｇ）における強度および／または露光時間
（ｖ） 工程（Ｇ）における電磁放射線の波長
（ｖｉ） 方法工程（Ｅ）～（Ｇ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
（ｉ） 工程（Ｅ）における時間および／または温度
（ｉｉ） 工程（Ｅ）における正圧または負圧
（ｉｉｉ） 工程（Ｆ）における温度および／または時間
（ｉｖ） 工程（Ｇ）における強度および／または露光時間
（ｖ） 工程（Ｇ）における電磁放射線の波長
（ｖｉ） 方法工程（Ｅ）～（Ｇ）のうちの１つ以上の通過時のレリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御する。
本発明による方法の先に記載の実施形態すべてにおけるデータの読み取りは、多様な手法で行うことが可能である。例えば、これは、光学的または機械的に感知により行うことが可能である。読み取りは、非接触式に実行されることが好ましい。ここで、読み取りは、関連するデバイスまたは関連する装置部分がレリーフ前駆体上のコードを検出することにより自動的に行われ得る。しかしながら、これは、相応する読み取りデバイスを用いてコードを検出するオペレータにより手動で行うことも可能である。本発明による方法の好ましい実施形態において、コードに含まれるデータは、非接触式で検出される。
非接触式の方法としては、殊に、光学的な方法、例えば、カメラによる読み取り、およびスキャナによる画像の分析、またはそれらの組み合わせが使用される。直線または点または平面スキャナが使用されることが好ましい。
本発明による方法のさらなる実施形態において、コードに含まれるデータは、レリーフ前駆体のタイプを識別し、関連するプロセスパラメータが、データバンクから読み取られる。レリーフ前駆体のタイプについてのデータは、例えば、商品番号、バッチ番号、識別番号、プレートまたは層の厚さについての情報、長さおよび幅についての情報、タイプ、またはそれらの任意の組み合わせを含む。これらのデータにより、デバイスは、この前駆体に関連するプロセスパラメータをデータバンクから読み取り、これらをプロセスの個々の制御のために利用することができる。ここで、データバンクは、デバイス中に預けることが可能であり、データが変更された場合または規則的な間隔で、最新の状態にすることが可能である。データは、中央または複数のデータバンクに保存可能であり、デバイスは、適切な電子接続によりそれにアクセスすることができる。
読み取りデバイスから処理デバイスへのデータの送信は、通常の方法により行うことが可能である。読み取りデバイスが処理デバイスに統合されている場合、ケーブルによる送信が好ましい。読み取りデバイスが統合されていない場合、送信は、ケーブルおよび相応するプラグ差込接続により、ワイヤレス通信により、例えば、無線信号（指向性無線、ＷＰＡＮ）または光信号（赤外線信号）により、電子ネットワークにより、誘導効果（近距離無線通信ＮＦＣ、ＲＦＩＤ）、またはそれらの組み合わせにより行うことが可能である。無線接続は、例えば、「ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ」または「ＷＬＡＮ」（ワイヤレスローカルエリアネットワーク）という用語としても知られている。同様に、ＬＡＮなどのケーブルで繋げられる接続またはケーブルで繋げられるプロトコルによる送信も可能である。ここで、データは、あらゆる通常のフォーマットで保存および送信することが可能である。これは、いわゆるＣＳＶファイル（カンマ区切り値）、ＳＤＦ（単純データ形式）、テキストデータ、ＰＴＣデータ、ＡＳＣＣＩファイル、および／またはＪＳＯＮ（ジャヴァスクリプト・オブジェクト・ノーテーション）により行われることが好ましい。以下の通信プロトコルが送信に使用可能である：例えば、イーサネット／ＩＰ、ＰＲＯＦＩＮＥＴ、ＳＰＳリンク、ＴＣＰ／ＩＰ、ＦＴＰ、ＭＣプロトコル、Ｏｍｒｏｎ ＰＬＣリンク、ＫＶ ＳＴＵＤＩＯ、またはそれらの組み合わせ。以下のインターフェースが送信に使用可能である：ＵＳＢ、ＲＳ－２３２Ｃ、ワイヤレスおよびケーブルで繋げられる送信、イーサネット、ＷＬＡＮ、ＲＦＩＤ、ＧＳＭ／ＵＭＴＳ／ＬＴＥ、ＰｒｏｆｉＢｕｓ、Ｍｏｄｂｕｓ、ＦｏｕｎｄａｔｉｏｎＦｉｅｌｄｂｕｓ、シリアルインターフェース、またはそれらの組み合わせ。
本発明の対象は、上記の方法により製造された、コードを有するレリーフ構造でもある。そのように製造されたレリーフ構造は、印刷版として、殊に、フレキソ印刷版、活版印刷版（Ｂｕｃｈｄｒｕｃｋｐｌａｔｔｅｎ）、パッド印刷版、およびグラビア印刷版として使用することが可能である。同様に、レリーフ構造は、光学部材として、例えばフレネルレンズとして使用することが可能である。
作製されたレリーフ構造上に、レリーフの形状に従わないほど硬い少なくとも１個のさらなる層が施与される場合、互いに分離または互いに結合されている可能性のあるチャネルおよび／または空洞を有する部材が生じる。これについて、さらなる層は、凹部に沈まないように、硬いか、または柔軟ではないことがあるが、適切な手段によりさらなる層が凹部に沈むことができないようにされている（例えば、凹部が液体および／またはガスで満たされ、続いて除去される）場合、柔軟な層が使用されてもよい。これらのチャネルおよび／または空洞には、任意で、別の材料および／または液体が備えられていてもよい。そのような部材は、マイクロ流体部材（例えば、マイクロ分析および／またはハイスループットスクリーニングのため）として、マイクロリアクターとして、光学部材として、例えば泳動セル（例えば、国際公開第２００４／０１５４９１号に示される）として、カラー表示用の光制御要素（例えば、国際公開第２００３／０６２９００号に記載）として、またはフォトニック結晶として使用され得る。さらなる層は、例えば、工程ｖｉｉｉ）による後処理の枠組みにおいて施与することが可能である。先に挙げられた部材および成分は、硬質および／または柔軟性の双方で設計され得る。柔軟な実施形態は、体上でおよび／もしくは体内部で着用されることが望ましい場合、ならびに／または織物および／もしくは衣料品に使用されることが望ましい場合、特に好ましい。
よって、本発明の対象は、パッド印刷版、フレキソ印刷版、活版印刷版、グラビア印刷版、マイクロ流体部材、マイクロリアクター、泳動セル、フォトニック結晶、および光学部材としての、本発明により製造されるレリーフの使用でもある。
実施例：
例において、情報送信は、ＯＭＲＯＮ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＧｍｂＨの制御ソフトウェアＣＸ Ｓｅｒｖｅｒ－ｌｉｔｅバージョン２．２を用いて行った。そのために、コードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ、設定）により検出し、ＣＳＶデータ（エクセル）に変換し、２．２インターフェースによりデバイスのＳＰＳ制御に送信した。
例において、情報送信は、ＯＭＲＯＮ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＧｍｂＨの制御ソフトウェアＣＸ Ｓｅｒｖｅｒ－ｌｉｔｅバージョン２．２を用いて行った。そのために、コードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ、設定）により検出し、ＣＳＶデータ（エクセル）に変換し、２．２インターフェースによりデバイスのＳＰＳ制御に送信した。
例１：
ＰＥＴ支持体層と、５０μｍの厚さのレリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）ＷＦ－Ｈ８０プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、保護層の除去後、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）Ｅｘｐｏｓｕｒｅ９６Ｘ１２０ＥＤ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により５分にわたり全面に露光した。続いて、これらのプレートを、２５４０ｄｐｉの解像度を有する７５０ＷのＣＯ２レーザーを備えたＫｒｏｎｏｓ７６１２（ＳＰＧＰｒｉｎｔｓ Ａｕｓｔｒｉａ ＧｍｂＨ）で彫刻した。ここで、エッジ領域において、後続の洗浄および乾燥のためのデータ（通過速度および乾燥温度）を有するレリーフとしてのコードを作製した。このコードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により読み取り、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ ＤＷＴ１００に読み込んだ。このプレートを、３００ｍｍ／分にて水により洗浄し、６０℃で乾燥させた。
ＰＥＴ支持体層と、５０μｍの厚さのレリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）ＷＦ－Ｈ８０プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、保護層の除去後、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）Ｅｘｐｏｓｕｒｅ９６Ｘ１２０ＥＤ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により５分にわたり全面に露光した。続いて、これらのプレートを、２５４０ｄｐｉの解像度を有する７５０ＷのＣＯ２レーザーを備えたＫｒｏｎｏｓ７６１２（ＳＰＧＰｒｉｎｔｓ Ａｕｓｔｒｉａ ＧｍｂＨ）で彫刻した。ここで、エッジ領域において、後続の洗浄および乾燥のためのデータ（通過速度および乾燥温度）を有するレリーフとしてのコードを作製した。このコードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により読み取り、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ ＤＷＴ１００に読み込んだ。このプレートを、３００ｍｍ／分にて水により洗浄し、６０℃で乾燥させた。
例２：
ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）Ｓｐｒｉｎｔ１１４プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、３０秒にわたり、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）Ｅｘｐｏｓｕｒｅ９６Ｘ１２０ＥＤ露光機により、裏側から全面に露光した。保護層の除去後に、これらのプレートを、Ｘ！Ｄｉｒｅｃｔソフトウェアを備えたＭｕｌｔｉＤＸ！２２０（Ｌｕｅｓｃｈｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＡＧ）と、４０５ｎｍの範囲の波長を有する光を生成するＵＶレーザーダイオードとを用いて、６００ｍＪ／ｃｍ２の線量で直接露光した。ここで、エッジ領域において、通過速度（１７０ｍｍ／分）、乾燥温度（６０℃）、およびＵＶＡでの後露光についてのデータを有するレリーフとしてのコードを作製した。これらのプレートを、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔフローラインウォッシャーＤＷＴ１００内にて、１７０ｍｍ／分の通過速度で、かつ水を使用して現像し、読み込まれたデータに応じて、６０℃で乾燥させ、２分の長さにわたりＵＶＡ光で後露光した。
ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）Ｓｐｒｉｎｔ１１４プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、３０秒にわたり、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔ（登録商標）Ｅｘｐｏｓｕｒｅ９６Ｘ１２０ＥＤ露光機により、裏側から全面に露光した。保護層の除去後に、これらのプレートを、Ｘ！Ｄｉｒｅｃｔソフトウェアを備えたＭｕｌｔｉＤＸ！２２０（Ｌｕｅｓｃｈｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ＡＧ）と、４０５ｎｍの範囲の波長を有する光を生成するＵＶレーザーダイオードとを用いて、６００ｍＪ／ｃｍ２の線量で直接露光した。ここで、エッジ領域において、通過速度（１７０ｍｍ／分）、乾燥温度（６０℃）、およびＵＶＡでの後露光についてのデータを有するレリーフとしてのコードを作製した。これらのプレートを、ｎｙｌｏｐｒｉｎｔフローラインウォッシャーＤＷＴ１００内にて、１７０ｍｍ／分の通過速度で、かつ水を使用して現像し、読み込まれたデータに応じて、６０℃で乾燥させ、２分の長さにわたりＵＶＡ光で後露光した。
例３：
ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＣ２８４プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、１００秒の長さにわたり、ｎｙｌｏｆｌｅｘ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ露光機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により、裏側から全面に露光した。露光機を制御するために、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、露光条件（時間）を含むデータマトリックスコードを読み込んだ。保護層の除去後に、これらのプレートを、マスクＬＡＤＦ０１７５ドライフィルム（Ｆｏｌｅｘ）を通して、ｎｙｌｏｆｌｅｘ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により、３６５ｎｍの波長と２０ｍＷ／ｃｍ２の強度とを有するＬＥＤ光を使用して１５分にわたり露光した。ここで、このマスクは、さらなるプロセス工程（主露光２０分、洗浄速度１９０ｍｍ／分、乾燥６０℃で１２４分、同時に後露光ＵＶＡ／ＵＶＣ１２．５分）についてのさらなる情報を有するデータマトリックスコードを含んでいた。このコードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）で読み取り、ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサに読み込み、それにより、プレートを、読み込まれたデータに応じて、現像、乾燥、および後露光した。
ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、保護層とを有するｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＣ２８４プレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を、１００秒の長さにわたり、ｎｙｌｏｆｌｅｘ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ露光機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により、裏側から全面に露光した。露光機を制御するために、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、露光条件（時間）を含むデータマトリックスコードを読み込んだ。保護層の除去後に、これらのプレートを、マスクＬＡＤＦ０１７５ドライフィルム（Ｆｏｌｅｘ）を通して、ｎｙｌｏｆｌｅｘ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により、３６５ｎｍの波長と２０ｍＷ／ｃｍ２の強度とを有するＬＥＤ光を使用して１５分にわたり露光した。ここで、このマスクは、さらなるプロセス工程（主露光２０分、洗浄速度１９０ｍｍ／分、乾燥６０℃で１２４分、同時に後露光ＵＶＡ／ＵＶＣ１２．５分）についてのさらなる情報を有するデータマトリックスコードを含んでいた。このコードを、ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）で読み取り、ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサに読み込み、それにより、プレートを、読み込まれたデータに応じて、現像、乾燥、および後露光した。
例４：
レリーフ前駆体として、ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、マスク層と、保護層とを有する、マスク層を備えたｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＣ２８４Ｄプレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を使用し、関連するプロセスデータをデータマトリックスコードに変換した。
レリーフ前駆体として、ＰＥＴ支持体層と、レリーフ層と、マスク層と、保護層とを有する、マスク層を備えたｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＣ２８４Ｄプレート（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を使用し、関連するプロセスデータをデータマトリックスコードに変換した。
これらのプレートを、１００秒にわたり、蛍光ランプを用いて、ｎｙｌｏｆｌｅｘ ＮＥｘＴ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ露光機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）により、裏側から全面に露光した。保護層の除去後に、レーザーアブレーションにより、前駆体上でデータマトリックスコードをエッジ領域に作製し、マスク層の撮像を行った。アブレーションを、ＴｈｅｒｍｏＦｌｅｘＸ８０Ｄ（Ｘｅｉｋｏｎ、レーザー出力１００Ｗ）と、Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｍｕｌｔｉｐｌａｔｅ（バージョン５．０．０．２７６）と、以下のパラメータとを用いて行った：波長１０７０ｎｍ、モード３。データマトリックスコードは、プレートタイプ、プレート厚さ、露光条件および現像条件、乾燥温度および乾燥時間、ならびに後露光条件についての情報を含んでいた。ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、マスク層上のこのコードを読み取り、後続の露光機に読み込んだ。
ＵＶ露光を、ｎｙｌｏｆｌｅｘ ＮＥｘＴ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ ＦＶ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を用いて、３６５ｎｍの波長を有するＬＥＤ光を使用して、Ｓ４設定に従って行った。
ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、マスク層上のこのコードを読み取り、後続の現像機に読み込んだ。それから、溶媒を用いて、ＦＩＩＩ洗浄機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）内にて、３５℃で、現像液としてのｎｙｌｏｓｏｌｖ Ａ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を使用して、６０ｍｍ／分の通過速度で、現像を行った。
ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、マスク層上のこのコードを読み取り、後続の現像機に読み込んだ。それから、溶媒を用いて、ＦＩＩＩ洗浄機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）内にて、３５℃で、現像液としてのｎｙｌｏｓｏｌｖ Ａ（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）を使用して、６０ｍｍ／分の通過速度で、現像を行った。
ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、レリーフ構造上のコードを読み取り、後続のｎｙｌｏｆｌｅｘ Ｄｒｙｅｒ ＦＶ乾燥機に読み込んだ。乾燥を、１８０分にわたり６０℃で行った。
ＳＲ－Ｇ１００スキャナ（Ｋｅｙｅｎｃｅ）により、レリーフ構造上のコードを読み取り、後続のＣｏｍｂｉ ＦＩＩＩ露光機（Ｆｌｉｎｔ Ｇｒｏｕｐ）に読み込んだ。同時に、１５分でＵＶＡおよびＵＶＣを後露光した。
例５：
例４を繰り返したが、ただし、マスク層のアブレーション後に、データ（主露光２０分、洗浄速度１９０ｍｍ／分、乾燥６０℃で１２４分、同時に後露光ＵＶＡ／ＵＶＣ１２．５分）を、ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサに読み込み、それにより、プレートを、読み込まれたデータに応じて、現像、乾燥、および後露光した。
例４を繰り返したが、ただし、マスク層のアブレーション後に、データ（主露光２０分、洗浄速度１９０ｍｍ／分、乾燥６０℃で１２４分、同時に後露光ＵＶＡ／ＵＶＣ１２．５分）を、ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサに読み込み、それにより、プレートを、読み込まれたデータに応じて、現像、乾燥、および後露光した。
例６：
例４を繰り返したが、ただし、商品番号のみならずバッチ番号も含むコードを使用した。これらのデータにより、デバイス（ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサ）は、接続されたデータバンクから関連するデータを検索し、これらを加工のために使用した。
例４を繰り返したが、ただし、商品番号のみならずバッチ番号も含むコードを使用した。これらのデータにより、デバイス（ｎｙｌｏｆｌｅｘ自動プレートプロセッサ）は、接続されたデータバンクから関連するデータを検索し、これらを加工のために使用した。
Claims (11)
- 支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体またはレリーフを識別する方法であって、
ａ） 支持体とレリーフ形成層とを含むレリーフ前駆体を用意する工程、ここで、前記レリーフ形成層が、撮像可能なマスク層が施与される光重合性層であり、
ｂ） 前記レリーフ前駆体または前記レリーフのタイプを識別し、かつその加工のためのプロセス関連データを含むデータを、少なくとも１個の二次元コードの形態で用意する工程、
ｃ） 前記少なくとも１個の二次元コードをレリーフとして前記レリーフ形成層に導入する工程
を有し、
工程ｃ）が、以下の工程：
ｃａ） 前記マスク層を撮像することで、前記二次元コードが前記マスク層に書き込まれる工程、
ｃｂ） 前記光重合性レリーフ形成層を、前記撮像されたマスク層を通して電磁放射線で露光する工程、
ｃｃ） 前記マスク層の残部と、前記光重合性レリーフ形成層の未露光の部分とを除去して前記レリーフを得る工程
を含み、
工程ｃａ）の後に、前記コードに含まれる前記データが、工程ｃｂ）、およびｃｃ）のうちの少なくとも１つを制御するために読み取られる、方法。 - 前記少なくとも１個の二次元コードが、バーコード、データマトリックスコード、ＱＲコード、またはドットコードを含む、請求項１記載の方法。
- 前記少なくとも１個の二次元コードが、異なるプロセス工程のための２個以上の異なるコードを含む、請求項１または２記載の方法。
- 工程ｃａ）の後に、前記コードに含まれる前記データが、少なくとも工程ｃｂ）を制御するために読み取られる請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
- 工程ｃａ）の後に、前記コードに含まれる前記データが、工程ｃｂ）およびｃｃ）の両方を制御するために読み取られる請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
- 少なくとも１個の支持体と、レリーフ形成層と、マスク層とを含むレリーフ前駆体から出発して、レリーフを製造する方法であって、以下の方法工程：
（Ａ） 前記レリーフ前駆体を用意する工程、
（Ｂ） 前記レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータを用意する工程、
（Ｃ） 前記マスク層を撮像し、それによりマスクを形成する工程、
（Ｄ） 前記撮像されたレリーフ前駆体を、前記形成されたマスクを通して電磁放射線で露光する工程、
（Ｅ） 前記マスク層の残部と、前記レリーフ形成層の未露光領域とを除去して前記レリーフを得る工程、
（Ｆ） 任意で、前記得られたレリーフを後処理する工程、
（Ｇ） 任意で、前記レリーフ前駆体または前記レリーフを、電磁放射線で、任意選択的に、工程（Ｂ）と（Ｃ）との間、（Ｃ）と（Ｄ）との間、または（Ｄ）と（Ｅ）との間に裏面露光する工程、
を有する方法において、前記レリーフ前駆体のタイプを識別するおよび／またはその加工のためのプロセスパラメータを含むデータが、工程（Ｃ）で、二次元コードの形態で前記マスク層に書き込まれ、工程（Ｃ）の後に、前記コードに含まれる前記データが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、および（Ｇ）のうちの少なくとも１つを制御するために読み取られることを特徴とする、方法。 - 前記コードに含まれる前記データが、工程（Ｄ）、（Ｅ）、および（Ｇ）のうちの少なくとも１つを、以下のプロセスパラメータ：
（ｉ） 工程（Ｄ）における露光の強度および／または時間
（ｉｉ） 工程（Ｄ）における波長
（ｉｉｉ） 工程（Ｅ）における現像温度および／または現像時間
（ｉｖ） 工程（Ｇ）における強度および／または露光時間
（ｖ） 工程（Ｇ）における電磁放射線の波長
（ｖｉ） 方法工程（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｇ）のうちの１つ以上の通過時の前記レリーフ前駆体または前記レリーフの輸送速度
のうちの１つ以上について制御することを特徴とする、請求項６記載の方法。 - 工程（Ｃ）の後に、前記コードに含まれる前記データが、少なくとも工程（Ｄ）を制御するために読み取られる請求項６または７記載の方法。
- 前記コードに含まれる前記データが、少なくとも工程（Ｄ）における露光の強度および／または時間を制御する請求項７または８記載の方法。
- 前記コードに含まれる前記データの読み取りが、非接触式に行われる、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
- 前記コードに含まれる前記データが、前記レリーフ前駆体のタイプを識別し、前記読み取られたコードに基づいてデータバンクから関連するプロセスパラメータを読み取る方法をさらに含む、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
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