JP7158100B2 - 架橋性オルガノポリシロキサン組成物、その硬化物及びled装置 - Google Patents
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Description
(A)平均単位式:
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d (R2O1/2)e(式中、R1は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも1個は炭素原子数2~6のアルケニル基であり且つ少なくとも1個はアリール基であり、該アリール基のうち、少なくとも1個はビフェニリル基であり、R2は水素原子または炭素原子数1~6のアルキル基を表し、a、b、c、d、およびeは、0≦a≦0.1、0.2≦b≦0.9、0.1≦c≦0.6、0≦d≦0.2、0≦e≦0.1、かつa+b+c+d+e=1を満たす数を表す。)で示される、ビフェニリル基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2個のアルケニル基と、少なくとも1個のアリール基を有し、下記一般式(1)で表されるシロキサン単位を一分子中に少なくとも3個有する、(好ましくは25℃において粘度が20Pa・s以下の流動性を有する)アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサン{(A)成分と(B)成分の比が1/100~100/1}、
R3 3SiO1/2 一般式(1)
(式中、R3は置換又は非置換の一価炭化水素基を表す。)
(C)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有し、ケイ素原子結合有機基の12~70モル%がアリール基であるオルガノポリシロキサン{(A)成分中と(B)成分中のアルケニル基の合計に対する本成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.5~2となる量}、および
(D)ヒドロシリル化反応用触媒{(A)成分と(B)成分のアルケニル基と(C)成分のケイ素原子結合水素原子とのヒドロシリル化反応を促進するに十分の量}を含み、アルケニル官能性直鎖状オルガノポリシロキサンを含まない架橋性オルガノポリシロキサン組成物である。
シロキサン:Si-O-Si結合を持つ化合物。
ポリシロキサン:Si-O-Si結合を複数個持つ化合物。
オルガノポリシロキサン:Si-O-Si結合を構成するSi原子に有機基が結合した構造を有するポリシロキサン。
オルガノポリシロキサン組成物:オルガノポリシロキサンを少なくとも含む、特定の性能を求めて配合された組成物。
直鎖状オルガノポリシロキサンとは、ポリシロキサンの主鎖(-Si-O-Si-O-鎖)に対し、Si原子上に原子連結基を介してシロキサン鎖が連結した構造を有さないオルガノポリシロキサンのことを言う。リニア成分とも言われる。
分岐状オルガノポリシロキサンとは、T型または十字型の分岐点を少なくとも1個含むオルガノポリシロキサンを言う。
(A)成分は、(B)成分と組み合わされて架橋オルガノポリシロキサン組成物の物性を左右する重要な成分であり、平均単位式:
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d (R2O1/2)eで示される、少なくとも1個のビフェニリル基を含むアリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンである。この(A)成分が少なくとも1個のビフェニリル基を含むアリール基を含有することで、耐腐食ガス性、屈折率、及びダイシング性を高められることを本発明者らは見出した。
なお、25℃において粘度が100Pa・sであると、25℃で流動性を有することは当業者にとって自明である。
(B)成分は、25℃において粘度が50000mPa・s以下であることが好ましく、30000mPa・s以下であることがより好ましく、20000mPa・s以下であることが特に好ましい。
(R4 3SiO1/2)f(R4 2SiO2/2)g(R4SiO3/2)h(SiO4/2)iで示される、アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンが例示される。ここでR4は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも2個は炭素原子数2~6のアルケニル基であり且つ少なくとも1個はアリール基である。一価炭化水素基としては、炭素原子数1~6のアルキル基、炭素原子数2~6のアルケニル基、炭素原子数6~14のアリール基等が例示され、炭素原子数1~6のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが例示され、好ましくはメチル基、エチル基である。また、炭素原子数6~14のアリール基としては置換または無置換のビフェニリル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基が例示される。炭素原子数2~6のアルケニル基としてはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示される。複数のR4は互いに同じであっても異なっていてもよい。式中、f、g、h、iは、0<f≦0.8、0≦g≦0.96、0<(h+i)、0.5≦f/(h+i)≦4、f+g+h+i=1を満たす数である。ここでfは25℃で20Pa・s以下の流動性を得るための一般式:R4 3SiO1/2で表されるポリシロキサンの末端シロキサン単位の量を規定する数であり、hとiはオルガノポリシロキサンが分岐状構造をとるための成分を規定する数であって、fとh+iのいずれも0よりも大きい数でなければならない。また、25℃で20Pa・s以下の流動性を得るためには、分岐点に対する一般式:R3 3SiO1/2で表されるポリシロキサンの末端シロキサン単位の量の比f/(h+i)は0.5以上でなければならず、最大は4である。一般式:R4 2SiO2/2で表される直鎖状成分は必ずしも必須成分ではないが、必要な粘度を得るためにポリマー内の成分として導入してもよく、0≦g≦0.96の範囲であればよいが、0≦g≦0.90であることが好ましい。
(B)成分が、平均組成式(R4 3SiO(R4 2SiO)m)eSiR4 (4-e)(式中、R4は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも2個は炭素原子数2~6のアルケニル基であり且つ少なくとも1個はアリール基であり、mは0以上200以下の整数を表し、eは3または4を表す。)で示される、アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンである態様も好ましい。式中、mは直鎖状シロキサン単位の数を示し、0≦m≦200、好ましくは0≦m≦100を満たす整数である。式中、eは3または4を表し、分岐状オルガノポリシロキサンの分岐点を形成するための構造を規定する数字であり、eが3の時、T型の分岐点となり、eが4の時、十字型の分岐点となる。
実施例では(A)成分と(B)成分の量が重量部で記載されており、当業者であれば本明細書中の(A)成分と(B)成分の混合比率は重量比で示されていることは自明である。
前記(A)成分から(C)成分以外のオルガノポリシロキサンとして、直鎖状のアルケニル官能性オルガノポリシロキサンを挙げることができるが、本発明の架橋性オルガノポリシロキサン組成物は、アルケニル官能性直鎖状オルガノポリシロキサンを含まない。
本発明では、従来は必須性分と考えられていた直鎖状のアルケニル官能性オルガノポリシロキサンを用いなくても、(B)成分を用いることで良好な特性の架橋性オルガノポリシロキサン組成物を得られる。
本組成物は加熱により完全硬化した場合に用途に応じてより好ましい硬さにすることができ、特に高い硬さも得ることができる。本発明の架橋性オルガノポリシロキサン組成物は150℃で3時間の加熱をされた場合にJIS K 6253で規定されるタイプDデュロメータ硬さが45以上となることが好ましく、所望の用途に応じてタイプDデュロメータ硬さを45~60とすることができ、また別の所望の用途に応じてタイプDデュロメータ硬さを60~80とすることができる。逆に、ゴム状の硬化物を得たい場合は、本組成物は加熱により完全硬化した場合にJIS K 6253で規定されるタイプAデュロメータ硬さを30~60とすることができ、また別の所望の用途に応じてタイプAデュロメータ硬さを60~90とすることができる。
本組成物は、加熱により、機械的物性、硬度などが変化しない安定した硬化物を形成することができる。加熱温度としては80℃~200℃での範囲内で行うことが好ましい。また本組成物は、成型方法に制限はなく、通常の混合及びオーブン加熱等により、接着剤用途、フィルム形成、ポッティング剤、コーティング剤、及びアンダーフィル剤として使用することができる。特に、高屈折率で光透過率が高いので光学用途のレンズ材料や、LED等半導体素子のポッティング剤、コーティング剤、保護材などの用途に好適である。
本発明の硬化物は、上記の架橋性オルガノポリシロキサン組成物を硬化してなることを特徴とする。硬化物の形状は特に限定されず、例えば、塊状、シート状、フィルム状、など多岐にわたる。硬化物は、これを単体で取り扱うこともできるが、光半導体素子等を被覆もしくは封止した状態で取り扱うことも可能である。
平均単位式:(MeViSiO2/2)0.3(Ph2SiO2/2)0.25(BPPSiO3/2)0.25(PhSiO3/2)0.2で表される分岐状メチルビニルビフェニリルフェニルポリシロキサン62重量部、式:(ViMe2SiO(SiPhMeO)15)3SiPhで表される粘度が25℃で1200mPa・sの分岐状メチルビニルフェニルポリシロキサン17重量部、および式:(HMe2SiO)2SiPh2で表されるトリシロキサン21重量部を均一に混合した後、白金の1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体を本組成物に対して白金量が重量単位で5ppmとなる量を混合して25℃の粘度が6000mPa・sである架橋性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
平均単位式:(MeViSiO2/2)0.3(PhBPPSiO2/2)0.25(PhSiO3/2)0.45で表される分岐状メチルビニルビフェニリルフェニルポリシロキサン62重量部、式:(ViMe2SiO(SiPhMeO)15)3SiPhで表される粘度が25℃で1200mPa・sの分岐状メチルビニルフェニルポリシロキサン17重量部、および式:(HMe2SiO)2SiPh2で表されるトリシロキサン21重量部を均一に混合した後、白金の1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体を本組成物に対して白金量が重量単位で5ppmとなる量を混合して25℃の粘度が15000mPa・sである架橋性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
平均単位式:(MeViSiO2/2)0.3(Ph2SiO2/2)0.25(PhSiO3/2)0.45で表される分岐状メチルビニルフェニルポリシロキサン62重量部、式:
(ViMe2SiO(SiPhMeO)15)3SiPhで表される粘度が25℃で1200mPa・sの分岐状メチルビニルフェニルポリシロキサン17重量部、および式:(HMe2SiO)2SiPh2で表されるトリシロキサン21重量部を均一に混合した後、白金の1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体を本組成物に対して白金量が重量単位で5ppmとなる量を混合して25℃の粘度が8000mPa・sである架橋性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
平均単位式:(MeViSiO2/2)0.25(Ph2SiO2/2)0.3(PhSiO3/2)0.45で表される分岐状メチルビニルフェニルポリシロキサン63重量部、式:ViMe2SiO(PhMeSiO)38SiMe2Viで示される直鎖状オルガノポリシロキサン17重量部、および式:(HMe2SiO)2SiPh2で表されるトリシロキサン20重量部を均一に混合した後、白金の1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体を組成物に対して白金量が重量単位で25ppmとなる量を混合して25℃の粘度が2500mPa・sである架橋性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。
銀メッキ電極及びLED素子を備えたLED基板に、実施例1及び実施例2並びに比較例1及び比較例2で得られた組成物を塗布し、オーブンで150℃、3時間加熱し、当該組成物の硬化物によりLED素子が封止されたLED装置を作製した。作製したLED装置を、硫黄雰囲気下、80℃のオーブンに入れ、24時間後、銀メッキ電極を顕微鏡で観察した。銀メッキ電極に変色が見られない場合を「○」、銀メッキ電極が黒色に変化した場合を「×」と判定し、その結果を表1に示す。
Claims (9)
- (A)平均単位式:
(R1 3SiO1/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d(R2O1/2)e(式中、R1は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも1個は炭素原子数2~6のアルケニル基であり且つ少なくとも1個はアリール基であり、該アリール基のうち、少なくとも1個はビフェニリル基であり、R2は水素原子または炭素原子数1~6のアルキル基を表し、a、b、c、d、およびeは、0≦a≦0.1、0.2≦b≦0.9、0.1≦c≦0.6、0≦d≦0.2、0≦e≦0.1、かつa+b+c+d+e=1を満たす数を表す。)で示される、ビフェニリル基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサン、
(B)一分子中に少なくとも2個のアルケニル基と、少なくとも1個のアリール基を有し、下記一般式(1)で表されるシロキサン単位を一分子中に少なくとも3個有する、アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサン(ただし、前記(A)成分のビフェニリル基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンを除く){(A)成分と(B)成分の重量比が1/100~100/1}、
R3 3SiO1/2 一般式(1)
(式中、R3は非置換の一価炭化水素基を表す。)
(C)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有し、ケイ素原子結合有機基の12~70モル%がアリール基であるオルガノポリシロキサン{(A)成分中と(B)成分中のアルケニル基の合計に対する本成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.5~2となる量}、および
(D)ヒドロシリル化反応用触媒を含み、アルケニル官能性直鎖状オルガノポリシロキサンを含まない架橋性オルガノポリシロキサン組成物。 - 前記(A)成分が、平均単位式:(R1 2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c
(式中、R1は請求項1と同義であり、b及びcは、0.4≦b≦0.9、0.1≦c≦0.6、かつb+c=1を満たす数を表す。)で示される、ビフェニリル基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンである請求項1に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物。 - 前記(B)成分が、平均単位式:
(R4 3SiO1/2)f(R4 2SiO2/2)g(R4SiO3/2)h(SiO4/2)i(式中、R4は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも2個は炭素原子数2~6のアルケニル基であり且つ少なくとも1個はアリール基であり、f、g、h、iは、0<f≦0.8、0≦g≦0.96、0<(h+i)、0.5≦f/(h+i)≦4、f+g+h+i=1を満たす数を表す。)で示される、アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンである請求項1又は請求項2に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物。 - 前記(B)成分が、式:R5R6 2SiO(R6 2SiO)nSiR5R6 2(式中、R5は炭素原子数2~6のアルケニル基を表し、R6は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、該一価炭化水素基のうち、少なくとも1個はアリール基であり、nは0以上200以下の整数を表す。)で示される、アリール基を含有するアルケニル官能性直鎖状オルガノポリシロキサンと、
式:(HR7 2SiO)jSiR7 (4-j)(R7は炭素原子数1~14の一価炭化水素基であり、jは3または4を表す。)で示されるケイ素原子結合水素原子を含有するシロキサンオリゴマーを、ヒドロシリル化反応してなる、生成物一分子中にアルケニル基を少なくとも3個有し、ケイ素原子結合水素原子が無い、アリール基を含有するアルケニル官能性分岐状オルガノポリシロキサンである請求項1又は請求項2に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物。 - 前記(B)成分が25℃において粘度が20Pa・s以下の流動性を有する請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物。
- 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物を硬化してなる硬化物。
- 25℃において屈折率が1.58以上の請求項6に記載の硬化物。
- 請求項6又は請求項7に記載の硬化物によりLED素子が封止されたLED装置。
- 前記(A)成分及び前記(C)成分を含む溶液と、前記(B)成分及び前記(D)成分を含む溶液とを混合することを含む、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の架橋性オルガノポリシロキサン組成物の調製方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080160317A1 (en) | 2006-12-29 | 2008-07-03 | Deborah Ann Haitko | Optoelectronic device |
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JP5377401B2 (ja) * | 2010-04-20 | 2013-12-25 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
CN102337118B (zh) * | 2010-07-19 | 2016-07-06 | 郑建鸿 | β-二酮类辅助配位基与其金属错合物在有机光电组件的应用 |
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CN104046011A (zh) * | 2014-05-19 | 2014-09-17 | 安徽安缆模具有限公司 | 汽车发动机汽缸罩盖抗老化尼龙复合材料及其制备方法 |
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US10114287B2 (en) * | 2014-10-02 | 2018-10-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicone skeleton-containing polymer compound and method for producing same, chemically amplified negative resist composition, photo-curable dry film and method for producing same, patterning process, layered product, and substrate |
WO2016054781A1 (en) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | Henkel (China) Company Limited | An organopolysiloxane prepolymer and a curable organopolysiloxane composition comprising the same |
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US20080160317A1 (en) | 2006-12-29 | 2008-07-03 | Deborah Ann Haitko | Optoelectronic device |
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