JP7033753B2 - ピラー供給方法、ガラスパネルユニットの製造方法、及びピラー供給装置 - Google Patents

ピラー供給方法、ガラスパネルユニットの製造方法、及びピラー供給装置 Download PDF

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Description

本開示は、ピラー供給方法、ガラスパネルユニットの製造方法、及びピラー供給装置に関する。
特許文献１には、ガラスパネルユニットを製造する過程において、一枚の基板（板ガラス）の上に、複数のピラー（スペーサー）を供給することが開示されている。ピラーを供給した後に、該基板に対して別の基板を接合することで内部空間を形成し、該内部空間を減圧状態で封止することによって、断熱性の高いガラスパネルユニットが製造される。
上記した従来の技術では、薄板にパンチングを施すことによって複数のピラーを製造する。製造された複数のピラーはいったん保管され、その中で、ガラスパネルユニットを製造するにあたって必要な分が取り出され、基板上に配置される。
そのため、従来の技術においては、パンチングの際に各ピラーにバリが発生しやすい。加えて、ピラーをいったん保管しておく必要があり、その分だけ工程数が多くて非効率である。
日本国公開特許公報平１１－７９７９９号
本開示は、バリの発生が抑えられた複数のピラーを基板上に効率的に供給することのできるピラー供給方法、ガラスパネルユニットの製造方法、及びピラー供給装置を提供することを、目的とする。
一態様に係るピラー供給方法は、ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネルを含む基板の上に複数のピラーを供給する方法であって、ピラー形成用のシートを保持台の上方にセットし、前記シートにレーザーを照射して複数のピラーを切り抜く照射工程と、前記シートから切り抜かれた前記複数のピラーを前記保持台に保持させる保持工程と、前記保持台から前記複数のピラーの全部または一部をピックアップして前記基板に実装する実装工程と、を備える。
一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法は、前記ピラー供給方法を用いて、前記複数のピラーを前記基板に供給するピラー供給工程と、前記基板の上方に、ガラスパネルを含む別の基板を重ねる配置工程と、前記基板と前記別の基板の互いの周縁部分を接合することで、前記複数のピラーが位置する内部空間を形成する接合工程と、前記内部空間を減圧する減圧工程と、前記内部空間を減圧状態で封止する封止工程と、を具備する。
一態様に係るピラー供給装置は、ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネルを含む基板の上に複数のピラーを供給する装置であって、保持台と、前記保持台の上方にセットされるピラー形成用のシートと、前記シートにレーザーを照射して複数のピラーを切り抜くレーザー加工機と、前記保持台が保持する前記複数のピラーの全部または一部をピックアップして、前記基板に実装する実装機と、を備える。
図１は、一実施形態のガラスパネルユニットの製造方法で用いるピラー供給装置を模式的に示す平面図である。 図２は、同上のピラー供給装置でレーザーを照射しているときの要部を一部破断して示す側面図である。 図３は、同上のピラー供給装置が備えるシートの要部を示す平面図である。 図４は、同上のピラー供給装置で複数のピラーを吸着している状態の要部を一部破断して示す側面図である。 図５は、同上のピラー供給装置で保持台を移動させている第一段階を示す平面図である。 図６は、同上のピラー供給装置で保持台を移動させている第二段階を示す平面図である。 図７Ａは、同上のピラー供給装置で複数のピラーをピックアップしている状態の要部を一部破断して示す側面図である。図７Ｂは、同上のピラー供給装置で複数のピラーを実装している状態の要部を示す側面図である。 図８は、同上の製造方法の配置工程を説明する斜視図である。 図９は、同上の製造方法の接合工程を説明する平面図である。 図１０は、図９のＡ－Ａ線断面図である。 図１１Ａは、同上の製造方法の減圧工程を説明する要部断面図である。図１１Ｂは、同上の製造方法の封止工程を説明する要部断面図である。 図１２は、同上の製造方法で製造されたガラスパネルユニットを示す斜視図である。 図１３は、変形例１のピラー供給装置でレーザーを照射しているときの要部を一部破断して示す側面図である。 図１４は、変形例２のピラー供給装置を模式的に示す平面図である。 図１５は、変形例２のピラー供給装置で保持台を移動させている様子を示す平面図である。 図１６は、変形例３のピラー供給装置を模式的に示す平面図である。 図１７は、変形例３のピラー供給装置で保持台を移動させている様子を示す平面図である。
（一実施形態）
一実施形態のガラスパネルユニットの製造方法について、添付図面に基づいて説明する。一実施形態のガラスパネルユニットの製造方法は、ピラー供給工程、配置工程、接合工程、減圧工程、及び封止工程を具備する。
ピラー供給工程は、ガラスパネル９１０を含む基板９１の上に、複数のピラー３を供給する工程である。
ピラー供給工程では、図１から図７に模式的に示すピラー供給装置８を用いて、基板９１の近傍個所で複数のピラー３を形成し、形成した直後の複数のピラー３を、その下方の保持台１に保持させる。次いで、複数のピラー３を保持台１ごと実装個所の近傍にまで移動させ、複数のピラー３の全部または一部をピックアップして基板９１上に実装する。ピラー供給工程の詳細な内容については後述する。
配置工程では、複数のピラー３が実装された基板９１に対して、ガラスパネル９２０を含む別の基板９２を、複数のピラー３の上方を覆うように配置する（図８参照）。これにより、複数のピラー３が、一対の基板９１，９２の間に挟み込まれる。基板９１の上面には、基板９１を重ねる前段階で、枠状のシール材９４を配置している。シール材９４は、例えばガラスペーストである。
シール材９４の配置は、複数のピラー３を基板９１に実装した後でもよいし、複数のピラー３を基板９１に実装する前でもよい。或いは、複数のピラー３を基板９１に実装することと、基板９１にシール材９４を配置することを、並行して行ってもよい。
接合工程では、基板９１と基板９２の互いの周縁部分を、枠状のシール材９４を介して気密に接合する。これにより、互いに対向して位置する一対の基板９１，９２とシール材９４の間に、内部空間Ｓ１が形成される。内部空間Ｓ１には、複数のピラー３が位置する（図９、図１０参照）。
複数のピラー３の各々は、一対の基板９１，９２の互いの対向面に当たって位置する。複数のピラー３は、枠状のシール材９４に囲まれて位置し、一対の基板９１，９２間の距離を所定距離に維持するスペーサーとして機能する。
減圧工程では、基板９２に貫通形成された排気孔９５を通じて、内部空間Ｓ１を減圧する（図１１Ａ参照）。減圧工程では、内部空間Ｓ１を減圧するにあたり、排気孔９５に、封止材９６とプレート９７をこの順で挿入しておく。封止材９６は、例えばガラスフリットを用いて形成された固形の封止材である。
次いで、排気ヘッド９８を、基板９２のうち排気孔９５の開口を囲む部分に、基板９２との間で気密な状態を維持するように押し当てる。このとき、封止材９６とプレート９７は、排気ヘッド９８が備えるばね機構９９によって、基板９１に向けて弾性的に押し込まれる。
この状態で、排気ヘッド９８内の空気を吸引すると（図１１Ａの白抜き矢印参照）、排気孔９５を通じて、内部空間Ｓ１の空気が真空引きされる。
封止工程では、封止材９６を用いて、内部空間Ｓ１を減圧状態のままで封止する（図１１Ｂ参照）。
封止工程では、封止材９６を局所加熱して軟化させる。封止材９６は、例えば赤外線照射、レーザー照射、誘導加熱等の手段で局所加熱することが可能である。局所加熱により軟化した封止材９６は、ばね機構９９が及ぼす付勢力によって、内部空間Ｓ１内で変形する。変形した封止材９６が、排気孔９５を封止する。
上記の各工程を経て、ガラスパネル複合体が形成される。このガラスパネル複合体を、高い断熱性を有するガラスパネルユニットとして提供することができる（図１２参照）。なお、同様の工程で形成されたガラスパネル複合体に対して、別のガラス基板を更に重ねたものを、ガラスパネルユニットして提供することも可能である。同様の工程で形成されたガラスパネル複合体の一部を切断し、残りの部分をガラスパネルユニットとして提供することも可能である。
次に、ピラー供給工程について、図１から図７に基づいて詳述する。
ピラー供給工程では、ピラー供給装置８を用いて、レーザー加工により複数のピラー３を形成し、ここで形成された複数のピラー３を基板９１上に順次供給する。
まず、ピラー供給装置８の構造について説明する。ピラー供給装置８は、保持台１、移動機構７、シート２、レーザー加工機４、及び実装機５を備える。更に、ピラー供給装置８は、基板９１を第一軸Ａ１に沿って変位自在に支持する支持機構６を備える。第一軸Ａ１は、平面視（つまり上方から見たとき）において一直線状の仮想的な軸である。
保持台１は、多孔質材を含む本体１０と、本体１０に対して複数のピラー３を吸着させることのできる吸着機構１１を有している（図２等参照）。
本体１０の上面には、複数の溝１０５が形成されている。複数の溝１０５の各々は、上方に開口した有底の溝である。複数の溝１０５は、保持台１の上面（即ち本体１０の上面）において、互いに距離をあけてマトリクス状に位置している。
吸着機構１１は、本体１０に接続された吸気装置１１２を含む。吸気装置１１２は、例えば吸気ファンである。吸気装置１１２は、保持台１の一部を通じて空気を吸引するように構成されている。より具体的には、吸気装置１１２は、本体１０が有する微細な空孔内の空気を吸引するように構成されている。吸気装置１１２が駆動されると、各溝１０５内に収容されたピラー３は、その溝１０５の内面に吸着される（図４等参照）。
移動機構７は、保持台１を支持する供給ステージ７５と、供給ステージ７５を第二軸Ａ２に沿って移動自在に支持する支持部７１（図５等参照）と、供給ステージ７５を第一軸Ａ１に沿って変位させる変位操作部７２（図６参照）を備える。第二軸Ａ２は、平面視（つまり上方から見たとき）において第一軸Ａ１と直交する一直線状の仮想的な軸である。
シート２は、複数のピラー３を形成するために用いられる可撓性のシートである。シート２は、樹脂製（例えばポリイミド製）であることが好ましいが、金属製でもよい。
シート２は、互いに距離をあけて位置する一対のローラ２９に巻き付けられた状態で、一対のローラ２９間において張力を与えられている（図２参照）。シート２とこれを支持するローラ２９は、基板９１に対して、第二軸Ａ２に沿う方向に距離をあけて位置している。
レーザー加工機４は、基板９１に対して、第二軸Ａ２に沿う方向に距離をあけて位置している。レーザー加工機４は、ピラー形成用のシート２の上方に位置している。レーザー加工機４は、下方に向けて（つまりシート２に向けて）レーザーを照射するように構成されている。
実装機５は、実装ヘッド５１と、実装ヘッド５１を第二軸Ａ２に沿って移動自在に支持する支持部５３を備える。実装ヘッド５１と支持部５３は、基板９１の上方に位置している。実装ヘッド５１は、複数の吸着ノズル５１５を有する（図７Ａ、図７Ｂ参照）。複数の吸着ノズル５１５の各々は先端開口を有し、先端開口から空気を吸引することによって、先端開口にピラー３を吸着することができる。複数の吸着ノズル５１５の各々は、その先端開口から空気を放出することによって、先端開口に吸着したピラー３を離すことができる。
次に、上記のピラー供給装置８を用いて行うピラー供給工程（言い換えればピラー供給方法）について説明する。ピラー供給工程は、照射工程、保持工程、移動工程、及び実装工程を含む。
照射工程では、第二軸Ａ２に沿う方向において基板９１と隣接した個所で、保持台１の上方にシート２をセットし、かつシート２の上方にレーザー加工機４をセットする。このとき、シート２の一部は、押圧部材１５によって保持台１の上面に押し付けておくことが好ましい。
照射工程において、シート２の下方には、保持台１の複数の溝１０５が位置している。複数の溝１０５は、シート２によって上方を覆われた状態にある。
この状態で、レーザー加工機４からシート２の複数個所に対してレーザーを照射し、シート２の複数個所に、環状の切れ目２１を形成する。切れ目２１は、シート２をその厚み方向（言い換えれば上下方向）に貫通する。これにより、シート２から、切れ目２１で囲まれた部分２３を切り抜くことができる（図３参照）。シート２から切り抜かれた複数の部分２３が、複数のピラー３を構成する。
シート２から切り抜かれた円柱状の複数の部分２３（即ち複数のピラー３）は、その下方に位置する複数の溝１０５内に、それぞれ自重で落下する。
照射工程を実行することで、保持台１が有する複数の溝１０５内には、全周がレーザーで切断処理された複数のピラー３が、一対一で収容される（図４等参照）。
保持工程では、複数の溝１０５内に切り落とされた複数のピラー３を、吸気装置１１２が生じさせる負圧により保持台１に吸着させ、複数の溝１０５に一対一で保持させる。吸気装置１１２は、照射工程の段階（つまりレーザー加工によりピラー３を形成している段階）から駆動させてもよいし、照射工程が完了した後に駆動させてもよい。
なお、吸気装置１１２を保持台１の側に設けるのでなく、供給ステージ７５の側に設けることも可能である。この場合、保持台１が供給ステージ７５に設置された状態で、保持台１が有する微細な空孔内の空気を吸引することができる位置に、吸気装置１１２を設置する。
移動工程では、保持台１を下方から支持する供給ステージ７５が、保持台１及びこれに保持された複数のピラー３を、水平方向に移動させる。
一例として供給ステージ７５は、図５に示すように、第二軸Ａ２に沿って基板９１の上方の位置にまで移動し、次いで、図６に示すように、第一軸Ａ１に沿って実装機５に近づく方向に移動する。
つまり、移動機構７は、供給ステージ７５を動作させることによって、保持台１及びこれに保持された複数のピラー３を、第一軸Ａ１に沿って基板９１の上方にまで移動させ、次いで、第二軸Ａ２に沿って実装機５に近づくように移動させる。
移動工程においても、吸気装置１１２の駆動は継続して行うことが好ましい。つまり、保持台１の上面に複数のピラー３を吸着させながら、保持台１を、複数のピラー３を実装する個所の近傍にまで移動させることが好ましい。複数のピラー３を実装する個所の近傍には、実装機５の実装ヘッド５１が位置している。
実装工程では、実装機５を用いて、移動後の保持台１から複数のピラー３をピックアップして、基板９１の上面に実装する。
具体的には、実装ヘッド５１が有する複数の吸着ノズル５１５が、保持台１の複数の溝１０５内に保持されている複数のピラー３を、吸着して引き上げる（図７Ａ参照）。このとき、吸気装置１１２の駆動は停止させていることが好ましい。
次いで、実装ヘッド５１と基板９１の少なくとも一方を移動させ、これにより、基板９１に対して複数のピラー３が狙いの個所に至ったタイミングで、実装ヘッド５１から複数のピラー３を離して、基板９１の上面に実装する（図７Ｂ参照）。
ピラー供給工程では、上記の照射工程、保持工程、移動工程、及び実装工程を繰り返し実行することによって、基板９１の上面に、所定の配置で複数のピラー３を供給することができる。
基板９１に供給される各ピラー３は、シート２からレーザーで切り取られた部分２３であるから、各ピラー３にバリが発生することが抑えられる。加えて、複数のピラー３を基板９１の近傍で形成し、基板９１上に順次実装していくので、レーザー加工で形成した複数のピラー３をいったん別の個所で保管しておく必要がなく、複数のピラー３を、基板９１上に効率的に供給することが可能である。
（変形例）
以下に例示するように、上述したガラスパネルユニットの製造方法、ピラー供給方法、及びピラー供給装置８は、適宜に設計変更が可能である。以下の説明において、上述した構成と同様の構成には同一符号を付し、詳しい説明を省略する。
例えば、上述したガラスパネルユニットの製造方法では、気体分子を吸着することができるゲッターの配置を省略しているが、内部空間Ｓ１にゲッターを配置することも好ましい。
また、上述したガラスパネルユニットの製造方法では、内部空間Ｓ１を減圧するための排気孔９５を、一対の基板９１，９２のうち基板９２の側に設けているが、基板９１の側に設けることも可能である。
また、上述したガラスパネルユニットの製造方法の封止工程では、排気孔９５に挿入した封止材９６を局所加熱して内部空間Ｓ１を封止しているが、封止の手段はこれに限定されない。例えば、一対の基板９１，９２を気密に接合するシール材９４の一部を、内部空間Ｓ１を減圧状態に維持しながら加熱等の手段で変形させ、シール材９４のうち変形した部分で内部空間Ｓ１を封止することも可能である。また、排気孔９５に連通するように基板９２にガラス管を接続し、該ガラス管を通じて内部空間Ｓ１を減圧した後に、該ガラス管を加熱等の手段で封止することも可能である。
また、上述したピラー供給装置８では、保持台１が吸着機構１１と複数の溝１０５の両方を備えているが、吸着機構１１と複数の溝１０５の両方を備えることは必須でない。ピラー供給装置８が吸着機構１１と複数の溝１０５の一方だけを備えることも可能である。
例えば、保持台１が吸着機構１１を備え、複数の溝１０５を備えない場合には、保持台１が平坦な上面を有し、この平坦な上面に載せた複数のピラー３を、吸気装置１１２が生じさせる負圧で保持台１に吸着しながら、移動させることができる。
保持台１が複数の溝１０５を備え、吸着機構１１を備えない場合には、複数のピラー３を、複数の溝１０５に収容した状態で移動させることができる。
また、上述したピラー供給装置８は、保持台１、供給ステージ７５、シート２、レーザー加工機４、及び実装機５を一つずつ備えているが、これらの個数は一つに限定されない。これらの個数が複数の場合、基板９１に隣接する複数個所で、レーザー加工により複数のピラー３を形成し、各個所で形成した複数のピラー３を基板９１上に順次実装していくことができる。
また、上述したピラー供給装置８では、本体１０を多孔質に設けているが、これの代わりに、図１３に示す変形例１のように、複数の溝１０５の各々に連通する吸気路１３を本体１０の内部に形成し、吸気装置１１２を吸気路１３に接続させてもよい。吸気路１３は、各溝１０５の底に連通することが好ましい。
また、上述したピラー供給装置８では、複数のピラー３を保持する保持台１を、供給ステージ７５を介して移動させているが、図１４、図１５に示す変形例２のように、供給ステージ７５を用いずに保持台１を移動させることも好ましい。保持台１の移動は、適宜の搬送機構を用いることが好ましいが、作業者が手作業で行ってもよい。
変形例２においては、実装機５が、保持台１を着脱自在に装着することのできる装着部５５を備えている。実装ヘッド５１と装着部５５は、支持部５３に対して、第二軸Ａ２に沿って移動自在に連結されている。支持部５３は、基板９１に対して、第一軸Ａ１に沿って変位自在である。
したがって、実装ヘッド５１と装着部５５（及びこれに装着された保持台１）は、基板９１に対して、第一軸Ａ１と第二軸Ａ２に沿って変位自在である。装着部５５に装着された保持台１は、実装ヘッド５１に対して、第一軸Ａ１に沿って変位自在である。
変形例２においては、第一軸Ａ１に沿う方向において基板９１と隣接した個所に、交換ステージ７７を設けている。複数のピラー３を保持する保持台１は、レーザー加工機４及びシート２の下方の個所から、交換ステージ７７の近傍個所にまで搬送され、交換ステージ７７に移される（図１５参照）。
交換ステージ７７に移された保持台１（複数のピラー３を保持する保持台１）は、実装機５に装着されている別の保持台１（実装ヘッド５１により複数のピラー３がピックアップされた後の保持台１）との間で、交換可能である。
変形例２においては、複数のピラー３を保持する保持台１を交換ステージ７７に順次供給し、実装機５に装着されている別の保持台１と交換する作業を繰り返すことで、基板９１に対して複数のピラー３を効率的に供給することができる。
また、図１６、図１７に示す変形例３のように、実装機５に保持台１を装着したままで、レーザー加工を行うことも好ましい。
変形例３においては、実装機５が、保持台１を装着することのできる装着部５７を備えている。実装ヘッド５１と装着部５７は、支持部５３に対して、第二軸Ａ２に沿って移動自在に連結されている。支持部５３は、基板９１に対して、第一軸Ａ１に沿って変位自在である。
したがって、実装ヘッド５１と装着部５７（及びこれに装着された保持台１）は、基板９１に対して、第一軸Ａ１と第二軸Ａ２に沿って移動自在である。装着部５７に装着された保持台１は、実装ヘッド５１に対して、第一軸Ａ１に沿って変位自在である。
変形例３においては、第一軸Ａ１に沿う方向において基板９１と隣接した個所に、レーザー加工機４及びシート２を設置している。
変形例３においては、実装機５に保持台１が装着された状態で、基板９１に隣接した個所で照射工程を行う（図１６参照）。移動工程では、複数のピラー３を保持する保持台１を、第一軸Ａ１に沿って実装機５ごと移動させる（図１７参照）。実装工程では、移動後の実装機５が、保持台１から複数のピラー３をピックアップして基板９１に実装する。変形例３においては、既存の設備を利用しやすいという利点と、ピラー供給装置８の全体の設備面積が抑えられるという利点がある。
（態様）
上記した実施形態及び変形例から理解されるように、第１の態様のピラー供給方法は、下記の構成を具備する。
第１の態様のピラー供給方法は、ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネル（９１０）を含む基板（９１）の上に複数のピラー（３）を供給する方法であって、照射工程、保持工程、及び実装工程を備える。照射工程では、ピラー形成用のシート（２）を保持台（１）の上方にセットし、シート（２）にレーザーを照射して複数のピラー（３）を切り抜く。保持工程では、シート（２）から切り抜かれた複数のピラー（３）を保持台（１）に保持させる。実装工程では、保持台（１）から複数のピラー（３）の全部または一部をピックアップして基板（９１）に実装する。
第１の態様のピラー供給方法によれば、レーザー加工によってバリの発生を抑えて形成した複数のピラー（３）を、基板（９１）上に効率的に供給することができる。
第２の態様のピラー供給方法は、第１の態様に加えて、下記の構成を具備する。第２の態様のピラー供給方法は、移動工程を更に備える。移動工程では、保持台（１）が保持する複数のピラー（３）を、保持台（１）ごと移動させる。実装工程では、移動後の保持台（１）から複数のピラー（３）の全部または一部をピックアップして基板（９１）に実装する。
第２の態様のピラー供給方法によれば、レーザー加工によってバリの発生を抑えて形成した複数のピラー（３）を、保持台（１）に保持したままで実装個所にまで移動させ、基板（９１）上に効率的に供給することができる。
第３の態様のピラー供給方法は、第１又は第２の態様に加えて、下記の構成を具備する。第３の態様のピラー供給方法において、保持工程では、シート（２）から切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に吸着させることで、保持台（１）に保持させる。
第３の態様のピラー供給方法によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第４の態様のピラー供給方法は、第３の態様に加えて、下記の構成を具備する。第４の態様のピラー供給方法において、保持工程では、保持台（１）を通じて空気を吸引することで、複数のピラー（３）を保持台（１）に吸着させる。
第４の態様のピラー供給方法によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、吸気の作用によって、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第５の態様のピラー供給方法は、第４の態様に加えて、下記の構成を具備する。第５の態様のピラー供給方法において、保持台（１）は、多孔質に設けられた本体（１０）を含む。
第５の態様のピラー供給方法によれば、多孔質の本体（１０）を通じて空気を吸引することによって、複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第６の態様のピラー供給方法は、第４の態様に加えて、下記の構成を具備する。第６の態様のピラー供給方法において、保持台（１）は、吸気路（１３）が形成された本体（１０）を含む。
第６の態様のピラー供給方法によれば、吸気路（１３）を通じて空気を吸引することによって、複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第７の態様のピラー供給方法は、第１から第６のいずれか一つの態様に加えて、下記の構成を具備する。第７の態様のピラー供給方法において、保持工程では、シート（２）から切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に形成されている複数の溝（１０５）に保持させる。
第７の態様のピラー供給方法によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第８の態様のピラー供給方法は、第３の態様に加えて、下記の構成を具備する。第８の態様のピラー供給方法において、保持工程では、シート（３）から切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に形成されている複数の溝（１０５）に収容し、複数の溝（１０５）の内面に吸着させることで、保持台（１）に保持させる。
第８の態様のピラー供給方法によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第１の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、ピラー供給工程、配置工程、接合工程、減圧工程、及び封止工程を具備する。ピラー供給工程では、第１から第８のいずれか一つの態様のピラー供給方法を用いて、複数のピラー（３）を基板（９１）に供給する。配置工程では、基板（９１）の上方に、ガラスパネル（９２０）を含む別の基板（９２）を重ねる。接合工程では、基板（９１）と別の基板（９２）の互いの周縁部分を接合することで、複数のピラー（３）が位置する内部空間（Ｓ１）を形成する。減圧工程では、内部空間（Ｓ１）を減圧する。封止工程では、内部空間（Ｓ１）を減圧状態で封止する。
第１の態様のガラスパネルユニットの製造方法によれば、バリの発生が抑えられた複数のピラー（３）を備えるガラスパネルユニットを、効率的に製造することができる。
また、上記した実施形態及び変形例から理解されるように、第１の態様のピラー供給装置（８）は、下記の構成を具備する。
第１の態様のピラー供給装置（８）は、ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネル（９１０）を含む基板（９１）の上に複数のピラー（３）を供給する装置である。第１の態様のピラー供給装置（８）は、保持台（１）、ピラー形成用のシート（２）、レーザー加工機（４）、及び実装機（５）を備える。シート（２）は、保持台（１）の上方にセットされる。レーザー加工機（４）は、シート（２）にレーザーを照射して複数のピラー（３）を切り抜く。実装機（５）は、保持台（１）が保持する複数のピラー（３）の全部または一部をピックアップして、基板（９１）に実装する。
第１の態様のピラー供給装置（８）によれば、レーザー加工によってバリの発生を抑えて形成した複数のピラー（３）を、基板（９１）上に効率的に供給することができる。
第２の態様のピラー供給装置（８）は、第１の態様に加えて、下記の構成を具備する。第２の態様のピラー供給装置（８）は、複数のピラー（３）を保持台（１）に吸着させる吸着機構（１１）を、更に備える。
第２の態様のピラー供給装置（８）によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第３の態様のピラー供給装置（８）は、第２の態様に加えて、下記の構成を具備する。第３の態様のピラー供給装置（８）において、吸着機構（１１）は、保持台（１）を通じて空気を吸引する吸気装置（１１２）を含む。
第３の態様のピラー供給装置（８）によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、吸気の作用によって、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第４の態様のピラー供給装置（８）は、第３の態様に加えて、下記の構成を具備する。第４の態様のピラー供給装置（８）において、保持台（１）は、多孔質に設けられた本体（１０）を含む。
第４の態様のピラー供給装置（８）によれば、多孔質の本体（１０）を通じて空気を吸引することによって、複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第５の態様のピラー供給装置（８）は、第３の態様に加えて、下記の構成を具備する。第５の態様のピラー供給装置（８）において、保持台（１）は、吸気路（１３）が形成された本体（１０）を含む。
第５の態様のピラー供給装置（８）によれば、吸気路（１３）を通じて空気を吸引することによって、複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
第６の態様のピラー供給装置（８）は、第１から第５の態様に加えて、下記の構成を具備する。第６の態様のピラー供給装置（８）において、保持台（１）は、複数のピラー（３）を保持するための複数の溝（１０５）を有する。
第６の態様のピラー供給装置（８）によれば、シート（２）からレーザーで切り抜かれた複数のピラー（３）を、保持台（１）に安定的に保持することができる。
１ 保持台
１０ 本体
１０５ 溝
１１ 吸着機構
１１２ 吸気装置
１３ 吸気路
２ シート
３ ピラー
４ レーザー加工機
５ 実装機
８ ピラー供給装置
９１ 基板
９１０ ガラスパネル
９２ 基板
９２０ ガラスパネル
Ｓ１ 内部空間

Claims (15)

  1. ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネルを含む基板の上に複数のピラーを供給する方法であって、
    ピラー形成用のシートを保持台の上方にセットし、前記シートにレーザーを照射して複数のピラーを切り抜く照射工程と、
    前記シートから切り抜かれた前記複数のピラーを前記保持台に保持させる保持工程と、
    前記保持台から前記複数のピラーの全部または一部をピックアップして前記基板に実装する実装工程と、を備える
    ピラー供給方法。
  2. 前記保持台が保持する前記複数のピラーを、前記保持台ごと移動させる移動工程を、更に備え、
    前記実装工程では、移動後の前記保持台から前記複数のピラーの全部または一部をピックアップして前記基板に実装する
    請求項１のピラー供給方法。
  3. 前記保持工程では、前記シートから切り抜かれた前記複数のピラーを、前記保持台に吸着させることで、前記保持台に保持させる
    請求項１又は２のピラー供給方法。
  4. 前記保持工程では、前記保持台を通じて空気を吸引することで、前記複数のピラーを前記保持台に吸着させる
    請求項３のピラー供給方法。
  5. 前記保持台は、多孔質に設けられた本体を含む
    請求項４のピラー供給方法。
  6. 前記保持台は、吸気路が形成された本体を含む
    請求項４のピラー供給方法。
  7. 前記保持工程では、前記シートから切り抜かれた前記複数のピラーを、前記保持台に形成されている複数の溝に収容することで、前記保持台に保持させる
    請求項１から６のいずれか一項のピラー供給方法。
  8. 前記保持工程では、前記シートから切り抜かれた前記複数のピラーを、前記保持台に形成されている複数の溝に収容し、前記複数の溝の内面に吸着させることで、前記保持台に保持させる
    請求項３のピラー供給方法。
  9. 請求項１から８のいずれか一項のピラー供給方法を用いて、前記複数のピラーを前記基板に供給するピラー供給工程と、
    前記基板の上方に、ガラスパネルを含む別の基板を重ねる配置工程と、
    前記基板と前記別の基板の互いの周縁部分を接合することで、前記複数のピラーが位置する内部空間を形成する接合工程と、
    前記内部空間を減圧する減圧工程と、
    前記内部空間を減圧状態で封止する封止工程と、を具備する
    ガラスパネルユニットの製造方法。
  10. ガラスパネルユニットを製造するために、ガラスパネルを含む基板の上に複数のピラーを供給する装置であって、
    保持台と、
    前記保持台の上方にセットされるピラー形成用のシートと、
    前記シートにレーザーを照射して複数のピラーを切り抜くレーザー加工機と、
    前記保持台が保持する前記複数のピラーの全部または一部をピックアップして、前記基板に実装する実装機と、を備える
    ピラー供給装置。
  11. 前記複数のピラーを前記保持台に吸着させる吸着機構を、更に備える
    請求項１０のピラー供給装置。
  12. 前記吸着機構は、前記保持台を通じて空気を吸引する吸気装置を含む
    請求項１１のピラー供給装置。
  13. 前記保持台は、多孔質に設けられた本体を含む
    請求項１２のピラー供給装置。
  14. 前記保持台は、吸気路が形成された本体を含む
    請求項１２のピラー供給装置。
  15. 前記保持台は、前記複数のピラーを保持するための複数の溝を有する
    請求項１０から１４のいずれか一項のピラー供給装置。
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