JP6995111B2

JP6995111B2 - ガスバリア性積層体

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Publication number: JP6995111B2
Application number: JP2019509714A
Authority: JP
Inventors: 拓己古屋; 渉岩屋; 健寛大橋
Original assignee: Lintec Corp
Current assignee: Lintec Corp
Priority date: 2017-03-28
Filing date: 2018-03-23
Publication date: 2022-01-14
Anticipated expiration: 2038-03-23
Also published as: CN110392630B; EP3603952A1; JPWO2018181004A1; KR102572921B1; TW201902692A; EP3603952B1; US20200032115A1; KR20190132990A; CN110392630A; EP3603952A4; US11512231B2; WO2018181004A1; TWI749198B

Description

本発明は、基材層、ガスバリア層、及び保護フィルムを有するガスバリア性積層体であって、露出面の外観に悪影響を与えることなく保護フィルムを剥離除去することができ、かつ、保護フィルムを剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持されるガスバリア性積層体に関する。

近年、基材層と、無機膜等からなるガスバリア層とを有するガスバリア性積層体は、基板材料や封止材料として広く用いられている。
ガスバリア性積層体は、工業的には、長尺なものとして製造された後ロール状に巻かれ、巻回体として保管、輸送されることが多い。このようなガスバリア性積層体においては、ガスバリア層等を保護するために、片側又は両側の最外層として保護フィルムが設けられることがある。

例えば、特許文献１には、支持体と、前記支持体の一方面に交互に配置された有機膜と無機膜とを、それぞれ、少なくとも一層を含む機能層と、前記支持体の他方面に配置された第１ラミネートフィルムと、前記機能層の最上層に配置された第２ラミネートフィルムを有し、前記第２ラミネートフィルムと前記最上層の間の粘着力は、前記第１ラミネートフィルムと前記支持体の粘着力より小さい機能性フィルム（積層体）が記載されている。

特開２０１１－２０７１２５号公報（ＵＳ２０１１／０２０６９００Ａ１、ＵＳ２０１３／０２２４４３５Ａ１）

特許文献１に記載されるような積層体を使用する際は、保護フィルム（ラミネートフィルム）は剥離除去され、残りの積層体に対して所定の加工等が施される。
しかしながら、生産性を上げるために保護フィルムを高速で剥離除去すると、残りの積層体の露出面が傷つくことがあった。そして、この露出面がガスバリア層等の機能層である場合、傷の発生によりその機能が大きく低下することがあった。
この点に関して、特許文献１の実施例で製造された積層体のように、無機膜の上に有機膜を有し、さらにその上に保護フィルムを有する積層体においては、有機膜が無機膜の保護層として機能するため、保護フィルムを剥離除去したときに無機膜が傷つくことを防止することができる。

しかしながら、この方法を利用するガスバリア性積層体においては、ガスバリア層の上に有機膜を常に設ける必要があり、ガスバリア性積層体の製造工程が煩雑になる。
したがって、ガスバリア層と保護フィルムが直接接するガスバリア性積層体であって、露出面の外観に悪影響を与えることなく保護フィルムを剥離除去することができ、かつ、保護フィルムを剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持されるガスバリア性積層体が要望されていた。

本発明者らは上記課題を解決すべく、基材層、ガスバリア層、及び保護フィルムを有するガスバリア性積層体について鋭意検討した。その結果、基材層と、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるガスバリア層と、前記ガスバリア層上に直接積層されてなる保護フィルム（α）と、前記基材層の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる保護フィルム（β）と、を有するガスバリア性積層体であって、前記保護フィルム（α）及び前記保護フィルム（β）を特定条件下で剥離したときの粘着力がそれぞれ特定値以下であるガスバリア性積層体は、露出面の外観に悪影響を与えることなく保護フィルムを剥離除去することができ、かつ、保護フィルムを剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持されることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明によれば、下記〔１〕～〔６〕のガスバリア性積層体が提供される。
〔１〕基材層と、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるガスバリア層と、前記ガスバリア層上に直接積層されてなる保護フィルム（α）と、前記基材層の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる保護フィルム（β）と、を有するガスバリア性積層体であって、前記保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、０．１Ｎ／５０ｍｍ以下であり、前記保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、１．５Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層体。
〔２〕前記ガスバリア層が、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素フッ化物、ケイ素炭化物、金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、金属炭化物、及びこれらの化合物を構成する元素を含む複合化合物からなる群から選択される少なくとも一種を含有するものである、〔１〕に記載のガスバリア性積層体。
〔３〕前記保護フィルム（α）が、支持体（α１）と粘着剤層（α２）を有する積層フィルムである、〔１〕又は〔２〕に記載のガスバリア性積層体。
〔４〕前記保護フィルム（β）が、支持体（β１）と粘着剤層（β２）を有する積層フィルムである、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
〔５〕前記保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離した後、前記保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときに、残りの積層体の水蒸気透過率が０．２ｇ・ｍ^－２・ｄａｙ^－１未満である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
〔６〕前記ガスバリア層が、改質処理を受けることで無機化合物を含有する層に変化し得る層の表面を改質して得られたものである、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
〔７〕センサーデバイス又は光学デバイスに用いられる、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載のガスバリア性積層体。

本発明によれば、基材層、ガスバリア層、及び保護フィルムを有するガスバリア性積層体であって、露出面の外観に悪影響を与えることなく保護フィルムを剥離除去することができ、かつ、保護フィルムを剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持されるガスバリア性積層体が提供される。

本発明のガスバリア性積層体の層構造の一例を表す模式図である。本発明のガスバリア性積層体の層構造の一例を表す模式図である。

本発明のガスバリア性積層体は、基材層と、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるガスバリア層と、前記ガスバリア層上に直接積層されてなる保護フィルム（α）と、前記基材層の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる保護フィルム（β）と、を有するガスバリア性積層体であって、前記保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、０．１Ｎ／５０ｍｍ以下であり、前記保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、１．５Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする。

〔基材層〕
本発明のガスバリア性積層体を構成する基材層は、透明性に優れ、かつ、ガスバリア層等を担持し得るものであれば特に制限されない。

基材層としては、通常、樹脂フィルムが用いられる。
樹脂フィルムの樹脂成分としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。

これらの中でも、透明性により優れ、かつ、汎用性があることから、ポリエステル、ポリカーボネート、シクロオレフィン系ポリマー、又は芳香族系重合体が好ましい。汎用性の観点からポリエステルがより好ましく、透明性の観点からシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。

ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等が挙げられ、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。

ポリカーボネートとしては、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン（別名ビスフェノールＡ）、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）イソブタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン等のビスフェノール類と、ホスゲンやジフェニルカーボネートを反応させて得られる重合体が挙げられる。

シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。その具体例としては、アペル（三井化学社製のエチレン－シクロオレフィン共重合体）、アートン（ＪＳＲ社製のノルボルネン系重合体）、ゼオノア（日本ゼオン社製のノルボルネン系重合体）等が挙げられる。

芳香族系重合体としては、ポリスチレン等が挙げられる。

前記樹脂フィルムは、本発明の効果を妨げない範囲において各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、着色顔料等が挙げられる。これらの添加剤の含有量は、目的に合わせて適宜決定すればよい。

樹脂フィルムは、樹脂成分及び所望により各種添加剤を含む樹脂組成物を調製し、これをフィルム状に成形することにより得ることができる。成形方法は特に限定されず、キャスト法や溶融押出法等の公知の方法を利用することができる。

基材層の厚みは特に限定されず、ガスバリア性積層体の目的に合わせて決定すればよい。基材層の厚みは、通常、０．５～５００μｍ、好ましくは１～１００μｍである。

〔ガスバリア層〕
本発明のガスバリア性積層体を構成するガスバリア層は、酸素や水蒸気等のガスの透過を抑制する特性（ガスバリア性）を有する層である。このガスバリア層は、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるものである。

ガスバリア層の厚みは、通常、１～２０００ｎｍ、より好ましくは３～１０００ｎｍ、より好ましくは５～５００ｎｍである。

ガスバリア層としては、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素フッ化物、ケイ素炭化物、金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、金属炭化物、及びこれらの化合物を構成する元素を含む複合化合物を含有するものが好ましい。
このようなガスバリア層としては、例えば、無機蒸着膜や、改質処理を受けることで無機化合物を含有する層に変化し得る層の表面を改質して得られたもの〔この場合、ガスバリア層とは、改質された領域のみを意味するのではなく、「改質された領域を含む層」を意味する。〕等が挙げられる。

無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物；無機炭化物；無機硫化物；酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。
これらは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中では、ガスバリア性の観点から、無機酸化物、無機窒化物又は金属を原料とする無機蒸着膜が好ましく、さらに、透明性の観点から、無機酸化物又は無機窒化物を原料とする無機蒸着膜が好ましい。

無機蒸着膜を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ（物理的蒸着）法や、熱ＣＶＤ（化学的蒸着）法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等のＣＶＤ法が挙げられる。

無機蒸着膜の厚みは、使用する無機化合物や金属によっても異なるが、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、好ましくは１～２０００ｎｍ、より好ましくは３～１０００ｎｍ、より好ましくは５～５００ｎｍの範囲である。

改質処理を受けることで無機化合物を含有する層に変化し得る層としては、ケイ素含有高分子化合物を含む層（以下、「高分子層」ということがある。）が挙げられる。また、「改質処理を受けることで無機化合物を含有する層に変化し得る層」には、後述する無機ポリシラザンの如く、無機高分子化合物を含む層である場合も含まれる。この場合、改質処理を受けることにより、前記無機高分子化合物を含む層の少なくとも一部分は、異なる組成の無機化合物を含有する層に変化する。

高分子層は、ケイ素含有高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含有してもよい。他の成分としては、硬化剤、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。
高分子層中のケイ素含有高分子化合物の含有量は、よりガスバリア性に優れるガスバリア層を形成し得ることから、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。

高分子層の厚みは、特に制限されないが、通常１～２０００ｎｍ、より好ましくは３～１０００ｎｍ、より好ましくは５～５００ｎｍの範囲である。

高分子層は、例えば、ケイ素含有高分子化合物を有機溶剤に溶解又は分散した液を、公知の塗布方法によって、直接又はその他の層を介して基材層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥することにより形成することができる。

有機溶剤としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

塗布方法としては、バーコート法、スピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、エアナイフコート法、ロールナイフコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、グラビアオフセット法等が挙げられる。

塗膜の乾燥方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が挙げられる。加熱温度は、通常、８０～１５０℃であり、加熱時間は、通常、数十秒から数十分である。

高分子層の表面を改質する方法としては、イオン注入処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、熱処理等が挙げられる。
イオン注入処理は、後述するように、加速させたイオンを高分子層に注入して、高分子層を改質する方法である。
プラズマ処理は、高分子層をプラズマ中に晒して、高分子層を改質する方法である。例えば、特開２０１２－１０６４２１号公報に記載の方法に従って、プラズマ処理を行うことができる。
紫外線照射処理は、高分子層に紫外線を照射して高分子層を改質する方法である。例えば、特開２０１３－２２６７５７号公報に記載の方法に従って、紫外線改質処理を行うことができる。

ケイ素含有高分子化合物としては、ポリシラザン系化合物、ポリカルボシラン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリオルガノシロキサン系化合物、ポリ（ジシラニレンフェニレン）系化合物、及びポリ（ジシラニレンエチニレン）系化合物等が挙げられ、ポリシラザン系化合物がより好ましい。

ポリシラザン系化合物は、分子内に－Ｓｉ－Ｎ－結合（シラザン結合）を含む繰り返し単位を有する化合物である。具体的には、式（１）

で表される繰り返し単位を有する化合物が好ましい。また、用いるポリシラザン系化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、１００～５０，０００であるのが好ましい。

前記式（１）中、ｎは任意の自然数を表す。Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。

前記無置換若しくは置換基を有するアルキル基のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等の炭素数１～１０のアルキル基が挙げられる。

無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基等の炭素数３～１０のシクロアルキル基が挙げられる。

無置換若しくは置換基を有するアルケニル基のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基等の炭素数２～１０のアルケニル基が挙げられる。

前記アルキル基、シクロアルキル基及びアルケニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。

無置換又は置換基を有するアリール基のアリール基としては、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等の炭素数６～１５のアリール基が挙げられる。

前記アリール基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１～６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～６のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシル基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；フェニル基、４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基等の無置換若しくは置換基を有するアリール基；等が挙げられる。

アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリｔ-ブチルシリル基、メチルジエチルシリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルシリル基、エチルシリル基等が挙げられる。

これらの中でも、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚとしては、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。

前記式（１）で表される繰り返し単位を有するポリシラザン系化合物としては、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚが全て水素原子である無機ポリシラザン、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚの少なくとも１つが水素原子ではない有機ポリシラザンのいずれであってもよい。

また、本発明においては、ポリシラザン系化合物として、ポリシラザン変性物を用いることもできる。ポリシラザン変性物としては、例えば、特開昭６２－１９５０２４号公報、特開平２－８４４３７号公報、特開昭６３－８１１２２号公報、特開平１－１３８１０８号公報等、特開平２－１７５７２６号公報、特開平５－２３８８２７号公報、特開平５－２３８８２７号公報、特開平６－１２２８５２号公報、特開平６－３０６３２９号公報、特開平６－２９９１１８号公報、特開平９－３１３３３号公報、特開平５－３４５８２６号公報、特開平４－６３８３３号公報等に記載されているものが挙げられる。
これらの中でも、ポリシラザン系化合物としては、入手容易性、及び優れたガスバリア性を有するイオン注入層を形成できる観点から、Ｒｘ、Ｒｙ、Ｒｚが全て水素原子であるペルヒドロポリシラザンが好ましい。
また、ポリシラザン系化合物としては、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
ポリシラザン系化合物は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

高分子層に注入するイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン；エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン；ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン；アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン；シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン；シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン；金属のイオン；有機ケイ素化合物のイオン；等が挙げられる。
これらのイオンは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より簡便にイオンを注入することができ、より優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成し得ることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。

イオンの注入量は、ガスバリア性積層体の使用目的（必要なガスバリア性、透明性等）等に合わせて適宜決定することができる。

イオンを注入する方法としては、電界により加速されたイオン（イオンビーム）を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられる。なかでも、簡便に目的のガスバリア層を形成できることから、後者のプラズマ中のイオンを注入する方法（プラズマイオン注入法）が好ましい。

プラズマイオン注入法は、例えば、希ガス等のプラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、高分子層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン（陽イオン）を、高分子層の表面部に注入して行うことができる。プラズマイオン注入法は、より具体的には、ＷＯ２０１０／１０７０１８号パンフレット等に記載された方法により実施することができる。

イオン注入により、イオンが注入される領域の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、高分子層の厚みや積層体の使用目的等に応じて決定すればよいが、通常、１０～４００ｎｍである。

イオンが注入されたことは、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）を用いて高分子層の表面から１０ｎｍ付近の元素分析測定を行うことによって確認することができる。

〔保護フィルム（α）〕
本発明のガスバリア性積層体を構成する保護フィルム（α）は、前記ガスバリア層上に直接積層されるものである。保護フィルム（α）は、ガスバリア性積層体を運搬したり、保存したりする間に、ガスバリア層を保護する役割を有する。
保護フィルム（α）としては、支持体（α１）と粘着剤層（α２）を有する積層フィルムが挙げられる。

支持体（α１）は粘着剤層（α２）を担持し得るものであれば特に限定されないが、樹脂フィルムが好ましい。かかる樹脂フィルムとしては、基材層を構成する樹脂フィルムとして先に示したものと同様のものが挙げられる。なかでも、支持体（α１）としては、ポリオレフィン系フィルムが好ましい。
ポリオレフィン系フィルムは適切な弾性率を有しているため、ポリオレフィン系フィルムを支持体（α１）として用いることで、保護フィルム（α）を滑らかに剥離除去することができる。
ポリオレフィン系フィルムを構成するポリオレフィンとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン－α－オレフィン共重合体等が挙げられる。これらの中でもポリエチレンが好ましい。
支持体（α１）の厚みは特に限定されないが、通常、１～５００μｍ、好ましくは５～１００μｍである。

粘着剤層（α２）に含まれる重合体成分としては、アクリル系重合体、天然ゴム系重合体、合成ゴム系重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン系重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－イソプレンブロック共重合体、スチレン－ブタジエンブロック共重合体等が挙げられる。
これらの中でも、粘着剤層（α２）に含まれる重合体成分としては、アクリル系重合体や、ポリオレフィン系重合体が好ましい。
これらの重合体を含有する粘着剤層（α２）を形成することで、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が０．１Ｎ／５０ｍｍ以下の保護フィルム（α）が得られ易くなる。

粘着剤層（α２）の２５℃における貯蔵弾性率は、１×１０^４～１×１０^６Ｐａが好ましい。粘着剤層（α２）の２５℃における貯蔵弾性率がこの範囲内であることで、基材に糊残りなく、滑らかに剥離することが可能となる。

後述するように、アクリル系重合体は粘着剤層（β２）に含まれる重合体成分としても好適に用いられるものである。ただし、粘着剤層（α２）に求められる粘着力と粘着剤層（β２）に求められる粘着力は同じではないため、目的の粘着性を発現させるために、用いるアクリル系重合体の種類や、架橋密度、非粘着成分の添加等を検討することが好ましい。
アクリル系重合体を含有する粘着剤層においては、適当な架橋密度の場合、粘着力が大きくなり、架橋密度が低い場合や過度に高い場合、粘着力が小さくなる傾向がある。このような知見を基にして、粘着剤層（α２）のような粘着力が小さい粘着剤層を効率よく形成することができる。
また、一般に、同じ粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層においては、粘着剤層が薄くなるにしたがって、粘着力が小さくなる傾向があるため、粘着剤層の厚みを調節することにより、目的の粘着性を発現させてもよい。

粘着剤層（α２）は、添加剤を含有してもよい。添加剤としては、帯電防止剤、スリップ剤、粘着付与剤等が挙げられる。

粘着剤層（α２）の厚みは特に限定されないが、通常、０．１～５０μｍ、好ましくは０．５～２０μｍである。

支持体（α１）と粘着剤層（α２）を有する積層フィルムは、支持体（α１）用の原料樹脂と、粘着剤層（α２）用の原料樹脂とを共押出しすることで効率よく製造することができる。

〔保護フィルム（β）〕
本発明のガスバリア性積層体を構成する保護フィルム（β）は、前記基材層の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるものである。
保護フィルム（β）としては、支持体（β１）と粘着剤層（β２）を有する積層フィルムが挙げられる。

支持体（β１）は粘着剤層（β２）を担持し得るものであれば特に限定されないが、樹脂フィルムが好ましい。かかる樹脂フィルムとしては、基材層を構成する樹脂フィルムとして先に示したものと同様のものが挙げられる。なかでも、支持体（β１）としては、ポリエステル系フィルムが好ましい。
支持体（β１）が、ポリエステル系フィルムであることで、適切な支持が可能であり、ハンドリング性に優れる。
支持体（β１）の厚みは特に限定されないが、通常、１～５００μｍ、好ましくは１０～２００μｍである。

粘着剤層（β２）に含まれる重合体成分としては、アクリル系重合体、天然ゴム系重合体、合成ゴム系重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン系重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－イソプレンブロック共重合体、スチレン－ブタジエンブロック共重合体等が挙げられる。
これらの中でも、粘着剤層（β２）に含まれる重合体成分としては、アクリル系重合体が好ましい。
上記のように、アクリル系重合体を含有する粘着剤においては、アクリル系重合体の種類や、架橋密度等を調節することで、目的の粘着性を発現させることができる。
したがって、上記の知見に基づき、用いるアクリル系重合体等を適宜選択することで、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が１．５Ｎ／５０ｍｍ以下の保護フィルム（β）が得られ易くなる。

アクリル系重合体としては、炭素数１～２０の炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の繰り返し単位と、官能基含有モノマー由来の繰り返し単位を有するアクリル系共重合体が挙げられる。

炭素数１～２０の炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、およびステアリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

官能基含有モノマーとしては、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、アミノ基含有物モノマー、シアノ基含有モノマー、ケト基含有モノマー、アルコキシシリル基含有モノマー等が挙げられる。これらの中でも、官能基含有モノマーとしては、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマーが好ましい。
ヒドロキシ基含有モノマーとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
カルボキシ基含有モノマーとしては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。

これらの中でも、目的の粘着力を有する粘着剤層を形成し易いことから、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレートを単量体として用いることが好ましい。

粘着剤層（β２）中には、架橋構造が形成されていてもよい。架橋構造は、架橋剤を用いる公知の方法により形成することができる。

用いる架橋剤としては、架橋性基としてイソシアネート基を有する化合物であるイソシアネート系架橋剤、架橋性基としてエポキシ基を有する化合物であるエポキシ系架橋剤、架橋性基としてアジリジン基を有する化合物であるアジリジン系架橋剤、金属原子がアルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉄、スズ等であるキレート化合物等の金属キレート系架橋剤等が挙げられる。
これらの架橋剤は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
架橋剤の配合量は、目的とする粘着力を有する保護フィルムが得られ易い観点から、粘着剤層（β２）に含まれる重合体成分１００質量部に対して、０．１～１０質量部が好ましく、０．５～８質量部がより好ましく、１～５質量部が特に好ましい。

粘着剤層（β２）は、添加剤を含有してもよい。添加剤としては、帯電防止剤、スリップ剤、粘着付与剤等が挙げられる。これらの具体例は、粘着剤層（α２）に添加してもよい、帯電防止剤、スリップ剤、粘着付与剤として列記されたものと同様のものが挙げられる。

粘着剤層（β２）の厚みは特に限定されないが、通常、０．５～３０μｍ、好ましくは１～１５μｍである。粘着剤層（β２）の厚みがこの範囲内であることで、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が１．５Ｎ／５０ｍｍ以下の保護フィルム（β）が得られ易くなる。

粘着剤層（β２）の２５℃における貯蔵弾性率は、１×１０^４～１×１０^６Ｐａが好ましい。粘着剤層（β２）の２５℃における貯蔵弾性率がこの範囲内であることで、基材に糊残りなく、滑らかに剥離することが可能となる。

支持体（β１）と粘着剤層（β２）を有する積層フィルムは、支持体（β１）上に、粘着剤層（β２）形成用の塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥し、必要に応じて架橋構造を生成させることにより効率よく製造することができる。

〔ガスバリア性積層体〕
本発明のガスバリア性積層体は、基材層と、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる前記ガスバリア層と、前記ガスバリア層上に直接積層されてなる保護フィルム（α）と、前記基材層の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる保護フィルム（β）と、を有するガスバリア性積層体である。

本発明のガスバリア性積層体が、基材層とガスバリア層との間にその他の層を有する場合、その他の層としては、プライマー層等が挙げられる。プライマー層は特に限定されず、公知の方法に従って形成することができる。
本発明のガスバリア性積層体が、基材層と保護フィルム（β）との間にその他の層を有する場合、その他の層としては、ハードコート層等が挙げられる。

本発明のガスバリア性積層体としては、例えば、図１、図２に示すものが挙げられる。
図１に示すガスバリア性積層体（１）は、基材層（２）と、基材層（２）の一方の面（Ａ）上に、直接積層されてなるガスバリア層（３）と、ガスバリア層（３）上に直接積層されてなる保護フィルム（α）（４）と、基材層（２）の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接積層されてなる保護フィルム（β）（５）と、を有するガスバリア性積層体である。
保護フィルム（α）（４）が粘着剤層（α２）（図示せず）を有するとき、保護フィルム（α）（４）は、粘着剤層（α２）がガスバリア層（３）に対向するように配置される。
保護フィルム（β）（５）が粘着剤層（β２）（図示せず）を有するとき、保護フィルム（β）（５）は、粘着剤層（β２）が基材層（２）に対向するように配置される。

一方、図２に示すガスバリア性積層体（６）は、基材層（７）と、基材層（７）の一方の面（Ａ）上に、その他の層（８）を介して積層されてなるガスバリア層（９）と、ガスバリア層（９）上に直接積層されてなる保護フィルム（α）（１０）と、基材層（７）の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、その他の層（１１）を介して積層されてなる保護フィルム（β）（１２）と、を有するガスバリア性積層体である。

本発明のガスバリア性積層体を構成する保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力は、０．１Ｎ／５０ｍｍ以下であり、好ましくは０．０１～０．０８Ｎ／５０ｍｍである。
なお、保護フィルム（α）や保護フィルム（β）の粘着力は、より具体的には実施例に記載の方法により測定することができる。
この条件で剥離したときの保護フィルム（α）の粘着力が０．１Ｎ／５０ｍｍ以下であることで、露出面に傷をつけたり、糊残りが生じたりすることなく保護フィルム（α）を剥離除去することができ、かつ、保護フィルム（α）を剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持される。

上記の支持体（α１）と粘着剤層（α２）を有する積層フィルムを保護フィルム（α）として用いる場合、上記の粘着力を有する積層フィルムは、粘着剤層（α２）中の重合体として、アクリル系重合体やポリオレフィン系重合体を用いることで効率よく得ることができる。

一方、保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力は、１．５Ｎ／５０ｍｍ以下であり、好ましくは０．１～１．０Ｎ／５０ｍｍである。
この条件で剥離したときの保護フィルム（β）の粘着力が１．５Ｎ／５０ｍｍ以下であることで、露出面に傷をつけたり、糊残りが生じたりすることなく保護フィルム（β）を剥離除去することができ、かつ、保護フィルム（β）を剥離除去しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持される。

上記の支持体（β１）と粘着剤層（β２）を有する積層フィルムを保護フィルム（β）として用いる場合、上記の粘着力を有する積層フィルムは、粘着剤層（β２）中の重合体として、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系重合体を用いることで効率よく得ることができる。

粘着剤層（α２）の粘着力及び粘着剤層（β２）の粘着力を上述の値にするために、粘着剤層（α２）の貯蔵弾性率は、粘着剤層（β２）の貯蔵弾性率より高いことが好ましい。

本発明のガスバリア性積層体を構成する保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離した後、保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときに、残りの積層体の水蒸気透過率は、通常、０．２ｇ・ｍ^－２・ｄａｙ^－１未満、好ましくは１×１０^－６～１×１０^－２ｇ・ｍ^－２・ｄａｙ^－１である。
水蒸気透過率は、実施例に記載の方法により測定することができる。

本発明のガスバリア性積層体は、上記特性を有することから、フィルム型センサー等のセンサーデバイスや、有機ＥＬ発光装置等の光学デバイスの製造材料として好適に用いられる。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び％は、特に断りのない限り、質量基準である。

〔粘着力測定〕
実施例又は比較例で得られたガスバリア性積層体（幅５０ｍｍ）の保護フィルム（α）又は（β）を、ＪＩＳＺ０２３７：２０００に準じ、剥離角度１８０°、剥離速度０．３ｍ／分又は１０ｍ／分の条件で剥離し、その際の粘着力（Ｎ／５０ｍｍ）を測定した。

〔外観評価〕
実施例又は比較例で得られたガスバリア性積層体（幅５００ｍｍ）の保護フィルムを、保護フィルム（α）、保護フィルム（β）の順に、それぞれ剥離速度１０ｍ／分の条件で剥離し、残りの積層体の外観を目視で観察した。その結果、外観に異常がないものを○とし、クラック、キズ、又は白濁の少なくとも一つが発生したものを×とした。

〔水蒸気透過率測定〕
実施例又は比較例で得られたガスバリア性積層体について、ＭＯＣＯＮ社製ＡＱＵＡＴＲＡＮを用いて、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下で水蒸気透過率を測定した。
また、外観評価で用いた積層体（基材層／ガスバリア層の構造の積層体）について、同様の条件で水蒸気透過率を測定した。

〔製造例１〕
２－エチルヘキシルアクリレート系樹脂（日本合成化学社製、コーポニールＮ－４３９９）１００部、イソシアネート系架橋剤（サイデン化学社製、コウカザイＫ－３１５)４部を混合し、粘着剤組成物（１）を得た。

〔製造例２〕
２－ヒドロキシエチルアクリレート系樹脂（トーヨーケム社製、オリバインＢＰＳ６３９３－Ｋ）１００部、イソシアネート系架橋剤（サイデン化学社製、コウカザイＫ－３１５）２部を混合し、粘着剤組成物（２）を得た。

〔製造例３〕
ブチルアクリレート系樹脂（サイデン化学社製、ＬＴ－５５）１００部、イソシアネート系架橋剤（サイデン化学社製、コウカザイＫ－３１５）２部を混合し、粘着剤組成物（３）を得た。

〔製造例４〕
ポリエステル系フィルム（東レ株式会社製、ＰＥＴ５０－Ｕ４０）上に、製造例１で得られた粘着剤組成物（１）を用いて、厚みが５μｍ、２５℃における貯蔵弾性率が３．０ｘ１０^５Ｐａの粘着剤層を形成し、保護フィルム（β－ｉ）を得た。

〔製造例５〕
ポリエステル系フィルム（東レ株式会社製、ＰＥＴ５０－Ｕ４０）上に、製造例２で得られた粘着剤組成物（２）を用いて、厚みが１２μｍ、２５℃における貯蔵弾性率が１．０ｘ１０^５Ｐａの粘着剤層を形成し、保護フィルム（β－ｉｉ）を得た。

〔製造例６〕
ポリエステル系フィルム（東レ株式会社製、ＰＥＴ５０－Ｕ４０）上に、製造例３で得られた粘着剤組成物（３）を用いて、厚みが２０μｍ、２５℃における貯蔵弾性率が８．０ｘ１０^５Ｐａの粘着剤層を形成し、保護フィルム（β－ｉｉｉ）を得た。

〔製造例７〕
ポリエステル系フィルム（東レ株式会社製、ＰＥＴ５０－Ｕ４０）上に、製造例１で得られた粘着剤組成物（１）を用いて、厚みが４０μｍ、２５℃における貯蔵弾性率が３．０ｘ１０^５Ｐａの粘着剤層を形成し、保護フィルム（β－ｉｖ）を得た。

〔実施例１〕
基材層としてのポリエステル系フィルム（東洋紡株式会社製、ＰＥＴ５０Ａ４３００、厚み５０μｍ）上に、ペルヒドロポリシラザン含有液（メルクパフォーマンスマテリアルズ社製、アクアミカＮＬ１１０－２０、溶媒：キシレン、濃度：１０％）を塗布し、１２０℃で２分間乾燥することで、厚みが２００ｎｍのペルヒドロポリシラザン層を形成した。
次いで、プラズマイオン注入装置（ＲＦ電源：日本電子株式会社製、ＲＦ５６０００、高電圧パルス電源：株式会社栗田製作所製、ＰＶ－３－ＨＳＨＶ－０８３５）を用いて、ペルヒドロポリシラザン層に対し、下記条件にてプラズマイオン注入を行い、ガスバリア層を形成することで、基材層（ポリエステル系フィルム）と、前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接積層されてなるガスバリア層とを有するガスバリアフィルムを得た。

プラズマ生成ガス：Ａｒ
ガス流量：１００ｓｃｃｍ
Ｄｕｔｙ比：０．５％
印加電圧：－６ｋＶ
ＲＦ電源：周波数１３．５６ＭＨｚ、印加電力１０００Ｗ
チャンバー内圧：０．２Ｐａ
パルス幅：５μｓｅｃ
処理時間（イオン注入時間）：２００秒

得られたガスバリアフィルムのガスバリア層側に、保護フィルム（α）としてポリオレフィン系フィルム（低密度ポリエチレン基材、オレフィン系粘着剤、株式会社サンエー化研製、サニテクトＰＡＣ－３－５０ＴＨＫ）を貼付した。次いで、ガスバリアフィルムの基材層側に、保護フィルム（β）として製造例４で得られた保護フィルム（β－ｉ）を貼付することで、ガスバリア性積層体を得た。

〔実施例２〕
実施例１において、基材層としてのポリエステル系フィルムに代えて、シクロオレフィンポリマー系フィルム（日本ゼオン株式会社製、ＺＦ１４－０４０）を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔実施例３〕
実施例１において、基材層としてのポリエステル系フィルムに代えて、ポリカーボネート系フィルム（帝人株式会社製、ピュアエースＣ１１０－１００）を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔実施例４〕
実施例１において、基材層としてのポリエステル系フィルムに代えて、ポリエチレンナフタレート系フィルム（帝人フィルムソリューション株式会社製、ＰＥＮ５０Ｑ６５ＨＷ）を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔実施例５〕
実施例１において、保護フィルム（α）としてのポリオレフィン系フィルムに代えて、ポリプロピレン系フィルム（東レ株式会社製、ポリプロピレン基材、アクリル系粘着剤、トレテック７５３１）を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔実施例６〕
実施例１において、保護フィルム（β）として、製造例５で得られた保護フィルム（β－ｉｉ）を使用したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔実施例７〕
基材層としてのポリエステル系フィルム（東洋紡株式会社製、ＰＥＴ５０Ａ４３００、厚み５０μｍ）上に、以下の方法によりガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルムを得た。
（ガスバリア層の形成方法）
電子ビーム加熱方式の真空蒸着装置を用いて、酸化ケイ素化材料（キヤノンオプトロン社製ＳｉＯ）を電子ビーム加熱により蒸発させ、製膜中の圧力が０．０１５Ｐａの条件で硬化膜厚５０ｎｍのＳｉＯｘ膜を製膜した。蒸着条件は加速電圧４０ｋＶ、エミッション電流０．２Ａである。

このガスバリアフィルムを用いたことを除き、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔比較例１〕
実施例１において、保護フィルム（α）として、製造例４で得られた保護フィルム（β－ｉ）を使用したことを除き、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔比較例２〕
実施例１において、保護フィルム（β）として、製造例６で得られた保護フィルム（β－ｉｉｉ）を使用したことを除き、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

〔比較例３〕
実施例１において、保護フィルム（β）として、製造例７で得られた保護フィルム（β－ｉｖ）を使用したことを除き、実施例１と同様にしてガスバリア性積層体を得た。

実施例１～７及び比較例１～３で得られたガスバリア性積層体について、上記の評価試験を行った。結果を第１表に示す。

第１表から、以下のことが分かる。
実施例１～７で得られたガスバリア性積層体においては、露出面の外観に悪影響を与えることなく保護フィルムを高速で剥離除去することができる。さらに、保護フィルムを高速で剥離除去（剥離速度：１０ｍ／分）しても、残りの積層体において、当初の水蒸気遮断性が維持される。
一方、比較例１で得られたガスバリア性積層体は、保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が大き過ぎる。
また、比較例２、３で得られたガスバリア性積層体は、保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が大き過ぎる。
このため、比較例１～３で得られたガスバリア性積層体においては、保護フィルムを高速で剥離除去すると、露出面に、クラック、キズ、又は白濁が発生する。また、保護フィルムを剥離除去した後の残りの積層体の水蒸気遮断性は、保護フィルムの剥離除去前のガスバリア性積層体の水蒸気遮断性に比べて低下する。

Claims

基材層と、
前記基材層の一方の面（Ａ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなるガスバリア層と、
前記ガスバリア層上に直接積層されてなる保護フィルム（α）と、
前記基材層の面（Ａ）とは逆の面（Ｂ）上に、直接又はその他の層を介して積層されてなる保護フィルム（β）と、を有するガスバリア性積層体であって、
前記保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、０．１Ｎ／５０ｍｍ以下であり、
前記保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときの粘着力が、１．５Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層体。
前記ガスバリア層が、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素フッ化物、ケイ素炭化物、金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物、金属炭化物、及びこれらの化合物を構成する元素を含む複合化合物からなる群から選択される少なくとも一種を含有するものである、請求項１に記載のガスバリア性積層体。
前記保護フィルム（α）が、支持体（α１）と粘着剤層（α２）を有する積層フィルムである、請求項１又は２に記載のガスバリア性積層体。
前記保護フィルム（β）が、支持体（β１）と粘着剤層（β２）を有する積層フィルムである、請求項１～３のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
前記粘着剤層（β２）が、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系重合体を含むものである、請求項４に記載のガスバリア性積層体。
前記保護フィルム（α）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離した後、前記保護フィルム（β）を、剥離速度１０ｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離したときに、残りの積層体の水蒸気透過率が０．２ｇ・ｍ^－２・ｄａｙ^－１未満である、請求項１～５のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
前記ガスバリア層が、改質処理を受けることで無機化合物を含有する層に変化し得る層の表面を改質して得られたものである、請求項１～６のいずれかに記載のガスバリア性積層体。
センサーデバイス又は光学デバイスに用いられる、請求項１～７のいずれかに記載のガスバリア性積層体。