JP6956673B2 - 膜厚測定装置 - Google Patents
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Description
以下、本実施の形態に関する膜厚測定装置について説明する。説明の便宜上、まず、入射光が基板を透過して測定ステージの上面で反射し、その反射光がセンサーの受光部に到達する場合について説明する。
図4は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。図4に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ1Bと、測定ステージ1Bの上面に配置された基板2とを備える。被測定膜3は、基板2の上面に形成される。
本実施の形態に関する膜厚測定装置について説明する。以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。
図3は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。図3に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ1Aと、基板2と、光源4と、ハーフミラー6と、受光部5とを備える。被測定膜3は、基板2の上面に形成される。
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。
Claims (5)
- 光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、
前記基板の平面視における縁部にのみ接触し、かつ、前記基板を下方から支持するステージと、
前記ステージの下方において前記ステージから離間して位置し、かつ、平面視において前記ステージに囲まれる領域に少なくとも一部が位置する反射抑制部と、
前記被測定膜に対して光を照射する光源と、
前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第1の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第2の光とが入射される受光部とを備え、
前記反射抑制部は、前記ステージに接触せず大気中に露出する前記基板の下面から離間して位置し、
前記反射抑制部は、前記反射抑制部に入射した前記光源からの光が、前記受光部に反射されることを抑制し、
前記反射抑制部は、凹面鏡である、
膜厚測定装置。 - 前記ステージは、平面視においてリング形状である、
請求項1に記載の膜厚測定装置。 - 光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、
前記基板を下方から支持するステージと、
前記被測定膜に対して光を照射する光源と、
前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第1の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第2の光とが入射される受光部とを備え、
前記ステージの上面には、凹部が形成され、
前記ステージは、平面視で前記凹部を囲む領域において前記基板の下面と接触し、
前記凹部の断面形状は、円弧形状である、
膜厚測定装置。 - 前記基板の下面の前記凹部に対向する部分が、大気中に露出する、
請求項3に記載の膜厚測定装置。 - 前記凹部の内壁に、粗面状の光吸収コーティングが形成される、
請求項3または請求項4に記載の膜厚測定装置。
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