JP2019184393A

JP2019184393A - 膜厚測定装置

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Publication number: JP2019184393A
Application number: JP2018074641A
Authority: JP
Inventors: 佑一升元; Yuichi Masumoto; 徹上角; Toru Uekado; 信明山中; Nobuaki Yamanaka; 中西洋介; Yosuke Nakanishi; 洋介中西
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2018-04-09
Filing date: 2018-04-09
Publication date: 2019-10-24
Anticipated expiration: 2038-04-09
Also published as: CN110360941A; US20190310074A1; CN110360941B; JP6956673B2; US10677585B2; DE102019204466A1

Abstract

【課題】受光部におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させる膜厚測定装置を提供する。【解決手段】膜厚測定装置は、基板２の縁部にのみ接触するステージ１と、ステージから離間して位置し、かつ、ステージに囲まれる領域に位置する反射抑制部１２と、光源４と、光源から照射された光が被測定膜の上面に反射した第１の光８と、基板の上面に反射した第２の光９とが入射される受光部５とを備え、反射抑制部は、大気中に露出する基板の下面から離間して位置し、入射した光源からの光が、受光部に反射されることを抑制する。【選択図】図１

Description

本願明細書に開示される技術は、たとえば、光学式の膜厚測定装置に関するものである。

たとえば、集積回路（ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔ、すなわち、ＩＣ）またはメモリに代表される半導体素子の製造においては、Ｓｉ基板の表面に熱ＳｉＯ_２膜またはＰｏｌｙ−Ｓｉ膜が形成され、さらに、写真製版およびエッチングによるパターン形成によって素子が形成される。

その過程の中で、Ｓｉ基板の表面に形成された膜の膜厚が所望の膜厚であるか否かを確認するために、光学式膜厚測定器を用いて膜厚が測定される（たとえば、特許文献１、特許文献２および特許文献３を参照）。

このうち、光干渉式膜厚測定器を用いる膜厚測定の測定原理としては、測定光（たとえば、可視光）を照射し、被測定膜表面での反射光と、被測定膜を透過し下地であるＳｉ基板の表面での反射光とをそれぞれセンサーで受光する。そして、これらの光の位相差（干渉効果）を換算することによって膜厚を測定する。

このとき、下地がＳｉ基板のように測定光を透過しにくい材質の試料であれば、Ｓｉ基板の表面に形成された膜の膜厚を正確に測定することができるが、下地がＳｉＣ基板のような測定光を透過する材質の試料である場合には、試料が載置されている測定ステージからの反射光がセンサーの受光部に影響を与えてしまい、測定精度の低下させる原因となっていた。ここで、反射光がセンサーの受光部に与える影響とは、たとえば、膜厚測定の結果に混入してしまうノイズ（外乱）のことを指す。

特開２０１７−２１１２９３号公報特開平１１−２３０８６０号公報特開昭６３−９０７０４号公報

従来の膜厚測定装置においては、被測定膜を有する基板が入射光を透過する材質である場合、入射光が基板を透過して基板が配置されている測定ステージの上面で反射し、その反射光がセンサーの受光部に到達する。そうすると、センサーの受光部が反射光の影響を受けて、被測定膜の正確な膜厚測定ができないという問題点があった。

透明基板の表面に形成された膜の膜厚測定の精度を向上させるために、たとえば、特許文献１（すなわち、特開２０１７−２１１２９３号公報）では、測定ステージの表面に低反射体を設け、被測定膜を有する基板と測定ステージとの間の界面における反射光を抑制している。

しかしながら、低反射体に入射した光がすべて吸収されるわけではなく少なからず反射してしまうため、反射光によってセンサーの受光部に測定のノイズが生じることが懸念される。

本願明細書に開示される技術は、以上に記載されたような問題を解決するためになされたものであり、光源からの光が被測定膜、さらには、基板を透過した場合であっても、受光部におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させるための技術を提供することを目的とするものである。

本願明細書に開示される技術の第１の態様は、光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、前記基板の平面視における縁部にのみ接触し、かつ、前記基板を下方から支持するステージと、前記ステージの下方において前記ステージから離間して位置し、かつ、平面視において前記ステージに囲まれる領域に少なくとも一部が位置する反射抑制部と、前記被測定膜に対して光を照射する光源と、前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、前記反射抑制部は、前記ステージに接触せず大気中に露出する前記基板の下面から離間して位置し、前記反射抑制部は、前記反射抑制部に入射した前記光源からの光が、前記受光部に反射されることを抑制する。

本願明細書に開示される技術の第２の態様は、光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、前記基板を下方から支持するステージと、前記被測定膜に対して光を照射する光源と、前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、前記ステージの上面には、凹部が形成され、前記ステージは、平面視で前記凹部を囲む領域において前記基板の下面と接触し、前記凹部の断面形状は、円弧形状である。

本願明細書に開示される技術の第１の態様は、光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、前記基板の平面視における縁部にのみ接触し、かつ、前記基板を下方から支持するステージと、前記ステージの下方において前記ステージから離間して位置し、かつ、平面視において前記ステージに囲まれる領域に少なくとも一部が位置する反射抑制部と、前記被測定膜に対して光を照射する光源と、前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、前記反射抑制部は、前記ステージに接触せず大気中に露出する前記基板の下面から離間して位置し、前記反射抑制部は、前記反射抑制部に入射した前記光源からの光が、前記受光部に反射されることを抑制する。このような構成によれば、基板を透過した光は、平面視においてステージに囲まれる領域に位置する反射抑制部によって、受光部が位置する方向への反射が抑制される。よって、受光部におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

本願明細書に開示される技術の第２の態様は、光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、前記基板を下方から支持するステージと、前記被測定膜に対して光を照射する光源と、前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、前記ステージの上面には、凹部が形成され、前記ステージは、平面視で前記凹部を囲む領域において前記基板の下面と接触し、前記凹部の断面形状は、円弧形状である。このような構成によれば、基板を透過した光は、測定ステージの凹部によって、基板を透過した光を受光部が位置する方向とは異なる方向へ反射させることができる。よって、受光部におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

本願明細書に開示される技術に関する目的と、特徴と、局面と、利点とは、以下に示される詳細な説明と添付図面とによって、さらに明白となる。

実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の変形例を概略的に示す断面図である。実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。

なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、異なる図面にそれぞれ示される構成などの大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。また、断面図ではない平面図などの図面においても、実施の形態の内容を理解することを容易にするために、ハッチングが付される場合がある。

また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。

また、以下に記載される説明において、「上」、「下」、「左」、「右」、「側」、「底」、「表」または「裏」などの特定の位置と方向とを意味する用語が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、実際に実施される際の方向とは関係しないものである。

また、以下に記載される説明において、「第１の」、または、「第２の」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。

＜第１の実施の形態＞
以下、本実施の形態に関する膜厚測定装置について説明する。説明の便宜上、まず、入射光が基板を透過して測定ステージの上面で反射し、その反射光がセンサーの受光部に到達する場合について説明する。

＜膜厚測定装置の構成について＞
図４は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。図４に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ１Ｂと、測定ステージ１Ｂの上面に配置された基板２とを備える。被測定膜３は、基板２の上面に形成される。

また、膜厚測定装置は、基板２の上方に配置される光源４と、基板２の上方に配置されるハーフミラー６と、基板２の上方に配置される受光部５とを備える。

測定ステージ１Ｂは、平面視において基板２と重なって配置される。基板２は透明基板であり、たとえば、ＳｉＣ基板である。光源４は、可視光および近赤外光（具体的には、波長λが３５０ｎｍ以上、かつ、２５００ｎｍ以下）を放射する光源であり、たとえば、ハロゲンランプを使用するものである。

光源４から放射された光７は、ハーフミラー６に入射する。そして、ハーフミラー６に反射された光は、レンズ（ここでは、図示しない）によって集束され、さらに、被測定膜３の微小領域に垂直に入射する。

受光部５は、分光器と、ＣＣＤなどのイメージセンサーとで構成される。受光部５には、被測定膜３の上面に反射された光８、基板２の上面に反射された光９、および、測定ステージ１Ｂの上面に反射された光１０が入射する。受光部５では、光８と光９との間の位相差が換算されて、被測定膜３の膜厚が算出される。

図４に例が示されるように、基板２がＳｉＣ基板などの測定光を透過する材質の試料である場合には、試料が載置されている測定ステージ１Ｂの上面で反射される光１０がセンサーの受光部５に入射されてしまい、測定精度の低下させる原因となっていた。

図１は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。図１に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ１と、測定ステージ１の上面に配置された基板２とを備える。被測定膜３は、基板２の上面に形成される。

また、膜厚測定装置は、基板２の上方に配置される光源４と、基板２の上方に配置されるハーフミラー６と、基板２の上方に配置される受光部５と、基板２の下方に配置される光吸収板１２とを備える。

測定ステージ１の形状は、平面視においてリング形状である。基板２の縁部は、平面視において測定ステージ１と重なって配置される。一方、測定ステージ１に接触しない基板２の下面の中央部は、大気中に露出する。すなわち、測定ステージ１は、基板２の縁部と平面視において重なり、かつ、基板２の縁部を支持する。基板２は、たとえば、ＳｉＣ基板である。被測定膜３は、たとえば、ＳｉＣ基板の上面に形成される酸化膜である。

光源４は、可視光および近赤外光（具体的には、波長λが３５０ｎｍ以上、かつ、２５００ｎｍ以下）を放射する光源であり、たとえば、ハロゲンランプを使用するものである。光源４から放射された光７は、ハーフミラー６に入射する。そして、ハーフミラー６に反射された光は、レンズ（ここでは、図示しない）によって集束され、さらに、被測定膜３の微小領域に垂直に入射する。

受光部５は、分光器と、ＣＣＤなどのイメージセンサーとで構成される。受光部５には、主に、被測定膜３の上面に反射された光８および基板２の上面に反射された光９が入射する。受光部５では、光８と光９との間の位相差が換算されて、被測定膜３の膜厚が算出される。

光吸収板１２は、膜厚測定のために入射される光の波長領域に対して光学的な吸収性を有する。また、光吸収板１２は、測定ステージ１の下方に別置きされている。すなわち、光吸収板１２は、測定ステージ１および基板２から離間して位置する。また、光吸収板１２は、平面視において測定ステージ１に囲まれる領域に少なくとも一部が位置する。測定ステージ１および別置きの光吸収板１２が着脱可能に膜厚測定装置に備えられることによって、膜厚測定装置のメンテナンス性が向上する。

光吸収板１２には、粗面状の光吸収コーティングが施されている。粗面の形状は、鋭角でも鈍角でも丸みを帯びていてもよい。粗面状の光吸収コーティングを形成するためには、コーティング表面を粗面にしてもよいし、コーティングの下地部材の表面を粗面にしてもよい。

このように構成された膜厚測定装置によれば、光源４から放射された光７がハーフミラー６で反射され、さらに、被測定膜３および基板２を透過する場合、測定ステージ１が平面視においてリング形状であることによって、光７が入射する位置においては、基板２と測定ステージ１とが平面視において重ならない。そのため、測定ステージ１の上面に反射される光１０を発生させることがない。

また、測定ステージ１が平面視においてリング形状であることによって、測定ステージ１の面積自体が少ないため、測定ステージ１の上面にパーティクルが堆積することを抑制することができる。

また、測定ステージ１は、測定試料（図１では、基板２の上面に形成される被測定膜３）の表面に平行な方向（すなわち、図１におけるＸ軸方向およびＹ軸方向）に移動可能である。そのため、被測定膜３における任意の箇所に光７を入射させて、膜厚測定を行うことが可能である。

一方で、基板２を透過した光１１は、測定ステージ１の下方に配置された光吸収板１２に入射して、光吸収板１２に吸収される。

したがって、基板２を透過した光１１が反射して光１０として受光部５に入射することを抑制することができるため、受光部５において生じるノイズを抑制することができる。

また、光吸収板１２の上面に粗面状の光吸収コーティングを施すことによって、基板２を透過した光１１を受ける光吸収板１２における面積が大きくなるため、光の吸収効率を高めることができる。

図２は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の変形例を概略的に示す断面図である。図２に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ１と、基板２と、光源４と、ハーフミラー６と、受光部５と、基板２の下方に配置される凹面鏡１３とを備える。被測定膜３は、基板２の上面に形成される。

凹面鏡１３は、測定ステージ１の下方に、測定ステージ１および基板２から離間して位置する。また、凹面鏡１３は、平面視において測定ステージ１に囲まれる領域に位置する。凹面鏡１３は、基板２を透過した光１１を、図２におけるＺ軸正方向とは異なる方向、たとえば、Ｙ軸負方向に反射する。なお、凹面鏡１３の代わりに、平面鏡が設けられてもよい。

凹面鏡１３を備えることによって、基板２を透過した光１１が反射して光１０として受光部５に入射することを抑制することができるため、受光部５において生じるノイズを抑制することができる。

＜第２の実施の形態＞
本実施の形態に関する膜厚測定装置について説明する。以下の説明においては、以上に記載された実施の形態で説明された構成要素と同様の構成要素については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略するものとする。

＜膜厚測定装置の構成について＞
図３は、本実施の形態に関する膜厚測定装置の、特に測定部の構造の例を概略的に示す断面図である。図３に例が示されるように、膜厚測定装置は、測定ステージ１Ａと、基板２と、光源４と、ハーフミラー６と、受光部５とを備える。被測定膜３は、基板２の上面に形成される。

測定ステージ１Ａは、平面視において基板２と重なって形成される。ただし、測定ステージ１Ａの上面には、中央部に円弧状の凹部１４が形成されており、基板２の下面と測定ステージ１Ａの上面とは、平面視で凹部１４を囲む領域で接触している。すなわち、測定ステージ１Ａは、基板２全体と平面視において重なり、かつ、基板２の縁部のみを支持する。また、基板２の下面のうち、凹部１４と対向する部分は、測定ステージ１Ａの上面とは接触せず、大気中に露出している。

また、測定ステージ１Ａは、測定試料（図３では、基板２の上面に形成される被測定膜３）の表面に平行な方向（すなわち、図３におけるＸ軸方向およびＹ軸方向）に移動可能である。そのため、被測定膜３における任意の箇所に光７を入射させて、膜厚測定を行うことが可能である。

また、測定ステージ１Ａが着脱可能に膜厚測定装置に備えられることによって、膜厚測定装置のメンテナンス性が向上する。

図３に例が示されるように、凹部１４の断面形状は、円弧状、具体的には、半球状の形状である。なお、凹部１４の断面形状は、真円だけでなく、楕円であってもよい。

このように構成された膜厚測定装置によれば、光源４から放射された光７がハーフミラー６で反射され、さらに、被測定膜３および基板２を透過する場合、基板２を透過した光１１は、基板２の下方に形成された凹部１４に入射して、図３におけるＺ軸正方向とは異なる方向、たとえば、Ｙ軸正方向に反射する。

また、図３に例が示されているように、凹部１４の内壁に、粗面状の光吸収コーティング１５を施してもよい。粗面の形状は、鋭角でも鈍角でも丸みを帯びていてもよい。粗面状の光吸収コーティングを形成するためには、コーティング表面を粗面にしてもよいし、コーティングの下地部材の表面を粗面にしてもよい。また、凹部１４の光吸収コーティング１５は、膜厚測定のために入射される光の波長領域に対して光学的な吸収性を有する。

凹部１４の内壁表面に粗面状の光吸収コーティング１５を施すことによって、基板２を透過した光１１を凹部１４において吸収することができる。また、粗面状の光吸収コーティング１５を施すことによって、基板２を透過した光１１を受ける凹部１４における面積が大きくなるため、光の吸収効率を高めることができる。

したがって、受光部５に入射する光１０をさらに抑制できるため、受光部５において生じるノイズを抑制することができる。

＜以上に記載された実施の形態によって生じる効果について＞
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果の例を示す。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例が示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例が示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。

また、当該置き換えは、複数の実施の形態に跨ってなされてもよい。すなわち、異なる実施の形態において例が示されたそれぞれの構成が組み合わされて、同様の効果が生じる場合であってもよい。

以上に記載された実施の形態によれば、膜厚測定装置は、光を透過する基板２の上面に形成された被測定膜３の膜厚を測定する。膜厚測定装置は、ステージと、反射抑制部と、光源４と、受光部５とを備える。ここで、ステージは、たとえば、測定ステージ１に対応するものである。また、反射抑制部は、たとえば、光吸収板１２および凹面鏡１３のうちの少なくとも１つに対応するものである。測定ステージ１は、基板２の平面視における縁部にのみ接触し、かつ、基板２を下方から支持する。反射抑制部は、測定ステージ１の下方において測定ステージ１から離間して位置する。また、反射抑制部は、平面視において測定ステージ１に囲まれる領域に少なくとも一部が位置する。光源４は、被測定膜３に対して光を照射する。受光部５には、光源４から照射された光が被測定膜３の上面に反射した第１の光と、光源４から照射された光が被測定膜３を透過し、さらに、基板２の上面に反射した第２の光とが入射される。ここで、第１の光は、たとえば、光８に対応するものである。また、第２の光は、たとえば、光９に対応するものである。反射抑制部は、基板２の下面のうち、測定ステージ１に接触せずに大気中に露出する部分から離間して位置する。また、反射抑制部は、反射抑制部に入射した光源４からの光が、受光部５に反射されることを抑制する。

このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、平面視において測定ステージ１に囲まれる領域に位置する反射抑制部によって、受光部５が位置する方向への反射が抑制される。よって、受光部５におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。また、反射抑制部は、測定ステージ１の下方に、測定ステージ１から離間して位置する。そのため、光吸収板１２および凹面鏡１３が着脱可能に膜厚測定装置に備えられることによって、膜厚測定装置のメンテナンス性が向上する。

なお、これらの構成以外の本願明細書に例が示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、少なくともこれらの構成を備えていれば、以上に記載された効果を生じさせることができる。

しかしながら、本願明細書に例が示される他の構成のうちの少なくとも１つを、以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては言及されなかった本願明細書に例が示される他の構成が適宜追加された場合であっても、同様の効果を生じさせることができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、測定ステージ１は、平面視においてリング形状である。このような構成によれば、基板２の平面視における中央部分には測定ステージ１が重なって配置されないため、当該箇所においては、測定ステージ１の上面に反射される光１０が発生しない。よって、受光部５におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、光吸収板１２の上面には、粗面状の光吸収コーティングが施される。このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、測定ステージ１の下方に設けられた光吸収板１２によって吸光される。そのため、受光部５におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、反射抑制部は、凹面鏡１３である。このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、測定ステージ１の下方に設けられた凹面鏡１３によって、基板２を透過した光１１を受光部５が位置する方向とは異なる方向へ反射させることができる。よって、受光部５におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、光を透過する基板２の上面に形成された被測定膜３の膜厚を測定する。膜厚測定装置は、ステージと、光源４と、受光部５とを備える。ここで、ステージは、たとえば、測定ステージ１Ａに対応するものである。測定ステージ１Ａは、基板２を下方から支持する。光源４は、被測定膜３に対して光を照射する。受光部５には、光源４から照射された光が被測定膜３の上面に反射した光８と、光源４から照射された光が被測定膜３を透過し、さらに、基板２の上面に反射した光９とが入射される。また、測定ステージ１Ａの上面には、凹部１４が形成される。また、測定ステージ１Ａは、平面視で凹部１４を囲む領域において基板２の下面と接触する。そして、凹部１４の断面形状は、円弧形状である。

このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、測定ステージ１Ａの凹部１４によって、基板２を透過した光１１を受光部５が位置する方向とは異なる方向へ反射させることができる。よって、受光部５におけるノイズの発生を抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。また、凹部１４の断面形状が円弧形状であることによって、凹部１４内へのパーティクルの堆積を抑制することができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、基板２の下面の凹部１４に対向する部分が、大気中に露出する。このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、測定ステージ１Ａの凹部１４によって、基板２を透過した光１１を受光部５が位置する方向とは異なる方向へ反射させることができる。

また、以上に記載された実施の形態によれば、凹部１４の内壁に、粗面状の光吸収コーティング１５が施される。このような構成によれば、透明基板である基板２を透過した光１１は、測定ステージ１Ａの凹部１４によって、基板２を透過した光１１を受光部５が位置する方向とは異なる方向へ反射させることができる。また、凹部１４の内壁に粗面状の光吸収コーティング１５を施すことによって、基板２を透過した光１１を凹部１４において効率的に吸光することができるため、受光部５におけるノイズの発生をさらに抑制して膜厚測定精度を向上させることができる。

＜以上に記載された実施の形態における変形例について＞
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。

したがって、例が示されていない無数の変形例、および、均等物が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも１つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも１つの実施の形態における少なくとも１つの構成要素を抽出し、他の実施の形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。

また、矛盾が生じない限り、以上に記載された実施の形態において「１つ」備えられるものとして記載された構成要素は、「１つ以上」備えられていてもよいものとする。

さらに、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素は概念的な単位であって、本願明細書に開示される技術の範囲内には、１つの構成要素が複数の構造物から成る場合と、１つの構成要素がある構造物の一部に対応する場合と、さらには、複数の構成要素が１つの構造物に備えられる場合とを含むものとする。

また、以上に記載された実施の形態におけるそれぞれの構成要素には、同一の機能を発揮する限り、他の構造または形状を有する構造物が含まれるものとする。

また、本願明細書における説明は、本技術に関するすべての目的のために参照され、いずれも、従来技術であると認めるものではない。

また、以上に記載された実施の形態において、特に指定されずに材料名などが記載された場合は、矛盾が生じない限り、当該材料に他の添加物が含まれた、たとえば、合金などが含まれるものとする。

１，１Ａ，１Ｂ測定ステージ、２基板、３被測定膜、４光源、５受光部、６ハーフミラー、１０，１１，７，８，９光、１２光吸収板、１３凹面鏡、１４凹部、１５光吸収コーティング。

Claims

光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、
前記基板の平面視における縁部にのみ接触し、かつ、前記基板を下方から支持するステージと、
前記ステージの下方において前記ステージから離間して位置し、かつ、平面視において前記ステージに囲まれる領域に少なくとも一部が位置する反射抑制部と、
前記被測定膜に対して光を照射する光源と、
前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、
前記反射抑制部は、前記ステージに接触せず大気中に露出する前記基板の下面から離間して位置し、
前記反射抑制部は、前記反射抑制部に入射した前記光源からの光が、前記受光部に反射されることを抑制する、
膜厚測定装置。
前記ステージは、平面視においてリング形状である、
請求項１に記載の膜厚測定装置。
前記反射抑制部の上面には、粗面状の光吸収コーティングが形成される、
請求項１または請求項２に記載の膜厚測定装置。
前記反射抑制部は、凹面鏡である、
請求項１または請求項２に記載の膜厚測定装置。
光を透過する基板の上面に形成された被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であり、
前記基板を下方から支持するステージと、
前記被測定膜に対して光を照射する光源と、
前記光源から照射された光が前記被測定膜の上面に反射した第１の光と、前記光源から照射された光が前記被測定膜を透過し、さらに、前記基板の上面に反射した第２の光とが入射される受光部とを備え、
前記ステージの上面には、凹部が形成され、
前記ステージは、平面視で前記凹部を囲む領域において前記基板の下面と接触し、
前記凹部の断面形状は、円弧形状である、
膜厚測定装置。
前記基板の下面の前記凹部に対向する部分が、大気中に露出する、
請求項５に記載の膜厚測定装置。
前記凹部の内壁に、粗面状の光吸収コーティングが形成される、
請求項５または請求項６に記載の膜厚測定装置。