JP6761271B2 - 処理装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Claims (11)
- 基板を処理する処理装置であって、
前記基板の裏面を吸着して基板を保持するチャックと、
前記チャックに保持された前記基板の表面に対向する対向面と、前記基板の外縁を含む前記表面の外周領域に対向して前記対向面に設けられ、前記対向面から前記表面側に突出した凸部と、を含み、前記凸部が前記外周領域に接して前記対向面と前記表面の前記外周領域よりも内側の中央領域との間に第1空間を規定する矯正部材と、
前記第1空間と連通する、前記矯正部材に形成された連通路を介して前記第1空間を減圧する第1減圧部と、
前記基板を支持する複数のピンが配置された前記チャックの面と前記裏面との間の第2空間と連通する、前記チャックに形成された連通路を介して前記第2空間を減圧する第2減圧部と、
制御部と、
を有し、
前記基板は、前記チャックに保持された状態において、前記外縁に前記チャックから離れる方向に反りが生じており、
前記制御部は、前記チャックに保持された前記基板に前記矯正部材を押し付けた状態で、前記第1減圧部によって減圧されることにより前記第1空間に発生する力が前記第2減圧部によって減圧されることにより前記第2空間に発生する力と等しく又は小さくなるように、前記第1減圧部及び前記第2減圧部を制御して、前記外縁の反りが矯正されるように前記基板を前記チャックに倣わせる処理を行うことを特徴とする処理装置。 - 前記制御部は、前記処理において、
前記矯正部材と前記基板とが離間している状態において、前記第2減圧部による前記第2空間の減圧を開始するとともに、前記矯正部材と前記チャックとが相対的に近づく方向に前記矯正部材及び前記チャックの少なくとも一方の移動を開始し、
前記凸部が前記外周領域に接したら、前記第1減圧部による前記第1空間の減圧を開始し、
前記基板が前記チャックに倣ったら、前記第1減圧部による前記第1空間の減圧を停止することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記基板を搬送する搬送ハンドを更に有し、
前記矯正部材は、前記搬送ハンドに配置され、
前記搬送ハンドは、前記凸部が前記外周領域に接した状態で前記第1減圧部によって前記第1空間を減圧することで、前記矯正部材によって前記基板を保持することを特徴とする請求項1又は2に記載の処理装置。 - 前記対向面と前記中央領域との間の距離を計測する距離計測部を更に有し、
前記制御部は、前記搬送ハンドが前記基板を保持する場合において、前記距離計測部の計測結果に基づいて、前記対向面と前記中央領域とが接触しないように、前記第1減圧部を制御することを特徴とする請求項3に記載の処理装置。 - 前記第1空間の圧力を計測する圧力計測部を更に有し、
前記制御部は、前記搬送ハンドが前記基板を保持する場合において、前記圧力計測部の計測結果に基づいて、前記対向面と前記中央領域とが接触しないように、前記第1減圧部を制御することを特徴とする請求項3又は4に記載の処理装置。 - 前記凸部は、前記外周領域側の面に配置された弾性部材を含むことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の処理装置。
- 基板を処理する処理装置であって、
前記基板の裏面を吸着して前記基板を保持するチャックと、
前記チャックを載置して保持するステージと、
前記チャックに保持された前記基板の表面に対向する対向面と、前記基板の外縁を含む前記表面の外周領域内の互いに異なる複数の部分のそれぞれに対向して前記対向面に設けられ、前記対向面から前記表面側に突出した複数の凸部と、を含む矯正部材と、
前記チャックを取り囲むように前記矯正部材の側面に配置され、前記複数の凸部のそれぞれが前記複数の部分のそれぞれに接した状態において前記ステージに接して前記対向面と前記ステージとの間に第1空間を規定する弾性部材と、
前記基板を支持する複数のピンが配置された前記チャックの面と前記裏面との間の第2空間と連通する、前記チャックに形成された連通路を介して前記第2空間を減圧する減圧部と、
前記矯正部材を前記基板に押し付けた状態で、前記減圧部によって前記第2空間を減圧することで、前記チャックに保持された前記基板の前記外周領域の反りによって連通している前記第1空間を減圧して前記基板を前記チャックに倣わせる処理を行う制御部と、
を有することを特徴とする処理装置。 - 前記矯正部材は、前記第1空間と大気環境とを連通する連通路と、前記連通路を開閉可能なバルブと、を含み、
前記制御部は、前記処理において、
前記矯正部材と前記基板とが離間している状態において、前記バルブを閉じて前記減圧部による前記第2空間の減圧を開始するとともに、前記矯正部材と前記チャックとが相対的に近づく方向に前記矯正部材及び前記チャックの少なくとも一方の移動を開始し、
前記複数の凸部のそれぞれが前記複数の部分のそれぞれに接してから前記外周領域に対応する前記裏面の領域が前記チャックに接するまで、前記バルブを閉じたまま前記減圧部による前記第2空間の減圧を継続し、
前記外周領域に対応する前記裏面の領域が前記チャックに接したら、前記減圧部による前記第2空間の減圧を継続しながら前記バルブを開けることを特徴とする請求項7に記載の処理装置。 - 基板を処理する処理装置であって、
前記基板の裏面を吸着して基板を保持するチャックと、
前記チャックに保持された前記基板の表面に対向する対向面と、前記基板の外縁を含む前記表面の外周領域に対向して前記対向面に設けられ、前記対向面から前記表面側に突出した凸部と、を含み、前記凸部が前記外周領域に接して前記対向面と前記表面の前記外周領域よりも内側の中央領域との間に第1空間を規定する矯正部材と、
前記第1空間と連通する、前記矯正部材に形成された連通路を介して前記第1空間を減圧する第1減圧部と、
前記基板を支持する複数のピンが配置された前記チャックの面と前記裏面との間の第2空間と連通する、前記チャックに形成された連通路を介して前記第2空間を減圧する第2減圧部と、
前記矯正部材を前記基板に押し付けた状態で、前記第1減圧部によって前記第1空間を減圧することで前記基板を前記チャックに倣わせる処理を行う制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記処理において、
前記矯正部材と前記基板とが離間している状態において、前記第2減圧部による前記第2空間の減圧を開始するとともに、前記矯正部材と前記チャックとが相対的に近づく方向に前記矯正部材及び前記チャックの少なくとも一方の移動を開始し、
前記凸部が前記外周領域に接したら、前記第1減圧部による前記第1空間の減圧を開始し、
前記基板が前記チャックに倣ったら、前記第1減圧部による前記第1空間の減圧を停止し、
前記第1減圧部によって減圧されることにより前記第1空間に発生する力が前記第2減圧部によって減圧されることにより前記第2空間に発生する力と等しく又は小さくなるように、前記第1減圧部及び前記第2減圧部を制御することを特徴とする処理装置。 - 前記チャックに保持された前記基板にマスクのパターンを投影する投影光学系を更に有し、
前記投影光学系を介して前記基板を露光することを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の処理装置。 - 請求項10に記載の処理装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有し、現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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