JP2019102495A - 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施例における物品の製造方法について説明する。インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
本実施例における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置EXPを用いて、感光剤が塗布された基板を露光する(パターンを基板に形成する)工程と、露光された基板を現像する(基板を処理する)工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性および生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (20)
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において原版と基板の位置合せに用いられる補正値を取得する情報処理装置であって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報を取得する第1取得手段と、
前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を取得する第2取得手段と、
前記第1取得手段で取得された前記第1情報および前記第2取得手段で取得された前記第2情報を用いて、前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報から前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得するためのモデルを算出する算出手段と、
前記算出手段で算出された前記モデルを用いて前記補正値を取得する第3取得手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 前記第1情報および前記第3情報には、前記リソグラフィ装置において前記原版および前記基板の少なくとも一方を移動する移動部を制御するための指令値に関する情報が含まれることを特徴とする、請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記第1情報および前記第3情報には、前記リソグラフィ装置において前記原版および前記基板の少なくとも一方に形成されたアライメントマークを計測して得られるアライメント計測値、およびアライメント画像に関する情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ装置は原版のパターン部と基板上のインプリント材とを接触させてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記第1情報および前記第3情報には、前記インプリント材と前記原版のパターンとが接触するときに前記原版に作用する押圧力の情報、前記原版の凹部と前記原版を保持する保持部との間の空間の圧力の情報、前記原版のパターンと接触した前記インプリント材が撮像された画像の情報、前記インプリント材と前記原版のパターンとが接触するときに前記原版と前記基板との間に作用するせん断力の情報、および前記インプリント材と前記原版のパターンとを分離するために要する離型力の情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記リソグラフィ装置は基板を露光してパターンを形成する露光装置であって、
前記第1情報および前記第3情報には、前記基板の高さを計測して得られるフォーカス計測値、前記基板を保持する基板ステージの振動を計測して得られる計測情報、前記基板を露光する光の光量を計測して得られる露光量、前記基板を露光する時間を表す露光時間に関する情報のうち少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記算出手段において、前記第1取得手段で取得された前記第1情報および前記第2取得手段で取得された前記第2情報を学習データとした機械学習により前記モデルを算出することを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第1取得手段において、前記基板としての第1基板の第1ショット領域に前記第1パターンを形成するときに前記第1情報が取得され、
前記第2取得手段において、前記第1ショット領域に形成された前記第1パターンの位置ずれが取得され、
前記第3取得手段において、前記基板としての第2基板の第2ショット領域に前記第2パターンを形成するときに取得された前記第3情報および前記モデルとを用いて、前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得する、
ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記第1取得手段において、前記基板としての第1基板の第1ショット領域に前記第1パターンを形成するときに前記第1情報が取得され、
前記第2取得手段において、前記第1ショット領域に形成された前記第1パターンの位置ずれが取得され、
前記第3取得手段において、前記基板としての第2基板上の第2ショット領域に前記第2パターンを形成するときに取得された前記第3情報および前記モデルとを用いて、前記第2ショット領域とは異なる第3ショット領域に形成される第3パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得する、
ことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記第3ショット領域は、前記第2ショット領域と同一の基板上にあることを特徴とする請求項8に記載の情報処理装置。
- 前記第3ショット領域は、前記第2ショット領域とは異なる基板上にあることを特徴とする請求項8に記載の情報処理装置。
- 前記第3ショット領域の基板上における位置は、前記第2ショット領域の基板上における位置と同一であることを特徴とする請求項10に記載の情報処理装置。
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置により基板に形成されたパターンの位置ずれを補正するために用いられる補正値を取得するためのモデルを算出する情報処理装置であって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報を取得する第1取得手段と、
前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を取得する第2取得手段と、
前記第1取得手段で取得された前記第1情報および前記第2取得手段で取得された前記第2情報を用いて、前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報から前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得するためのモデルを算出する算出手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において原版と基板の位置合せに用いられる補正値を取得する情報処理装置であって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を用いて算出されたモデル、ならびに前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報を用いて、前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得する第3取得手段
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において原版と基板の位置合せに用いられる補正値をコンピュータに取得させるプログラムであって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報を取得する第1取得手段と、
前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を取得する第2取得手段と、
前記第1取得手段で取得された前記第1情報および前記第2取得手段で取得された前記第2情報を用いて、前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報から前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得するためのモデルを算出する算出手段と、
前記算出手段で算出された前記モデルを用いて前記補正値を取得する第3取得手段
としてコンピュータを機能させることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置により基板に形成されたパターンの位置ずれを補正するために用いられる補正値を取得するためのモデルをコンピュータに算出させるプログラムであって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報を取得する第1取得手段と、
前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を取得する第2取得手段と、
前記第1取得手段で取得された前記第1情報と、前記第2取得手段で取得された前記第2情報とを用いて、前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報から前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得するためのモデルを算出する算出手段
としてコンピュータを機能させることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において原版と基板の位置合せに用いられる補正値をコンピュータに取得させるプログラムであって、
前記基板に形成された第1パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第1情報および前記第1パターンの位置ずれに関連する第2情報を用いて算出されたモデル、ならびに前記基板に形成される第2パターンの形成に関連する前記リソグラフィ装置の状態を表す第3情報を用いて、前記第2パターンの位置ずれを補正するために用いられる前記補正値を取得する第3取得手段
としてコンピュータを機能させることを特徴とするプログラム。 - 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の情報処理装置を有し、
前記第3取得手段により算出された補正値を用いて前記原版と前記基板の位置合せを行い、前記基板上にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項17に記載のリソグラフィ装置を用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の情報処理装置と、
原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、を有し
前記情報処理装置において前記第3取得手段により取得された補正値を用いて、前記リソグラフィ装置において前記原版と前記基板の位置合せを行い、前記基板にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィシステム。 - 請求項19に記載のリソグラフィシステムを用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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