JP6746567B2 - 紫外線吸収剤 - Google Patents
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- A61F2/14—Eye parts, e.g. lenses, corneal implants; Implanting instruments specially adapted therefor; Artificial eyes
- A61F2/16—Intraocular lenses
- A61F2002/16965—Lens includes ultraviolet absorber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
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- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
分野
本発明は、紫外線吸収特性を有し、また、メソゲン特性も有することができる化合物に
関する。
本発明は、紫外線吸収特性を有し、また、メソゲン特性も有することができる化合物に
関する。
背景
液晶の分子は、実質的に１つの方向に互いに整列することができ、これは、異方性の光
学的、電磁気的および／または機械的特性などの１つまたは複数の異方性の特性を有する
液体材料をもたらす。メソゲンは、一般に、液晶（例えば、存在する他の液晶材料）との
間（ａｍｏｎｇｓｔ ａｎｄ ｂｅｔｗｅｅｎ）で構造的秩序（ｏｒｄｅｒ）を誘発しか
つ／または誘発されてその構造的秩序に至る液晶材料の一次的または基本的な単位（また
はセグメントもしくは基）と記載される。
液晶の分子は、実質的に１つの方向に互いに整列することができ、これは、異方性の光
学的、電磁気的および／または機械的特性などの１つまたは複数の異方性の特性を有する
液体材料をもたらす。メソゲンは、一般に、液晶（例えば、存在する他の液晶材料）との
間（ａｍｏｎｇｓｔ ａｎｄ ｂｅｔｗｅｅｎ）で構造的秩序（ｏｒｄｅｒ）を誘発しか
つ／または誘発されてその構造的秩序に至る液晶材料の一次的または基本的な単位（また
はセグメントもしくは基）と記載される。
液晶ポリマーは、液相でありながら高度に秩序立てられた構造の領域を形成することが
できるポリマーである。液晶ポリマーは、エンジニアリングプラスチックおよびＬＣディ
スプレイ用のゲルを含む広範囲の用途を有する。液晶ポリマーの構造は、一般に、そのポ
リマーのほぼ融点まで自己強化性（ｓｅｌｆ−ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｍｅｎｔ）を提供する
、密に充填された線維状のポリマー鎖で構成される。
できるポリマーである。液晶ポリマーは、エンジニアリングプラスチックおよびＬＣディ
スプレイ用のゲルを含む広範囲の用途を有する。液晶ポリマーの構造は、一般に、そのポ
リマーのほぼ融点まで自己強化性（ｓｅｌｆ−ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｍｅｎｔ）を提供する
、密に充填された線維状のポリマー鎖で構成される。
二色性は、液晶中において、その分子構造の光学的異方性、または不純物の存在もしく
は二色性染料の存在に起因して起こり得る。二色性材料は、一般に、放射線（例えば、透
過および／または反射した放射線）の２つの直交する平面偏光成分の一方を、他方の直交
する平面偏光成分より強く吸収する能力を有する。
は二色性染料の存在に起因して起こり得る。二色性材料は、一般に、放射線（例えば、透
過および／または反射した放射線）の２つの直交する平面偏光成分の一方を、他方の直交
する平面偏光成分より強く吸収する能力を有する。
サングラス用の直線偏光レンズおよび直線偏光フィルターなどの直線偏光素子は、一般
に、スタティック二色性染料などの二色性材料を含有する、配向された、例えば一方向に
配向されたポリマーシートから形成される。結果として、慣用的な直線偏光素子は、単一
の直線偏光状態を有するスタティック素子である。したがって、慣用的な直線偏光素子が
、適切な波長のランダムに偏光された放射線または反射された放射線に曝露された場合、
その素子を透過した放射線のうちのある割合は直線偏光している。可視光などの直線偏光
した電磁放射線は、１つの方向または面に閉じ込められるかまたは効果的に限定されたそ
の光波の電磁ベクトルの振動を有する。
に、スタティック二色性染料などの二色性材料を含有する、配向された、例えば一方向に
配向されたポリマーシートから形成される。結果として、慣用的な直線偏光素子は、単一
の直線偏光状態を有するスタティック素子である。したがって、慣用的な直線偏光素子が
、適切な波長のランダムに偏光された放射線または反射された放射線に曝露された場合、
その素子を透過した放射線のうちのある割合は直線偏光している。可視光などの直線偏光
した電磁放射線は、１つの方向または面に閉じ込められるかまたは効果的に限定されたそ
の光波の電磁ベクトルの振動を有する。
さらに、慣用的な直線偏光素子はしばしばティントされる。例えば、慣用的な直線偏光
素子は、スタティック二色性染料などの着色剤を含有することができ、それに応じて、化
学放射線に応答して変化しない吸収スペクトルを有することができる。慣用的な直線偏光
素子の色は、一般に、その素子中に存在する着色剤に依存し、それはしばしば中間色（例
えば、褐色または灰色）である。したがって、慣用的な直線偏光素子は、反射光に付随す
るグレアを低減させるのに有用であるが、それらは、スタティック着色剤に起因して、あ
る特定の低光条件下で使用するのにはそれほど適していない。さらに、慣用的な直線偏光
素子は、ティントされた単一の直線偏光状態だけを有するので、それらは、情報を貯蔵ま
たは表示するそれらの能力の点で限定される。
素子は、スタティック二色性染料などの着色剤を含有することができ、それに応じて、化
学放射線に応答して変化しない吸収スペクトルを有することができる。慣用的な直線偏光
素子の色は、一般に、その素子中に存在する着色剤に依存し、それはしばしば中間色（例
えば、褐色または灰色）である。したがって、慣用的な直線偏光素子は、反射光に付随す
るグレアを低減させるのに有用であるが、それらは、スタティック着色剤に起因して、あ
る特定の低光条件下で使用するのにはそれほど適していない。さらに、慣用的な直線偏光
素子は、ティントされた単一の直線偏光状態だけを有するので、それらは、情報を貯蔵ま
たは表示するそれらの能力の点で限定される。
上記で論じたように、慣用的な直線偏光素子は、一般に、二色性材料を含有する配向さ
れたポリマーフィルムのシートを使用して形成される。したがって、二色性材料は、透過
した放射線の２つの直交する平面偏光成分のうちの１つを選択的に吸収することができる
が、その二色性材料の分子が適切に配置または配列されていない場合、透過した放射線の
正味の直線偏光は達成されないことになる。二色性材料の分子のランダムな位置決めに起
因して、個々の分子による選択的吸収は互いに相殺され、その結果、正味のまたは全体的
な直線偏光の効果は達成されないことになる。したがって、二色性材料の分子の適切な位
置決めは、一般に、正味の直線偏光をもたらす別の材料と、それとの配列によって達成さ
れる。
れたポリマーフィルムのシートを使用して形成される。したがって、二色性材料は、透過
した放射線の２つの直交する平面偏光成分のうちの１つを選択的に吸収することができる
が、その二色性材料の分子が適切に配置または配列されていない場合、透過した放射線の
正味の直線偏光は達成されないことになる。二色性材料の分子のランダムな位置決めに起
因して、個々の分子による選択的吸収は互いに相殺され、その結果、正味のまたは全体的
な直線偏光の効果は達成されないことになる。したがって、二色性材料の分子の適切な位
置決めは、一般に、正味の直線偏光をもたらす別の材料と、それとの配列によって達成さ
れる。
上記で論じた二色性素子とは対照的に、慣用的な熱的に可逆性のフォトクロミック材料
を使用して形成される、フォトクロミックレンズなどの慣用的なフォトクロミック素子は
、通常、化学放射線への曝露に応答して、第１の状態、例えば「明澄（ｃｌｅａｒ）状態
」から第２の状態、例えば「着色状態」に変換し、次いで、化学放射線、例えば化学放射
線への曝露の欠如またはその減少および／または熱エネルギーに応答して、第１の状態に
戻ることができる。したがって、慣用的なフォトクロミック素子は、一般に、低光条件と
明条件（ｂｒｉｇｈｔ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ）の両方における使用に非常に適している
。しかし、直線偏光フィルターを含まない慣用的なフォトクロミック素子は、一般に、放
射線を直線偏光させるのに適合していない。すなわち、いずれかの状態（例えば、明澄状
態および／または着色状態）における慣用的なフォトクロミック素子の吸光度比は一般に
２より小さい。したがって、慣用的なフォトクロミック素子は、反射光に付随するグレア
を、慣用的な直線偏光素子と同程度に低減させることはできない。この欠陥に対処するた
めに、フォトクロミック−二色性材料が開発されてきた。フォトクロミック−二色性材料
は、フォトクロミック特性（すなわち、少なくとも化学放射線に応答して変化する少なく
とも可視放射線に対する吸収スペクトルを有すること）と、二色性特性（すなわち、少な
くとも透過した放射線の２つの直交する平面偏光成分のうちの一方を他方より強力に吸収
することができること）の両方を提供する。
を使用して形成される、フォトクロミックレンズなどの慣用的なフォトクロミック素子は
、通常、化学放射線への曝露に応答して、第１の状態、例えば「明澄（ｃｌｅａｒ）状態
」から第２の状態、例えば「着色状態」に変換し、次いで、化学放射線、例えば化学放射
線への曝露の欠如またはその減少および／または熱エネルギーに応答して、第１の状態に
戻ることができる。したがって、慣用的なフォトクロミック素子は、一般に、低光条件と
明条件（ｂｒｉｇｈｔ ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｓ）の両方における使用に非常に適している
。しかし、直線偏光フィルターを含まない慣用的なフォトクロミック素子は、一般に、放
射線を直線偏光させるのに適合していない。すなわち、いずれかの状態（例えば、明澄状
態および／または着色状態）における慣用的なフォトクロミック素子の吸光度比は一般に
２より小さい。したがって、慣用的なフォトクロミック素子は、反射光に付随するグレア
を、慣用的な直線偏光素子と同程度に低減させることはできない。この欠陥に対処するた
めに、フォトクロミック−二色性材料が開発されてきた。フォトクロミック−二色性材料
は、フォトクロミック特性（すなわち、少なくとも化学放射線に応答して変化する少なく
とも可視放射線に対する吸収スペクトルを有すること）と、二色性特性（すなわち、少な
くとも透過した放射線の２つの直交する平面偏光成分のうちの一方を他方より強力に吸収
することができること）の両方を提供する。
フォトクロミック材料およびフォトクロミック−二色性材料を、基材または有機材料、
例えば液晶ポリマー基材を含むポリマー基材中に混ぜ込むことができる。フォトクロミッ
ク材料およびフォトクロミック−二色性材料が１つの状態から別の状態へ（例えば、明澄
状態から着色状態へ）の変化を受けた場合、そのフォトクロミック化合物またはフォトク
ロミック−二色性化合物の分子は、一般に、第１の立体配座状態から第２の立体配座状態
への立体配座変化を受ける。この立体配座変化は、その化合物が占める物理的空間の量の
変化をもたらし得る。しかし、ある特定のフォトクロミック材料およびある特定のフォト
クロミック−二色性材料が、１つの状態から別の状態へ効果的に移行する（例えば、明澄
状態から着色状態へ移行する、もしくは着色状態から明澄状態へ移行し、かつ／または非
偏光状態から偏光状態へ移行する、もしくは偏光状態から非偏光状態へ移行する）ために
は、そのフォトクロミック化合物またはフォトクロミック−二色性化合物は、一般に、そ
の化合物が、許容されるタイムフレームにわたって、所望の応答を提供するのに少なくと
も十分な速度で、第１の立体配座状態から第２の立体配座状態へ移行するのを可能にする
のに十分に柔軟な化学環境を必要とする。液晶ポリマーはそうした十分に柔軟な環境を提
供することができる。
例えば液晶ポリマー基材を含むポリマー基材中に混ぜ込むことができる。フォトクロミッ
ク材料およびフォトクロミック−二色性材料が１つの状態から別の状態へ（例えば、明澄
状態から着色状態へ）の変化を受けた場合、そのフォトクロミック化合物またはフォトク
ロミック−二色性化合物の分子は、一般に、第１の立体配座状態から第２の立体配座状態
への立体配座変化を受ける。この立体配座変化は、その化合物が占める物理的空間の量の
変化をもたらし得る。しかし、ある特定のフォトクロミック材料およびある特定のフォト
クロミック−二色性材料が、１つの状態から別の状態へ効果的に移行する（例えば、明澄
状態から着色状態へ移行する、もしくは着色状態から明澄状態へ移行し、かつ／または非
偏光状態から偏光状態へ移行する、もしくは偏光状態から非偏光状態へ移行する）ために
は、そのフォトクロミック化合物またはフォトクロミック−二色性化合物は、一般に、そ
の化合物が、許容されるタイムフレームにわたって、所望の応答を提供するのに少なくと
も十分な速度で、第１の立体配座状態から第２の立体配座状態へ移行するのを可能にする
のに十分に柔軟な化学環境を必要とする。液晶ポリマーはそうした十分に柔軟な環境を提
供することができる。
ポリマーおよび／または液晶ポリマーなどの有機材料は、通常、高温および／または紫
外線への曝露に起因した有機材料の分解を制限しかつ／または遅延させるために、熱安定
剤および／または紫外線安定剤などの安定剤を含む。フォトクロミック−二色性材料など
の二色性材料を含有する有機材料中での安定剤の存在は、二色性材料の配列を破壊して、
吸光度比値の望ましくない低下をもたらす可能性がある。代替的にまたは追加的に、有機
材料が液晶ポリマーなどの液晶材料から構成されるかまたはそれを含有する場合、安定剤
の存在は、望ましくないことに、液晶材料の配列を破壊する恐れがある。液晶配列を破壊
することに対して、さらに代替的にまたは追加的に、安定剤は、液晶ポリマーマトリック
スなどの液晶材料中に十分に可溶性ではなく、その材料の透明度の望ましくない低下（例
えば、ヘイズの増大）をもたらす可能性がある。
外線への曝露に起因した有機材料の分解を制限しかつ／または遅延させるために、熱安定
剤および／または紫外線安定剤などの安定剤を含む。フォトクロミック−二色性材料など
の二色性材料を含有する有機材料中での安定剤の存在は、二色性材料の配列を破壊して、
吸光度比値の望ましくない低下をもたらす可能性がある。代替的にまたは追加的に、有機
材料が液晶ポリマーなどの液晶材料から構成されるかまたはそれを含有する場合、安定剤
の存在は、望ましくないことに、液晶材料の配列を破壊する恐れがある。液晶配列を破壊
することに対して、さらに代替的にまたは追加的に、安定剤は、液晶ポリマーマトリック
スなどの液晶材料中に十分に可溶性ではなく、その材料の透明度の望ましくない低下（例
えば、ヘイズの増大）をもたらす可能性がある。
液晶材料を含有する組成物中で使用可能である新規安定剤を開発することが望ましい。
さらに、そうした新規に開発された安定剤が、液晶配列の破壊を最少化するかもしくはそ
の破壊が起こらないようにし、かつ／または液晶材料を含有する組成物中で改善された溶
解性を有することが望ましい。そうした新規に開発された安定剤が、液晶材料を含有する
組成物中での液晶配列を増進させることがさらに望ましい。
さらに、そうした新規に開発された安定剤が、液晶配列の破壊を最少化するかもしくはそ
の破壊が起こらないようにし、かつ／または液晶材料を含有する組成物中で改善された溶
解性を有することが望ましい。そうした新規に開発された安定剤が、液晶材料を含有する
組成物中での液晶配列を増進させることがさらに望ましい。
概要
本発明によれば、以下の式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ
）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）
の少なくとも１つで表される化合物を提供する。
本発明によれば、以下の式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ
）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）
の少なくとも１つで表される化合物を提供する。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、Ｒ１は各ｘについて独立に、Ｒ２は各
ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、ヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビルおよび−ＯＲ７からなる群から独立に選択され、各Ｒ７は
、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され、Ｒ１
、Ｒ２、Ｒ６およびＲ７のヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、いずれの場合に
も、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−
、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、Ｒ１は各ｘについて独立に、Ｒ２は各
ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、ヒドロ
カルビル、置換ヒドロカルビルおよび−ＯＲ７からなる群から独立に選択され、各Ｒ７は
、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され、Ｒ１
、Ｒ２、Ｒ６およびＲ７のヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、いずれの場合に
も、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−
、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
さらに式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、
（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、各ｎについて独立にＭ１、各ｐ
について独立にＭ２、各ｆについて独立にＭ３および各ｇについて独立にＭ４は、いずれ
の場合にも、独立に、以下の式（Ｘ）
で表される。
（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、各ｎについて独立にＭ１、各ｐ
について独立にＭ２、各ｆについて独立にＭ３および各ｇについて独立にＭ４は、いずれ
の場合にも、独立に、以下の式（Ｘ）
で表される。
各式（Ｘ）について独立に、Ｌ１は、いずれの場合にも、単結合；−Ｏ−；−Ｓ−；−
Ｃ（Ｏ）−；−Ｓ（Ｏ）−；−ＳＯ２−；−Ｎ＝Ｎ−；−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも
１つからなる群から独立に選択され、Ｒ１１’は水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロ
カルビル；−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独
立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビ
ルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され；ヒドロカルビルおよび置換
ヒドロカルビルは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（
Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択される。
Ｃ（Ｏ）−；−Ｓ（Ｏ）−；−ＳＯ２−；−Ｎ＝Ｎ−；−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも
１つからなる群から独立に選択され、Ｒ１１’は水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロ
カルビル；−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独
立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビ
ルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され；ヒドロカルビルおよび置換
ヒドロカルビルは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（
Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択される。
さらに式（Ｘ）に関連して、各式（Ｘ）について独立に、ｔは１〜４であり、ｍは、各
ｔについて独立に、０〜８である。
ｔについて独立に、０〜８である。
さらに式（Ｘ）に関連して、各式（Ｘ）について独立に、Ｌ２は、各ｍについて独立に
、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ
２５ペルハロアルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルからなる
群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（
Ｒ１０）−の少なくとも１つで任意に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ
２５ペルハロアルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルからなる
群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（
Ｒ１０）−の少なくとも１つで任意に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
引き続き式（Ｘ）に関連して、各式（Ｘ）について独立に、ｑは、各ｔについて独立に
、０〜８であり、ただし、ｍとｑの合計は各ｔについて少なくとも１であり、ただし、ｑ
は、少なくとも１つのｔについて少なくとも１である。
、０〜８であり、ただし、ｍとｑの合計は各ｔについて少なくとも１であり、ただし、ｑ
は、少なくとも１つのｔについて少なくとも１である。
さらに式（Ｘ）に関連して、各式（Ｘ）について独立に、Ｌ３は、各ｑについて独立に
、以下の式（ＸＩ−１）
で表される。
、以下の式（ＸＩ−１）
で表される。
式（ＸＩ−１）に関連して、Ｙは、各ｑについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−
Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ
９）−、−Ｎ（Ｒ９）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９
）（Ｒ１０）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ９およびＲ１０はそれぞ
れ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ
９）−、−Ｎ（Ｒ９）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９
）（Ｒ１０）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ９およびＲ１０はそれぞ
れ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
さらに式（ＸＩ−１）に関連して、ｖおよびｕは、各ｑについてそれぞれ独立に０〜５
から選択され、ただし、ｖとｕの合計は、０より大きい各ｑについて少なくとも２である
。
から選択され、ただし、ｖとｕの合計は、０より大きい各ｑについて少なくとも２である
。
さらに式（ＸＩ−１）に関連して、Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ
−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−
Ｎ（Ｒ９）−、−Ｎ（Ｒ９）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ
（Ｒ９）（Ｒ１０）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ９およびＲ１０は
それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択さ
れる。
−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−
Ｎ（Ｒ９）−、−Ｎ（Ｒ９）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ９）−および−Ｓｉ
（Ｒ９）（Ｒ１０）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ９およびＲ１０は
それぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択さ
れる。
引き続き式（ＸＩ−１）に関連して、二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、二価アリール、置換二価アリール、二価
ヘテロアリール、置換二価ヘテロアリール、二価シクロアルキル、置換二価シクロアルキ
ル、二価ヘテロシクロアルキルおよび置換二価ヘテロシクロアルキルからなる群から選択
される。
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、二価アリール、置換二価アリール、二価
ヘテロアリール、置換二価ヘテロアリール、二価シクロアルキル、置換二価シクロアルキ
ル、二価ヘテロシクロアルキルおよび置換二価ヘテロシクロアルキルからなる群から選択
される。
式（Ｘ）に関連して、Ｅ１は、水素；ヒドロカルビル；置換ヒドロカルビルからなる群
から選択され、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−
、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ
（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル；ならびに（メタ）アクリロイルからなる群から選択される。
から選択され、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−
、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ
（Ｒ９）−および−Ｓｉ（Ｒ９）（Ｒ１０）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル；ならびに（メタ）アクリロイルからなる群から選択される。
さらに式（Ｘ）に関連して、Ｌ１とＬ２の間の直接的なＬ１−Ｌ２連結は、互いに連結
された２個のヘテロ原子を含まず；Ｌ１とＬ３の間の直接的なＬ１−Ｌ３連結は、互いに
連結された２個のヘテロ原子を含まず；それぞれ直接に連結されたＬ２とＬ３の間のそれ
ぞれの直接的なＬ２−Ｌ３連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まないという
条件がある。
された２個のヘテロ原子を含まず；Ｌ１とＬ３の間の直接的なＬ１−Ｌ３連結は、互いに
連結された２個のヘテロ原子を含まず；それぞれ直接に連結されたＬ２とＬ３の間のそれ
ぞれの直接的なＬ２−Ｌ３連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まないという
条件がある。
式（Ｉ）に関連して、Ｒ３は単結合または−ＣＨ２−であり；ｘは０〜４であり；ｎは
０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり
、ただし、ｙとｐの合計は５である。さらに式（Ｉ）に関連して、ｎとｐの合計は少なく
とも１であり；Ｍ１およびＭ２はそれぞれ、Ｌ３および／またはＥ１がヒドロキシル置換
アリール基を含む末端−Ｌ３−Ｅ１基を含まず；Ｍ１およびＭ２はそれぞれ、Ｅ１がヒド
ロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ２−Ｅ１基を含まないという条件がある。
０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり
、ただし、ｙとｐの合計は５である。さらに式（Ｉ）に関連して、ｎとｐの合計は少なく
とも１であり；Ｍ１およびＭ２はそれぞれ、Ｌ３および／またはＥ１がヒドロキシル置換
アリール基を含む末端−Ｌ３−Ｅ１基を含まず；Ｍ１およびＭ２はそれぞれ、Ｅ１がヒド
ロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ２−Ｅ１基を含まないという条件がある。
式（ＩＩ）に関連して、ｘは０〜３であり；ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計
は４であり；Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロアリール、置
換ヘテロアリール、−ＯＲ８およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素、ヒドロ
カルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
は４であり；Ｒ４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロアリール、置
換ヘテロアリール、−ＯＲ８およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素、ヒドロ
カルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。
式（ＩＩＩ）に関連して、ｘは０〜４であり；ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合
計は４であり；ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり；環Ａは
、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選
択される。
計は４であり；ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり；環Ａは
、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選
択される。
式（ＩＶ）に関連して、ｘは０〜４であり；ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計
は４であり；ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり；環Ｂは、
アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択
され；Ｄは、Ｏ、ＳおよびＮ−Ｒ２’からなる群から選択され、Ｒ２’は、水素、ヒドロ
カルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−
、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１
１’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択される。
は４であり；ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり；環Ｂは、
アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択
され；Ｄは、Ｏ、ＳおよびＮ−Ｒ２’からなる群から選択され、Ｒ２’は、水素、ヒドロ
カルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−
、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１
１’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｅ−からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ８’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択される。
式（Ｖ）に関連して、ｘは０〜５であり；ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計は
５であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５である。さ
らに式（Ｖ）に関連して、ｎとｐの合計は少なくとも１である。
５であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５である。さ
らに式（Ｖ）に関連して、ｎとｐの合計は少なくとも１である。
式（ＶＩ）に関連して、ｘは０〜５であり；ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計
は５であり；Ｒ５は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびＭ２からなる群
から選択され；Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１
３、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、Ｒ１３は、水素
、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。さらに式（ＶＩ
）に関連して、ｎは少なくとも１であり、かつ／またはＲ５はＭ２であるという条件があ
る。
は５であり；Ｒ５は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびＭ２からなる群
から選択され；Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１
３、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、Ｒ１３は、水素
、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択される。さらに式（ＶＩ
）に関連して、ｎは少なくとも１であり、かつ／またはＲ５はＭ２であるという条件があ
る。
式（ＶＩＩ）に関連して、ｘは０〜４であり；ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合
計は４であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり
；ｄは０〜５であり；ｆは０〜５であり、ただし、ｄとｆの合計は５である。さらに式（
ＶＩＩ）に関連して、ｎ、ｐおよびｆの合計は少なくとも１であるという条件がある。
計は４であり；ｙは０〜５であり；ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり
；ｄは０〜５であり；ｆは０〜５であり、ただし、ｄとｆの合計は５である。さらに式（
ＶＩＩ）に関連して、ｎ、ｐおよびｆの合計は少なくとも１であるという条件がある。
式（ＶＩＩ）に関連して、ｘは０〜３であり；ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合
計は４である。
計は４である。
式（ＩＸ）に関連して、ｘは０〜３であり；ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計
は４である。
は４である。
本発明によれば、上記化合物の１つまたは複数を含む組成物をさらに提供する。
本発明によれば、上記化合物の１つまたは複数を含む製造物品をさらに提供する。
本発明を特徴付ける特長は、本開示に添付されており、その一部をなす特許請求の範囲
において具体的に指摘される。本発明の上記および他の特長、その操作の利点ならびにそ
の使用によって達成される特定の目的は、本発明の非限定的な実施形態が例示され記載さ
れる以下の詳細な説明によってより完全に理解されよう。
において具体的に指摘される。本発明の上記および他の特長、その操作の利点ならびにそ
の使用によって達成される特定の目的は、本発明の非限定的な実施形態が例示され記載さ
れる以下の詳細な説明によってより完全に理解されよう。
詳細な説明
本明細書で使用される冠詞「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、１つの指示対象への
別段の明示的で明確な限定のない限り、複数の指示対象を含む。
本明細書で使用される冠詞「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、１つの指示対象への
別段の明示的で明確な限定のない限り、複数の指示対象を含む。
別段の指定のない限り、本明細書で開示されるすべての範囲および比は、その中に包含
されるありとあらゆる下位範囲または下位の比を含むものと理解すべきである。例えば、
「１〜１０」という記述されている範囲または比は、１という最小値と１０という最大値
の間の（かつそれらを含めて）ありとあらゆる下位範囲；すなわち、１またはそれ超とい
う最小値に始まって、１０またはそれ未満という最大値で終わるすべての下位範囲または
下位の比、例えば、これらに限定されないが、１〜６．１、３．５〜７．８および５．５
〜１０を含むものと考えるべきである。
されるありとあらゆる下位範囲または下位の比を含むものと理解すべきである。例えば、
「１〜１０」という記述されている範囲または比は、１という最小値と１０という最大値
の間の（かつそれらを含めて）ありとあらゆる下位範囲；すなわち、１またはそれ超とい
う最小値に始まって、１０またはそれ未満という最大値で終わるすべての下位範囲または
下位の比、例えば、これらに限定されないが、１〜６．１、３．５〜７．８および５．５
〜１０を含むものと考えるべきである。
本明細書で使用される、二価連結基などの連結基の左から右への表現は、別段の指定の
ない限り、以下に限定されないが、右から左への方向などの他の適切な方向を含む。非限
定的な例示の目的で、二価の連結基
または同等に−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の左から右への表現は、その右から左への表現
または同等に−Ｏ（Ｏ）Ｃ−もしくは−ＯＣ（Ｏ）−を含む。
ない限り、以下に限定されないが、右から左への方向などの他の適切な方向を含む。非限
定的な例示の目的で、二価の連結基
または同等に−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の左から右への表現は、その右から左への表現
または同等に−Ｏ（Ｏ）Ｃ−もしくは−ＯＣ（Ｏ）−を含む。
作業実施例（ｏｐｅｒａｔｉｎｇ ｅｘａｍｐｌｅ）の場合および別に指定されている
場合以外では、本明細書および特許請求の範囲において使用される構成要素の量、反応条
件などを表すすべての数字は、すべての場合「約」という用語で修飾されているものと理
解されたい。
場合以外では、本明細書および特許請求の範囲において使用される構成要素の量、反応条
件などを表すすべての数字は、すべての場合「約」という用語で修飾されているものと理
解されたい。
本明細書で使用される重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）などのポリ
マーの分子量値は、ポリスチレン標準品などの適切な標準品を使用してゲル浸透クロマト
グラフィーによって決定される。
マーの分子量値は、ポリスチレン標準品などの適切な標準品を使用してゲル浸透クロマト
グラフィーによって決定される。
本明細書で使用される多分散指数（ＰＤＩ）値は、ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）
の、数平均分子量（Ｍｎ）に対する比（すなわち、Ｍｗ／Ｍｎ）を表す。
の、数平均分子量（Ｍｎ）に対する比（すなわち、Ｍｗ／Ｍｎ）を表す。
本明細書で使用される「ポリマー」という用語は、ホモポリマー（例えば、単一のモノ
マー種から調製される）、コポリマー（例えば、少なくとも２つのモノマー種から調製さ
れる）およびグラフトポリマーを意味する。
マー種から調製される）、コポリマー（例えば、少なくとも２つのモノマー種から調製さ
れる）およびグラフトポリマーを意味する。
本明細書で使用される「（メタ）アクリレート」という用語、および「（メタ）アクリ
ル酸エステル」などの類似用語は、メタクリレートおよび／またはアクリレートを意味す
る。本明細書で使用される「（メタ）アクリル酸」という用語は、メタクリル酸および／
またはアクリル酸を意味する。本明細書で使用される「（メタ）アクリロイル」という用
語は、アクリロイルおよび／またはメタクリロイルを意味する。
ル酸エステル」などの類似用語は、メタクリレートおよび／またはアクリレートを意味す
る。本明細書で使用される「（メタ）アクリル酸」という用語は、メタクリル酸および／
またはアクリル酸を意味する。本明細書で使用される「（メタ）アクリロイル」という用
語は、アクリロイルおよび／またはメタクリロイルを意味する。
以下に限定されないが、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ
）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）で表される化合物を含む、本明細書に記載
されるような本発明の化合物は、いずれの場合にも、任意にかつ独立に、そうした化合物の合成の結果生じる１つまたは複数の共生成物をさらに含み得る。
）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）で表される化合物を含む、本明細書に記載
されるような本発明の化合物は、いずれの場合にも、任意にかつ独立に、そうした化合物の合成の結果生じる１つまたは複数の共生成物をさらに含み得る。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および（ＩＸ）で表される本発明の化合物と併せて使用されるものなどの、本明細
書で使用される「メソゲン」という用語、および「メソゲン（の）」などの関連用語は、
（ｉ）他のそうした化合物および／もしくは基；ならびに／または（ｉｉ）それと一緒に
存在する他の液晶材料との間に構造的秩序を誘発しかつ／または誘発されてその構造的秩
序に至る化合物および／または基を意味する。
ＩＩ）および（ＩＸ）で表される本発明の化合物と併せて使用されるものなどの、本明細
書で使用される「メソゲン」という用語、および「メソゲン（の）」などの関連用語は、
（ｉ）他のそうした化合物および／もしくは基；ならびに／または（ｉｉ）それと一緒に
存在する他の液晶材料との間に構造的秩序を誘発しかつ／または誘発されてその構造的秩
序に至る化合物および／または基を意味する。
本明細書で使用される「二色性（の）」という用語、および「二色性」などの類似用語
は、透過および／または反射された放射線などの放射線の２つの直交する平面偏光成分の
うちの一方を、他方の直交する平面偏光成分より強く吸収する能力を意味する。
は、透過および／または反射された放射線などの放射線の２つの直交する平面偏光成分の
うちの一方を、他方の直交する平面偏光成分より強く吸収する能力を意味する。
本明細書で使用される「直線偏光した」という用語、ならびに「直線偏光」および「平
面偏光」などの類似用語は、電磁放射線の電場ベクトルまたは磁場ベクトルを、伝播の方
向に沿って所与の平面に閉じ込めるまたは効果的に限定することを意味する。
面偏光」などの類似用語は、電磁放射線の電場ベクトルまたは磁場ベクトルを、伝播の方
向に沿って所与の平面に閉じ込めるまたは効果的に限定することを意味する。
本明細書で使用される「フォトクロミック」という用語および「フォトクロミック化合
物」などの類似用語は、少なくとも化学放射線の吸収に応答して変化する少なくとも可視
放射線に対する吸収スペクトルを有することを意味する。さらに、本明細書で使用される
「フォトクロミック材料」という用語は、フォトクロミック特性を表すように適合させて
おり（例えば、少なくとも化学放射線の吸収に応答して変化する少なくとも可視放射線に
対する吸収スペクトルを有するように適合させている）、少なくとも１つのフォトクロミ
ック化合物を含む任意の物質を意味する。
物」などの類似用語は、少なくとも化学放射線の吸収に応答して変化する少なくとも可視
放射線に対する吸収スペクトルを有することを意味する。さらに、本明細書で使用される
「フォトクロミック材料」という用語は、フォトクロミック特性を表すように適合させて
おり（例えば、少なくとも化学放射線の吸収に応答して変化する少なくとも可視放射線に
対する吸収スペクトルを有するように適合させている）、少なくとも１つのフォトクロミ
ック化合物を含む任意の物質を意味する。
本明細書で使用される「化学放射線」という用語は、以下に限定されないが、本明細書
でさらに詳細に論じられるようなフォトクロミック材料を１つの形態または状態から別の
形態または状態へ変換することなどの、材料中で応答を引き起こすことができる電磁放射
線を意味する。
でさらに詳細に論じられるようなフォトクロミック材料を１つの形態または状態から別の
形態または状態へ変換することなどの、材料中で応答を引き起こすことができる電磁放射
線を意味する。
本明細書で使用される「フォトクロミック材料」という用語は、熱的に可逆性のフォト
クロミック材料および化合物ならびに非熱的に可逆性のフォトクロミック材料および化合
物を含む。本明細書で使用される「熱的に可逆性のフォトクロミック化合物／材料」とい
う用語は、化学放射線に応答して第１の状態、例えば「明澄状態」から第２の状態、例え
ば「着色状態」へ変換され、熱エネルギーに応答して第１の状態へ戻ることができる化合
物／材料を意味する。本明細書で使用される「非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物
／材料」という用語は、化学放射線に応答して第１の状態、例えば「明澄状態」から第２
の状態、例えば「着色状態」へ変換され、着色状態の吸収と実質的に同じ波長の化学放射
線（例えば、そうした化学放射線への曝露の中断）に応答して第１の状態へ戻ることがで
きる化合物／材料を意味する。
クロミック材料および化合物ならびに非熱的に可逆性のフォトクロミック材料および化合
物を含む。本明細書で使用される「熱的に可逆性のフォトクロミック化合物／材料」とい
う用語は、化学放射線に応答して第１の状態、例えば「明澄状態」から第２の状態、例え
ば「着色状態」へ変換され、熱エネルギーに応答して第１の状態へ戻ることができる化合
物／材料を意味する。本明細書で使用される「非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物
／材料」という用語は、化学放射線に応答して第１の状態、例えば「明澄状態」から第２
の状態、例えば「着色状態」へ変換され、着色状態の吸収と実質的に同じ波長の化学放射
線（例えば、そうした化学放射線への曝露の中断）に応答して第１の状態へ戻ることがで
きる化合物／材料を意味する。
「状態」という用語を修飾するために本明細書で使用されるような「第１」および「第
２」という用語は、任意の特定の順番または順序を指そうとするものではなく、２つの異
なる状態または特性を指すものである。非限定的な例示の目的で、フォトクロミック化合
物の第１の状態と第２の状態は、以下に限定されないが、可視および／またはＵＶ放射線
の吸収などの少なくとも１つの光学的特性に関して異なり得る。したがって、本明細書で
開示される種々の非限定的な実施形態によれば、フォトクロミック化合物は、第１および
第２の状態のそれぞれにおいて、異なる吸収スペクトルを有することができる。例えば、
本明細書で限定するわけではないが、フォトクロミック化合物は、第１の状態において明
澄であってよく、第２の状態において着色されていてよい。あるいは、フォトクロミック
化合物は、第１の状態において第１の色を有し、第２の状態において第２の色を有するこ
とができる。
２」という用語は、任意の特定の順番または順序を指そうとするものではなく、２つの異
なる状態または特性を指すものである。非限定的な例示の目的で、フォトクロミック化合
物の第１の状態と第２の状態は、以下に限定されないが、可視および／またはＵＶ放射線
の吸収などの少なくとも１つの光学的特性に関して異なり得る。したがって、本明細書で
開示される種々の非限定的な実施形態によれば、フォトクロミック化合物は、第１および
第２の状態のそれぞれにおいて、異なる吸収スペクトルを有することができる。例えば、
本明細書で限定するわけではないが、フォトクロミック化合物は、第１の状態において明
澄であってよく、第２の状態において着色されていてよい。あるいは、フォトクロミック
化合物は、第１の状態において第１の色を有し、第２の状態において第２の色を有するこ
とができる。
本明細書で使用される「光学的」という用語は、光および／または視覚に関するかまた
はそれに伴うことを意味する。例えば、本明細書で開示される種々の非限定的な実施形態
によれば、光学的な物品、素子またはデバイスは、眼用の物品、素子およびデバイス、表
示用の物品、素子およびデバイス、ウィンドウ、ミラー、ならびにアクティブ型およびパ
ッシブ型液晶セルの物品、素子およびデバイスから選択することができる。
はそれに伴うことを意味する。例えば、本明細書で開示される種々の非限定的な実施形態
によれば、光学的な物品、素子またはデバイスは、眼用の物品、素子およびデバイス、表
示用の物品、素子およびデバイス、ウィンドウ、ミラー、ならびにアクティブ型およびパ
ッシブ型液晶セルの物品、素子およびデバイスから選択することができる。
本明細書で使用される「眼用」という用語は、眼および視覚に関するかまたはそれに伴
うことを意味する。眼用物品または素子の非限定的な例には、単眼レンズ、または分割も
しくは非分割複眼レンズであってよい複眼レンズ（以下に限定されないが、二焦点レンズ
、三焦点レンズおよび累進多焦点レンズなど）を含む矯正および非矯正レンズ、ならびに
限定されないが、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズおよび保護レンズまたはバ
イザーを含む、視覚を矯正、保護または増進させる（外見を美しくするためにまたはそれ
以外で）ために使用される他の素子が含まれる。
うことを意味する。眼用物品または素子の非限定的な例には、単眼レンズ、または分割も
しくは非分割複眼レンズであってよい複眼レンズ（以下に限定されないが、二焦点レンズ
、三焦点レンズおよび累進多焦点レンズなど）を含む矯正および非矯正レンズ、ならびに
限定されないが、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズおよび保護レンズまたはバ
イザーを含む、視覚を矯正、保護または増進させる（外見を美しくするためにまたはそれ
以外で）ために使用される他の素子が含まれる。
本明細書で使用される「表示、ディスプレイ（ｄｉｓｐｌａｙ）」という用語は、言葉
、数字、記号、デザインまたは図での情報の可視の表現または機械可読な表現を意味する
。表示素子の非限定的な例には、スクリーン、モニターおよびセキュリティー用素子、例
えばセキュリティーマークが含まれる。
、数字、記号、デザインまたは図での情報の可視の表現または機械可読な表現を意味する
。表示素子の非限定的な例には、スクリーン、モニターおよびセキュリティー用素子、例
えばセキュリティーマークが含まれる。
本明細書で使用される「ウィンドウ」という用語は、それを通る放射線の透過を可能に
するように適合させた開口部を意味する。ウィンドウの非限定的な例には、自動車および
航空機用透明体、フロントガラス、フィルター、シャッターおよび光学的スイッチが含ま
れる。
するように適合させた開口部を意味する。ウィンドウの非限定的な例には、自動車および
航空機用透明体、フロントガラス、フィルター、シャッターおよび光学的スイッチが含ま
れる。
本明細書で使用される「ミラー」という用語は、入射光の大部分を鏡面的に反射する表
面を意味する。
面を意味する。
本明細書で使用される「液晶セル」という用語は、秩序立てることが可能な液晶材料を
含有する構造物を指す。液晶セル素子の非限定的な例は液晶ディスプレイである。
含有する構造物を指す。液晶セル素子の非限定的な例は液晶ディスプレイである。
本明細書で使用される、例えば「左」、「右」、「内側」、「外側」、「上」、「下」
などの空間または方向に関する用語は、図面において表示されているとおりの本発明に関
する。しかし、本発明は、種々の代替的な方向を想定することができ、したがって、そう
した用語は、限定するものと考えるべきでないことを理解されたい。
などの空間または方向に関する用語は、図面において表示されているとおりの本発明に関
する。しかし、本発明は、種々の代替的な方向を想定することができ、したがって、そう
した用語は、限定するものと考えるべきでないことを理解されたい。
本明細書で使用される「上に形成された」、「上に堆積した」、「上に提供された」、
「上に適用された」、上に存在する」または「上に配置された」という用語は、下にある
素子または下にある素子の表面と必ずしも直接（または隣接して）接触していないが、該
素子上または該素子の表面上に、形成される、堆積する、提供される、施用される、存在
するまたは配置されることを意味する。例えば、基材「上に配置された」層は、配置また
は形成された層と基材との間に位置する同じかまたは異なる組成物の１つまたは複数の他
の層、コーティングまたはフィルムの存在を排除するものではない。
「上に適用された」、上に存在する」または「上に配置された」という用語は、下にある
素子または下にある素子の表面と必ずしも直接（または隣接して）接触していないが、該
素子上または該素子の表面上に、形成される、堆積する、提供される、施用される、存在
するまたは配置されることを意味する。例えば、基材「上に配置された」層は、配置また
は形成された層と基材との間に位置する同じかまたは異なる組成物の１つまたは複数の他
の層、コーティングまたはフィルムの存在を排除するものではない。
以下に限定されないが、本明細書で参照される交付済み特許および特許出願などのすべ
ての文献は、別段の指定のない限り、それらの全体が「参照により組み込まれる」ものと
考えるべきである。
ての文献は、別段の指定のない限り、それらの全体が「参照により組み込まれる」ものと
考えるべきである。
本明細書で使用される、直鎖状または分枝状アルキルなどの「直鎖状または分枝状」の
基の記述は、本明細書では、メチレン基またはメチル基；直鎖状Ｃ２〜Ｃ２０アルキル基
などの直鎖状である基；および分枝状Ｃ３〜Ｃ２０アルキル基などの適切に分枝している
基を含むものと理解すべきである。
基の記述は、本明細書では、メチレン基またはメチル基；直鎖状Ｃ２〜Ｃ２０アルキル基
などの直鎖状である基；および分枝状Ｃ３〜Ｃ２０アルキル基などの適切に分枝している
基を含むものと理解すべきである。
本明細書で使用される「任意に置換された」基の記述は、少なくともその１個の水素が、水素以外の基、例えば、以下に限定されないが、ハロ基（例えば、Ｆ、Ｃｌ、ＩおよびＢｒ）、ヒドロキシル基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、リン酸基、リン酸エステル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロカルビル基（以下に限定されないが、アルキル；アルケニル；アルキニル；縮合多環（ｐｏｌｙ−ｆｕｓｅｄ−ｒｉｎｇ）シクロアルキルおよびポリシクロアルキル（ｐｏｌｙｃｙｃｌｏｃａｌｋｙｌ）を含むシクロアルキル；ヘテロシクロアルキル；フェノールなどのヒドロキシル置換アリールを含み、縮合多環アリールを含むアリール；縮合多環ヘテロアリールを含むヘテロアリール；ならびにアラルキル基を含む）、およびアミン基、例えば−Ｎ（Ｒ１１’）（Ｒ１２’）（Ｒ１１’およびＲ１２’はそれぞれ独立に、一部の実施形態で、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｋｙｌ）、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールから選択される）で任意に置き換えられるかまたは置換されている、アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基および／またはヘテロアリール基を含むがこれらに限定されない基を意味する。
本明細書で使用される「ハロ置換された」および関連用語（以下に限定されないが、ハ
ロアルキル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、ハロアリール基およびハロヘテロ
アリール基など）の記述は、その利用可能な水素基の少なくとも１つであり、最大ですべ
て（すべてを含めて）の基がハロ基で置換されている基を意味する。「ハロ置換された」
という用語は、「ペルハロ置換された」を含む。本明細書で使用されるペルハロ置換され
た基という用語および関連用語（以下に限定されないが、ペルハロアルキル基、ペルハロ
アルケニル基、ペルハロアルキニル基、ペルハロアリール基およびペルハロヘテロアリー
ル基など）は、その利用可能な水素基のすべてがハロ基で置換されている基を意味する。
例えば、ペルハロメチルは−ＣＸ３であり；ペルハロフェニルは−Ｃ６Ｘ５である。ここ
で、Ｘは、Ｆなどであるがこれに限定されない、１つまたは複数のハロ基を表す。
ロアルキル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、ハロアリール基およびハロヘテロ
アリール基など）の記述は、その利用可能な水素基の少なくとも１つであり、最大ですべ
て（すべてを含めて）の基がハロ基で置換されている基を意味する。「ハロ置換された」
という用語は、「ペルハロ置換された」を含む。本明細書で使用されるペルハロ置換され
た基という用語および関連用語（以下に限定されないが、ペルハロアルキル基、ペルハロ
アルケニル基、ペルハロアルキニル基、ペルハロアリール基およびペルハロヘテロアリー
ル基など）は、その利用可能な水素基のすべてがハロ基で置換されている基を意味する。
例えば、ペルハロメチルは−ＣＸ３であり；ペルハロフェニルは−Ｃ６Ｘ５である。ここ
で、Ｘは、Ｆなどであるがこれに限定されない、１つまたは複数のハロ基を表す。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および／または（ＩＸ）で表される化合物などの本発明の化合物は、一部の実施形
態で、いずれの場合にも、ヒドロカルビルおよび／または置換ヒドロカルビルから独立に
選択することができる基および下位基を含む。本明細書で使用される「ヒドロカルビル」
という用語、および「ヒドロカルビル置換基」などの類似用語は、直鎖状または分枝状Ｃ
１〜Ｃ２５アルキル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）；直鎖状また
は分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル
）；直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルキニル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ
１０アルキニル）；Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル（例えば、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル
）；Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル（その環状環中に少なくとも１個のヘテロ原子を
有する）；Ｃ５〜Ｃ１８アリール（多環式アリール基を含む）（例えば、Ｃ５〜Ｃ１０ア
リール）；Ｃ５〜Ｃ１８ヘテロアリール（その芳香環中に少なくとも１個のヘテロ原子を
有する）；およびＣ６〜Ｃ２４アラルキル（例えば、Ｃ６〜Ｃ１０アラルキル）を意味す
る。
ＩＩ）および／または（ＩＸ）で表される化合物などの本発明の化合物は、一部の実施形
態で、いずれの場合にも、ヒドロカルビルおよび／または置換ヒドロカルビルから独立に
選択することができる基および下位基を含む。本明細書で使用される「ヒドロカルビル」
という用語、および「ヒドロカルビル置換基」などの類似用語は、直鎖状または分枝状Ｃ
１〜Ｃ２５アルキル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキル）；直鎖状また
は分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル
）；直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルキニル（例えば、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ
１０アルキニル）；Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル（例えば、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル
）；Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル（その環状環中に少なくとも１個のヘテロ原子を
有する）；Ｃ５〜Ｃ１８アリール（多環式アリール基を含む）（例えば、Ｃ５〜Ｃ１０ア
リール）；Ｃ５〜Ｃ１８ヘテロアリール（その芳香環中に少なくとも１個のヘテロ原子を
有する）；およびＣ６〜Ｃ２４アラルキル（例えば、Ｃ６〜Ｃ１０アラルキル）を意味す
る。
代表的なアルキル基には、以下に限定されないが、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルおよびデシルが含まれる。代表的なアルケ
ニル基には、以下に限定されないが、ビニル、アリルおよびプロペニルが含まれる。代表
的なアルキニル基には、以下に限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−プロピ
ニル、１−ブチニルおよび２−ブチニルが含まれる。代表的なシクロアルキル基には、以
下に限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
およびシクロオクチル置換基が含まれる。代表的なヘテロシクロアルキル基には、以下に
限定されないが、イミダゾリル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびピ
ペリジニルが含まれる。代表的なアリール基には、以下に限定されないが、フェニル、ナ
フチル、アントラセニル（ａｎｔｈｒａｃｙｎｙｌ）およびトリプチセニルが含まれる。
代表的なヘテロアリール基には、以下に限定されないが、フラニル、ピラニル、ピリジニ
ル、イソキノリンおよびピリミジニルが含まれる。代表的なアラルキル基には、以下に限
定されないが、ベンジルおよびフェネチルが含まれる。
ロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルおよびデシルが含まれる。代表的なアルケ
ニル基には、以下に限定されないが、ビニル、アリルおよびプロペニルが含まれる。代表
的なアルキニル基には、以下に限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−プロピ
ニル、１−ブチニルおよび２−ブチニルが含まれる。代表的なシクロアルキル基には、以
下に限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
およびシクロオクチル置換基が含まれる。代表的なヘテロシクロアルキル基には、以下に
限定されないが、イミダゾリル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルおよびピ
ペリジニルが含まれる。代表的なアリール基には、以下に限定されないが、フェニル、ナ
フチル、アントラセニル（ａｎｔｈｒａｃｙｎｙｌ）およびトリプチセニルが含まれる。
代表的なヘテロアリール基には、以下に限定されないが、フラニル、ピラニル、ピリジニ
ル、イソキノリンおよびピリミジニルが含まれる。代表的なアラルキル基には、以下に限
定されないが、ベンジルおよびフェネチルが含まれる。
本明細書で使用される「置換ヒドロカルビル」という用語は、その少なくとも１個の水
素が、水素以外の基、例えば、以下に限定されないが、ハロ基、ヒドロキシル基、エーテ
ル基、チオール基、チオエーテル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、リン酸基、
リン酸エステル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロ
カルビル基（例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシク
ロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびアラルキル基）、およびアミン基、例えば
−Ｎ（Ｒ１１’）（Ｒ１２’）（Ｒ１１’およびＲ１２’はそれぞれ独立に、水素、ヒド
ロカルビルおよび置換ヒドロカルビルから選択される）で置換されているヒドロカルビル
基を意味する。
素が、水素以外の基、例えば、以下に限定されないが、ハロ基、ヒドロキシル基、エーテ
ル基、チオール基、チオエーテル基、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、リン酸基、
リン酸エステル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロ
カルビル基（例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシク
ロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびアラルキル基）、およびアミン基、例えば
−Ｎ（Ｒ１１’）（Ｒ１２’）（Ｒ１１’およびＲ１２’はそれぞれ独立に、水素、ヒド
ロカルビルおよび置換ヒドロカルビルから選択される）で置換されているヒドロカルビル
基を意味する。
「置換ヒドロカルビル」という用語は、ハロヒドロカルビル（またはハロ置換ヒドロカ
ルビル）置換基を含む。本明細書で使用される「ハロヒドロカルビル」という用語、およ
びハロ置換ヒドロカルビルなどの類似用語は、ヒドロカルビルの（例えば、アルキル、ア
ルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリ
ールおよびアラルキル基の）少なくとも１個の水素原子が塩素、臭素、フッ素および／ま
たはヨウ素から選択されるハロゲン原子で置き換えられていることを意味する。ハロゲン
化の程度は、少なくとも１個の水素原子であるが全ての水素原子よりも少ない水素原子が
ハロゲン原子で置き換えられている場合（例えば、フルオロメチル基）から、そのヒドロ
カルビル基上の置き換え可能な全ての水素原子が各々ハロゲン原子で置き換えられている
完全ハロゲン化（過ハロゲン化）まで（例えば、トリフルオロメチルまたはペルフルオロ
メチル）の範囲であってよい。それに応じて、本明細書で使用される「ペルハロヒドロカ
ルビル基」という用語は、置き換え可能なすべての水素がハロゲンで置き換えられている
ヒドロカルビル基を意味する。ペルハロヒドロカルビル基の例には、以下に限定されない
が、過ハロゲン化フェニル基および過ハロゲン化アルキル基が含まれる。
ルビル）置換基を含む。本明細書で使用される「ハロヒドロカルビル」という用語、およ
びハロ置換ヒドロカルビルなどの類似用語は、ヒドロカルビルの（例えば、アルキル、ア
ルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリ
ールおよびアラルキル基の）少なくとも１個の水素原子が塩素、臭素、フッ素および／ま
たはヨウ素から選択されるハロゲン原子で置き換えられていることを意味する。ハロゲン
化の程度は、少なくとも１個の水素原子であるが全ての水素原子よりも少ない水素原子が
ハロゲン原子で置き換えられている場合（例えば、フルオロメチル基）から、そのヒドロ
カルビル基上の置き換え可能な全ての水素原子が各々ハロゲン原子で置き換えられている
完全ハロゲン化（過ハロゲン化）まで（例えば、トリフルオロメチルまたはペルフルオロ
メチル）の範囲であってよい。それに応じて、本明細書で使用される「ペルハロヒドロカ
ルビル基」という用語は、置き換え可能なすべての水素がハロゲンで置き換えられている
ヒドロカルビル基を意味する。ペルハロヒドロカルビル基の例には、以下に限定されない
が、過ハロゲン化フェニル基および過ハロゲン化アルキル基が含まれる。
上記ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル基（これらから、本明細書に記載される
種々の基がそれぞれ独立に選択され得る）は、一部の実施形態で、いずれの場合にも、−
Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−
、−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されていてよく、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｔ−から選択され、ｗおよびｔはそれぞれ独立に０〜２から選択され、ただし、ｗとｔの合計は２であり、各Ｒ８’は水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せから独立に選択される。本明細書で使用される、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１１’）−および−Ｓｉ（ＯＲ８）ｗ（Ｒ８）ｔ−の少なくとも１つで介在されているということは、ヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基の少なくとも１個の炭素であるが全ての炭素より少ない炭素が、いずれの場合にも、独立に、挙げられている二価の非炭素連結基の１つで置き換えられていることを意味する。ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル基は、互いに隣接していても、１個または複数の炭素で隔てられていてもよい、上記の連結基の２つまたはそれ超で介在されていてよい。非限定的な例示の目的で、隣接する−Ｃ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｒ１１’）−の組合せは、二価アミド連結または介在基、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ１１’）−を提供することができる。さらなる非限定的な例示の目的で、隣接する−Ｎ（Ｒ１１’）−、−Ｃ（Ｏ）−および−Ｏ−の組合せは、二価のカルバメート（またはウレタン）連結または介在基、−Ｎ（Ｒ１１’）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−（Ｒ１１’は水素である）を提供することができる。−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−と−Ｏ−の組合せは、一部の実施形態で、二価のカーボネート連結または介在基、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−を提供することができる。−Ｏ−と−Ｃ（Ｏ）−の組合せは、一部の実施形態で、二価のカルボン酸エステル連結または介在基、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−を提供することができる。−Ｎ（Ｒ１１’）−、−Ｃ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｒ１１’）−の組合せは、一部の実施形態で、二価の尿素連結または介在基、−Ｎ（Ｒ１１’）−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ１１’）−を提供することができる。
種々の基がそれぞれ独立に選択され得る）は、一部の実施形態で、いずれの場合にも、−
Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−
、−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されていてよく、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｔ−から選択され、ｗおよびｔはそれぞれ独立に０〜２から選択され、ただし、ｗとｔの合計は２であり、各Ｒ８’は水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せから独立に選択される。本明細書で使用される、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ１１’）−および−Ｓｉ（ＯＲ８）ｗ（Ｒ８）ｔ−の少なくとも１つで介在されているということは、ヒドロカルビル基または置換ヒドロカルビル基の少なくとも１個の炭素であるが全ての炭素より少ない炭素が、いずれの場合にも、独立に、挙げられている二価の非炭素連結基の１つで置き換えられていることを意味する。ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル基は、互いに隣接していても、１個または複数の炭素で隔てられていてもよい、上記の連結基の２つまたはそれ超で介在されていてよい。非限定的な例示の目的で、隣接する−Ｃ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｒ１１’）−の組合せは、二価アミド連結または介在基、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ１１’）−を提供することができる。さらなる非限定的な例示の目的で、隣接する−Ｎ（Ｒ１１’）−、−Ｃ（Ｏ）−および−Ｏ−の組合せは、二価のカルバメート（またはウレタン）連結または介在基、−Ｎ（Ｒ１１’）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−（Ｒ１１’は水素である）を提供することができる。−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−と−Ｏ−の組合せは、一部の実施形態で、二価のカーボネート連結または介在基、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−を提供することができる。−Ｏ−と−Ｃ（Ｏ）−の組合せは、一部の実施形態で、二価のカルボン酸エステル連結または介在基、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−を提供することができる。−Ｎ（Ｒ１１’）−、−Ｃ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｒ１１’）−の組合せは、一部の実施形態で、二価の尿素連結または介在基、−Ｎ（Ｒ１１’）−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ１１’）−を提供することができる。
以下に限定されないが、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビル基などの本明細書に記載される種々の基に関連して使用される「任意に〜で介在されている」という用語は、該基が別の基と連結される、該基の１つまたは複数の末端連結位置での介在も含む。「末端連結位置」という用語は、該基が、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ１１’）−、−Ｎ（Ｒ１１’）−の少なくとも１つを有する化合物またはコア化合物構造体と連結されている最初の連結位置を含む。ここで、Ｒ１１’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ８’）ｗ（Ｒ８’）ｔ−から選択され、ｗおよびｔはそれぞれ独立に０〜２から選択され、ただし、ｗとｔの合計は２であり、各Ｒ８’は水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せから独立に選択される。非限定的な例示の目的で、式（Ｉ）に関連して、下付き文字ｘが少なくとも１であり、式（Ｉ）のＲ１がヒドロカルビルである場合、Ｒ１ヒドロカルビル基は、（ｉ）そのヒドロカルビル鎖に沿って；かつ／または（ｉｉ）Ｒ１が、式（Ｉ）で表される化合物の、ヒドロキシル置換され、任意にＭ１置換されたフェニル環と結合している点で（すなわち、最初の連結位置で）、以下に限定されないが、−Ｏ−などの上記二価介在基の１つまたは複数で介在されていてよい。上記したような１つまたは複数の二価連結基（例えば−Ｏ−、−Ｓ−等）を含むことができる末端連結位置に関し、かつ本明細書でさらに記載される式（Ｘ）に関するさらなる非限定的な例示の目的で、Ｌ２がＬ３と連結されている場合にＬ２の末端連結位置は、上記二価連結基の１つもしくは複数で任意に介在されていてよく；Ｌ３がＬ２と連結されている場合にＬ３の末端連結位置は、上記二価連結基の１つもしくは複数で任意に介在されていてよく；Ｌ２がＥ１と連結されている場合にＬ２の末端連結位置は、上記二価連結基の１つもしくは複数で任意に介在されていてよく；かつ／またはＬ３がＥ１と連結されている場合にＬ３の末端連結位置は、上記二価連結基の１つもしくは複数で任意に介在されていてよい。
一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「アルキル」という用語は、以下に限
定されないが、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルまたは直鎖状もしくは分枝状
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルまたは直鎖状もしくは分枝状Ｃ２〜Ｃ１０アルキルなどの直鎖状ま
たは分枝状アルキルを意味する。アルキル基（このアルキル基から、本発明の種々のアル
キル基が選択され得る）の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したも
のが含まれる。本発明の種々の化合物のアルキル基は、一部の実施形態で、−ＣＨ＝ＣＨ
−基および／または１つもしくは複数の−Ｃ≡Ｃ−基から選択される１つまたは複数の不
飽和結合を含むことができる。一部の実施形態で、上記アルキル基は、２つまたはそれ超
の共役不飽和結合を含まない。一部のさらなる実施形態で、上記アルキル基は、−ＣＨ＝
ＣＨ−基および−Ｃ≡Ｃ−基などの不飽和結合を含まない。
定されないが、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルまたは直鎖状もしくは分枝状
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルまたは直鎖状もしくは分枝状Ｃ２〜Ｃ１０アルキルなどの直鎖状ま
たは分枝状アルキルを意味する。アルキル基（このアルキル基から、本発明の種々のアル
キル基が選択され得る）の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したも
のが含まれる。本発明の種々の化合物のアルキル基は、一部の実施形態で、−ＣＨ＝ＣＨ
−基および／または１つもしくは複数の−Ｃ≡Ｃ−基から選択される１つまたは複数の不
飽和結合を含むことができる。一部の実施形態で、上記アルキル基は、２つまたはそれ超
の共役不飽和結合を含まない。一部のさらなる実施形態で、上記アルキル基は、−ＣＨ＝
ＣＨ−基および−Ｃ≡Ｃ−基などの不飽和結合を含まない。
一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「シクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｌｋ
ｌ）」という用語は、以下に限定されないが、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル（以下に限定
されないが、環状Ｃ５〜Ｃ７アルキルを含む）基などの適切に環状である基を意味する。
シクロアルキル基の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したものが含
まれる。本明細書で使用される「シクロアルキル」という用語には、一部の実施形態によ
れば、架橋された環ポリシクロアルキル基（または架橋された環多環式アルキル基）、例
えば以下に限定されないが、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル（またはノルボルニル）お
よびビシクロ［２．２．２］オクチル；縮合環ポリシクロアルキル基（または縮合環多環
式アルキル基）、例えば以下に限定されないが、オクタヒドロ−１Ｈ−インデニルおよび
デカヒドロナフタレニルも含まれる。
ｌ）」という用語は、以下に限定されないが、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル（以下に限定
されないが、環状Ｃ５〜Ｃ７アルキルを含む）基などの適切に環状である基を意味する。
シクロアルキル基の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したものが含
まれる。本明細書で使用される「シクロアルキル」という用語には、一部の実施形態によ
れば、架橋された環ポリシクロアルキル基（または架橋された環多環式アルキル基）、例
えば以下に限定されないが、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル（またはノルボルニル）お
よびビシクロ［２．２．２］オクチル；縮合環ポリシクロアルキル基（または縮合環多環
式アルキル基）、例えば以下に限定されないが、オクタヒドロ−１Ｈ−インデニルおよび
デカヒドロナフタレニルも含まれる。
一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「ヘテロシクロアルキル」という用語
は、その環状環中に、以下に限定されないがＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐおよびそれらの組合せなどの
少なくとも１個のヘテロ原子を有する、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基またはＣ５
〜Ｃ７ヘテロシクロアルキル基などであるがこれらに限定されない、適切に環状である基
を意味する。ヘテロシクロアルキル基の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上
に記載したものが含まれる。一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「ヘテロシ
クロアルキル」という用語には、以下に限定されないが、７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプタニルなどの架橋された環多環式ヘテロシクロアルキル基；ならびに、以下に限
定されないが、オクタヒドロシクロペンタ［ｂ］ピラニルおよびオクタヒドロ−１Ｈ−イ
ソクロメニルなどの縮合環多環式ヘテロシクロアルキル基も含まれる。
は、その環状環中に、以下に限定されないがＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐおよびそれらの組合せなどの
少なくとも１個のヘテロ原子を有する、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基またはＣ５
〜Ｃ７ヘテロシクロアルキル基などであるがこれらに限定されない、適切に環状である基
を意味する。ヘテロシクロアルキル基の例には、以下に限定されないが、本明細書中で上
に記載したものが含まれる。一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「ヘテロシ
クロアルキル」という用語には、以下に限定されないが、７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプタニルなどの架橋された環多環式ヘテロシクロアルキル基；ならびに、以下に限
定されないが、オクタヒドロシクロペンタ［ｂ］ピラニルおよびオクタヒドロ−１Ｈ−イ
ソクロメニルなどの縮合環多環式ヘテロシクロアルキル基も含まれる。
一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「ヘテロアリール」という用語は、以
下に限定されないが、Ｃ５〜Ｃ１８ヘテロアリール、例えば以下に限定されないがＣ５〜
Ｃ１０ヘテロアリール（縮合環多環式ヘテロアリール基を含む）を含み、芳香環中に、ま
たは、縮合環多環式ヘテロアリール基の場合の少なくとも１つの芳香環中に、少なくとも
１個のヘテロ原子を有するアリール基を意味する。ヘテロアリール基の例には、以下に限
定されないが、本明細書中で上に記載したものが含まれる。
下に限定されないが、Ｃ５〜Ｃ１８ヘテロアリール、例えば以下に限定されないがＣ５〜
Ｃ１０ヘテロアリール（縮合環多環式ヘテロアリール基を含む）を含み、芳香環中に、ま
たは、縮合環多環式ヘテロアリール基の場合の少なくとも１つの芳香環中に、少なくとも
１個のヘテロ原子を有するアリール基を意味する。ヘテロアリール基の例には、以下に限
定されないが、本明細書中で上に記載したものが含まれる。
本明細書で使用される「縮合環多環式−アリール−アルキル基」という用語、ならびに
縮合環多環式−アルキル−アリール基、縮合環ポリシクロ−アリール−アルキル基および
縮合環ポリシクロ−アルキル−アリール基などの類似用語は、互いに縮合して縮合環構造
を形成している少なくとも１つのアリール環および少なくとも１つのシクロアルキル環を
含む縮合環多環式基を意味する。非限定的な例示の目的で、縮合環多環式−アリール−ア
ルキル基の例には、以下に限定されないが、インデニル、９Ｈ−フルオレニル（ｆｌｏｕ
ｒｅｎｙｌ）、シクロペンタナフテニルおよびインダセニルが含まれる。
縮合環多環式−アルキル−アリール基、縮合環ポリシクロ−アリール−アルキル基および
縮合環ポリシクロ−アルキル−アリール基などの類似用語は、互いに縮合して縮合環構造
を形成している少なくとも１つのアリール環および少なくとも１つのシクロアルキル環を
含む縮合環多環式基を意味する。非限定的な例示の目的で、縮合環多環式−アリール−ア
ルキル基の例には、以下に限定されないが、インデニル、９Ｈ−フルオレニル（ｆｌｏｕ
ｒｅｎｙｌ）、シクロペンタナフテニルおよびインダセニルが含まれる。
一部の実施形態によれば、本明細書で使用される「アラルキル」という用語は、以下に
限定されないが、Ｃ６〜Ｃ２４アラルキル、例えば以下に限定されないが、Ｃ６〜Ｃ１０
アラルキルを含み、アルキル基で置換されたアリール基を意味する。アラルキル基の例に
は、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したものが含まれる。
限定されないが、Ｃ６〜Ｃ２４アラルキル、例えば以下に限定されないが、Ｃ６〜Ｃ１０
アラルキルを含み、アルキル基で置換されたアリール基を意味する。アラルキル基の例に
は、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したものが含まれる。
以下に限定されないが式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）
、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）で表される化合物などの本発明による化合物
ならびにその種々の基を、以下のとおり本明細書でさらに詳細に記載する。
、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）で表される化合物などの本発明による化合物
ならびにその種々の基を、以下のとおり本明細書でさらに詳細に記載する。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、一部の実施形態によれば、Ｒ１は各ｘ
について独立に、Ｒ２は各ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２
〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル
、アリール、ヘテロアリールおよび−ＯＲ７からなる群から独立に選択され、各Ｒ７は、
水素、Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１
２シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリール
からなる群から独立に選択される。
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、一部の実施形態によれば、Ｒ１は各ｘ
について独立に、Ｒ２は各ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２
〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル
、アリール、ヘテロアリールおよび−ＯＲ７からなる群から独立に選択され、各Ｒ７は、
水素、Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１
２シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリール
からなる群から独立に選択される。
各式（Ｘ）について独立に、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、ｍは、少なくと
も１つのｔについて少なくとも１であり；Ｌ２は、各ｍについて独立に、二価の直鎖状ま
たは分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５ペルハロ
アルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−
ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、ｍは、少なくと
も１つのｔについて少なくとも１であり；Ｌ２は、各ｍについて独立に、二価の直鎖状ま
たは分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５ペルハロ
アルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−
ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている。
式（Ｘ）にさらに関連して、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｌ３は、各ｑに
ついて独立に、以下の式（ＸＩ−２）
で表される。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｌ３は、各ｑに
ついて独立に、以下の式（ＸＩ−２）
で表される。
式（ＸＩ−２）に関連して、二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェ
ニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、置換シクロヘキサン−１，
４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン
−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフ
タレン−１，４−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒ
ドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−
ジイル（ここでその芳香環は置換されている）、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル
、インダン−２，５（６）−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２
，７−ジイル、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル、（１，３，４）チ
アジアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チ
アゾール−２，４−ジイル、チオフェン−２，４−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル
、（１，３）ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイルおよびピペラジ
ン−１，４−ジイルからなる群から選択される。
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェ
ニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、置換シクロヘキサン−１，
４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン
−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフ
タレン−１，４−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒ
ドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−
ジイル（ここでその芳香環は置換されている）、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル
、インダン−２，５（６）−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２
，７−ジイル、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル、（１，３，４）チ
アジアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チ
アゾール−２，４−ジイル、チオフェン−２，４−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル
、（１，３）ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイルおよびピペラジ
ン−１，４−ジイルからなる群から選択される。
さらに式（Ｘ）に関連して、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｅ１は、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２
〜Ｃ２５アルケニル（それぞれ、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている）からなる群から独立に選択される。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｅ１は、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２
〜Ｃ２５アルケニル（それぞれ、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている）からなる群から独立に選択される。
式（ＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、Ｒ４は、水素、直鎖状または分枝状
Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シク
ロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、−ＯＲ８
およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５ア
ルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ
３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択さ
れる。
Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シク
ロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、−ＯＲ８
およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５ア
ルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ
３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択さ
れる。
式（ＩＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、環Ａはアリールまたは置換アリー
ルである。
ルである。
式（ＩＶ）に関連して、一部の実施形態によれば、環Ｂはアリールまたは置換アリール
であり；ＤのＲ２’（ＤがＮ−Ｒ２’である場合）は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜
Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアル
キル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群か
ら選択される。
であり；ＤのＲ２’（ＤがＮ−Ｒ２’である場合）は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜
Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアル
キル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群か
ら選択される。
式（ＶＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、Ｒ５は、水素、直鎖状または分枝状
Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シク
ロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびＭ２
からなる群から選択され；Ｒ１１は、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１３、直鎖状または
分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜
Ｃ１２シクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ１３は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ
１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜Ｃ１２シ
クロアルキルからなる群から選択され；Ｒ１２は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２
５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜Ｃ１２シクロアル
キルからなる群から選択される。
Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シク
ロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびＭ２
からなる群から選択され；Ｒ１１は、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１３、直鎖状または
分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜
Ｃ１２シクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ１３は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ
１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜Ｃ１２シ
クロアルキルからなる群から選択され；Ｒ１２は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２
５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルおよびＣ３〜Ｃ１２シクロアル
キルからなる群から選択される。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、一部の実施形態によれば、Ｒ１は各ｘ
について独立に、Ｒ２は各ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび−ＯＲ７からなる群
から独立に選択され、各Ｒ７は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルか
らなる群から独立に選択される。
ＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、一部の実施形態によれば、Ｒ１は各ｘ
について独立に、Ｒ２は各ｙについて独立に、そしてＲ６は各ｄについて独立に、いずれ
の場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび−ＯＲ７からなる群
から独立に選択され、各Ｒ７は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルか
らなる群から独立に選択される。
各式（Ｘ）について独立に、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｌ２は、各ｍに
ついて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび二価の直鎖状また
は分枝状Ｃ１〜Ｃ１０ペルフルオロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも
、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｌ２は、各ｍに
ついて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび二価の直鎖状また
は分枝状Ｃ１〜Ｃ１０ペルフルオロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも
、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている。
さらに式（Ｘ）に関連して、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、各Ｌ３について
独立に、（ｉ）Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からな
る群から選択され；（ｉｉ）二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェ
ニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイルおよび置換シクロヘキサン−
１，４−ジイルからなる群から選択される。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、各Ｌ３について
独立に、（ｉ）Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からな
る群から選択され；（ｉｉ）二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェ
ニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイルおよび置換シクロヘキサン−
１，４−ジイルからなる群から選択される。
さらに式（Ｘ）に関連して、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｅ１は、いずれ
の場合にも、水素、ならびに−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から独立に選択される。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、Ｅ１は、いずれ
の場合にも、水素、ならびに−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から独立に選択される。
一部の実施形態によれば、さらに式（Ｘ）に関連して、少なくとも１つのＥ１は、（メ
タ）アクリロイルであるか、または（メタ）アクリロイルで置換されている。
タ）アクリロイルであるか、または（メタ）アクリロイルで置換されている。
式（ＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、Ｒ４は、水素、直鎖状または分枝状
Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、−ＯＲ８およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素およ
び直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、−ＯＲ８およびＭ２からなる群から選択され、Ｒ８は、水素およ
び直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
式（ＩＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、環Ａはフェニルであり；ｇは０〜
４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１である。環Ａがフェニルである場合、式
（ＩＩＩ）に示されている化合物は、以下の式（ＩＩＩ−１）
で表される。式（ＩＩＩ−１）に関連して、ｇ、ｎ、ｘ、Ｍ４およびＲ１は、それぞれ独
立に、本明細書中で上に記載され、さらに記載されるとおりである。
４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１である。環Ａがフェニルである場合、式
（ＩＩＩ）に示されている化合物は、以下の式（ＩＩＩ−１）
で表される。式（ＩＩＩ−１）に関連して、ｇ、ｎ、ｘ、Ｍ４およびＲ１は、それぞれ独
立に、本明細書中で上に記載され、さらに記載されるとおりである。
式（ＩＶ）に関連して、一部の実施形態によれば、環Ｂはフェニルであり；ＤのＲ２’
は、水素、および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択され；ｇ
は０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１である。環Ｂがフェニルである場
合、式（ＩＶ）で表される化合物は、以下の式（ＩＶ−１）
で表される。式（ＩＶ−１）に関連して、ｇ、ｎ、ｘ、Ｍ４、ＤおよびＲ１は、それぞれ
独立に、本明細書中で上に記載され、さらに記載されるとおりである。
は、水素、および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択され；ｇ
は０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１である。環Ｂがフェニルである場
合、式（ＩＶ）で表される化合物は、以下の式（ＩＶ−１）
で表される。式（ＩＶ−１）に関連して、ｇ、ｎ、ｘ、Ｍ４、ＤおよびＲ１は、それぞれ
独立に、本明細書中で上に記載され、さらに記載されるとおりである。
式（ＶＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、Ｒ５は、水素、直鎖状または分枝状
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよびＭ２からなる群から選択され；Ｒ１１は、水素、−ＣＮ、−
Ｃ（Ｏ）ＯＲ１３および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択さ
れ、Ｒ１３は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択
され；Ｒ１２は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選
択される。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよびＭ２からなる群から選択され；Ｒ１１は、水素、−ＣＮ、−
Ｃ（Ｏ）ＯＲ１３および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択さ
れ、Ｒ１３は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択
され；Ｒ１２は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選
択される。
式（ＸＩ−１）に関連して、一部の実施形態によれば、二価の環（Ｃ）
は各ｖから独立して、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリー
ルおよび置換二価ヘテロアリールからなる群から独立に選択される。
は各ｖから独立して、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリー
ルおよび置換二価ヘテロアリールからなる群から独立に選択される。
式（ＸＩ−２）に関連して、一部の実施形態によれば、二価の環（Ｃ）
は各ｖについて独立に、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，
４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン
−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、置換
ナフタレン−２，６−ジイルおよびフェナントレン−２，７−ジイルからなる群から独立
に選択される。
は各ｖについて独立に、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，
４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン
−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、置換
ナフタレン−２，６−ジイルおよびフェナントレン−２，７−ジイルからなる群から独立
に選択される。
さらに式（ＸＩ−２）に関連して、一部の実施形態によれば、二価の環（Ｃ）
は各ｖについて独立に、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、フェニレン−１，４−ジイルおよび置換フェニレン−
１，４−ジイルからなる群から独立に選択される。
は各ｖについて独立に、そして二価の環（Ｄ）
は各ｕについて独立に、それぞれ、フェニレン−１，４−ジイルおよび置換フェニレン−
１，４−ジイルからなる群から独立に選択される。
式（Ｉ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎとｐの合計は１である。
式（ＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎは１であり；Ｒ４は、水素、直鎖
状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび−ＯＲ８からなる群から選択され、Ｒ８は、
水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルおよび−ＯＲ８からなる群から選択され、Ｒ８は、
水素および直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
式（ＩＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎとｇの合計は１である。
式（ＩＶ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎとｇの合計は１である。
式（Ｖ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎとｐの合計は１である。
式（ＶＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎは１であり；Ｒ５は、水素および
直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択される。
式（ＶＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎ、ｐおよびｆの合計は１である
。
。
式（ＶＩＩＩ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎは１である。
式（ＩＸ）に関連して、一部の実施形態によれば、ｎは１である。
各式（Ｘ）について独立に、一部の実施形態によれば、各Ｍ１について独立に、各Ｍ２
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、各Ｌ３は以下の
式
からなる群から独立に選択される。
について独立に、各Ｍ３について独立に、そして各Ｍ４について独立に、各Ｌ３は以下の
式
からなる群から独立に選択される。
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩ
ＩＩ）および（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の各化合物について独立に、一部の実
施形態によれば、式（Ｘ）の少なくとも１つのＬ３はメソゲン基であり、本発明の各化合
物は独立にメソゲン化合物である。
ＩＩ）および（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の各化合物について独立に、一部の実
施形態によれば、式（Ｘ）の少なくとも１つのＬ３はメソゲン基であり、本発明の各化合
物は独立にメソゲン化合物である。
一部の実施形態によれば、本発明の各化合物は紫外線吸収性化合物である。一部のさら
なる実施形態によれば、本発明の各化合物は独立して、メソゲン紫外線吸収性化合物であ
る。
なる実施形態によれば、本発明の各化合物は独立して、メソゲン紫外線吸収性化合物であ
る。
一部の実施形態によれば、本発明は、少なくとも１つの本発明の化合物を含む組成物に
関する。非限定的な例示の目的で、本発明の組成物は、一部の実施形態で、硬化性組成物
、熱可塑性組成物、コーティング組成物、成形用組成物、押し出し可能な組成物、吸収性
組成物（すなわち、有機ポリマー物品などの物品中に吸収され得る組成物）および液晶組
成物であってよい。
関する。非限定的な例示の目的で、本発明の組成物は、一部の実施形態で、硬化性組成物
、熱可塑性組成物、コーティング組成物、成形用組成物、押し出し可能な組成物、吸収性
組成物（すなわち、有機ポリマー物品などの物品中に吸収され得る組成物）および液晶組
成物であってよい。
一部の実施形態で、本発明の組成物は、（ｉ）フォトクロミック化合物、（ｉｉ）二色
性化合物、（ｉｉｉ）フォトクロミック−二色性化合物、および（ｉｖ）固定ティントの
少なくとも１つをさらに含む。
性化合物、（ｉｉｉ）フォトクロミック−二色性化合物、および（ｉｖ）固定ティントの
少なくとも１つをさらに含む。
本発明の組成物中に含めることができるフォトクロミック化合物の部類には、以下に限
定されないが、熱的に可逆性のピラン、非熱的に可逆性のピラン、熱的に可逆性のオキサ
ジン、非熱的に可逆性のオキサジン、熱的に可逆性のフルジドおよび／または非熱的に可
逆性のフルジドが含まれる。
定されないが、熱的に可逆性のピラン、非熱的に可逆性のピラン、熱的に可逆性のオキサ
ジン、非熱的に可逆性のオキサジン、熱的に可逆性のフルジドおよび／または非熱的に可
逆性のフルジドが含まれる。
熱的に可逆性のフォトクロミックピラン（これからフォトクロミック化合物が選択され
得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定されな
いが、ベンゾピラン；ナフトピラン、例えばナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，
１−ｂ］ピラン；米国特許第５，６４５，７６７号の第２欄１６行目〜第１２欄５７行目
に開示されているものなどのインデノ縮合ナフトピラン；米国特許第５，７２３，０７２
号の第２欄２７行目〜第１５欄５５行目、米国特許第５，６９８，１４１号の第２欄１１
行目〜第１９欄４５行目、米国特許第６，１５３，１２６号の第２欄２６行目〜第８欄６
０行目および米国特許第６，０２２，４９７号の第２欄２１行目〜第１１欄４６行目に開
示されているものなどの複素環式−縮合ナフトピラン；スピロ−９−フルオレノ［１，２
−ｂ］ピラン；フェナントロピラン；キノピラン；フルオロアンテノピラン；スピロピラ
ン、例えばスピロ（ベンゾインドリン）ナフトピラン、スピロ（インドリン）ベンゾピラ
ン、スピロ（インドリン）ナフトピラン、スピロ（インドリン）キノピランおよびスピロ
（インドリン）ピランが含まれる。ナフトピランおよび関連する有機フォトクロミック物
質の追加的な例は、例えば米国特許第５，６５８，５０１号の第１欄６４行目〜第１３欄
１７行目に記載されている。先行米国特許の関連する引用部分を参照により本明細書に組
み込む。スピロ（インドリン）ピランは、参考書のＴｅｃｈｎｉｑｕｅｓ ｉｎ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ、第ＩＩＩ巻、「Ｐｈｏｔｏｃｈｒｏｍｉｓｍ」、第３章、Ｇｌｅｎｎ Ｈ
． Ｂｒｏｗｎ編、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， Ｉｎｃ．、Ｎｅｗ Ｙ
ｏｒｋ、１９７１年にも記載されている。
得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定されな
いが、ベンゾピラン；ナフトピラン、例えばナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，
１−ｂ］ピラン；米国特許第５，６４５，７６７号の第２欄１６行目〜第１２欄５７行目
に開示されているものなどのインデノ縮合ナフトピラン；米国特許第５，７２３，０７２
号の第２欄２７行目〜第１５欄５５行目、米国特許第５，６９８，１４１号の第２欄１１
行目〜第１９欄４５行目、米国特許第６，１５３，１２６号の第２欄２６行目〜第８欄６
０行目および米国特許第６，０２２，４９７号の第２欄２１行目〜第１１欄４６行目に開
示されているものなどの複素環式−縮合ナフトピラン；スピロ−９−フルオレノ［１，２
−ｂ］ピラン；フェナントロピラン；キノピラン；フルオロアンテノピラン；スピロピラ
ン、例えばスピロ（ベンゾインドリン）ナフトピラン、スピロ（インドリン）ベンゾピラ
ン、スピロ（インドリン）ナフトピラン、スピロ（インドリン）キノピランおよびスピロ
（インドリン）ピランが含まれる。ナフトピランおよび関連する有機フォトクロミック物
質の追加的な例は、例えば米国特許第５，６５８，５０１号の第１欄６４行目〜第１３欄
１７行目に記載されている。先行米国特許の関連する引用部分を参照により本明細書に組
み込む。スピロ（インドリン）ピランは、参考書のＴｅｃｈｎｉｑｕｅｓ ｉｎ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ、第ＩＩＩ巻、「Ｐｈｏｔｏｃｈｒｏｍｉｓｍ」、第３章、Ｇｌｅｎｎ Ｈ
． Ｂｒｏｗｎ編、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， Ｉｎｃ．、Ｎｅｗ Ｙ
ｏｒｋ、１９７１年にも記載されている。
熱的に可逆性のフォトクロミックオキサジン（これからフォトクロミック化合物が選択
され得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定さ
れないが、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、およびスピロ−オキサジン、例えばス
ピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、
スピロ（ベンゾインドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（ベンゾインドリン）ナフ
トオキサジン、スピロ（インドリン）ベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオラ
ンテノオキサジンおよびスピロ（インドリン）キノキサジンが含まれる。
され得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定さ
れないが、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、およびスピロ−オキサジン、例えばス
ピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、
スピロ（ベンゾインドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（ベンゾインドリン）ナフ
トオキサジン、スピロ（インドリン）ベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオラ
ンテノオキサジンおよびスピロ（インドリン）キノキサジンが含まれる。
熱的に可逆性のフォトクロミックフルジド（これからフォトクロミック化合物が選択さ
れ得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定され
ないが、米国特許第４，９３１，２２０号の第２欄５１行目〜第１０欄７行目に開示され
ている、３−フリルフルジミドおよび３−チエニルフルジミドなどのフルジミド；３−フ
リルフルジドおよび３−チエニルフルジドなどのフルジド、ならびに上記フォトクロミッ
ク材料／化合物のいずれかの混合物が含まれる。本発明の液晶組成物などの本発明の種々
の実施形態で使用できるさらなる非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物の例には、以
下に限定されないが、米国特許出願公開第２００５／０００４３６１号の段落［０３１４
］〜［０３１７］に開示されているフォトクロミック化合物が含まれる。
れ得、かつ、これは本発明の種々の実施形態で使用され得る）の例には、以下に限定され
ないが、米国特許第４，９３１，２２０号の第２欄５１行目〜第１０欄７行目に開示され
ている、３−フリルフルジミドおよび３−チエニルフルジミドなどのフルジミド；３−フ
リルフルジドおよび３−チエニルフルジドなどのフルジド、ならびに上記フォトクロミッ
ク材料／化合物のいずれかの混合物が含まれる。本発明の液晶組成物などの本発明の種々
の実施形態で使用できるさらなる非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物の例には、以
下に限定されないが、米国特許出願公開第２００５／０００４３６１号の段落［０３１４
］〜［０３１７］に開示されているフォトクロミック化合物が含まれる。
一部の実施形態で、本発明の種々の実施形態で使用できるフォトクロミック化合物は、
インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン
、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン、フェナントロピラン、キノリノピラン、フ
ルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（
インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ
（インドリン）フルオランテノオキサジン、スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジ
ド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリールアルキルエテン、ジアリールアルケニル
エテン、非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物、これらの混合物およびこれらの組合
せから選択することができる。
インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン
、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン、フェナントロピラン、キノリノピラン、フ
ルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（
インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ
（インドリン）フルオランテノオキサジン、スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジ
ド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリールアルキルエテン、ジアリールアルケニル
エテン、非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物、これらの混合物およびこれらの組合
せから選択することができる。
本発明の組成物中に含めることができる二色性化合物の例には、以下に限定されないが
、米国特許第７，０９７，３０３号の第７欄６行目〜６０行目に記載されている二色性化
合物が含まれる。本発明の種々の実施形態で使用できる二色性化合物のさらなる例には、
以下に限定されないが、アゾメチン、インジゴイド、チオインジゴイド、メロシアニン、
インダン、キノフタロン染料、ペリレン、フタロペリン、トリフェノジオキサジン、イン
ドロキノキサリン、イミダゾ−トリアジン、テトラジン、アゾおよび（ポリ）アゾ染料、
ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン（ａｎｔｈｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）および（
ポリ）アントラキノン、アントロピリミジノン、ヨウ素およびヨーデートが含まれる。一
部の実施形態では、二色性化合物は、重合され得る少なくとも１つの基を含む重合性二色
性化合物から選択することができる。重合性二色性化合物の重合性基の非限定的な例には
、以下に限定されないが、（メタ）アクリレート基、アリル基および／またはビニル基な
どのラジカル的に重合可能なエチレン性不飽和基が含まれる。
、米国特許第７，０９７，３０３号の第７欄６行目〜６０行目に記載されている二色性化
合物が含まれる。本発明の種々の実施形態で使用できる二色性化合物のさらなる例には、
以下に限定されないが、アゾメチン、インジゴイド、チオインジゴイド、メロシアニン、
インダン、キノフタロン染料、ペリレン、フタロペリン、トリフェノジオキサジン、イン
ドロキノキサリン、イミダゾ−トリアジン、テトラジン、アゾおよび（ポリ）アゾ染料、
ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン（ａｎｔｈｒｏｑｕｉｎｏｎｅ）および（
ポリ）アントラキノン、アントロピリミジノン、ヨウ素およびヨーデートが含まれる。一
部の実施形態では、二色性化合物は、重合され得る少なくとも１つの基を含む重合性二色
性化合物から選択することができる。重合性二色性化合物の重合性基の非限定的な例には
、以下に限定されないが、（メタ）アクリレート基、アリル基および／またはビニル基な
どのラジカル的に重合可能なエチレン性不飽和基が含まれる。
一部の実施形態で、本発明の組成物は、二色性化合物を含み、この組成物から層が形成
される。正味の直線偏光が確実に得られるようにするために、その層の二色性化合物は、
一般に、当技術分野で認められている方法にしたがって配列される。二色性化合物を配列
する目的で使用され得る配列ファシリティーの非限定的な例は、米国特許第７，６３２，
５４０号の第２欄６行目〜第２８欄２４行目に記載されている。
される。正味の直線偏光が確実に得られるようにするために、その層の二色性化合物は、
一般に、当技術分野で認められている方法にしたがって配列される。二色性化合物を配列
する目的で使用され得る配列ファシリティーの非限定的な例は、米国特許第７，６３２，
５４０号の第２欄６行目〜第２８欄２４行目に記載されている。
本発明の組成物中に含めることができるフォトクロミック−二色性化合物は、一部の実
施形態で、（ａ）以下に限定されないが、ピラン、オキサジン、フルジドおよび本明細書
中で上に記載した他の例などの公知のフォトクロミック化合物から選択することができる
少なくとも１つのフォトクロミック基（ＰＣ）；ならびに（ｂ）フォトクロミック基に付
いている少なくとも１つの延長剤または基を含む。一部の実施形態で、延長剤（Ｌ）は、
以下の式Ａ
で表すことができる。
施形態で、（ａ）以下に限定されないが、ピラン、オキサジン、フルジドおよび本明細書
中で上に記載した他の例などの公知のフォトクロミック化合物から選択することができる
少なくとも１つのフォトクロミック基（ＰＣ）；ならびに（ｂ）フォトクロミック基に付
いている少なくとも１つの延長剤または基を含む。一部の実施形態で、延長剤（Ｌ）は、
以下の式Ａ
で表すことができる。
本明細書で使用される、フォトクロミック−二色性化合物のフォトクロミック基に関連
して、「付いている（ａｔｔａｃｈｅｄ）」という用語は、直接結合している、または別
の基を介して間接的に結合していることを意味する。したがって、例えば、本明細書で開
示される種々の非限定的な実施形態によれば、Ｌは、ＰＣ上の置換基としてＰＣと直接結
合することができるか、または、Ｌは、ＰＣと直接結合している別の基（以下で論じるＲ
１で表される基など）上の置換基であってよい（すなわち、ＬはＰＣと間接的に結合して
いる）。本明細書で限定するわけではないが、種々の非限定的な実施形態によれば、活性
化された状態でＰＣを拡張または延長し、その結果、拡張ＰＣ（すなわち、フォトクロミ
ック化合物）の吸光度比がＰＣ単独と比較して増大するように、Ｌは、ＰＣに付いていて
もよい。本明細書で限定するわけではないが、種々の非限定的な実施形態によれば、ＰＣ
上にＬが付く位置は、活性化された形態のＰＣの理論遷移双極子モーメントに対して平行
な方向および垂直な方向のうちの少なくとも１つの方向に、ＬがＰＣを延長するように選
択することができる。本明細書で使用される「理論遷移双極子モーメント」という用語は
、電磁放射線の分子との相互作用によって生じる遷移双極子分極を指す。例えば、ＩＵＰ
ＡＣ Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第２版
、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｕｎｉｏｎ ｏｆ Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９７年）を参照されたい。
して、「付いている（ａｔｔａｃｈｅｄ）」という用語は、直接結合している、または別
の基を介して間接的に結合していることを意味する。したがって、例えば、本明細書で開
示される種々の非限定的な実施形態によれば、Ｌは、ＰＣ上の置換基としてＰＣと直接結
合することができるか、または、Ｌは、ＰＣと直接結合している別の基（以下で論じるＲ
１で表される基など）上の置換基であってよい（すなわち、ＬはＰＣと間接的に結合して
いる）。本明細書で限定するわけではないが、種々の非限定的な実施形態によれば、活性
化された状態でＰＣを拡張または延長し、その結果、拡張ＰＣ（すなわち、フォトクロミ
ック化合物）の吸光度比がＰＣ単独と比較して増大するように、Ｌは、ＰＣに付いていて
もよい。本明細書で限定するわけではないが、種々の非限定的な実施形態によれば、ＰＣ
上にＬが付く位置は、活性化された形態のＰＣの理論遷移双極子モーメントに対して平行
な方向および垂直な方向のうちの少なくとも１つの方向に、ＬがＰＣを延長するように選
択することができる。本明細書で使用される「理論遷移双極子モーメント」という用語は
、電磁放射線の分子との相互作用によって生じる遷移双極子分極を指す。例えば、ＩＵＰ
ＡＣ Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第２版
、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｕｎｉｏｎ ｏｆ Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９７年）を参照されたい。
上記式Ａに関連して、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３はそれぞれ、各出現について、非置換また
は置換芳香族基、非置換または置換脂環式基、非置換または置換複素環式基およびこれら
の混合物から選択される二価基から独立に選択することができ、置換基は、Ｐ（以下に示
すような）で表される基、アリール、チオール、アミド、液晶メソゲン、ハロゲン、Ｃ１
〜Ｃ１８アルコキシ、ポリ（Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシ）、アミノ、アミノ（Ｃ１〜Ｃ１８
）アルキレン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキルアミノ、Ｃ１
〜Ｃ１８アルキル、Ｃ２〜Ｃ１８アルケン、Ｃ２〜Ｃ１８アルキン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキ
ル（Ｃ１〜Ｃ１８）アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アル
キルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルカルボネート、アリールカルボネート、Ｃ１〜Ｃ
１８アセチル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルコキシ、イソシア
ナト、アミド、シアノ、ニトロ、ならびにシアノ、ハロもしくはＣ１〜Ｃ１８アルコキシ
で一置換されているかまたはハロでポリ置換されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１８
アルキル基、ならびに以下の式：−Ｍ（Ｔ）（ｔ−１）および−Ｍ（ＯＴ）（ｔ−１）の
１つで表される基（Ｍは、アルミニウム、アンチモン、タンタル、チタン、ジルコニウム
およびケイ素から選択され、Ｔは、有機官能性基、有機官能性炭化水素基、脂肪族炭化水
素基および芳香族炭化水素基から選択され、ｔはＭの原子価である）の１つで表される基
から選択される。本明細書で使用される接頭語「ポリ」は少なくとも２つを意味する。
は置換芳香族基、非置換または置換脂環式基、非置換または置換複素環式基およびこれら
の混合物から選択される二価基から独立に選択することができ、置換基は、Ｐ（以下に示
すような）で表される基、アリール、チオール、アミド、液晶メソゲン、ハロゲン、Ｃ１
〜Ｃ１８アルコキシ、ポリ（Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシ）、アミノ、アミノ（Ｃ１〜Ｃ１８
）アルキレン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキルアミノ、Ｃ１
〜Ｃ１８アルキル、Ｃ２〜Ｃ１８アルケン、Ｃ２〜Ｃ１８アルキン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキ
ル（Ｃ１〜Ｃ１８）アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アル
キルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルカルボネート、アリールカルボネート、Ｃ１〜Ｃ
１８アセチル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルコキシ、イソシア
ナト、アミド、シアノ、ニトロ、ならびにシアノ、ハロもしくはＣ１〜Ｃ１８アルコキシ
で一置換されているかまたはハロでポリ置換されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１８
アルキル基、ならびに以下の式：−Ｍ（Ｔ）（ｔ−１）および−Ｍ（ＯＴ）（ｔ−１）の
１つで表される基（Ｍは、アルミニウム、アンチモン、タンタル、チタン、ジルコニウム
およびケイ素から選択され、Ｔは、有機官能性基、有機官能性炭化水素基、脂肪族炭化水
素基および芳香族炭化水素基から選択され、ｔはＭの原子価である）の１つで表される基
から選択される。本明細書で使用される接頭語「ポリ」は少なくとも２つを意味する。
上記式Ａに関連して、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３はそれぞれ、各出現について、非置換また
は置換芳香族基、非置換または置換脂環式基、非置換または置換複素環式基およびこれら
の混合物から選択される二価基から独立に選択することができ、置換基は、Ｐ（以下に示
すような）で表される基、アリール、チオール、アミド、液晶メソゲン、ハロゲン、Ｃ１
〜Ｃ１８アルコキシ、ポリ（Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシ）、アミノ、アミノ（Ｃ１〜Ｃ１８
）アルキレン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキルアミノ、Ｃ１
〜Ｃ１８アルキル、Ｃ２〜Ｃ１８アルケン、Ｃ２〜Ｃ１８アルキン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキ
ル（Ｃ１〜Ｃ１８）アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アル
キルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルカルボネート、アリールカルボネート、Ｃ１〜Ｃ
１８アセチル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルコキシ、イソシア
ナト、アミド、シアノ、ニトロ、ならびにシアノ、ハロもしくはＣ１〜Ｃ１８アルコキシ
で一置換されている、またはハロでポリ置換されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１８
アルキル基、ならびに以下の式：−Ｍ（Ｔ）（ｔ−１）および−Ｍ（ＯＴ）（ｔ−１）（
Ｍは、アルミニウム、アンチモン、タンタル、チタン、ジルコニウムおよびケイ素から選
択され、Ｔは、有機官能性基、有機官能性炭化水素基、脂肪族炭化水素基および芳香族炭
化水素基から選択され、ｔはＭの原子価である）の１つで表される基から選択される。本
明細書で使用される接頭語「ポリ」は少なくとも２つを意味する。
は置換芳香族基、非置換または置換脂環式基、非置換または置換複素環式基およびこれら
の混合物から選択される二価基から独立に選択することができ、置換基は、Ｐ（以下に示
すような）で表される基、アリール、チオール、アミド、液晶メソゲン、ハロゲン、Ｃ１
〜Ｃ１８アルコキシ、ポリ（Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシ）、アミノ、アミノ（Ｃ１〜Ｃ１８
）アルキレン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルアミノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキルアミノ、Ｃ１
〜Ｃ１８アルキル、Ｃ２〜Ｃ１８アルケン、Ｃ２〜Ｃ１８アルキン、Ｃ１〜Ｃ１８アルキ
ル（Ｃ１〜Ｃ１８）アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１８アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アル
キルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１８アルキルカルボネート、アリールカルボネート、Ｃ１〜Ｃ
１８アセチル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルコキシ、イソシア
ナト、アミド、シアノ、ニトロ、ならびにシアノ、ハロもしくはＣ１〜Ｃ１８アルコキシ
で一置換されている、またはハロでポリ置換されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１８
アルキル基、ならびに以下の式：−Ｍ（Ｔ）（ｔ−１）および−Ｍ（ＯＴ）（ｔ−１）（
Ｍは、アルミニウム、アンチモン、タンタル、チタン、ジルコニウムおよびケイ素から選
択され、Ｔは、有機官能性基、有機官能性炭化水素基、脂肪族炭化水素基および芳香族炭
化水素基から選択され、ｔはＭの原子価である）の１つで表される基から選択される。本
明細書で使用される接頭語「ポリ」は少なくとも２つを意味する。
上記で論じたように、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３は、各出現について、非置換または置換芳
香族基、非置換または置換複素環式基、および非置換または置換脂環式（ａｌｉｃｙｌｉ
ｃ）基などの二価基から独立に選択することができる。有用な芳香族基の非限定的な例に
は、ベンゾ、ナフト、フェナントロ、ビフェニル、テトラヒドロナフト、テルフェニルお
よびアントラセノが含まれる。
香族基、非置換または置換複素環式基、および非置換または置換脂環式（ａｌｉｃｙｌｉ
ｃ）基などの二価基から独立に選択することができる。有用な芳香族基の非限定的な例に
は、ベンゾ、ナフト、フェナントロ、ビフェニル、テトラヒドロナフト、テルフェニルお
よびアントラセノが含まれる。
本明細書で使用される「複素環式基」という用語は、原子の環を有する化合物であって
、その環を形成する少なくとも１個の原子がその環を形成する他の原子とは異なる、化合
物を意味する。さらに、本明細書で使用される複素環式基という用語は、特に縮合複素環
式基を排除する。適切な複素環式基（これらからＱ１、Ｑ２およびＱ３が選択され得る）
の非限定的な例には、イソソルビトール、ジベンゾフロ、ジベンゾチエノ、ベンゾフロ、
ベンゾチエノ、チエノ、フロ、ジオキシノ、カルバゾロ、アントラニリル、アゼピニル、
ベンゾオキサゾリル、ジアゼピニル、ジオアズリル、イミダゾリジニル、イミダゾリル、
イミダゾリニル、インダゾリル、インドレニニル、インドリニル、インドリジニル、イン
ドリル、インドキサジニル、イソベンゾアゾリル、イソインドリル、イソオキサゾリル、
イソオキサジル、イソピロイル、イソキノリル、イソチアゾリル、モルホリノ、モルホリ
ニル、オキサジアゾリル、オキサチアゾリル、オキサチアジル、オキサチオリル、オキサ
トリアゾリル、オキサゾリル、ピペラジニル、ピペラジル、ピペリジル、プリニル、ピラ
ノピロリル、ピラジニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリル、ピラジル、ピリ
ダジニル、ピリダジル、ピリジル、ピリミジニル、ピリミジル、ピリデニル、ピロリジニ
ル、ピロリニル、ピロイル、キノリジニル、キヌクリジニル、キノリル、チアゾリル、ト
リアゾリル、トリアジル、Ｎ−アリールピペラジノ、アジリジノ、アリールピペリジノ、
チオモルホリノ、テトラヒドロキノリノ、テトラヒドロイソキノリノ、ピリル、非置換、
一置換または二置換Ｃ４〜Ｃ１８スピロ二環式アミンおよび非置換、一置換または二置換
Ｃ４〜Ｃ１８スピロ三環式アミンが含まれる。
、その環を形成する少なくとも１個の原子がその環を形成する他の原子とは異なる、化合
物を意味する。さらに、本明細書で使用される複素環式基という用語は、特に縮合複素環
式基を排除する。適切な複素環式基（これらからＱ１、Ｑ２およびＱ３が選択され得る）
の非限定的な例には、イソソルビトール、ジベンゾフロ、ジベンゾチエノ、ベンゾフロ、
ベンゾチエノ、チエノ、フロ、ジオキシノ、カルバゾロ、アントラニリル、アゼピニル、
ベンゾオキサゾリル、ジアゼピニル、ジオアズリル、イミダゾリジニル、イミダゾリル、
イミダゾリニル、インダゾリル、インドレニニル、インドリニル、インドリジニル、イン
ドリル、インドキサジニル、イソベンゾアゾリル、イソインドリル、イソオキサゾリル、
イソオキサジル、イソピロイル、イソキノリル、イソチアゾリル、モルホリノ、モルホリ
ニル、オキサジアゾリル、オキサチアゾリル、オキサチアジル、オキサチオリル、オキサ
トリアゾリル、オキサゾリル、ピペラジニル、ピペラジル、ピペリジル、プリニル、ピラ
ノピロリル、ピラジニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリル、ピラジル、ピリ
ダジニル、ピリダジル、ピリジル、ピリミジニル、ピリミジル、ピリデニル、ピロリジニ
ル、ピロリニル、ピロイル、キノリジニル、キヌクリジニル、キノリル、チアゾリル、ト
リアゾリル、トリアジル、Ｎ−アリールピペラジノ、アジリジノ、アリールピペリジノ、
チオモルホリノ、テトラヒドロキノリノ、テトラヒドロイソキノリノ、ピリル、非置換、
一置換または二置換Ｃ４〜Ｃ１８スピロ二環式アミンおよび非置換、一置換または二置換
Ｃ４〜Ｃ１８スピロ三環式アミンが含まれる。
上記で論じたように、Ｑ１、Ｑ２およびＱ３は、一または二置換Ｃ４〜Ｃ１８スピロ二
環式アミンおよびＣ４〜Ｃ１８スピロ三環式アミンから選択することができる。適切な置
換基の非限定的な例には、アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシまたは
フェニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルが含まれる。一または二置換スピロ二環式アミンの具体
的な非限定的例には、２−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル；３−アザビシ
クロ［３．２．１］オクタ−３−イル；２−アザビシクロ［２．２．２］オクタ−２−イ
ル；および６−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−６−イルが含まれる。一または二置
換三環式アミンの具体的な非限定的例には、２−アザトリシクロ［３．３．１．１（３，
７）］デカン−２−イル；４−ベンジル−２−アザトリシクロ［３．３．１．１（３，７
）］デカン−２−イル；４−メトキシ−６−メチル−２−アザトリシクロ［３．３．１．
１（３，７）］デカン−２−イル；４−アザトリシクロ［４．３．１．１（３，８）］ウ
ンデカン−４−イル；および７−メチル−４−アザトリシクロ［４．３．１．１（３，８
）］ウンデカン−４−イルが含まれる。脂環式基（これからＱ１、Ｑ２およびＱ３が選択
され得る）の例には、限定されないが、シクロヘキシル、シクロプロピル、ノルボルネニ
ル、デカリニル、アダマンタニル、ビシクロオクタン（ｂｉｃｙｃｌｏｃｔａｎｅ）、ペ
ルヒドロフルオレンおよびクバニルが含まれる。
環式アミンおよびＣ４〜Ｃ１８スピロ三環式アミンから選択することができる。適切な置
換基の非限定的な例には、アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシまたは
フェニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルが含まれる。一または二置換スピロ二環式アミンの具体
的な非限定的例には、２−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−イル；３−アザビシ
クロ［３．２．１］オクタ−３−イル；２−アザビシクロ［２．２．２］オクタ−２−イ
ル；および６−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−６−イルが含まれる。一または二置
換三環式アミンの具体的な非限定的例には、２−アザトリシクロ［３．３．１．１（３，
７）］デカン−２−イル；４−ベンジル−２−アザトリシクロ［３．３．１．１（３，７
）］デカン−２−イル；４−メトキシ−６−メチル−２−アザトリシクロ［３．３．１．
１（３，７）］デカン−２−イル；４−アザトリシクロ［４．３．１．１（３，８）］ウ
ンデカン−４−イル；および７−メチル−４−アザトリシクロ［４．３．１．１（３，８
）］ウンデカン−４−イルが含まれる。脂環式基（これからＱ１、Ｑ２およびＱ３が選択
され得る）の例には、限定されないが、シクロヘキシル、シクロプロピル、ノルボルネニ
ル、デカリニル、アダマンタニル、ビシクロオクタン（ｂｉｃｙｃｌｏｃｔａｎｅ）、ペ
ルヒドロフルオレンおよびクバニルが含まれる。
引き続き式Ａに関連して、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４およびＳ５はそれぞれ、各出現につ
いて、
（１）−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｈ−、−Ｓｉ（ＣＨ２）ｇ−、−（Ｓｉ［（ＣＨ
３）２］Ｏ）ｈ−（式中、ｇは、各出現について、１〜２０から独立に選択され；ｈは１
〜１６から選択される）；
（２）−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（
Ｚ’）−（式中、Ｚは、各出現について、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、シクロアルキルお
よびアリールから独立に選択され、Ｚ’は、各出現について、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、シク
ロアルキルおよびアリールから独立に選択される）；および、
（３）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（
Ｏ）（Ｏ）−、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２４アルキレン残基（該Ｃ１〜Ｃ２４アルキ
レン残基は、置換されていないか、シアノもしくはハロで一置換されているかまたはハロ
でポリ置換されている）；
から選択されるスペーサー単位から独立に選択される。しかし、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４
およびＳ５の選択は、ヘテロ原子を含む２つのスペーサー単位が互いに連結されている場
合、そのスペーサー単位は、ヘテロ原子が互いに直接連結されないように連結され、Ｓ１
およびＳ５がそれぞれＰＣおよびＰと連結されている場合、それらは、２個のヘテロ原子
が互いに直接連結されないように連結されるという条件に従う。本明細書で使用される「
ヘテロ原子」という用語は、炭素または水素以外の原子を意味する。
いて、
（１）−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｈ−、−Ｓｉ（ＣＨ２）ｇ−、−（Ｓｉ［（ＣＨ
３）２］Ｏ）ｈ−（式中、ｇは、各出現について、１〜２０から独立に選択され；ｈは１
〜１６から選択される）；
（２）−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（
Ｚ’）−（式中、Ｚは、各出現について、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、シクロアルキルお
よびアリールから独立に選択され、Ｚ’は、各出現について、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、シク
ロアルキルおよびアリールから独立に選択される）；および、
（３）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（
Ｏ）（Ｏ）−、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２４アルキレン残基（該Ｃ１〜Ｃ２４アルキ
レン残基は、置換されていないか、シアノもしくはハロで一置換されているかまたはハロ
でポリ置換されている）；
から選択されるスペーサー単位から独立に選択される。しかし、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４
およびＳ５の選択は、ヘテロ原子を含む２つのスペーサー単位が互いに連結されている場
合、そのスペーサー単位は、ヘテロ原子が互いに直接連結されないように連結され、Ｓ１
およびＳ５がそれぞれＰＣおよびＰと連結されている場合、それらは、２個のヘテロ原子
が互いに直接連結されないように連結されるという条件に従う。本明細書で使用される「
ヘテロ原子」という用語は、炭素または水素以外の原子を意味する。
さらに、式Ａにおいて、種々の非限定的な実施形態によれば、ｃ、ｄ、ｅ、およびｆは
それぞれ、１〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択することができ；ｄ
’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択することができ
、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも１である。他の非限定的な実施形態によ
れば、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ、０〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独
立に選択することができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４か
ら独立に選択することができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも２である。
さらに他の非限定的な実施形態によれば、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ、０〜２０（両
端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択することができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそ
れぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択することができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋
ｆ’の合計は少なくとも３である。さらに他の非限定的な実施形態によれば、ｃ、ｄ、ｅ
およびｆはそれぞれ、０〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択すること
ができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択する
ことができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも１である。
それぞれ、１〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択することができ；ｄ
’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択することができ
、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも１である。他の非限定的な実施形態によ
れば、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ、０〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独
立に選択することができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４か
ら独立に選択することができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも２である。
さらに他の非限定的な実施形態によれば、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ、０〜２０（両
端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択することができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそ
れぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択することができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋
ｆ’の合計は少なくとも３である。さらに他の非限定的な実施形態によれば、ｃ、ｄ、ｅ
およびｆはそれぞれ、０〜２０（両端の値を含む）の範囲の整数から独立に選択すること
ができ；ｄ’、ｅ’およびｆ’はそれぞれ、０、１、２、３および４から独立に選択する
ことができ、ただし、ｄ’＋ｅ’＋ｆ’の合計は少なくとも１である。
さらに、式Ａにおいて、Ｐは、アジリジニル、水素、ヒドロキシ、アリール、アルキル
、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アルキルアルコキシ，アルコキシアルコキシ、
ニトロ、ポリアルキルエーテル、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル（Ｃ１〜Ｃ６）アルコキシ（Ｃ
１〜Ｃ６）アルキル、ポリエチレンオキシ、ポリプロピレンオキシ、エチレン、アクリレ
ート、メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリレート、アクリロ
イルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロアクリルアミド、２−
フェニルアクリルアミド、エポキシ、イソシアネート、チオール、チオイソシアネート、
イタコン酸エステル、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体、シロキサン、
主鎖および側鎖液晶ポリマー、液晶メソゲン、エチレンイミン誘導体、マレイン酸誘導体
、フマル酸誘導体、非置換ケイ皮酸誘導体、ケイ皮酸誘導体（これらはメチル、メトキシ
、シアノおよびハロゲンの少なくとも１つで置換されている）、ならびにステロイド基、
テルペノイド基、アルカロイド基およびこれらの混合物から選択される置換および非置換
のキラルおよび非キラル一価または二価基（ここで、置換基は、アルキル、アルコキシ、
アミノ、シクロアルキル、アルキルアルコキシ、フルオロアルキル、シアノアルキル、シ
アノアルコキシおよびこれらの混合物から独立に選択される）から選択することができる
。
、アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アルキルアルコキシ，アルコキシアルコキシ、
ニトロ、ポリアルキルエーテル、（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル（Ｃ１〜Ｃ６）アルコキシ（Ｃ
１〜Ｃ６）アルキル、ポリエチレンオキシ、ポリプロピレンオキシ、エチレン、アクリレ
ート、メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリレート、アクリロ
イルフェニレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロアクリルアミド、２−
フェニルアクリルアミド、エポキシ、イソシアネート、チオール、チオイソシアネート、
イタコン酸エステル、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体、シロキサン、
主鎖および側鎖液晶ポリマー、液晶メソゲン、エチレンイミン誘導体、マレイン酸誘導体
、フマル酸誘導体、非置換ケイ皮酸誘導体、ケイ皮酸誘導体（これらはメチル、メトキシ
、シアノおよびハロゲンの少なくとも１つで置換されている）、ならびにステロイド基、
テルペノイド基、アルカロイド基およびこれらの混合物から選択される置換および非置換
のキラルおよび非キラル一価または二価基（ここで、置換基は、アルキル、アルコキシ、
アミノ、シクロアルキル、アルキルアルコキシ、フルオロアルキル、シアノアルキル、シ
アノアルコキシおよびこれらの混合物から独立に選択される）から選択することができる
。
さらに、本明細書で限定するわけではないが、Ｐが重合性基である場合、その重合性基
は、重合反応に関与するように適合させた任意の官能基であってよい。重合反応の非限定
的な例には、Ｈａｗｌｅｙ’ｓ Ｃｏｎｄｅｎｓｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｄｉｃｔｉｏ
ｎａｒｙ、第１３版、１９９７年、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ、９０１〜９０
２頁（この開示を参照により本明細書に組み込む）の「重合」の定義に記載されているも
のが含まれる。例えば、本明細書で限定するわけではないが、重合反応には、フリーラジ
カルが、モノマーの二重結合の一方の側に付加し、同時に他方の側で新しい自由電子を生
成することによってモノマーの二重結合と反応する開始剤である「付加重合」；２つの反
応分子が一緒になって、水分子などの小さい分子を排除しながらより大きな分子を形成す
る「縮合重合」；および「酸化カップリング重合」が含まれる。さらに、重合性基の非限
定的な例には、ヒドロキシ、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、２−（アクリルオキシ
）エチルカルバミル、２−（メタクリルオキシ）エチルカルバミル、イソシアネート、ア
ジリジン、アリルカーボネートおよびエポキシ、例えばオキシラニルメチルが含まれる。
は、重合反応に関与するように適合させた任意の官能基であってよい。重合反応の非限定
的な例には、Ｈａｗｌｅｙ’ｓ Ｃｏｎｄｅｎｓｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｄｉｃｔｉｏ
ｎａｒｙ、第１３版、１９９７年、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ、９０１〜９０
２頁（この開示を参照により本明細書に組み込む）の「重合」の定義に記載されているも
のが含まれる。例えば、本明細書で限定するわけではないが、重合反応には、フリーラジ
カルが、モノマーの二重結合の一方の側に付加し、同時に他方の側で新しい自由電子を生
成することによってモノマーの二重結合と反応する開始剤である「付加重合」；２つの反
応分子が一緒になって、水分子などの小さい分子を排除しながらより大きな分子を形成す
る「縮合重合」；および「酸化カップリング重合」が含まれる。さらに、重合性基の非限
定的な例には、ヒドロキシ、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、２−（アクリルオキシ
）エチルカルバミル、２−（メタクリルオキシ）エチルカルバミル、イソシアネート、ア
ジリジン、アリルカーボネートおよびエポキシ、例えばオキシラニルメチルが含まれる。
一部の実施形態によれば、Ｐは、主鎖または側鎖液晶ポリマーおよび液晶メソゲンから
選択することができる。本明細書で使用される液晶「メソゲン」という用語は、剛性の棒
状または円盤状の液晶分子を意味する。さらに、本明細書で使用される「主鎖液晶ポリマ
ー」という用語は、ポリマーの骨格（すなわち、主鎖）構造内に液晶メソゲンを有するポ
リマーを指す。本明細書で使用される「側鎖液晶ポリマー」という用語は、液晶メソゲン
が側鎖でポリマーに付いているポリマーを指す。本明細書で限定するわけではないが、一
般に、メソゲンは、液晶ポリマーの動きを制限する２つまたはそれ超の芳香環から構成さ
れている。適切な棒状液晶メソゲンの例には、限定されないが、置換または非置換芳香族
エステル、置換または非置換直鎖状芳香族化合物および置換または非置換テルフェニルが
含まれる。別の特定の非限定的な実施形態によれば、Ｐは、ステロイド、例えば限定され
ないが、コレステロール化合物から選択することができる。
選択することができる。本明細書で使用される液晶「メソゲン」という用語は、剛性の棒
状または円盤状の液晶分子を意味する。さらに、本明細書で使用される「主鎖液晶ポリマ
ー」という用語は、ポリマーの骨格（すなわち、主鎖）構造内に液晶メソゲンを有するポ
リマーを指す。本明細書で使用される「側鎖液晶ポリマー」という用語は、液晶メソゲン
が側鎖でポリマーに付いているポリマーを指す。本明細書で限定するわけではないが、一
般に、メソゲンは、液晶ポリマーの動きを制限する２つまたはそれ超の芳香環から構成さ
れている。適切な棒状液晶メソゲンの例には、限定されないが、置換または非置換芳香族
エステル、置換または非置換直鎖状芳香族化合物および置換または非置換テルフェニルが
含まれる。別の特定の非限定的な実施形態によれば、Ｐは、ステロイド、例えば限定され
ないが、コレステロール化合物から選択することができる。
一部の実施形態で、フォトクロミック−二色性化合物の延長基Ｌは、その１つの末端が
、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ
１０フルオロアルキル基；または直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ１０ペルフルオロアルキ
ル基と結合している式ＸＩ（Ａ）〜ＸＩ（Ｏ）から選択される。フォトクロミック−二色
性化合物の延長基Ｌのさらなる例には、以下に限定されないが、米国特許第８，５８２，
１９２Ｂ２号の第３４欄５行目〜第４５欄５１行目（この開示を参照により本明細書に組
み込む）に開示されているものが含まれる。
、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ
１０フルオロアルキル基；または直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ１０ペルフルオロアルキ
ル基と結合している式ＸＩ（Ａ）〜ＸＩ（Ｏ）から選択される。フォトクロミック−二色
性化合物の延長基Ｌのさらなる例には、以下に限定されないが、米国特許第８，５８２，
１９２Ｂ２号の第３４欄５行目〜第４５欄５１行目（この開示を参照により本明細書に組
み込む）に開示されているものが含まれる。
フォトクロミック−二色性化合物のフォトクロミック基（ＰＣ）の部類には、以下に限
定されないが、熱的に可逆性のピラン、非熱的に可逆性のピラン、熱的に可逆性のオキサ
ジン、非熱的に可逆性のオキサジン、熱的に可逆性のフルジドおよび／または非熱的に可
逆性のフルジドなどの、本明細書中で上に記載したフォトクロミック化合物の部類のもの
が含まれる。
定されないが、熱的に可逆性のピラン、非熱的に可逆性のピラン、熱的に可逆性のオキサ
ジン、非熱的に可逆性のオキサジン、熱的に可逆性のフルジドおよび／または非熱的に可
逆性のフルジドなどの、本明細書中で上に記載したフォトクロミック化合物の部類のもの
が含まれる。
一部の実施形態で、本発明の種々の実施形態で使用されるフォトクロミック−二色性化
合物には、そのフォトクロミック化合物が、インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２
−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン
、フェナントロピラン、キノリノピラン、フルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベン
ゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（イ
ンドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオランテノオキサジン、
スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリ
ールアルキルエテン、ジアリールアルケニルエテン、熱的に可逆性のフォトクロミック化
合物および非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物から選択される、フォトクロミック
化合物の残基が含まれる。
合物には、そのフォトクロミック化合物が、インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２
−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン
、フェナントロピラン、キノリノピラン、フルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベン
ゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（イ
ンドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオランテノオキサジン、
スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリ
ールアルキルエテン、ジアリールアルケニルエテン、熱的に可逆性のフォトクロミック化
合物および非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物から選択される、フォトクロミック
化合物の残基が含まれる。
本発明の種々の実施形態で使用できるフォトクロミック−二色性化合物のさらなる例に
は、以下に限定されないが、米国特許第７，２５６，９２１号の段落［００８９］〜［０
３３９］；米国特許出願公開第ＵＳ２００９／０３０９０７６号の段落［００２９］〜［
０１３７］；米国特許出願公開第２０１１／０１４００５６Ａ１号；米国特許第８，５１
８，５４６号；および米国特許第８，５４５，９８４号に開示されているものが含まれる
。さらに、フォトクロミック−二色性化合物についての一般構造は、米国特許第７，３４
２，１１２号の第５欄３５行目〜第３１欄３行目および第９７〜１０２欄にわたる表Ｖに
提示されている。
は、以下に限定されないが、米国特許第７，２５６，９２１号の段落［００８９］〜［０
３３９］；米国特許出願公開第ＵＳ２００９／０３０９０７６号の段落［００２９］〜［
０１３７］；米国特許出願公開第２０１１／０１４００５６Ａ１号；米国特許第８，５１
８，５４６号；および米国特許第８，５４５，９８４号に開示されているものが含まれる
。さらに、フォトクロミック−二色性化合物についての一般構造は、米国特許第７，３４
２，１１２号の第５欄３５行目〜第３１欄３行目および第９７〜１０２欄にわたる表Ｖに
提示されている。
本発明の種々の実施形態の組成物中に存在していてよく、かつそれらで使用できるスタ
ティック染料または固定ティント（すなわち、フォトクロミックではない染料またはティ
ント）の例には、以下に限定されないが、そのフォトクロミックコーティング層に所望の
色または他の光学的特性を付与することができる当技術分野で認められているスタティッ
ク有機染料が含まれる。本発明の種々の実施形態の組成物中に存在していてよく、かつそ
れらで使用できるスタティック染料の例には、以下に限定されないが、アゾ染料、アント
ラキノン染料、キサンテン染料、アジン（ａｚｉｍｅ）染料、ヨウ素、ヨウ化物塩、ポリ
アゾ染料、スチルベン染料、ピラゾロン染料、トリフェニルメタン染料、キノリン染料、
オキサジン染料、チアジン染料、ポリエン染料ならびにこれらの混合物および／または組
合せが含まれる。アントラキノン染料（これから固定染料が選択され得る）の例には、一
部の実施形態で、以下に限定されないが、１，４−ジヒドロキシ−９，１０−アントラセ
ンジオン（ＣＡＳ登録番号８１−６４−１）、１，４−ビス（４−メチルフェニル）アミ
ノ−９，１０−アントラセンジオン（ＣＡＳ登録番号１２８−８０−３）、１，４−ビス
（（２−ブロモ−４，６−ジメチルフェニル）アミノ）−９，１０−アントラセンジオン
（ＣＡＳ登録番号１８０３８−９８−８）およびこれらの混合物が含まれる。
ティック染料または固定ティント（すなわち、フォトクロミックではない染料またはティ
ント）の例には、以下に限定されないが、そのフォトクロミックコーティング層に所望の
色または他の光学的特性を付与することができる当技術分野で認められているスタティッ
ク有機染料が含まれる。本発明の種々の実施形態の組成物中に存在していてよく、かつそ
れらで使用できるスタティック染料の例には、以下に限定されないが、アゾ染料、アント
ラキノン染料、キサンテン染料、アジン（ａｚｉｍｅ）染料、ヨウ素、ヨウ化物塩、ポリ
アゾ染料、スチルベン染料、ピラゾロン染料、トリフェニルメタン染料、キノリン染料、
オキサジン染料、チアジン染料、ポリエン染料ならびにこれらの混合物および／または組
合せが含まれる。アントラキノン染料（これから固定染料が選択され得る）の例には、一
部の実施形態で、以下に限定されないが、１，４−ジヒドロキシ−９，１０−アントラセ
ンジオン（ＣＡＳ登録番号８１−６４−１）、１，４−ビス（４−メチルフェニル）アミ
ノ−９，１０−アントラセンジオン（ＣＡＳ登録番号１２８−８０−３）、１，４−ビス
（（２−ブロモ−４，６−ジメチルフェニル）アミノ）−９，１０−アントラセンジオン
（ＣＡＳ登録番号１８０３８−９８−８）およびこれらの混合物が含まれる。
本発明の種々の実施形態による組成物および物品は、フォトクロミック特性、二色性特
性および／またはスタティックティント特性などの所望の光学的特性を達成するのに必要
な任意の量のフォトクロミック化合物、二色性化合物、フォトクロミック−二色性化合物
および／または固定ティントを含むことができる。
性および／またはスタティックティント特性などの所望の光学的特性を達成するのに必要
な任意の量のフォトクロミック化合物、二色性化合物、フォトクロミック−二色性化合物
および／または固定ティントを含むことができる。
一部の実施形態によれば、本発明の組成物は液晶材料をさらに含む。
本発明の組成物中に存在していてよい液晶材料は、一部の実施形態で、液晶ポリマー、
液晶プレポリマーおよび液晶モノマーから選択することができる。本明細書で使用される
「プレポリマー」という用語は、さらなる重合またはポリマー鎖拡張を受けることができ
る、部分的に重合した材料を意味する。
液晶プレポリマーおよび液晶モノマーから選択することができる。本明細書で使用される
「プレポリマー」という用語は、さらなる重合またはポリマー鎖拡張を受けることができ
る、部分的に重合した材料を意味する。
本発明の組成物中に含めることができる液晶モノマーには、一部の実施形態で、単官能
性および多官能性液晶モノマーが含まれる。一部の実施形態で、液晶モノマーは架橋性液
晶モノマーであってよく、さらに、光架橋性液晶モノマーであってもよい。本明細書で使
用される「光架橋性」という用語は、化学放射線への曝露後架橋を受けるモノマー、プレ
ポリマーまたはポリマーなどの材料を意味する。
性および多官能性液晶モノマーが含まれる。一部の実施形態で、液晶モノマーは架橋性液
晶モノマーであってよく、さらに、光架橋性液晶モノマーであってもよい。本明細書で使
用される「光架橋性」という用語は、化学放射線への曝露後架橋を受けるモノマー、プレ
ポリマーまたはポリマーなどの材料を意味する。
架橋性液晶モノマーの例には、以下に限定されないが、アクリレート、メタクリレート
、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エポキシド、水酸化物、イソシ
アネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシアネート、チオール、尿素、
ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択される官能基を有する液晶モノ
マーが含まれる。光架橋性液晶モノマーの例には、以下に限定されないが、アクリレート
、メタクリレート、アルキン、アリル、エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドか
ら選択される官能基を有する液晶モノマーが含まれる。
、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エポキシド、水酸化物、イソシ
アネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシアネート、チオール、尿素、
ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択される官能基を有する液晶モノ
マーが含まれる。光架橋性液晶モノマーの例には、以下に限定されないが、アクリレート
、メタクリレート、アルキン、アリル、エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドか
ら選択される官能基を有する液晶モノマーが含まれる。
本発明の組成物中に含めることができる液晶ポリマーおよびプレポリマーには、サーモ
トロピック液晶ポリマーおよびプレポリマーならびにリオトロピック液晶ポリマーおよび
プレポリマーが含まれる。さらに、液晶ポリマーおよびプレポリマーは、主鎖ポリマーお
よびプレポリマー、または側鎖ポリマーおよびプレポリマーであってよい。さらに、本発
明の種々の実施形態によれば、液晶ポリマーまたはプレポリマーは架橋性であってよく、
さらに光架橋性であってもよい。
トロピック液晶ポリマーおよびプレポリマーならびにリオトロピック液晶ポリマーおよび
プレポリマーが含まれる。さらに、液晶ポリマーおよびプレポリマーは、主鎖ポリマーお
よびプレポリマー、または側鎖ポリマーおよびプレポリマーであってよい。さらに、本発
明の種々の実施形態によれば、液晶ポリマーまたはプレポリマーは架橋性であってよく、
さらに光架橋性であってもよい。
本発明の組成物中に含めることができる液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、ア
クリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エ
ポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシ
アネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択さ
れる官能基を有する主鎖および側鎖ポリマーおよびプレポリマーが含まれる。本発明の組
成物中に含めることができる光架橋性液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、アクリ
レート、メタクリレート、アルキン、エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドから
選択される官能基を有するポリマーおよびプレポリマーが含まれる。液晶ポリマーおよび
プレポリマーは、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレートおよび
それらの２つまたはそれ超の組合せなどの当技術分野で認められているポリマーおよびプ
レポリマー（ｐｒｅｐｏｌｙｅｒｓ）から選択することができる。
クリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エ
ポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシ
アネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択さ
れる官能基を有する主鎖および側鎖ポリマーおよびプレポリマーが含まれる。本発明の組
成物中に含めることができる光架橋性液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、アクリ
レート、メタクリレート、アルキン、エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドから
選択される官能基を有するポリマーおよびプレポリマーが含まれる。液晶ポリマーおよび
プレポリマーは、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリレートおよび
それらの２つまたはそれ超の組合せなどの当技術分野で認められているポリマーおよびプ
レポリマー（ｐｒｅｐｏｌｙｅｒｓ）から選択することができる。
本発明の組成物は、液晶特性制御剤、非線形光学材料、配列促進剤、反応速度増進剤、
光開始剤、熱開始剤、界面活性剤、重合防止剤、溶媒、慣用的な光安定剤（例えば、ヒン
ダードアミン基を含む紫外線吸収剤および光安定剤）、慣用的な熱安定剤、離型剤、レオ
ロジー制御剤、ゲル化剤、レベリング剤（例えば、界面活性剤）、フリーラジカル捕捉剤
および／または付着促進剤／カップリング剤（例えば、ヘキサンジオールジアクリレート
）から選択される添加剤をさらに含むことができる。慣用的な光安定剤は、任意に、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の化合物に加えて使用される。
光開始剤、熱開始剤、界面活性剤、重合防止剤、溶媒、慣用的な光安定剤（例えば、ヒン
ダードアミン基を含む紫外線吸収剤および光安定剤）、慣用的な熱安定剤、離型剤、レオ
ロジー制御剤、ゲル化剤、レベリング剤（例えば、界面活性剤）、フリーラジカル捕捉剤
および／または付着促進剤／カップリング剤（例えば、ヘキサンジオールジアクリレート
）から選択される添加剤をさらに含むことができる。慣用的な光安定剤は、任意に、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の化合物に加えて使用される。
本発明の組成物中に含めることができる界面活性剤には、湿潤剤、消泡剤、乳化剤、分
散剤、レベリング剤等とも称される材料が含まれる。界面活性剤は、アニオン性界面活性
剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤およびそれらの組合せから選択するこ
とができる。本発明の組成物および物品に含めることができる界面活性剤には、当技術分
野で認められている市販の界面活性剤が含まれる。非イオン性界面活性剤の例には、以下
に限定されないが、エトキシ化アルキルフェノール、例えばＩＧＥＰＡＬ（登録商標）Ｄ
Ｍ界面活性剤またはＴＲＩＴＯＮ（登録商標）Ｘ−１００として販売されているオクチル
−フェノキシポリエトキシエタノール、アセチレン性ジオール、例えばＳＵＲＦＹＮＯＬ
（登録商標）１０４として販売されている２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−
４，７−ジオール、エトキシ化アセチレン性ジオール、例えばＳＵＲＦＹＮＯＬ（登録商
標）４００界面活性剤シリーズ、フルオロ界面活性剤、例えばＦＬＵＯＲＡＤ（登録商標
）フルオロケミカル界面活性剤シリーズ、およびキャップされた非イオン性のもの、例え
ばＴＲＩＴＯＮ（登録商標）ＣＦ８７として販売されているベンジルでキャップされたオ
クチルフェノールエトキシレート、ＰＬＵＲＡＦＡＣ（登録商標）ＲＡシリーズの界面活
性剤として入手できるプロピレンオキシドでキャップされたアルキルエトキシレート、オ
クチルフェノキシヘキサデシルエトキシベンジルエーテル、Ｂｙｋ Ｃｈｅｍｉｅによっ
てＢＹＫ（登録商標）−３０６添加剤として販売されている溶媒中のポリエーテル改質ジ
メチルポリシロキサンコポリマー、ならびにそうした界面活性剤の混合物が含まれる。
散剤、レベリング剤等とも称される材料が含まれる。界面活性剤は、アニオン性界面活性
剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤およびそれらの組合せから選択するこ
とができる。本発明の組成物および物品に含めることができる界面活性剤には、当技術分
野で認められている市販の界面活性剤が含まれる。非イオン性界面活性剤の例には、以下
に限定されないが、エトキシ化アルキルフェノール、例えばＩＧＥＰＡＬ（登録商標）Ｄ
Ｍ界面活性剤またはＴＲＩＴＯＮ（登録商標）Ｘ−１００として販売されているオクチル
−フェノキシポリエトキシエタノール、アセチレン性ジオール、例えばＳＵＲＦＹＮＯＬ
（登録商標）１０４として販売されている２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−
４，７−ジオール、エトキシ化アセチレン性ジオール、例えばＳＵＲＦＹＮＯＬ（登録商
標）４００界面活性剤シリーズ、フルオロ界面活性剤、例えばＦＬＵＯＲＡＤ（登録商標
）フルオロケミカル界面活性剤シリーズ、およびキャップされた非イオン性のもの、例え
ばＴＲＩＴＯＮ（登録商標）ＣＦ８７として販売されているベンジルでキャップされたオ
クチルフェノールエトキシレート、ＰＬＵＲＡＦＡＣ（登録商標）ＲＡシリーズの界面活
性剤として入手できるプロピレンオキシドでキャップされたアルキルエトキシレート、オ
クチルフェノキシヘキサデシルエトキシベンジルエーテル、Ｂｙｋ Ｃｈｅｍｉｅによっ
てＢＹＫ（登録商標）−３０６添加剤として販売されている溶媒中のポリエーテル改質ジ
メチルポリシロキサンコポリマー、ならびにそうした界面活性剤の混合物が含まれる。
本発明の組成物および物品は、任意に、非線形光学（ＮＬＯ）材料をさらに含むことができる。非線形光学材料には、以下に限定されないが、非線形の光学特性を示し、結晶を形成する有機材料が含まれる。非線形光学材料の例には、以下に限定されないが、Ｎ−（４−ニトロフェニル）−（Ｌ）−プロリノール（ＮＰＰ）；４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−４’−Ｎ’−メチル−スチルバゾリウムトシレート（ＤＡＳＴ）；２−メチル−４−ニトロアニリン（ＭＮＡ）；２−アミノ−５−ニトロピリジン（２Ａ５ＮＰ）；ｐ−クロロフェニル尿素（ＰＣＰＵ）；および４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−アセトアミドニトロベンゼン（ＤＡＮ）が含まれる。非線形光学材料のさらなる例には、米国特許第６，９４１，０５１号の第４欄４〜３７行目に開示されているものが含まれる。
本発明の組成物および物品に含めることができる熱安定剤の例には、塩基性窒素含有化
合物、例えばビウレア、アラントインもしくはその金属塩、カルボン酸ヒドラジド（例え
ば、脂肪族または芳香族カルボン酸ヒドラジド）、有機カルボン酸の金属塩、アルカリも
しくはアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト、ゼオライトおよび酸性化合物（例
えば、ホウ酸化合物、ヒドロキシル基を有する窒素含有環状化合物、カルボキシル基含有
化合物、（ポリ）フェノール、ブチル化ヒドロキシトルエンおよびアミノカルボン酸）ま
たはその混合物が含まれる。
合物、例えばビウレア、アラントインもしくはその金属塩、カルボン酸ヒドラジド（例え
ば、脂肪族または芳香族カルボン酸ヒドラジド）、有機カルボン酸の金属塩、アルカリも
しくはアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト、ゼオライトおよび酸性化合物（例
えば、ホウ酸化合物、ヒドロキシル基を有する窒素含有環状化合物、カルボキシル基含有
化合物、（ポリ）フェノール、ブチル化ヒドロキシトルエンおよびアミノカルボン酸）ま
たはその混合物が含まれる。
本発明の組成物および物品中に含めても、それと併せて使用してもよい離型剤の例には
、以下に限定されないが、長鎖脂肪酸とアルコール、例えばペンタエリスリトール、ゲル
ベアルコールのエステル、長鎖ケトン、シロキサン、アルファオレフィンポリマー、１５
〜６００個の炭素原子を有する長鎖アルカンおよび炭化水素が含まれる。
、以下に限定されないが、長鎖脂肪酸とアルコール、例えばペンタエリスリトール、ゲル
ベアルコールのエステル、長鎖ケトン、シロキサン、アルファオレフィンポリマー、１５
〜６００個の炭素原子を有する長鎖アルカンおよび炭化水素が含まれる。
本発明の組成物で使用できるレオロジー制御剤は、増粘剤とも称され得、該レオロジー
制御剤には、以下に限定されないが、粉末（または微粒子状材料）、例えば無機微粒子状
材料（例えば、シリカ）および有機微粒子状材料、例えば微結晶性セルロースまたは微粒
子状ポリマー材料が含まれる。
制御剤には、以下に限定されないが、粉末（または微粒子状材料）、例えば無機微粒子状
材料（例えば、シリカ）および有機微粒子状材料、例えば微結晶性セルロースまたは微粒
子状ポリマー材料が含まれる。
本発明の組成物中に含めることができるゲル化剤（またはゲル化用薬剤）には、以下に
限定されないが、それらが混ぜ込まれる組成物のチキソトロピーにも影響を及ぼし得る有
機材料が含まれる。ゲル化剤の例には、以下に限定されないが、天然ゴム、デンプン、ペ
クチン、寒天およびゼラチンが含まれる。本発明で使用できるゲル化剤には、多糖または
タンパク質をベースとする材料が含まれる。
限定されないが、それらが混ぜ込まれる組成物のチキソトロピーにも影響を及ぼし得る有
機材料が含まれる。ゲル化剤の例には、以下に限定されないが、天然ゴム、デンプン、ペ
クチン、寒天およびゼラチンが含まれる。本発明で使用できるゲル化剤には、多糖または
タンパク質をベースとする材料が含まれる。
本発明の組成物はフリーラジカル捕捉剤を含むことができ、その例には、以下に限定さ
れないが、加水分解に耐性のある合成擬ペプチド、例えばカルシニン塩酸塩；リポアミノ
酸、例えばＬ−リシンラウロイルメチオニン；複数の酵素を含有する植物の抽出物；天然
トコフェロールおよび関連化合物ならびに活性水素、例えば−ＯＨ、−ＳＨまたは−ＮＲ
Ｈ基（ここで、Ｒはヒドロカルビル（ｈｙｄｏｃａｒｂｙｌ）基である）を含有する化合
物が含まれる。フリーラジカル捕捉剤のさらなる例には、以下に限定されないが、立体障
害性アミンが含まれる。
れないが、加水分解に耐性のある合成擬ペプチド、例えばカルシニン塩酸塩；リポアミノ
酸、例えばＬ−リシンラウロイルメチオニン；複数の酵素を含有する植物の抽出物；天然
トコフェロールおよび関連化合物ならびに活性水素、例えば−ＯＨ、−ＳＨまたは−ＮＲ
Ｈ基（ここで、Ｒはヒドロカルビル（ｈｙｄｏｃａｒｂｙｌ）基である）を含有する化合
物が含まれる。フリーラジカル捕捉剤のさらなる例には、以下に限定されないが、立体障
害性アミンが含まれる。
本発明の組成物および物品に含めることができる付着促進剤には、米国特許第７，４１
０，６９１号の段落［００３３］〜［００４２］に記載されている、アミノオルガノシラ
ン材料などのオルガノシラン化合物、シランカップリング剤、有機チタネートカップリン
グ剤および有機ジルコネートカップリング剤が含まれる。付着促進剤のさらなる例には、
Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃから市販されているジルコアルミネート付着促進化合物が含
まれる。アルミニウム−ジルコニウム錯体の調製は、米国特許第４，５３９，０４８号お
よび同第４，５３９，０４９号に記載されている。これらの特許は、実験式（Ｂ）
で表されるジルコアルミネート錯体反応生成物を記載している。式（Ｂ）に関連して、Ｘ
、ＹおよびＺは少なくとも１であり、Ｒ２は、２〜１７個の炭素原子を有するアルキル、
アルケニル、アミノアルキル、カルボキシアルキル、メルカプトアルキルまたはエポキシ
アルキル基であり、Ｘ：Ｚの比は約２：１〜約５：１である。追加的なジルコアルミネー
ト錯体は、米国特許第４，６５０，５２６号に記載されている。
０，６９１号の段落［００３３］〜［００４２］に記載されている、アミノオルガノシラ
ン材料などのオルガノシラン化合物、シランカップリング剤、有機チタネートカップリン
グ剤および有機ジルコネートカップリング剤が含まれる。付着促進剤のさらなる例には、
Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃから市販されているジルコアルミネート付着促進化合物が含
まれる。アルミニウム−ジルコニウム錯体の調製は、米国特許第４，５３９，０４８号お
よび同第４，５３９，０４９号に記載されている。これらの特許は、実験式（Ｂ）
で表されるジルコアルミネート錯体反応生成物を記載している。式（Ｂ）に関連して、Ｘ
、ＹおよびＺは少なくとも１であり、Ｒ２は、２〜１７個の炭素原子を有するアルキル、
アルケニル、アミノアルキル、カルボキシアルキル、メルカプトアルキルまたはエポキシ
アルキル基であり、Ｘ：Ｚの比は約２：１〜約５：１である。追加的なジルコアルミネー
ト錯体は、米国特許第４，６５０，５２６号に記載されている。
本発明の組成物は、任意に、１つまたは複数の配列促進剤を含むことができる。配列促進剤には、それが添加される材料の配列の速度および／または配列の一様性を容易にすることができる材料が含まれる。配列促進剤の例には、以下に限定されないが、米国特許第６，３３８，８０８号および米国特許第６，８７５，４８３号に記載されているものが含まれる。
反応速度増進添加剤を、任意に、本発明の組成物に含めることもできる。反応速度増進添加剤の例には、以下に限定されないが、エポキシ含有化合物、有機ポリオールおよび／または可塑剤が含まれる。反応速度増進添加剤のより具体的な例は、米国特許第６，４３３，０４３号および米国特許第６，７１３，５３６号に開示されている。
本発明の組成物中に存在していてよい光開始剤の例には、以下に限定されないが、開裂
型光開始剤および引き抜き型光開始剤が含まれる。開裂型光開始剤の例には、以下に限定
されないが、アセトフェノン、α−アミノアルキルフェノン、ベンゾインエーテル、ベン
ゾイルオキシム、アシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドまたは
そうした開始剤の混合物が含まれる。開裂型光開始剤の市販品の例は、Ｃｉｂａ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．から入手できるＤＡＲＯＣＵＲＥ（登録商標）４２６５光開始
剤である。引き抜き型光開始剤の例には、以下に限定されないが、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、チオキサントン、アントラキノン、カンファーキノン、フルオロン、ケトク
マリンまたはそうした光開始剤の混合物が含まれる。
型光開始剤および引き抜き型光開始剤が含まれる。開裂型光開始剤の例には、以下に限定
されないが、アセトフェノン、α−アミノアルキルフェノン、ベンゾインエーテル、ベン
ゾイルオキシム、アシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンオキシドまたは
そうした開始剤の混合物が含まれる。開裂型光開始剤の市販品の例は、Ｃｉｂａ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．から入手できるＤＡＲＯＣＵＲＥ（登録商標）４２６５光開始
剤である。引き抜き型光開始剤の例には、以下に限定されないが、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、チオキサントン、アントラキノン、カンファーキノン、フルオロン、ケトク
マリンまたはそうした光開始剤の混合物が含まれる。
本発明の組成物中に存在していてよい光開始剤は、可視光光開始剤も含む。適切な可視
光光開始剤の例は、米国特許第６，６０２，６０３号の第１２欄１１行目〜第１３欄２１
行目に記載されている。
光光開始剤の例は、米国特許第６，６０２，６０３号の第１２欄１１行目〜第１３欄２１
行目に記載されている。
本発明の組成物は、任意に、１つまたは複数の熱開始剤を含むことができる。熱開始剤の例には、以下に限定されないが、有機ペルオキシ化合物およびアゾビス（オルガノニトリル）化合物が含まれる。有機ペルオキシ化合物の例には、以下に限定されないが、ペルオキシモノカーボネートエステル、例えば第三ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート；ペルオキシジカーボネートエステル、例えばジ（２−エチルヘキシル）ペルオキシジカーボネート、ジ（第二ブチル）ペルオキシジカーボネートおよびジイソプロピルペルオキシジカーボネート；ジアシルペルオキシド（ｄｉａｃｙｐｅｒｏｘｉｄｅｓ）、例えば２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシド、イソブチリルペルオキシド、デカノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、プロピオニルペルオキシド、アセチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドおよびｐ−クロロベンゾイルペルオキシド；ペルオキシエステル、例えばｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔ−ブチルペルオキシオクチレートおよびｔ−ブチルペルオキシイソブチレート；メチルエチルケトンペルオキシドならびにアセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシドが含まれる。一部の実施形態で、使用される熱開始剤には、得られる重合物を変色させないものが含まれる。アゾビス（オルガノニトリル）化合物の例には、以下に限定されないが、アゾビス（イソブチロニトリル）、アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）およびそれらの混合物が含まれる。
本発明の組成物は、任意に、１つまたは複数の重合防止剤を含むことができる。重合防止剤の例には、以下に限定されないが、ニトロベンゼン、１，３，５，−トリニトロベンゼン、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ＤＰＰＨ、ＦｅＣｌ３、ＣｕＣｌ２、酸素、硫黄、アニリン、フェノール、ｐ−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼンおよび２，４，６−トリメチルフェノールが含まれる。
本発明の組成物は、任意に、１つまたは複数の溶媒を含むことができる。本発明の組成物中に存在していてよい溶媒には、その組成物の固体成分を溶解させることができ；その組成物、光学素子および／もしくは基材と適合し；かつ／またはその組成物が適用される表面の一様な被覆を確実にすることができる溶媒が含まれる。溶媒の例には、以下に限定されないが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびそれらの誘導体（ＤＯＷＡＮＯＬ（登録商標）工業用溶媒として販売されている）、アセトン、プロピオン酸アミル、アニソール、ベンゼン、酢酸ブチル、シクロヘキサン、エチレングリコールのジアルキルエーテル、例えばジエチレングリコールジメチルエーテルおよびそれらの誘導体（ＣＥＬＬＯＳＯＬＶＥ（登録商標）工業用溶媒として販売されている）、ジエチレングリコールジベンゾエート、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメトキシベンゼン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピオン酸メチル、炭酸プロピレン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、２−メトキシエチルエーテル、３−プロピレングリコールメチルエーテルならびにその混合物が含まれる。
本発明の化合物および組成物を、有機ホスト材料中に混ぜ込むことができる。有機ホス
ト材料の例には、合成および天然のポリマー材料が含まれる。本発明の化合物および組成
物を混ぜ込むことができる有機ホスト材料には、以下に限定されないが、本発明の物品の
基材に関して本明細書でさらに記載される材料が含まれる。
ト材料の例には、合成および天然のポリマー材料が含まれる。本発明の化合物および組成
物を混ぜ込むことができる有機ホスト材料には、以下に限定されないが、本発明の物品の
基材に関して本明細書でさらに記載される材料が含まれる。
本発明は、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの１つまたは複数の本発明による化
合物を含む製造物品にも関する。本発明による製造物品は、例えば成形によって物品を形
成させる前に、その中に直接混ぜ込まれるか；あるいは、硬化し得、そして／もしくはそ
の物品の表面中に吸収され得る１つもしくは複数のコーティングおよび／または１つもし
くは複数の積層フィルムなどのフィルムの形態でその物品の表面の少なくとも一部に適用
された、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの１つまたは複数の本発明の化合物を有
することができる。
合物を含む製造物品にも関する。本発明による製造物品は、例えば成形によって物品を形
成させる前に、その中に直接混ぜ込まれるか；あるいは、硬化し得、そして／もしくはそ
の物品の表面中に吸収され得る１つもしくは複数のコーティングおよび／または１つもし
くは複数の積層フィルムなどのフィルムの形態でその物品の表面の少なくとも一部に適用
された、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの１つまたは複数の本発明の化合物を有
することができる。
本発明の一部の実施形態で、その製造物品は、（ｉ）光学的基材などの基材；および（
ｉｉ）その層が式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの少なくとも１つの本発明の化合
物を含む、基材（または光学的基材）の表面の少なくとも一部上の層を含む光学素子であ
る。その層は、一部の実施形態で、１つまたは複数のコーティング組成物；１つまたは複
数のフィルム（積層フィルムなど）；およびそれらの組合せから形成させることができる
。
ｉｉ）その層が式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの少なくとも１つの本発明の化合
物を含む、基材（または光学的基材）の表面の少なくとも一部上の層を含む光学素子であ
る。その層は、一部の実施形態で、１つまたは複数のコーティング組成物；１つまたは複
数のフィルム（積層フィルムなど）；およびそれらの組合せから形成させることができる
。
本発明の光学素子の光学的基材などの基材は、一部の実施形態で、有機材料、無機材料
またはその組合せ（例えば複合材料）から形成させることができ、それに応じて、それら
を含むことができる。
またはその組合せ（例えば複合材料）から形成させることができ、それに応じて、それら
を含むことができる。
本発明の光学素子の光学的基材として使用できる有機材料の例には、米国特許第５，９
６２，６１７号および米国特許第５，６５８，５０１号の第１５欄２８行目〜第１６欄１
７行目に開示されているモノマーおよびモノマーの混合物から調製される、ホモポリマー
およびコポリマーなどのポリマー材料が含まれる。例えば、そうしたポリマー材料は、熱
可塑性ポリマー材料または熱硬化性ポリマー材料であってよく、透明または光学的に明澄
であってよく、必要とされる任意の屈折率を有することができる。そうしたモノマーおよ
びポリマーの例には、ポリオール（アリルカーボネート）モノマー、例えばアリルジグリ
コールカーボネート、例えばジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（このモ
ノマーは、ＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．によって商標名ＣＲ−３９のもと
で販売されている）；例えばポリウレタンプレポリマーとジアミン硬化剤の反応によって
調製されるポリ尿素−ポリウレタン（ポリ尿素−ウレタン）ポリマー（１つのそうしたポ
リマーのための組成物はＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．によって商標名ＴＲ
ＩＶＥＸのもとで販売されている）；ポリオール（メタ）アクリロイル末端カーボネート
モノマー；ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー；エトキシ化フェノールメタ
クリレートモノマー；ジイソプロペニルベンゼンモノマー；エトキシ化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートモノマー；エチレングリコールビスメタクリレートモノマー；ポ
リ（エチレングリコール）ビスメタクリレートモノマー；ウレタンアクリレートモノマー
；ポリ（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート）；ポリ（ビニルアセテート）；
ポリ（ビニルアルコール）；ポリ（ビニルクロリド）；ポリ（ビニリデンクロリド）；ポ
リエチレン；ポリプロピレン；ポリウレタン；ポリチオウレタン；熱可塑性ポリカーボネ
ート、例えばビスフェノールＡおよびホスゲンから誘導されるカーボネート連結樹脂（１
つのそうした材料は商標名ＬＥＸＡＮのもとで販売されている）；商標名ＭＹＬＡＲのも
とで販売されている材料などのポリエステル；ポリ（エチレンテレフタレート）；ポリビ
ニルブチラール；商標名ＰＬＥＸＩＧＬＡＳのもとで販売されている材料などのポリ（メ
チルメタクリレート）、ならびに、ホモ重合されたか、または、ポリチオール、ポリイソ
シアネート、ポリイソチオシアネートおよび任意にエチレン性不飽和モノマーもしくはハロゲン化芳香族含有ビニルモノマーと共重合および／もしくは三元共重合された、多官能性イソシアネートとポリチオールまたはポリエピスルフィドモノマーを反応させることによって調製されたポリマーが含まれる。例えばブロックコポリマーまたは相互貫入ネットワーク生成物を形成させるための、そうしたモノマーのコポリマー、ならびに上記ポリマーおよびコポリマーと他のポリマーのブレンドも考慮される。
６２，６１７号および米国特許第５，６５８，５０１号の第１５欄２８行目〜第１６欄１
７行目に開示されているモノマーおよびモノマーの混合物から調製される、ホモポリマー
およびコポリマーなどのポリマー材料が含まれる。例えば、そうしたポリマー材料は、熱
可塑性ポリマー材料または熱硬化性ポリマー材料であってよく、透明または光学的に明澄
であってよく、必要とされる任意の屈折率を有することができる。そうしたモノマーおよ
びポリマーの例には、ポリオール（アリルカーボネート）モノマー、例えばアリルジグリ
コールカーボネート、例えばジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（このモ
ノマーは、ＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．によって商標名ＣＲ−３９のもと
で販売されている）；例えばポリウレタンプレポリマーとジアミン硬化剤の反応によって
調製されるポリ尿素−ポリウレタン（ポリ尿素−ウレタン）ポリマー（１つのそうしたポ
リマーのための組成物はＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．によって商標名ＴＲ
ＩＶＥＸのもとで販売されている）；ポリオール（メタ）アクリロイル末端カーボネート
モノマー；ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー；エトキシ化フェノールメタ
クリレートモノマー；ジイソプロペニルベンゼンモノマー；エトキシ化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートモノマー；エチレングリコールビスメタクリレートモノマー；ポ
リ（エチレングリコール）ビスメタクリレートモノマー；ウレタンアクリレートモノマー
；ポリ（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート）；ポリ（ビニルアセテート）；
ポリ（ビニルアルコール）；ポリ（ビニルクロリド）；ポリ（ビニリデンクロリド）；ポ
リエチレン；ポリプロピレン；ポリウレタン；ポリチオウレタン；熱可塑性ポリカーボネ
ート、例えばビスフェノールＡおよびホスゲンから誘導されるカーボネート連結樹脂（１
つのそうした材料は商標名ＬＥＸＡＮのもとで販売されている）；商標名ＭＹＬＡＲのも
とで販売されている材料などのポリエステル；ポリ（エチレンテレフタレート）；ポリビ
ニルブチラール；商標名ＰＬＥＸＩＧＬＡＳのもとで販売されている材料などのポリ（メ
チルメタクリレート）、ならびに、ホモ重合されたか、または、ポリチオール、ポリイソ
シアネート、ポリイソチオシアネートおよび任意にエチレン性不飽和モノマーもしくはハロゲン化芳香族含有ビニルモノマーと共重合および／もしくは三元共重合された、多官能性イソシアネートとポリチオールまたはポリエピスルフィドモノマーを反応させることによって調製されたポリマーが含まれる。例えばブロックコポリマーまたは相互貫入ネットワーク生成物を形成させるための、そうしたモノマーのコポリマー、ならびに上記ポリマーおよびコポリマーと他のポリマーのブレンドも考慮される。
本発明の一部の実施形態で、光学的基材は眼用基材であってよい。本明細書で使用され
る「眼用基材」という用語は、レンズ、部分的に形成されたレンズおよびレンズブランク
を意味する。眼用基材の形成において使用するのに適した有機材料の例には、光学的用途
、例えば眼用レンズのための光学的に明澄なキャスティング物を調製するために使用され
る、有機光学樹脂などの眼用基材として有用である当技術分野で認められているポリマー
が含まれる。
る「眼用基材」という用語は、レンズ、部分的に形成されたレンズおよびレンズブランク
を意味する。眼用基材の形成において使用するのに適した有機材料の例には、光学的用途
、例えば眼用レンズのための光学的に明澄なキャスティング物を調製するために使用され
る、有機光学樹脂などの眼用基材として有用である当技術分野で認められているポリマー
が含まれる。
本発明の一部の実施形態で、光学的基材として使用できる無機材料の例には、ガラス、
鉱物、セラミックスおよび金属が含まれる。一部の実施形態で、光学的基材はガラスを含
むことができる。他の実施形態では、光学的基材は、反射性表面、例えば研磨されたセラ
ミック基材、金属基材または鉱物基材を有することができる。他の実施形態では、反射性
のコーティングまたは層（例えば、銀層などの金属層）を、無機または有機基材の表面に
堆積させまたは別のやり方で適用して、それを反射性にするかまたはその反射性を増進さ
せることができる。
鉱物、セラミックスおよび金属が含まれる。一部の実施形態で、光学的基材はガラスを含
むことができる。他の実施形態では、光学的基材は、反射性表面、例えば研磨されたセラ
ミック基材、金属基材または鉱物基材を有することができる。他の実施形態では、反射性
のコーティングまたは層（例えば、銀層などの金属層）を、無機または有機基材の表面に
堆積させまたは別のやり方で適用して、それを反射性にするかまたはその反射性を増進さ
せることができる。
本発明の一部の実施形態によれば、光学的基材は、その外部表面上に保護コーティング
、例えば耐摩耗コーティング、例えば「ハードコート」を有することができる。非限定的
な例示の目的で、これらの表面は容易に引っ掻かれ、摩耗され、または擦られる傾向があ
るので、市販の熱可塑性ポリカーボネート眼用レンズ基材は、しばしば、その外部表面に
予め適用された耐摩耗コーティングを備えて販売される。それに応じて、本明細書で使用
されるように、一部の実施形態によれば、「光学的基材」という用語は、その１つまたは
複数の表面上に耐摩耗コーティングなどの保護コーティングを有する光学的基材を含む。
、例えば耐摩耗コーティング、例えば「ハードコート」を有することができる。非限定的
な例示の目的で、これらの表面は容易に引っ掻かれ、摩耗され、または擦られる傾向があ
るので、市販の熱可塑性ポリカーボネート眼用レンズ基材は、しばしば、その外部表面に
予め適用された耐摩耗コーティングを備えて販売される。それに応じて、本明細書で使用
されるように、一部の実施形態によれば、「光学的基材」という用語は、その１つまたは
複数の表面上に耐摩耗コーティングなどの保護コーティングを有する光学的基材を含む。
本発明の一部の実施形態による光学素子で使用できる光学的基材は、ティントされてい
ない、ティントされた、直線偏光する、円偏光する、楕円偏光する、フォトクロミックま
たはティントされたフォトクロミック基材も含むこともできる。光学的基材に関して本明
細書で使用される「ティントされていない」という用語は、本質的に着色剤の添加（慣用
的な染料など）がなされておらず、化学放射線に応答して著しく変化しない可視放射線に
対する吸収スペクトルを有する光学的基材を意味する。さらに、光学的基材に関して「テ
ィントされた」という用語は、着色剤の添加（慣用的な染料など）がなされており、化学
放射線に応答して著しく変化しない可視放射線に対する吸収スペクトルを有する基材を意
味する。
ない、ティントされた、直線偏光する、円偏光する、楕円偏光する、フォトクロミックま
たはティントされたフォトクロミック基材も含むこともできる。光学的基材に関して本明
細書で使用される「ティントされていない」という用語は、本質的に着色剤の添加（慣用
的な染料など）がなされておらず、化学放射線に応答して著しく変化しない可視放射線に
対する吸収スペクトルを有する光学的基材を意味する。さらに、光学的基材に関して「テ
ィントされた」という用語は、着色剤の添加（慣用的な染料など）がなされており、化学
放射線に応答して著しく変化しない可視放射線に対する吸収スペクトルを有する基材を意
味する。
本明細書で使用される、光学的基材に関して「円偏光すること」という用語は、電磁放
射線を円偏光するように適合させた光学的基材を指す。本明細書で使用される、光学的基
材に関して「楕円偏光すること」という用語は、電磁放射線を楕円偏光するように適合さ
せた光学的基材を指す。さらに、光学的基材に関して本明細書で使用される「ティントさ
れたフォトクロミック」という用語は、着色剤添加ならびにフォトクロミック材料を含有
し、少なくとも化学放射線に応答して変化する可視放射線に対する吸収スペクトルを有す
る光学的基材を意味する。したがって、例えばティントされたフォトクロミック基材は、
化学放射線に曝露された場合、着色剤の第１の色特性、および着色剤とフォトクロミック
材料の組合せの第２の色特性を有することができる。
射線を円偏光するように適合させた光学的基材を指す。本明細書で使用される、光学的基
材に関して「楕円偏光すること」という用語は、電磁放射線を楕円偏光するように適合さ
せた光学的基材を指す。さらに、光学的基材に関して本明細書で使用される「ティントさ
れたフォトクロミック」という用語は、着色剤添加ならびにフォトクロミック材料を含有
し、少なくとも化学放射線に応答して変化する可視放射線に対する吸収スペクトルを有す
る光学的基材を意味する。したがって、例えばティントされたフォトクロミック基材は、
化学放射線に曝露された場合、着色剤の第１の色特性、および着色剤とフォトクロミック
材料の組合せの第２の色特性を有することができる。
本発明の一部の実施形態で、本発明の物品および光学素子の層は、該層の少なくとも一
部を、磁場、電場、直線偏光した放射線およびせん断力の少なくとも１つに曝露すること
によって、少なくとも部分的に配列される。本明細書で使用される「配列される」という
用語は、別の材料、化合物および／または構造物との相互作用によって、適切な配置また
は位置に至ることを意味する。一部の実施形態で、上記層の少なくとも部分的な配列は、
その層に対して透過放射線の正味の直線偏光をもたらす。層を配列する追加的な方法には
、以下に限定されないが、その層を平面偏光された紫外放射線に曝露する方法、その層を
赤外放射線に曝露する方法、その層をエッチングする方法、その層を摩擦する方法、およ
び少なくとも部分的に秩序立てられた配列媒体などの別の構造物または材料で、その層を
配列する方法が含まれる。層のための配列方法の例は、米国特許第７，０９７，３０３号
の第２７欄１７行目〜第２８欄４５行目により詳細に記載されている。
部を、磁場、電場、直線偏光した放射線およびせん断力の少なくとも１つに曝露すること
によって、少なくとも部分的に配列される。本明細書で使用される「配列される」という
用語は、別の材料、化合物および／または構造物との相互作用によって、適切な配置また
は位置に至ることを意味する。一部の実施形態で、上記層の少なくとも部分的な配列は、
その層に対して透過放射線の正味の直線偏光をもたらす。層を配列する追加的な方法には
、以下に限定されないが、その層を平面偏光された紫外放射線に曝露する方法、その層を
赤外放射線に曝露する方法、その層をエッチングする方法、その層を摩擦する方法、およ
び少なくとも部分的に秩序立てられた配列媒体などの別の構造物または材料で、その層を
配列する方法が含まれる。層のための配列方法の例は、米国特許第７，０９７，３０３号
の第２７欄１７行目〜第２８欄４５行目により詳細に記載されている。
本発明の一部の実施形態で、本発明の物品および光学素子の層は、ネマチック相、スメ
クチック相またはキラルネマチック相の少なくとも１つを有する液晶相を含む。
クチック相またはキラルネマチック相の少なくとも１つを有する液晶相を含む。
基材（光学的基材など）の表面の少なくとも一部上に存在する本発明の化合物を含む層
は、本明細書中で上に記載したような本発明による組成物から選択するかまたはそれらか
ら形成させることができる。この層は、硬化性コーティング、熱可塑性コーティング、積
層熱硬化性フィルムおよび／または積層熱可塑性フィルムの形態であってよい（またはそ
れらから形成されていてよい）。この層は、以下に限定されないが、スピンコーティング
、噴霧コーティング、噴霧およびスピンコーティング、カーテンコーティング、フローコ
ーティング、ディップコーティング、射出成形、キャスティング、ロールコーティング、
ワイヤーコーティングならびにオーバーモールディングなどの当技術分野で認められてい
る方法によって適用することができる。本発明の化合物を含む層または組成物（コーティ
ング組成物など）は、モールドの内部表面に適用することができ、基材を、当技術分野で
認められているオーバーモールディング方法にしたがって、そのコーティング上に（例え
ば、その最上部に）形成させることができる。
は、本明細書中で上に記載したような本発明による組成物から選択するかまたはそれらか
ら形成させることができる。この層は、硬化性コーティング、熱可塑性コーティング、積
層熱硬化性フィルムおよび／または積層熱可塑性フィルムの形態であってよい（またはそ
れらから形成されていてよい）。この層は、以下に限定されないが、スピンコーティング
、噴霧コーティング、噴霧およびスピンコーティング、カーテンコーティング、フローコ
ーティング、ディップコーティング、射出成形、キャスティング、ロールコーティング、
ワイヤーコーティングならびにオーバーモールディングなどの当技術分野で認められてい
る方法によって適用することができる。本発明の化合物を含む層または組成物（コーティ
ング組成物など）は、モールドの内部表面に適用することができ、基材を、当技術分野で
認められているオーバーモールディング方法にしたがって、そのコーティング上に（例え
ば、その最上部に）形成させることができる。
本発明の化合物を含むことができるフィルム形成ポリマーのコーティング組成物の非限
定的な例は以下のとおりである：米国特許第７，２５６，９２１号の第２欄６０行目〜第
９４欄２３行目に記載されているもの；ポリウレタンコーティング、例えば米国特許第６
，１８７，４４４号の第３欄４行目〜第１２欄１５行目に記載されているもの；アミノプ
ラスト樹脂コーティング、例えば米国特許第６，４３２，５４４号の第２欄５２行目〜第
１４欄５行目および米国特許第６，５０６，４８８号の第２欄４３行目〜第１２欄２３行
目に記載されているもの；ポリシロキサンコーティング、例えば米国特許第４，５５６，
６０５号の第２欄１５行目〜第７欄２７行目に記載されているもの；ポリ（メタ）アクリ
レートコーティング、例えば米国特許第６，６０２，６０３号の第３欄１５行目〜第７欄
５０行目、米国特許第６，１５０，４３０号の第８欄１５〜３８行目および米国特許第６
，０２５，０２６号の第８欄６６行目〜第１０欄３２行目に記載されているもの；ポリ無
水物コーティング、例えば米国特許第６，４３６，５２５号の第２欄５２行目〜第１１欄
６０行目に記載されているもの；ポリアクリルアミドコーティング、例えば米国特許第６
，０６０，００１号の第２欄６行目〜第５欄４０行目に記載されているもの；エポキシ樹
脂コーティング、例えば米国特許第６，２６８，０５５号の第２欄６３行目〜第１５欄１
２行目に記載されているもの；ならびにポリ（尿素−ウレタン）コーティング、例えば米
国特許第６，５３１，０７６号の第２欄６０行目〜第１０欄４９行目に記載されているも
の。フィルム形成ポリマーに関連する上記米国特許における開示を参照により本明細書に
組み込む。
定的な例は以下のとおりである：米国特許第７，２５６，９２１号の第２欄６０行目〜第
９４欄２３行目に記載されているもの；ポリウレタンコーティング、例えば米国特許第６
，１８７，４４４号の第３欄４行目〜第１２欄１５行目に記載されているもの；アミノプ
ラスト樹脂コーティング、例えば米国特許第６，４３２，５４４号の第２欄５２行目〜第
１４欄５行目および米国特許第６，５０６，４８８号の第２欄４３行目〜第１２欄２３行
目に記載されているもの；ポリシロキサンコーティング、例えば米国特許第４，５５６，
６０５号の第２欄１５行目〜第７欄２７行目に記載されているもの；ポリ（メタ）アクリ
レートコーティング、例えば米国特許第６，６０２，６０３号の第３欄１５行目〜第７欄
５０行目、米国特許第６，１５０，４３０号の第８欄１５〜３８行目および米国特許第６
，０２５，０２６号の第８欄６６行目〜第１０欄３２行目に記載されているもの；ポリ無
水物コーティング、例えば米国特許第６，４３６，５２５号の第２欄５２行目〜第１１欄
６０行目に記載されているもの；ポリアクリルアミドコーティング、例えば米国特許第６
，０６０，００１号の第２欄６行目〜第５欄４０行目に記載されているもの；エポキシ樹
脂コーティング、例えば米国特許第６，２６８，０５５号の第２欄６３行目〜第１５欄１
２行目に記載されているもの；ならびにポリ（尿素−ウレタン）コーティング、例えば米
国特許第６，５３１，０７６号の第２欄６０行目〜第１０欄４９行目に記載されているも
の。フィルム形成ポリマーに関連する上記米国特許における開示を参照により本明細書に
組み込む。
本発明の化合物を含むフィルムおよびシートを基材（光学的基材など）に適用する非限
定的な方法には、例えば、積層法、溶融法、インモールドキャスティング法、およびその
ポリマーシートを基材の少なくとも一部に接着により結合させる方法の少なくとも１つが
含まれる。本明細書で使用されるインモールドキャスティングには、様々なキャスティン
グ技術、例えば以下に限定されないが、シートがモールドの中に置かれ、基材が、その基
材の少なくとも一部の上に形成される（例えばキャスティングによって）オーバーモール
ディング；および基材がシートの周りで形成される射出成形が含まれる。
定的な方法には、例えば、積層法、溶融法、インモールドキャスティング法、およびその
ポリマーシートを基材の少なくとも一部に接着により結合させる方法の少なくとも１つが
含まれる。本明細書で使用されるインモールドキャスティングには、様々なキャスティン
グ技術、例えば以下に限定されないが、シートがモールドの中に置かれ、基材が、その基
材の少なくとも一部の上に形成される（例えばキャスティングによって）オーバーモール
ディング；および基材がシートの周りで形成される射出成形が含まれる。
ポリマーフィルムまたはシートは、熱硬化性ポリマーと熱可塑性ポリマーの両方を含む
多種多様のポリマーのいずれかのポリマー組成物を含むことができる。本明細書で使用さ
れる「ポリマー」という用語は、ポリマーとオリゴマーの両方、ならびにホモポリマーと
コポリマーの両方を含むものとする。そうしたポリマーは、例えばアクリルポリマー、ポ
リエステルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリ（尿素）ウレタンポリマー、ポリアミ
ンポリマー、ポリエポキシドポリマー、ポリアミドポリマー、ポリエーテルポリマー、ポ
リシロキサンポリマー、ポリスルフィドポリマー、ならびにそれらのコポリマーおよびそ
れらの混合物を含むことができる。一般に、これらのポリマーは、当業者に公知の方法で
作製されたこれらの種類のいずれのポリマーであってもよい。
多種多様のポリマーのいずれかのポリマー組成物を含むことができる。本明細書で使用さ
れる「ポリマー」という用語は、ポリマーとオリゴマーの両方、ならびにホモポリマーと
コポリマーの両方を含むものとする。そうしたポリマーは、例えばアクリルポリマー、ポ
リエステルポリマー、ポリウレタンポリマー、ポリ（尿素）ウレタンポリマー、ポリアミ
ンポリマー、ポリエポキシドポリマー、ポリアミドポリマー、ポリエーテルポリマー、ポ
リシロキサンポリマー、ポリスルフィドポリマー、ならびにそれらのコポリマーおよびそ
れらの混合物を含むことができる。一般に、これらのポリマーは、当業者に公知の方法で
作製されたこれらの種類のいずれのポリマーであってもよい。
ポリマーフィルムまたはシートを形成させるために使用されるポリマーは、以下に限定
されないが、カルボン酸基、アミン基、エポキシド基、ヒドロキシル基、チオール基、カ
ルバメート基、アミド基、尿素基、イソシアネート基（ブロック化イソシアネート基を含
む）、メルカプタン基、エチレン性不飽和を有する基、例えばアクリレート基、ビニル基
およびそれらの組合せを含む官能基を含むこともできる。フィルム形成樹脂の適切な混合
物を、コーティング組成物の調製において使用することもできる。ポリマー組成物（これ
から、ポリマーシートが形成される）が官能基含有ポリマー（上記官能基含有ポリマーの
いずれかなど）を含む場合、ポリマー組成物は、該ポリマーのものと反応性である官能基
を有する材料をさらに含むことができる。反応は、例えば熱、光開始、酸化および／また
は放射線による硬化技術によって促進させることができる。上記ポリマーのいずれかの混
合物も考慮される。
されないが、カルボン酸基、アミン基、エポキシド基、ヒドロキシル基、チオール基、カ
ルバメート基、アミド基、尿素基、イソシアネート基（ブロック化イソシアネート基を含
む）、メルカプタン基、エチレン性不飽和を有する基、例えばアクリレート基、ビニル基
およびそれらの組合せを含む官能基を含むこともできる。フィルム形成樹脂の適切な混合
物を、コーティング組成物の調製において使用することもできる。ポリマー組成物（これ
から、ポリマーシートが形成される）が官能基含有ポリマー（上記官能基含有ポリマーの
いずれかなど）を含む場合、ポリマー組成物は、該ポリマーのものと反応性である官能基
を有する材料をさらに含むことができる。反応は、例えば熱、光開始、酸化および／また
は放射線による硬化技術によって促進させることができる。上記ポリマーのいずれかの混
合物も考慮される。
本発明の化合物を含むポリマーフィルムまたはシートの形成において使用するのに適し
たポリマーのさらなる非限定的な例には、公開されている米国特許第７，２８２，５５１
号の段落［００２０］〜［００４２］（その特定の部分を参照により本明細書に組み込む
）；および米国特許第６，０９６，３７５号の第１８欄８行目〜第１９欄５行目（その特
定されている部分を参照により本明細書に組み込む）に記載されているポリアルキル（メ
タ）アクリレートおよびポリアミドの熱可塑性ブロックコポリマーが含まれる。
たポリマーのさらなる非限定的な例には、公開されている米国特許第７，２８２，５５１
号の段落［００２０］〜［００４２］（その特定の部分を参照により本明細書に組み込む
）；および米国特許第６，０９６，３７５号の第１８欄８行目〜第１９欄５行目（その特
定されている部分を参照により本明細書に組み込む）に記載されているポリアルキル（メ
タ）アクリレートおよびポリアミドの熱可塑性ブロックコポリマーが含まれる。
本発明の一部の実施形態によれば、ポリマーフィルムまたはシートは、エラストマー系
ポリマー、例えば熱可塑性のエラストマー系ポリマーを含む。本明細書で使用される「エ
ラストマー系ポリマー」は、高度のレジリエンシー（ｒｅｓｉｌｉｅｎｃｙ）および弾性
を有しており、その結果、少なくとも部分的に可逆性の変形または伸びが可能なポリマー
を意味する。いくつかの場合、延伸されると、エラストマーの分子は、配列され、結晶性
配置の様相を呈することができ；解放されると、エラストマーは、ある程度、その本来の
秩序のない状態に戻ることができる。本発明の目的上、そうしたポリマーが「エラストマ
ー系ポリマー」について上に示した説明に包含されるという条件で、エラストマー系ポリ
マーは、熱可塑性、熱可塑性エラストマー系ポリマーおよび熱硬化性ポリマーを含むこと
ができる。
ポリマー、例えば熱可塑性のエラストマー系ポリマーを含む。本明細書で使用される「エ
ラストマー系ポリマー」は、高度のレジリエンシー（ｒｅｓｉｌｉｅｎｃｙ）および弾性
を有しており、その結果、少なくとも部分的に可逆性の変形または伸びが可能なポリマー
を意味する。いくつかの場合、延伸されると、エラストマーの分子は、配列され、結晶性
配置の様相を呈することができ；解放されると、エラストマーは、ある程度、その本来の
秩序のない状態に戻ることができる。本発明の目的上、そうしたポリマーが「エラストマ
ー系ポリマー」について上に示した説明に包含されるという条件で、エラストマー系ポリ
マーは、熱可塑性、熱可塑性エラストマー系ポリマーおよび熱硬化性ポリマーを含むこと
ができる。
エラストマー系ポリマーは、以下に限定されないが上記のポリマーのいずれかのコポリ
マーを含む多種多様の当技術分野で認められているエラストマーのいずれかを含むことが
できる。本発明の実施形態では、エラストマー系ポリマーは、ポリマー骨格中にエーテル
および／またはエステル連結を有するブロックコポリマーを含むことができる。適切なブ
ロックコポリマーの例は、以下に限定されないが、ポリ（アミド−エーテル）ブロックコ
ポリマー、ポリ（エステル−エーテル）ブロックコポリマー、ポリ（エーテル−ウレタン
）ブロックコポリマー、ポリ（エステル−ウレタン）ブロックコポリマーおよび／または
ポリ（エーテル−尿素）ブロックコポリマーを含むことができる。そうしたエラストマー
系ポリマーの適切な具体的な例は、以下に限定されないが、Ｂａｙｅｒ Ｍａｔｅｒｉａ
ｌ Ｓｃｉｅｎｃｅからの商品名ＤＥＳＭＯＰＡＮ（登録商標）およびＴＥＸＩＮ（登録
商標）；Ｒｏｙａｌ ＤＳＭからのＡＲＮＩＴＥＬ（登録商標）；ならびにＡｔｏｆｉｎ
ａ ＣｈｅｍｉｃａｌｓまたはＣｏｒｄｉｓ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのＰＥＢＡＸ
（登録商標）のもとで市販されているものを含むことができる。
マーを含む多種多様の当技術分野で認められているエラストマーのいずれかを含むことが
できる。本発明の実施形態では、エラストマー系ポリマーは、ポリマー骨格中にエーテル
および／またはエステル連結を有するブロックコポリマーを含むことができる。適切なブ
ロックコポリマーの例は、以下に限定されないが、ポリ（アミド−エーテル）ブロックコ
ポリマー、ポリ（エステル−エーテル）ブロックコポリマー、ポリ（エーテル−ウレタン
）ブロックコポリマー、ポリ（エステル−ウレタン）ブロックコポリマーおよび／または
ポリ（エーテル−尿素）ブロックコポリマーを含むことができる。そうしたエラストマー
系ポリマーの適切な具体的な例は、以下に限定されないが、Ｂａｙｅｒ Ｍａｔｅｒｉａ
ｌ Ｓｃｉｅｎｃｅからの商品名ＤＥＳＭＯＰＡＮ（登録商標）およびＴＥＸＩＮ（登録
商標）；Ｒｏｙａｌ ＤＳＭからのＡＲＮＩＴＥＬ（登録商標）；ならびにＡｔｏｆｉｎ
ａ ＣｈｅｍｉｃａｌｓまたはＣｏｒｄｉｓ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからのＰＥＢＡＸ
（登録商標）のもとで市販されているものを含むことができる。
本発明の化合物を含む組成物および／または層を硬化させるステップは、その組成物ま
たは層を少なくとも部分的に重合させるステップを含むことができる。組成物／層を少な
くとも部分的に重合させるための方法は、触媒もしくは開始剤を用いて、または触媒も開
始剤も用いずに、重合性成分の重合反応または架橋が開始されるように、組成物／層の少
なくとも一部を、熱エネルギー（例えば熱開始剤を活性化させるため）、赤外放射線、紫
外放射線、可視放射線、ガンマ放射線、マイクロ波放射線、電子放射線またはその組合せ
の少なくとも１つに曝露するステップを含む。望むかまたは必要なら、これに、加熱ステ
ップを後続させることができる。一部の実施形態によれば、組成物／層を、特定のまたは
目標の表面硬度まで硬化させることができる。例えば、一部の実施形態で、組成物／層は
、良好なフォトクロミックおよび／または二色性応答特徴も示す０〜１５０ニュートン／
ｍｍ２の範囲のフィッシャー微小硬度をもつように硬化させることができる。他の実施形
態で、組成物／層は、６０ニュートン／ｍｍ２未満、例えば０〜５９．９ニュートン／ｍ
ｍ２、あるいは５〜２５Ｎ／ｍｍ２のフィッシャー微小硬度に硬化させることができる。
追加の実施形態で、組成物／層は、１５０Ｎ／ｍｍ２〜２５０Ｎ／ｍｍ２、あるいは１５
０Ｎ／ｍｍ２〜２００Ｎ／ｍｍ２の範囲のフィッシャー微小硬度をもつように硬化させる
ことができる。
たは層を少なくとも部分的に重合させるステップを含むことができる。組成物／層を少な
くとも部分的に重合させるための方法は、触媒もしくは開始剤を用いて、または触媒も開
始剤も用いずに、重合性成分の重合反応または架橋が開始されるように、組成物／層の少
なくとも一部を、熱エネルギー（例えば熱開始剤を活性化させるため）、赤外放射線、紫
外放射線、可視放射線、ガンマ放射線、マイクロ波放射線、電子放射線またはその組合せ
の少なくとも１つに曝露するステップを含む。望むかまたは必要なら、これに、加熱ステ
ップを後続させることができる。一部の実施形態によれば、組成物／層を、特定のまたは
目標の表面硬度まで硬化させることができる。例えば、一部の実施形態で、組成物／層は
、良好なフォトクロミックおよび／または二色性応答特徴も示す０〜１５０ニュートン／
ｍｍ２の範囲のフィッシャー微小硬度をもつように硬化させることができる。他の実施形
態で、組成物／層は、６０ニュートン／ｍｍ２未満、例えば０〜５９．９ニュートン／ｍ
ｍ２、あるいは５〜２５Ｎ／ｍｍ２のフィッシャー微小硬度に硬化させることができる。
追加の実施形態で、組成物／層は、１５０Ｎ／ｍｍ２〜２５０Ｎ／ｍｍ２、あるいは１５
０Ｎ／ｍｍ２〜２００Ｎ／ｍｍ２の範囲のフィッシャー微小硬度をもつように硬化させる
ことができる。
本発明のさらなる実施形態によれば、本発明の光学素子は、眼用素子、表示素子、ウィ
ンドウ、ミラーおよび液晶セル素子から選択される。光学素子またはデバイスは、眼用素
子およびデバイス、表示素子およびデバイス、ウィンドウ、ミラー、包装材料、例えば収
縮包装ならびにアクティブ型およびパッシブ型の液晶セル素子およびデバイスから選択す
ることもできる。
ンドウ、ミラーおよび液晶セル素子から選択される。光学素子またはデバイスは、眼用素
子およびデバイス、表示素子およびデバイス、ウィンドウ、ミラー、包装材料、例えば収
縮包装ならびにアクティブ型およびパッシブ型の液晶セル素子およびデバイスから選択す
ることもできる。
眼用素子の非限定的な例には、単眼レンズ、または分割もしくは非分割複眼レンズであ
ってよい複眼レンズ（以下に限定されないが、二焦点レンズ、三焦点レンズおよび累進多
焦点レンズなど）を含む矯正および非矯正レンズ、ならびに限定されないが、コンタクト
レンズ、眼内レンズ、拡大レンズおよび保護レンズまたはバイザーを含む、視覚を矯正、
保護または増進させる（外見を美しくするためにまたはそれ以外で）ために使用される他
の素子が含まれる。表示素子およびデバイスの非限定的な例には、スクリーン、モニター
、ならびに限定されないが、セキュリティーマークおよび認証マークを含むセキュリティ
ー用素子が含まれる。ウィンドウの非限定的な例には、自動車および航空機用透明体、フ
ィルター、シャッターおよび光学的スイッチが含まれる。
ってよい複眼レンズ（以下に限定されないが、二焦点レンズ、三焦点レンズおよび累進多
焦点レンズなど）を含む矯正および非矯正レンズ、ならびに限定されないが、コンタクト
レンズ、眼内レンズ、拡大レンズおよび保護レンズまたはバイザーを含む、視覚を矯正、
保護または増進させる（外見を美しくするためにまたはそれ以外で）ために使用される他
の素子が含まれる。表示素子およびデバイスの非限定的な例には、スクリーン、モニター
、ならびに限定されないが、セキュリティーマークおよび認証マークを含むセキュリティ
ー用素子が含まれる。ウィンドウの非限定的な例には、自動車および航空機用透明体、フ
ィルター、シャッターおよび光学的スイッチが含まれる。
一部の実施形態で、光学素子はセキュリティー素子であってよい。セキュリティー素子
の例には、以下に限定されないが、アクセス用カードおよびパス、例えば切符、バッジ、
身分証明書または会員証、デビットカード等；流通証券および非流通証券、例えば為替手
形、小切手、債券、手形、預金証書、株券等；政府文書、例えば貨幣、許可証、身分証明
書、ベネフィットカード、査証、旅券、公的証明書、証書（ｄｅｅｄ）等；消費財、例え
ばソフトウェア、コンパクトディスク（「ＣＤ」）、デジタルビデオディスク（「ＤＶＤ
」）、電気器具、家庭用電化製品、スポーツ用品、車等；クレジットカード；ならびに商
品用タグ、ラベルおよび包装などの基材の少なくとも一部に接続されるセキュリティーマ
ークおよび認証マークが含まれる。
の例には、以下に限定されないが、アクセス用カードおよびパス、例えば切符、バッジ、
身分証明書または会員証、デビットカード等；流通証券および非流通証券、例えば為替手
形、小切手、債券、手形、預金証書、株券等；政府文書、例えば貨幣、許可証、身分証明
書、ベネフィットカード、査証、旅券、公的証明書、証書（ｄｅｅｄ）等；消費財、例え
ばソフトウェア、コンパクトディスク（「ＣＤ」）、デジタルビデオディスク（「ＤＶＤ
」）、電気器具、家庭用電化製品、スポーツ用品、車等；クレジットカード；ならびに商
品用タグ、ラベルおよび包装などの基材の少なくとも一部に接続されるセキュリティーマ
ークおよび認証マークが含まれる。
さらなる実施形態で、セキュリティー素子を、透明基材および反射性基材から選択され
る基材の少なくとも一部に接続させることができる。あるいは、反射性基材が必要とされ
るさらなる実施形態によれば、その基材が、目的とする用途に対して反射性でないかまた
は十分に反射性でない場合、まず、反射性材料をその基材の少なくとも一部に適用し、次
いで、セキュリティーマークをそれに適用することができる。例えば、反射性アルミニウ
ムコーティングを、基材の少なくとも一部に適用して、その後、その上にセキュリティー
素子を形成させることができる。追加的にまたは代替的に、セキュリティー素子を、ティ
ントされていない基材、ティントされた基材、フォトクロミック基材、ティントされたフ
ォトクロミック基材、直線偏光、円偏光基材および楕円偏光基材から選択される基材の少
なくとも一部に接続させることができる。
る基材の少なくとも一部に接続させることができる。あるいは、反射性基材が必要とされ
るさらなる実施形態によれば、その基材が、目的とする用途に対して反射性でないかまた
は十分に反射性でない場合、まず、反射性材料をその基材の少なくとも一部に適用し、次
いで、セキュリティーマークをそれに適用することができる。例えば、反射性アルミニウ
ムコーティングを、基材の少なくとも一部に適用して、その後、その上にセキュリティー
素子を形成させることができる。追加的にまたは代替的に、セキュリティー素子を、ティ
ントされていない基材、ティントされた基材、フォトクロミック基材、ティントされたフ
ォトクロミック基材、直線偏光、円偏光基材および楕円偏光基材から選択される基材の少
なくとも一部に接続させることができる。
さらに、上記実施形態によるセキュリティー素子は、米国特許第６，６４１，８７４号
に記載されているものなどの視野角依存性の特徴を有する多層反射性セキュリティー素子
を形成させるための１つまたは複数の他のコーティングまたはフィルムまたはシートをさ
らに含むことができる。
に記載されているものなどの視野角依存性の特徴を有する多層反射性セキュリティー素子
を形成させるための１つまたは複数の他のコーティングまたはフィルムまたはシートをさ
らに含むことができる。
一部の実施形態で、本発明による製造物品は、（ｉ）第１の表面を有する第１の基材；
（ｉｉ）その第１の基材の第１の表面と第２の基材の第２の表面が間隔を空けて互いに対
向しており、一緒になってその間の空間を画定している、第２の表面を有する第２の基材
；および（ｉｉｉ）その空間の少なくとも一部内に存在する液晶組成物を含む液晶セルで
あり、その液晶組成物は、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の化合物を含
む。液晶セルの第１および第２の基材はそれぞれ独立に、本発明の光学素子に関して本明
細書中で上に記載したような基材の部類および例から選択することができる。
（ｉｉ）その第１の基材の第１の表面と第２の基材の第２の表面が間隔を空けて互いに対
向しており、一緒になってその間の空間を画定している、第２の表面を有する第２の基材
；および（ｉｉｉ）その空間の少なくとも一部内に存在する液晶組成物を含む液晶セルで
あり、その液晶組成物は、式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表されるものなどの本発明の化合物を含
む。液晶セルの第１および第２の基材はそれぞれ独立に、本発明の光学素子に関して本明
細書中で上に記載したような基材の部類および例から選択することができる。
アクティブ型液晶セルは、その液晶材料が、電場または磁場などの外部的な力の印加に
よって、秩序状態と無秩序状態の間または２つの秩序状態間で切り替わり得るセルである
。パッシブ型液晶セルは、その液晶材料が秩序状態を維持するセルである。アクティブ型
液晶セル素子またはデバイスの非限定的な例は、液晶ディスプレイである。
よって、秩序状態と無秩序状態の間または２つの秩序状態間で切り替わり得るセルである
。パッシブ型液晶セルは、その液晶材料が秩序状態を維持するセルである。アクティブ型
液晶セル素子またはデバイスの非限定的な例は、液晶ディスプレイである。
本発明は、眼用素子を形成させる方法であって、（ｉ）式（Ｉ）〜（ＩＸ）で表される
ものなどの本発明の化合物を含む液晶組成物を形成させるステップと；（ｉｉ）その液晶
組成物を基材の少なくとも一部に適用するステップと；（ｉｉｉ）基材に適用された液晶
組成物の少なくとも一部を少なくとも部分的に配列し、それによって少なくとも部分的に
配列された液晶組成物を形成させるステップと；（ｉｖ）その配列された液晶組成物を少
なくとも部分的に硬化させるステップとを含む方法にも関する。
ものなどの本発明の化合物を含む液晶組成物を形成させるステップと；（ｉｉ）その液晶
組成物を基材の少なくとも一部に適用するステップと；（ｉｉｉ）基材に適用された液晶
組成物の少なくとも一部を少なくとも部分的に配列し、それによって少なくとも部分的に
配列された液晶組成物を形成させるステップと；（ｉｖ）その配列された液晶組成物を少
なくとも部分的に硬化させるステップとを含む方法にも関する。
液晶組成物は、本明細書中で上に記載したような液晶組成物から選択することができる
。その基材は、本明細書中で上に記載したような基材から選択することができる。液晶組
成物の基材への適用は、本明細書中で上に記載した適用方法にしたがって実施することが
できる。液晶組成物を配列するステップは、本明細書中で上に記載したような方法にした
がって遂行することができる。配列された液晶組成物は、化学放射線、高エネルギー粒子
（例えば、電子ビーム）および／または高温への曝露などによって、本明細書中で上に記
載したような方法にしたがって硬化させることができる。「少なくとも部分的に硬化され
た」という用語は、その液晶組成物の硬化性または架橋性成分が、少なくとも部分的に硬
化し、架橋し、かつ／または反応していることを意味する。代替的な非限定的実施形態で
は、反応した成分の程度は、広範に、例えば、可能性のあるすべての硬化性、架橋性およ
び／または反応性成分の５％〜１００％で変化してよい。
。その基材は、本明細書中で上に記載したような基材から選択することができる。液晶組
成物の基材への適用は、本明細書中で上に記載した適用方法にしたがって実施することが
できる。液晶組成物を配列するステップは、本明細書中で上に記載したような方法にした
がって遂行することができる。配列された液晶組成物は、化学放射線、高エネルギー粒子
（例えば、電子ビーム）および／または高温への曝露などによって、本明細書中で上に記
載したような方法にしたがって硬化させることができる。「少なくとも部分的に硬化され
た」という用語は、その液晶組成物の硬化性または架橋性成分が、少なくとも部分的に硬
化し、架橋し、かつ／または反応していることを意味する。代替的な非限定的実施形態で
は、反応した成分の程度は、広範に、例えば、可能性のあるすべての硬化性、架橋性およ
び／または反応性成分の５％〜１００％で変化してよい。
本発明の光学素子の層は、単層、または本発明の少なくとも１つの化合物をそれぞれが
含む多層（これは、同じであっても異なっていてもよい）を含むことができる。その層は
、一般に、熱可塑性有機マトリックスおよび／または架橋した有機マトリックスなどの有
機マトリックスを含む。有機マトリックスに対して追加的にまたは代替的に、上記層は、
例えばシラン連結、シロキサン連結および／またはチタネート連結を含む無機マトリック
スを含むことができる。有機マトリックスは、例えば、アクリレート残基（またはモノマ
ー単位）および／もしくはメタクリレート残基；ビニル残基；エーテル連結；モノスルフ
ィド連結および／もしくはポリスルフィド連結を含むスルフィド連結；カルボン酸エステ
ル連結；カーボネート連結（例えば、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−）、ウレタン連結（例えば、
−Ｎ（Ｈ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−）；ならびに／またはチオウレタン連結（例えば、−Ｎ（Ｈ
）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−）を含むことができる。
含む多層（これは、同じであっても異なっていてもよい）を含むことができる。その層は
、一般に、熱可塑性有機マトリックスおよび／または架橋した有機マトリックスなどの有
機マトリックスを含む。有機マトリックスに対して追加的にまたは代替的に、上記層は、
例えばシラン連結、シロキサン連結および／またはチタネート連結を含む無機マトリック
スを含むことができる。有機マトリックスは、例えば、アクリレート残基（またはモノマ
ー単位）および／もしくはメタクリレート残基；ビニル残基；エーテル連結；モノスルフ
ィド連結および／もしくはポリスルフィド連結を含むスルフィド連結；カルボン酸エステ
ル連結；カーボネート連結（例えば、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−）、ウレタン連結（例えば、
−Ｎ（Ｈ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−）；ならびに／またはチオウレタン連結（例えば、−Ｎ（Ｈ
）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−）を含むことができる。
本発明の化合物を含有する層は、本明細書で、上記で論じたような方法を含む当技術分
野で認められている方法によって形成させることができる。一部の実施形態で、本発明の
化合物を含有する層は、以下に限定されないが、１つまたは複数のプラスチックシートま
たはフィルムなどの積層化；インモールドコーティングなどのインモールド形成；フィル
ムキャスティング；およびコーティング方法を含む方法によって形成させることができる
。一部の実施形態で、本発明の化合物を含有する層は、例えば、２成分コーティング組成
物の場合などの周囲温度；熱的に硬化されたコーティング組成物の場合などの高温（例え
ば、１５０℃〜１９０℃で５〜６０分間）；または紫外線硬化性コーティング組成物の場
合などの化学放射線に曝露することによって、硬化性であるコーティング組成物から形成
される。
野で認められている方法によって形成させることができる。一部の実施形態で、本発明の
化合物を含有する層は、以下に限定されないが、１つまたは複数のプラスチックシートま
たはフィルムなどの積層化；インモールドコーティングなどのインモールド形成；フィル
ムキャスティング；およびコーティング方法を含む方法によって形成させることができる
。一部の実施形態で、本発明の化合物を含有する層は、例えば、２成分コーティング組成
物の場合などの周囲温度；熱的に硬化されたコーティング組成物の場合などの高温（例え
ば、１５０℃〜１９０℃で５〜６０分間）；または紫外線硬化性コーティング組成物の場
合などの化学放射線に曝露することによって、硬化性であるコーティング組成物から形成
される。
本発明の化合物を含有する層は、任意の適切な厚さを有することができる。一部の実施
形態で、上記層は、０．０５ミクロン〜２０ミクロン、例えば１〜１０ミクロンまたは２
〜８ミクロンまたは３〜５ミクロン（挙げられている値を含む）の厚さを有する。
形態で、上記層は、０．０５ミクロン〜２０ミクロン、例えば１〜１０ミクロンまたは２
〜８ミクロンまたは３〜５ミクロン（挙げられている値を含む）の厚さを有する。
一部の実施形態で、本発明の化合物を含有する層は、ウレタン連結を含む有機マトリッ
クスを含む。一部の実施形態によれば、ウレタン連結を含有する層は、ヒドロキシル、チ
オール、第一アミン、第二アミンおよびそれらの組合せから選択される活性水素官能基を
有する（メタ）アクリレートコポリマー；３，５−ジメチルピラゾールなどの適切なブロ
ッキング基または脱離基でブロックされているジイソシアネートおよび／またはトリイソ
シアネートなどのブロック化イソシアネート；ならびに以下に限定されないが、付着促進
剤、カップリング剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、触媒、フリーラジカル捕捉剤、可塑剤、
流動添加剤、および／またはスタティックティントもしくはスタティック染料（すなわち
、フォトクロミックではないティントまたは染料）などの本発明の組成物に関して本明細
書中で上に記載したような部類および例を含む１つまたは複数の添加剤を含む硬化性コー
ティング組成物から形成される。
クスを含む。一部の実施形態によれば、ウレタン連結を含有する層は、ヒドロキシル、チ
オール、第一アミン、第二アミンおよびそれらの組合せから選択される活性水素官能基を
有する（メタ）アクリレートコポリマー；３，５−ジメチルピラゾールなどの適切なブロ
ッキング基または脱離基でブロックされているジイソシアネートおよび／またはトリイソ
シアネートなどのブロック化イソシアネート；ならびに以下に限定されないが、付着促進
剤、カップリング剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、触媒、フリーラジカル捕捉剤、可塑剤、
流動添加剤、および／またはスタティックティントもしくはスタティック染料（すなわち
、フォトクロミックではないティントまたは染料）などの本発明の組成物に関して本明細
書中で上に記載したような部類および例を含む１つまたは複数の添加剤を含む硬化性コー
ティング組成物から形成される。
（メタ）アクリレートモノマー（これから、活性水素官能性（メタ）アクリレートコポ
リマーが調製され得る）の例には、以下に限定されないが、ヒドロキシル、チオール、第
一アミンおよび第二アミンから選択される少なくとも１つの活性水素基を有するＣ１〜Ｃ
２０（メタ）アクリレート、Ｃ１〜Ｃ２０（メタ）アクリレートが含まれる。（メタ）ア
クリレートのＣ１〜Ｃ２０基は、例えばＣ１〜Ｃ２０直鎖状アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０分枝
状アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ２０縮合環ポリシクロアルキル、Ｃ
５〜Ｃ２０アリールおよびＣ１０〜Ｃ２０縮合環アリールから選択することができる。
リマーが調製され得る）の例には、以下に限定されないが、ヒドロキシル、チオール、第
一アミンおよび第二アミンから選択される少なくとも１つの活性水素基を有するＣ１〜Ｃ
２０（メタ）アクリレート、Ｃ１〜Ｃ２０（メタ）アクリレートが含まれる。（メタ）ア
クリレートのＣ１〜Ｃ２０基は、例えばＣ１〜Ｃ２０直鎖状アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０分枝
状アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ２０縮合環ポリシクロアルキル、Ｃ
５〜Ｃ２０アリールおよびＣ１０〜Ｃ２０縮合環アリールから選択することができる。
本発明の組成物（これから、本発明の化合物を含む層が調製される）において使用でき
る追加のポリオールには、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４号の第
１５欄２２行目〜第１６欄６２行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に記載
されているものなどの当技術分野で認められている材料が含まれる。本発明の組成物（こ
れから、本発明の化合物を含有する層が調製される）において使用できるイソシアネート
には、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４号の第１６欄６３行目〜第
１７欄３８行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に記載されているものなど
の当技術分野で認められている材料が含まれる。本発明の組成物（これから、本発明の化
合物を含有する層が調製される）において使用できる触媒には、以下に限定されないが、
米国特許第７，４６５，４１４号の第１７欄３９〜６２行目（この開示を参照により本明
細書に組み込む）に記載されているものなどの当技術分野で認められている材料が含まれ
る。
る追加のポリオールには、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４号の第
１５欄２２行目〜第１６欄６２行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に記載
されているものなどの当技術分野で認められている材料が含まれる。本発明の組成物（こ
れから、本発明の化合物を含有する層が調製される）において使用できるイソシアネート
には、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４号の第１６欄６３行目〜第
１７欄３８行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に記載されているものなど
の当技術分野で認められている材料が含まれる。本発明の組成物（これから、本発明の化
合物を含有する層が調製される）において使用できる触媒には、以下に限定されないが、
米国特許第７，４６５，４１４号の第１７欄３９〜６２行目（この開示を参照により本明
細書に組み込む）に記載されているものなどの当技術分野で認められている材料が含まれ
る。
本発明の光学素子の本発明の化合物を含有する層は、一部の実施形態で、プライマー層
、保護層、フォトクロミック層、配列層、反射防止層およびそれらの組合せから選択する
ことができる。本発明の化合物を含むフォトクロミック層は、本明細書中で上に記載した
フォトクロミック化合物の部類および例から選択することができる１つまたは複数のフォ
トクロミック化合物も含む。
、保護層、フォトクロミック層、配列層、反射防止層およびそれらの組合せから選択する
ことができる。本発明の化合物を含むフォトクロミック層は、本明細書中で上に記載した
フォトクロミック化合物の部類および例から選択することができる１つまたは複数のフォ
トクロミック化合物も含む。
一部のさらなる実施形態で、本発明の光学素子は、それぞれのさらなる層がプライマー
層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から選択される、少なくとも
１つのさらなる層（本発明の化合物を含む層に加えて）を含む。
層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から選択される、少なくとも
１つのさらなる層（本発明の化合物を含む層に加えて）を含む。
本発明の光学素子のプライマー層、フォトクロミック層および保護層はそれぞれ独立に
、本明細書中で上に記載したようなものを含む有機マトリックスおよび／または無機マト
リックスを含むことができ、本明細書中で上に記載した方法を含む当技術分野で認められ
ている方法にしたがって形成させることができる。
、本明細書中で上に記載したようなものを含む有機マトリックスおよび／または無機マト
リックスを含むことができ、本明細書中で上に記載した方法を含む当技術分野で認められ
ている方法にしたがって形成させることができる。
本発明の光学素子の保護層は、一部の実施形態で、「ハードコート」などの耐摩耗層か
ら選択することができる。各保護層は、単層、または同じかまたは異なる組成物をそれぞ
れが有する多層を含むことができる。保護層は、オルガノシランを含む耐摩耗コーティン
グ、放射線硬化アクリレートベースの薄膜を含む耐摩耗コーティング、シリカ、チタニア
および／またはジルコニアなどの無機材料をベースとする耐摩耗コーティング、紫外線硬
化性の酸素障壁コーティングであるタイプの有機耐摩耗コーティング、ＵＶ遮蔽コーティ
ングならびにそれらの組合せから選択されるコーティングから形成させることができる。
一部の実施形態で、保護層は、放射線硬化アクリレートベースの薄膜の第１のコーティン
グおよびオルガノシランを含む第２のコーティングを含むハードコート層である。市販の
ハードコーティング製品の非限定的な例には、ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｃ．か
ら市販されているＳＩＬＶＵＥ（登録商標）１２４コーティング、およびＰＰＧ Ｉｎｄ
ｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．から市販されているＨＩ−ＧＡＲＤ（登録商標）コーティン
グが含まれる。
ら選択することができる。各保護層は、単層、または同じかまたは異なる組成物をそれぞ
れが有する多層を含むことができる。保護層は、オルガノシランを含む耐摩耗コーティン
グ、放射線硬化アクリレートベースの薄膜を含む耐摩耗コーティング、シリカ、チタニア
および／またはジルコニアなどの無機材料をベースとする耐摩耗コーティング、紫外線硬
化性の酸素障壁コーティングであるタイプの有機耐摩耗コーティング、ＵＶ遮蔽コーティ
ングならびにそれらの組合せから選択されるコーティングから形成させることができる。
一部の実施形態で、保護層は、放射線硬化アクリレートベースの薄膜の第１のコーティン
グおよびオルガノシランを含む第２のコーティングを含むハードコート層である。市販の
ハードコーティング製品の非限定的な例には、ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｃ．か
ら市販されているＳＩＬＶＵＥ（登録商標）１２４コーティング、およびＰＰＧ Ｉｎｄ
ｕｓｔｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．から市販されているＨＩ−ＧＡＲＤ（登録商標）コーティン
グが含まれる。
保護層は、オルガノシラン耐摩耗コーティングなどの当技術分野で認められているハー
ドコート材料から選択することができる。しばしばハードコートまたはシリコーンベース
のハードコーティングと称されるオルガノシラン耐摩耗コーティングは、当技術分野で周
知であり、ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｃ．およびＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ
， Ｉｎｃ．などの様々な製造業者から市販されている。その開示がオルガノシランハー
ドコーティングを記載している、米国特許第４，７５６，９７３号の第５欄１〜４５行目
；ならびに米国特許第５，４６２，８０６号の第１欄５８行目〜第２欄８行目および第３
欄５２行目〜第５欄５０行目を参照されたい（これらの開示を参照により本明細書に組み
込む）。オルガノシランハードコーティングの開示について、米国特許第４，７３１，２
６４号、同第５，１３４，１９１号、同第５，２３１，１５６号および国際特許公開ＷＯ
９４／２０５８１も参照されたい（これらの開示も参照により本明細書に組み込む）。ハ
ードコート層は、スピンコーティングなどの本発明の化合物を含有する層に関して本明細
書中で上に記載したようなコーティング方法によって適用することができる。
ドコート材料から選択することができる。しばしばハードコートまたはシリコーンベース
のハードコーティングと称されるオルガノシラン耐摩耗コーティングは、当技術分野で周
知であり、ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｃ．およびＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ
， Ｉｎｃ．などの様々な製造業者から市販されている。その開示がオルガノシランハー
ドコーティングを記載している、米国特許第４，７５６，９７３号の第５欄１〜４５行目
；ならびに米国特許第５，４６２，８０６号の第１欄５８行目〜第２欄８行目および第３
欄５２行目〜第５欄５０行目を参照されたい（これらの開示を参照により本明細書に組み
込む）。オルガノシランハードコーティングの開示について、米国特許第４，７３１，２
６４号、同第５，１３４，１９１号、同第５，２３１，１５６号および国際特許公開ＷＯ
９４／２０５８１も参照されたい（これらの開示も参照により本明細書に組み込む）。ハ
ードコート層は、スピンコーティングなどの本発明の化合物を含有する層に関して本明細
書中で上に記載したようなコーティング方法によって適用することができる。
保護層を形成させるために使用できる他のコーティングには、以下に限定されないが、
多官能性アクリルハードコーティング、メラミンベースのハードコーティング、ウレタン
ベースのハードコーティング、アルキドベースのコーティング、シリカゾルベースのハー
ドコーティングまたは他の有機もしくは無機／有機ハイブリッドハードコーティングが含
まれる。
多官能性アクリルハードコーティング、メラミンベースのハードコーティング、ウレタン
ベースのハードコーティング、アルキドベースのコーティング、シリカゾルベースのハー
ドコーティングまたは他の有機もしくは無機／有機ハイブリッドハードコーティングが含
まれる。
保護層は、一部の実施形態で、当技術分野で認められているオルガノシラン型ハードコ
ーティングから選択される。それから保護層を選択することができるオルガノシラン型ハ
ードコーティングには、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４Ｂ２号の
第２４欄４６行目〜第２８欄１１行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に開
示されているものが含まれる。
ーティングから選択される。それから保護層を選択することができるオルガノシラン型ハ
ードコーティングには、以下に限定されないが、米国特許第７，４６５，４１４Ｂ２号の
第２４欄４６行目〜第２８欄１１行目（この開示を参照により本明細書に組み込む）に開
示されているものが含まれる。
コーティング組成物（これから、保護層が形成され得る）のさらなる例には、一部の実
施形態で、以下に限定されないが、ＵＳ７，４１０，６９１に記載されているものなどの
（メタ）アクリレートベースの保護コーティング組成物；ＵＳ７，４５２，６１１Ｂ２に
記載されているものなどの放射線硬化性アクリレートベースの保護コーティング組成物；
ＵＳ７，２６１，８４３に記載されているものなどの熱的に硬化された保護コーティング
組成物；ＵＳ７，８１１，４８０に記載されているものなどのマレイミドベースの保護コ
ーティング組成物；およびＵＳ７，１８９，４５６に記載されているものなどの樹枝状ポ
リエステル（メタ）アクリレートベースの保護コーティング組成物が含まれる。
施形態で、以下に限定されないが、ＵＳ７，４１０，６９１に記載されているものなどの
（メタ）アクリレートベースの保護コーティング組成物；ＵＳ７，４５２，６１１Ｂ２に
記載されているものなどの放射線硬化性アクリレートベースの保護コーティング組成物；
ＵＳ７，２６１，８４３に記載されているものなどの熱的に硬化された保護コーティング
組成物；ＵＳ７，８１１，４８０に記載されているものなどのマレイミドベースの保護コ
ーティング組成物；およびＵＳ７，１８９，４５６に記載されているものなどの樹枝状ポ
リエステル（メタ）アクリレートベースの保護コーティング組成物が含まれる。
本発明の光学素子の反射防止層は、当技術分野で認められている反射防止層から選択す
ることができ、一般に、異なる屈折率をそれぞれ有する少なくとも２つの層を含む。一部
の実施形態で、反射防止層は、１．６〜２．５または１．９５〜２．４の屈折率を有する
第１の層、および１．３０〜１．４８または１．３８〜１．４８の屈折率を有する第２の
層を含む。反射防止層は、一部の実施形態で、複数のそのように交互になっている第１の
層および第２の層を含む。一部の実施形態で、反射防止層の第１の層は、ＴｉＯ２、Ｔｉ
２Ｏ３、Ｔｉ３Ｏ５、Ｐｒ６Ｏ１１＋ｘＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｚ
ｒＯ２およびＳｎＯ２の少なくとも１つを含む。一部の実施形態で、反射防止層の第２の
層は、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＡｌＦ３、ＢａＦ２、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、Ｎａ３ＡｌＦ６
およびＹＦ３の少なくとも１つを含む。反射防止層（これから、反射防止層が選択され得
る）の例は、米国特許第６，’７５，４５０Ｂ１号の第１欄５６行目〜第２欄７行目；第
２欄５０〜６５行目；および第５欄２２〜５８行目（この開示を参照により本明細書に組
み込む）に記載されている。
ることができ、一般に、異なる屈折率をそれぞれ有する少なくとも２つの層を含む。一部
の実施形態で、反射防止層は、１．６〜２．５または１．９５〜２．４の屈折率を有する
第１の層、および１．３０〜１．４８または１．３８〜１．４８の屈折率を有する第２の
層を含む。反射防止層は、一部の実施形態で、複数のそのように交互になっている第１の
層および第２の層を含む。一部の実施形態で、反射防止層の第１の層は、ＴｉＯ２、Ｔｉ
２Ｏ３、Ｔｉ３Ｏ５、Ｐｒ６Ｏ１１＋ｘＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｚ
ｒＯ２およびＳｎＯ２の少なくとも１つを含む。一部の実施形態で、反射防止層の第２の
層は、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＡｌＦ３、ＢａＦ２、Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４、Ｎａ３ＡｌＦ６
およびＹＦ３の少なくとも１つを含む。反射防止層（これから、反射防止層が選択され得
る）の例は、米国特許第６，’７５，４５０Ｂ１号の第１欄５６行目〜第２欄７行目；第
２欄５０〜６５行目；および第５欄２２〜５８行目（この開示を参照により本明細書に組
み込む）に記載されている。
本発明の光学素子の配列層を、本明細書で配向ファシリティーと称することもできる。
一部の実施形態で、配列層（二色性層またはフォトクロミック−二色性層など）と隣接す
る別の層は、配列層との相互作用によって、少なくとも部分的に配列されていてよく、一
部の実施形態で、それは下にある配列層である。
一部の実施形態で、配列層（二色性層またはフォトクロミック−二色性層など）と隣接す
る別の層は、配列層との相互作用によって、少なくとも部分的に配列されていてよく、一
部の実施形態で、それは下にある配列層である。
本明細書で使用される「配列層」という用語は、少なくともその一部に直接的かつ／ま
たは間接的に曝露されている１つまたは複数の他の構造物の位置決めを容易にすることが
できる層を意味する。本明細書で使用される「秩序立てる（ｏｒｄｅｒ）」という用語は
、別の構造物もしくは材料と配列すること、または他のある力もしくは効果によって配列
することなど、適切な配置または位置に至らせることを意味する。したがって、本明細書
で使用される「秩序立てる」という用語は、別の構造物または材料と配列することなどに
よって、材料を秩序立てる接触的方法と、外的な力または効果への曝露などによって材料
を秩序立てる非接触的方法の両方を包含する。秩序立てるという用語は、接触的方法と非
接触的方法の組合せも包含する。
たは間接的に曝露されている１つまたは複数の他の構造物の位置決めを容易にすることが
できる層を意味する。本明細書で使用される「秩序立てる（ｏｒｄｅｒ）」という用語は
、別の構造物もしくは材料と配列すること、または他のある力もしくは効果によって配列
することなど、適切な配置または位置に至らせることを意味する。したがって、本明細書
で使用される「秩序立てる」という用語は、別の構造物または材料と配列することなどに
よって、材料を秩序立てる接触的方法と、外的な力または効果への曝露などによって材料
を秩序立てる非接触的方法の両方を包含する。秩序立てるという用語は、接触的方法と非
接触的方法の組合せも包含する。
例えば、配列層との相互作用によって少なくとも部分的に配列された二色性化合物およ
び／またはフォトクロミック−二色性化合物を、活性化された状態の二色性化合物／フォ
トクロミック−二色性化合物の長軸が配列層の少なくとも第１の全体的方向と本質的に平
行であるように、少なくとも部分的に配列することができる。一部の実施形態で、配列層
との相互作用によって少なくとも部分的に配列された二色性化合物および／またはフォト
クロミック−二色性化合物を、配列層と結合または反応させる。材料または構造物の秩序
または配列に関連して本明細書で使用される「全体的方向」という用語は、その材料、化
合物または構造物の支配的な配置または配向を指す。さらに、材料、化合物または構造物
の配置内でのいくらかの変動があるにしても、その材料、化合物または構造物が少なくと
も１つの支配的な配置を有するという条件で、材料、化合物または構造物は、全体的方向
を有することができることを当業者は理解する。
び／またはフォトクロミック−二色性化合物を、活性化された状態の二色性化合物／フォ
トクロミック−二色性化合物の長軸が配列層の少なくとも第１の全体的方向と本質的に平
行であるように、少なくとも部分的に配列することができる。一部の実施形態で、配列層
との相互作用によって少なくとも部分的に配列された二色性化合物および／またはフォト
クロミック−二色性化合物を、配列層と結合または反応させる。材料または構造物の秩序
または配列に関連して本明細書で使用される「全体的方向」という用語は、その材料、化
合物または構造物の支配的な配置または配向を指す。さらに、材料、化合物または構造物
の配置内でのいくらかの変動があるにしても、その材料、化合物または構造物が少なくと
も１つの支配的な配置を有するという条件で、材料、化合物または構造物は、全体的方向
を有することができることを当業者は理解する。
配列層は、一部の実施形態で、少なくとも第１の全体的方向を有することができる。例
えば、配列層は、第１の全体的方向を有する第１の秩序領域、および第１の全体的方向と
は異なる第２の全体的方向を有する、第１の秩序領域と隣接している少なくとも１つの第
２の秩序領域を含むことができる。さらに、配列層は複数の領域を有することができ、そ
のそれぞれが、所望のパターンまたはデザインを形成するように、残りの領域と同じかま
たは異なる全体的方向を有する。配列層は、例えば、少なくとも部分的に秩序立てられた
配列媒体、少なくとも部分的に秩序立てられたポリマーシート、少なくとも部分的に処理
された表面、ラングミュアーブロジェット膜およびそれらの組合せを含むコーティングを
含むことができる。
えば、配列層は、第１の全体的方向を有する第１の秩序領域、および第１の全体的方向と
は異なる第２の全体的方向を有する、第１の秩序領域と隣接している少なくとも１つの第
２の秩序領域を含むことができる。さらに、配列層は複数の領域を有することができ、そ
のそれぞれが、所望のパターンまたはデザインを形成するように、残りの領域と同じかま
たは異なる全体的方向を有する。配列層は、例えば、少なくとも部分的に秩序立てられた
配列媒体、少なくとも部分的に秩序立てられたポリマーシート、少なくとも部分的に処理
された表面、ラングミュアーブロジェット膜およびそれらの組合せを含むコーティングを
含むことができる。
配列層は、一部の実施形態で、少なくとも部分的に秩序立てられた配列媒体を含むコー
ティングを含むことができる。配列層と併せて使用できる適切な配列媒体の例には、以下
に限定されないが、光配向材料、摩擦配向材料および液晶材料が含まれる。配列媒体の少
なくとも一部を秩序立てる方法は、本明細書で以下にさらに詳細に記載される。
ティングを含むことができる。配列層と併せて使用できる適切な配列媒体の例には、以下
に限定されないが、光配向材料、摩擦配向材料および液晶材料が含まれる。配列媒体の少
なくとも一部を秩序立てる方法は、本明細書で以下にさらに詳細に記載される。
配列層の配列媒体は、液晶材料であってよく、配列層を液晶配列層と称することができ
る。それらの構造のため、液晶材料は一般に、全体的方向を獲得するように秩序立てられ
るかまたは配列され得る。より具体的には、液晶分子は棒状または円盤状構造物、剛性の
長軸および強い双極子を有するので、液晶分子は、外部的な力または別の構造物との相互
作用によって、その分子の長軸が共通軸に対してほぼ平行な配向を獲得するように秩序立
てられるかまたは配列され得る。例えば、磁場、電場、直線偏光した赤外放射線、直線偏
光した紫外放射線、直線偏光した可視放射線またはせん断力で、液晶材料の分子を配列す
ることが可能である。液晶分子を、配向された表面で配列することも可能である。例えば
、液晶分子を、例えば摩擦、溝切り（ｇｒｏｏｖｉｎｇ）または光配列方法によって配向
されている表面に適用し、続いて、液晶分子のそれぞれの長軸が、表面の配向の全体的方
向に対してほぼ平行な配向を獲得するように、配列することができる。配列媒体として使
用するのに適した液晶材料の例には、以下に限定されないが、液晶ポリマー、液晶プレポ
リマー、液晶モノマーおよび液晶メソゲンが含まれる。本明細書で使用される「プレポリ
マー」という用語は、部分的に重合した材料を意味する。
る。それらの構造のため、液晶材料は一般に、全体的方向を獲得するように秩序立てられ
るかまたは配列され得る。より具体的には、液晶分子は棒状または円盤状構造物、剛性の
長軸および強い双極子を有するので、液晶分子は、外部的な力または別の構造物との相互
作用によって、その分子の長軸が共通軸に対してほぼ平行な配向を獲得するように秩序立
てられるかまたは配列され得る。例えば、磁場、電場、直線偏光した赤外放射線、直線偏
光した紫外放射線、直線偏光した可視放射線またはせん断力で、液晶材料の分子を配列す
ることが可能である。液晶分子を、配向された表面で配列することも可能である。例えば
、液晶分子を、例えば摩擦、溝切り（ｇｒｏｏｖｉｎｇ）または光配列方法によって配向
されている表面に適用し、続いて、液晶分子のそれぞれの長軸が、表面の配向の全体的方
向に対してほぼ平行な配向を獲得するように、配列することができる。配列媒体として使
用するのに適した液晶材料の例には、以下に限定されないが、液晶ポリマー、液晶プレポ
リマー、液晶モノマーおよび液晶メソゲンが含まれる。本明細書で使用される「プレポリ
マー」という用語は、部分的に重合した材料を意味する。
配列層と併せて使用するのに適した液晶モノマーの部類には、以下に限定されないが、
単官能性ならびに多官能性液晶モノマーが含まれる。液晶モノマーは、一部の実施形態で
、光架橋性液晶モノマーなどの架橋性液晶モノマーから選択することができる。本明細書
で使用される「光架橋性」という用語は、化学放射線に曝露すると架橋できるモノマー、
プレポリマーまたはポリマーなどの材料を意味する。例えば、光架橋性液晶モノマーには
、以下に限定されないが、重合開始剤の使用を伴ってまたは伴わずに紫外放射線および／
または可視放射線へ曝露したときに架橋性である液晶モノマーが含まれる。
単官能性ならびに多官能性液晶モノマーが含まれる。液晶モノマーは、一部の実施形態で
、光架橋性液晶モノマーなどの架橋性液晶モノマーから選択することができる。本明細書
で使用される「光架橋性」という用語は、化学放射線に曝露すると架橋できるモノマー、
プレポリマーまたはポリマーなどの材料を意味する。例えば、光架橋性液晶モノマーには
、以下に限定されないが、重合開始剤の使用を伴ってまたは伴わずに紫外放射線および／
または可視放射線へ曝露したときに架橋性である液晶モノマーが含まれる。
配列層に含めることができる架橋性液晶モノマーの例には、以下に限定されないが、ア
クリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エ
ポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシ
アネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択さ
れる官能基を有する液晶モノマーが含まれる。配列層に含めることができる光架橋性液晶
モノマーの例には、以下に限定されないが、アクリレート、メタクリレート、アルキン、
エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドから選択される官能基を有する液晶モノマ
ーが含まれる。
クリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ、無水物、エ
ポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキサン、チオシ
アネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレンドから選択さ
れる官能基を有する液晶モノマーが含まれる。配列層に含めることができる光架橋性液晶
モノマーの例には、以下に限定されないが、アクリレート、メタクリレート、アルキン、
エポキシド、チオールおよびそれらのブレンドから選択される官能基を有する液晶モノマ
ーが含まれる。
配列層に含めることができる液晶ポリマーおよびプレポリマーには、以下に限定されな
いが、主鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーならびに側鎖液晶ポリマーおよびプレポリマ
ーが含まれる。主鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーで、棒状または円盤状液晶メソゲン
は主にポリマー骨格内に位置する。側鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーで、棒状または
円盤状液晶メソゲンは主にポリマーの側鎖内に位置する。さらに、液晶ポリマーまたはプ
レポリマーは架橋性であってよく、さらに、光架橋性であってよい。
いが、主鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーならびに側鎖液晶ポリマーおよびプレポリマ
ーが含まれる。主鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーで、棒状または円盤状液晶メソゲン
は主にポリマー骨格内に位置する。側鎖液晶ポリマーおよびプレポリマーで、棒状または
円盤状液晶メソゲンは主にポリマーの側鎖内に位置する。さらに、液晶ポリマーまたはプ
レポリマーは架橋性であってよく、さらに、光架橋性であってよい。
配列層に含めることができる液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、以下に限定さ
れないが、アクリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ
、無水物、エポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキ
サン、チオシアネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレン
ドから選択される官能基を有する主鎖および側鎖ポリマーおよびプレポリマーが含まれる
。配列層に含めることができる光架橋性液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、以下
に限定されないが、アクリレート、メタクリレート、アルキン、エポキシド、チオールお
よびそれらのブレンドから選択される官能基を有するポリマーおよびプレポリマーが含ま
れる。
れないが、アクリレート、メタクリレート、アリル、アリルエーテル、アルキン、アミノ
、無水物、エポキシド、水酸化物、イソシアネート、ブロック化イソシアネート、シロキ
サン、チオシアネート、チオール、尿素、ビニル、ビニルエーテルおよびそれらのブレン
ドから選択される官能基を有する主鎖および側鎖ポリマーおよびプレポリマーが含まれる
。配列層に含めることができる光架橋性液晶ポリマーおよびプレポリマーの例には、以下
に限定されないが、アクリレート、メタクリレート、アルキン、エポキシド、チオールお
よびそれらのブレンドから選択される官能基を有するポリマーおよびプレポリマーが含ま
れる。
配列層に含めることができる液晶メソゲンには、以下に限定されないが、サーモトロピ
ック液晶メソゲンおよびリオトロピック液晶メソゲンが含まれる。配列層に含めることが
できる液晶メソゲンの追加の部類には、以下に限定されないが、カラマチック（ｃｏｌｕ
ｍａｔｉｃ）（または棒状）液晶メソゲンおよびディスコチック（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）（
または円盤状）液晶メソゲンが含まれる。
ック液晶メソゲンおよびリオトロピック液晶メソゲンが含まれる。配列層に含めることが
できる液晶メソゲンの追加の部類には、以下に限定されないが、カラマチック（ｃｏｌｕ
ｍａｔｉｃ）（または棒状）液晶メソゲンおよびディスコチック（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）（
または円盤状）液晶メソゲンが含まれる。
配列層に含めることができる光配向材料の例には、以下に限定されないが、光方向付け
可能なポリマーネットワークが含まれる。光方向付け可能なポリマーネットワークのより
具体的な例には、以下に限定されないが、アゾベンゼン誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリ
ン誘導体、フェルラ酸誘導体およびポリイミドが含まれる。一部の実施形態で、配列層は
、アゾベンゼン誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリン誘導体、フェルラ酸誘導体および／ま
たはポリイミドから選択される少なくとも部分的に秩序立てられた光方向付け可能なポリ
マーネットワークを含むことができる。配列層に含めることができるケイ皮酸誘導体の例
には、以下に限定されないが、ポリビニルシンナメート、およびパラメトキシケイ皮酸の
ポリビニルエステルが含まれる。
可能なポリマーネットワークが含まれる。光方向付け可能なポリマーネットワークのより
具体的な例には、以下に限定されないが、アゾベンゼン誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリ
ン誘導体、フェルラ酸誘導体およびポリイミドが含まれる。一部の実施形態で、配列層は
、アゾベンゼン誘導体、ケイ皮酸誘導体、クマリン誘導体、フェルラ酸誘導体および／ま
たはポリイミドから選択される少なくとも部分的に秩序立てられた光方向付け可能なポリ
マーネットワークを含むことができる。配列層に含めることができるケイ皮酸誘導体の例
には、以下に限定されないが、ポリビニルシンナメート、およびパラメトキシケイ皮酸の
ポリビニルエステルが含まれる。
本明細書で使用される「摩擦配向材料」という用語は、その材料の表面の少なくとも一
部を、適切にテクスチャード加工された別の材料と摩擦することによって少なくとも部分
的に秩序立て得る材料を意味する。例えば、摩擦配向材料は、適切にテクスチャード加工
された布またはビロードブラシで摩擦することができる。配列層に含めることができる摩
擦配向材料の例には、以下に限定されないが、（ポリ）イミド、（ポリ）シロキサン、（
ポリ）アクリレートおよび（ポリ）クマリンが含まれる。一部の実施形態で、配列層はポ
リイミドを含むことができ、その配列層を、配列層の表面の少なくとも一部を少なくとも
部分的に秩序立てるように、ビロードまたは綿布で摩擦することができる。
部を、適切にテクスチャード加工された別の材料と摩擦することによって少なくとも部分
的に秩序立て得る材料を意味する。例えば、摩擦配向材料は、適切にテクスチャード加工
された布またはビロードブラシで摩擦することができる。配列層に含めることができる摩
擦配向材料の例には、以下に限定されないが、（ポリ）イミド、（ポリ）シロキサン、（
ポリ）アクリレートおよび（ポリ）クマリンが含まれる。一部の実施形態で、配列層はポ
リイミドを含むことができ、その配列層を、配列層の表面の少なくとも一部を少なくとも
部分的に秩序立てるように、ビロードまたは綿布で摩擦することができる。
一部の実施形態で、配列層は、少なくとも部分的に秩序立てられたポリマーシートを含
むことができる。例えば、ポリビニルアルコールのシートは、そのシートを延伸（例えば
、一軸延伸）することによって少なくとも部分的に秩序立てることができ、次いで、延伸
されたシートを、光学的基材の表面の少なくとも一部と結合させて配向ファシリティーを
形成させることができる。あるいは、秩序立てられたポリマーシートは、例えば押し出し
による加工の間に、ポリマー鎖を少なくとも部分的に秩序立てる方法によって作製するこ
とができる。さらに、少なくとも部分的に秩序立てられたポリマーシートは、液晶材料の
シートをキャスティングする、または別のやり方でそれを形成させ、続いて、例えばその
シートを少なくとも部分的に秩序立てるが、そのシートを磁場、電場および／またはせん
断力に曝露することによって形成させることができる。なおもさらには、少なくとも部分
的に秩序立てられたポリマーシートは、光配向方法を使用して作製することができる。例
えば、光配向材料のシートは、例えば、キャスティングすることによって形成させ、続い
て、直線偏光した紫外放射線へ曝露することにより少なくとも部分的に秩序立てることが
できる。
むことができる。例えば、ポリビニルアルコールのシートは、そのシートを延伸（例えば
、一軸延伸）することによって少なくとも部分的に秩序立てることができ、次いで、延伸
されたシートを、光学的基材の表面の少なくとも一部と結合させて配向ファシリティーを
形成させることができる。あるいは、秩序立てられたポリマーシートは、例えば押し出し
による加工の間に、ポリマー鎖を少なくとも部分的に秩序立てる方法によって作製するこ
とができる。さらに、少なくとも部分的に秩序立てられたポリマーシートは、液晶材料の
シートをキャスティングする、または別のやり方でそれを形成させ、続いて、例えばその
シートを少なくとも部分的に秩序立てるが、そのシートを磁場、電場および／またはせん
断力に曝露することによって形成させることができる。なおもさらには、少なくとも部分
的に秩序立てられたポリマーシートは、光配向方法を使用して作製することができる。例
えば、光配向材料のシートは、例えば、キャスティングすることによって形成させ、続い
て、直線偏光した紫外放射線へ曝露することにより少なくとも部分的に秩序立てることが
できる。
本発明のフォトクロミック物品の配列層は、少なくとも部分的に処理された表面を含む
ことができる。本明細書で使用される「処理された表面」という用語は、その表面の少な
くとも一部上に少なくとも１つの秩序領域を作り出すように物理的に改変された表面の少
なくとも一部を指す。処理された表面の例には、以下に限定されないが、摩擦された表面
、エッチングされた表面およびエンボス加工された表面が含まれる。さらに、処理された
表面は、例えば、フォトリソグラフィックまたはインターフェログラフィックプロセスを
使用してパターン化することができる。一部の実施形態で、配列層の表面は、例えば、化
学的にエッチングされた表面、プラズマエッチングされた表面、ナノエッチングされた表
面（走査トンネル顕微鏡または原子間力顕微鏡を使用してエッチングされた表面など）、
レーザーエッチングされた表面および／または電子ビームエッチングされた表面から選択
される処理された表面であってよい。
ことができる。本明細書で使用される「処理された表面」という用語は、その表面の少な
くとも一部上に少なくとも１つの秩序領域を作り出すように物理的に改変された表面の少
なくとも一部を指す。処理された表面の例には、以下に限定されないが、摩擦された表面
、エッチングされた表面およびエンボス加工された表面が含まれる。さらに、処理された
表面は、例えば、フォトリソグラフィックまたはインターフェログラフィックプロセスを
使用してパターン化することができる。一部の実施形態で、配列層の表面は、例えば、化
学的にエッチングされた表面、プラズマエッチングされた表面、ナノエッチングされた表
面（走査トンネル顕微鏡または原子間力顕微鏡を使用してエッチングされた表面など）、
レーザーエッチングされた表面および／または電子ビームエッチングされた表面から選択
される処理された表面であってよい。
一部の実施形態によれば、配列層が処理された表面を含む場合、その処理された表面は
、表面（例えば、配列層自体の表面またはプライマー層の表面）の少なくとも一部上に金
属塩（金属酸化物または金属フッ化物など）を堆積させ、続いて、その堆積物をエッチン
グして処理された表面を形成させることによって、形成させることができる。金属塩を堆
積させる当技術分野で認められている方法には、以下に限定されないが、プラズマ蒸着、
化学蒸着およびスパッタリングが含まれる。エッチングは本明細書中で上に記載したもの
などの当技術分野で認められている方法にしたがって行うことができる。
、表面（例えば、配列層自体の表面またはプライマー層の表面）の少なくとも一部上に金
属塩（金属酸化物または金属フッ化物など）を堆積させ、続いて、その堆積物をエッチン
グして処理された表面を形成させることによって、形成させることができる。金属塩を堆
積させる当技術分野で認められている方法には、以下に限定されないが、プラズマ蒸着、
化学蒸着およびスパッタリングが含まれる。エッチングは本明細書中で上に記載したもの
などの当技術分野で認められている方法にしたがって行うことができる。
本明細書で使用される「ラングミュアーブロジェット膜」という用語は、表面上の１つ
または複数の少なくとも部分的に秩序立てられた分子膜を意味する。ラングミュアーブロ
ジェット膜は、例えば、それが少なくとも部分的に分子膜で覆われるように、基材を液体
中に１回または複数回浸漬させ、次いで、基材を液体から取り出すことによって形成させ
ることができ、その結果、その液体と基材の相対的表面張力に起因して、分子膜の分子は
、実質的に１つの（または単一の）全体的方向に少なくとも部分的に秩序立てられる。本
明細書で使用される分子膜という用語は、単分子膜（すなわち、単層）ならびに１つ超の
単層を含む膜を指す。
または複数の少なくとも部分的に秩序立てられた分子膜を意味する。ラングミュアーブロ
ジェット膜は、例えば、それが少なくとも部分的に分子膜で覆われるように、基材を液体
中に１回または複数回浸漬させ、次いで、基材を液体から取り出すことによって形成させ
ることができ、その結果、その液体と基材の相対的表面張力に起因して、分子膜の分子は
、実質的に１つの（または単一の）全体的方向に少なくとも部分的に秩序立てられる。本
明細書で使用される分子膜という用語は、単分子膜（すなわち、単層）ならびに１つ超の
単層を含む膜を指す。
本発明の物品および光学素子は、一部の実施形態で、配列層と、二色性層またはフォト
クロミック−二色性層などの、配列することが意図されている層との間に挿入された配列
移動材料（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｍａｔｅｒｉａｌ）をさらに含むこ
とができる。配列移動材料を、配列層との相互作用によって配列することができ、それに
応じて、二色性化合物および／またはフォトクロミック−二色性化合物を、配列移動材料
との相互作用によって配列することができる。配列移動材料は、一部の実施形態で、配列
層から、隣接層の二色性化合物および／またはフォトクロミック−二色性化合物への適切
な配置または位置の伝播または移動を容易にすることができる。
クロミック−二色性層などの、配列することが意図されている層との間に挿入された配列
移動材料（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｍａｔｅｒｉａｌ）をさらに含むこ
とができる。配列移動材料を、配列層との相互作用によって配列することができ、それに
応じて、二色性化合物および／またはフォトクロミック−二色性化合物を、配列移動材料
との相互作用によって配列することができる。配列移動材料は、一部の実施形態で、配列
層から、隣接層の二色性化合物および／またはフォトクロミック−二色性化合物への適切
な配置または位置の伝播または移動を容易にすることができる。
配列移動材料の例には、以下に限定されないが、本明細書で開示される配列媒体に関連
して上記した液晶材料が含まれる。液晶材料の分子を配向表面と配列することができる。
例えば、液晶材料を、液晶分子の長軸が上記表面の配向の同じ全体的方向とほぼ平行であ
る配向をとるように配向された後に配列されている表面に、適用することができる。配列
移動材料の液晶材料は、配列層との配列によって少なくとも部分的に秩序立てることがで
き、その結果、液晶材料の分子の長軸は、例えば配向ファシリティーの第１の全体的方向
に対してほぼ平行である。この仕方で、配列層の全体的方向を液晶材料へ移動させること
ができ、このことにより、次いで、その全体的方向を別の構造物または材料へ移動させる
ことができる。さらに、配列層が、一緒になってデザインまたはパターンを形成する全体
的方向を有する複数の領域を含む場合、液晶材料を配列層の種々の領域と配列することに
よって、そのデザインまたはパターンを液晶材料へ移動させることができる。さらに、必
要というわけではないが、本明細書で開示される種々の非限定的な実施形態によれば、配
列移動材料の液晶材料の少なくとも一部を、その配列層の少なくとも一部と少なくとも部
分的に配列しながら、磁場、電場、直線偏光した赤外放射線、直線偏光した紫外放射線お
よび直線偏光した可視放射線の少なくとも１つに曝露することができる。
して上記した液晶材料が含まれる。液晶材料の分子を配向表面と配列することができる。
例えば、液晶材料を、液晶分子の長軸が上記表面の配向の同じ全体的方向とほぼ平行であ
る配向をとるように配向された後に配列されている表面に、適用することができる。配列
移動材料の液晶材料は、配列層との配列によって少なくとも部分的に秩序立てることがで
き、その結果、液晶材料の分子の長軸は、例えば配向ファシリティーの第１の全体的方向
に対してほぼ平行である。この仕方で、配列層の全体的方向を液晶材料へ移動させること
ができ、このことにより、次いで、その全体的方向を別の構造物または材料へ移動させる
ことができる。さらに、配列層が、一緒になってデザインまたはパターンを形成する全体
的方向を有する複数の領域を含む場合、液晶材料を配列層の種々の領域と配列することに
よって、そのデザインまたはパターンを液晶材料へ移動させることができる。さらに、必
要というわけではないが、本明細書で開示される種々の非限定的な実施形態によれば、配
列移動材料の液晶材料の少なくとも一部を、その配列層の少なくとも一部と少なくとも部
分的に配列しながら、磁場、電場、直線偏光した赤外放射線、直線偏光した紫外放射線お
よび直線偏光した可視放射線の少なくとも１つに曝露することができる。
本発明の一部の実施形態で、本発明の化合物を含む光学素子の層は、少なくとも１つの
フォトクロミック−二色性化合物、および任意に少なくとも１つのフォトクロミック化合物（二色性ではない）をさらに含み、この層はフォトクロミック層またはフォトクロミック−二色性層である。この層に含めることができるフォトクロミック−二色性化合物の部類および例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したフォトクロミック−二色性化合物の部類および例が含まれる。
フォトクロミック−二色性化合物、および任意に少なくとも１つのフォトクロミック化合物（二色性ではない）をさらに含み、この層はフォトクロミック層またはフォトクロミック−二色性層である。この層に含めることができるフォトクロミック−二色性化合物の部類および例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載したフォトクロミック−二色性化合物の部類および例が含まれる。
フォトクロミック−二色性化合物および任意のフォトクロミック化合物は、本発明の光学素子の層中に、該光学素子が活性化状態（例えば、着色状態）または非活性化状態（例えば、ブリーチされた状態）のいずれかで所望の１つまたは複数の色を示すような量または比で存在する可能性がある。したがって、使用されるフォトクロミック−二色性および任意のフォトクロミック化合物の量は、所望のフォトクロミック効果および二色性効果を生み出すのに十分な量が存在すれば、それほど重要ではない。本明細書で使用される「フォトクロミック量」という用語は、所望のフォトクロミック効果を生み出すのに必要なフォトクロミック化合物（フォトクロミック−二色性化合物および／または二色性ではないフォトクロミック化合物であるかどうかにかかわらず）の量を指す。一部の実施形態で、フォトクロミック−二色性化合物および任意のフォトクロミック化合物は、光学素子の層中に、該層の全重量に対して０．１〜４０重量パーセントの量で存在する。
本発明の光学素子の一部のさらなる実施形態によれば、本発明の化合物を含む層は固定
ティントをさらに含み、層は二色性層である。本発明の化合物および固定ティントを含有
する層は、一部の実施形態で、１つまたは複数の二色性化合物をさらに含むことができる
。本発明の光学素子の層中に含めることができる固定ティントおよび任意の二色性化合物の部類および例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載した固定ティントおよび二色性化合物の部類および例が含まれる。
ティントをさらに含み、層は二色性層である。本発明の化合物および固定ティントを含有
する層は、一部の実施形態で、１つまたは複数の二色性化合物をさらに含むことができる
。本発明の光学素子の層中に含めることができる固定ティントおよび任意の二色性化合物の部類および例には、以下に限定されないが、本明細書中で上に記載した固定ティントおよび二色性化合物の部類および例が含まれる。
本発明の一部の実施形態での光学素子は、以下の順序で、光学的基材；プライマー層；
配列層；フォトクロミック−二色性層；トップコート層；およびハードコート層であって
よい保護層を含み、その少なくとも１つの層は１つまたは複数の本発明の化合物を含む。
配列層；フォトクロミック−二色性層；トップコート層；およびハードコート層であって
よい保護層を含み、その少なくとも１つの層は１つまたは複数の本発明の化合物を含む。
本発明の一部の実施形態での光学素子は、以下の順序で、光学的基材；プライマー層；
配列層；二色性化合物を任意にさらに含む固定ティント層；トップコート層；およびハードコート層であってよい保護層を含み、その少なくとも１つの層は１つまたは複数の本発明の化合物を含む。
配列層；二色性化合物を任意にさらに含む固定ティント層；トップコート層；およびハードコート層であってよい保護層を含み、その少なくとも１つの層は１つまたは複数の本発明の化合物を含む。
本発明を、以下の実施例でより具体的に記載するが、そこで多くの改変形態および変更
形態が当業者に明らかであるので、これらは例示を目的とするだけである。
形態が当業者に明らかであるので、これらは例示を目的とするだけである。
実施例のパートＡにおいて、本発明による化合物の合成を実施例１〜３０で記載する。
実施例のパートＢにおいて、本発明による化合物の評価を、コーティング組成物および
コーティングされた物品において記載する。
パートＡ
（実施例１）
ステップ１
コーティングされた物品において記載する。
パートＡ
（実施例１）
ステップ１
４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェノールを、酢酸での中
和が後続したこと以外はＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９５年、２８巻、３３１３
〜３３２７頁に公開されている方法で合成し、懸濁物を−１８℃で終夜貯蔵し、次いで０
℃に加温して淡褐色固体を得た。
ステップ２
和が後続したこと以外はＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９５年、２８巻、３３１３
〜３３２７頁に公開されている方法で合成し、懸濁物を−１８℃で終夜貯蔵し、次いで０
℃に加温して淡褐色固体を得た。
ステップ２
２．５Ｌのジクロロメタン中の、ステップ１の生成物（２４２．４ｇ、１２８５．４ｍ
ｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）
］−４−カルボン酸（３６０．４ｇ、１２４８ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジン（１５．２ｇ、１２４．８ｍｍｏｌ）の懸濁物が入っている反応フラスコに、窒
素下で撹拌しながら、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（２８２．８ｇ、１３
７２．８ｍｍｏｌ）を加えた。反応はＨＰＬＣで追跡した。これは、反応が２〜３時間以
内に完了していることを示した。反応物を終夜撹拌し、次いで追加のジクロロメタン（１
Ｌ）で希釈し、続いて、副生成物Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を濾過により除去した
。濾液を、溶離液としてジクロロメタンを使用して短いシリカゲル充填物に通した。得ら
れた溶液を３００ｍＬの１０％ＨＣｌで３回洗浄し、次いで無水ＭｇＳＯ４で乾燥させた
。続く濾過の後、濾液の溶媒を除去して淡褐色固体を得た。これを、さらに精製すること
なく次のステップで直接使用した。
ステップ３
ｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）
］−４−カルボン酸（３６０．４ｇ、１２４８ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジン（１５．２ｇ、１２４．８ｍｍｏｌ）の懸濁物が入っている反応フラスコに、窒
素下で撹拌しながら、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（２８２．８ｇ、１３
７２．８ｍｍｏｌ）を加えた。反応はＨＰＬＣで追跡した。これは、反応が２〜３時間以
内に完了していることを示した。反応物を終夜撹拌し、次いで追加のジクロロメタン（１
Ｌ）で希釈し、続いて、副生成物Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を濾過により除去した
。濾液を、溶離液としてジクロロメタンを使用して短いシリカゲル充填物に通した。得ら
れた溶液を３００ｍＬの１０％ＨＣｌで３回洗浄し、次いで無水ＭｇＳＯ４で乾燥させた
。続く濾過の後、濾液の溶媒を除去して淡褐色固体を得た。これを、さらに精製すること
なく次のステップで直接使用した。
ステップ３
７００ｍＬのＴＨＦおよび１００ｍＬのエタノール中のステップ２からの生成物の懸濁
物が入っている反応フラスコに、１０ｍＬの濃（３６％）ＨＣｌを滴下添加した。反応混
合物を、３５℃水浴中で１０分間緩やかに撹拌した。得られた溶液を、過剰の氷冷水に急
速に添加した。沈殿物を濾過により収集し、脱イオン水で濯いだ。粗生成物を、ＴＨＦ／
エタノール（１：１、ｖ／ｖ）から結晶化させた。こうして得られた固体を真空下、６０
℃で３時間乾燥して、４１０ｇの白色結晶性粉末を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−
ヒドロキシフェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロ
ヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
物が入っている反応フラスコに、１０ｍＬの濃（３６％）ＨＣｌを滴下添加した。反応混
合物を、３５℃水浴中で１０分間緩やかに撹拌した。得られた溶液を、過剰の氷冷水に急
速に添加した。沈殿物を濾過により収集し、脱イオン水で濯いだ。粗生成物を、ＴＨＦ／
エタノール（１：１、ｖ／ｖ）から結晶化させた。こうして得られた固体を真空下、６０
℃で３時間乾燥して、４１０ｇの白色結晶性粉末を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−
ヒドロキシフェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロ
ヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
３２Ｌのジメチルアセトアミド中のメチル４−ヒドロキシベンゾエート（６．４０Ｋｇ
、４２．０８ｍｏｌ）、８−クロロ−１−オクタノール（７．６０Ｋｇ、４６．０８ｍｏ
ｌ）、ヨウ化ナトリウム水和物（７８０．８ｇ、４．２２ｍｏｌ）および無水炭酸ナトリ
ウム（１７．４２Ｋｇ、１２６．２４ｍｏｌ）の懸濁物を撹拌し、約１１０℃に１０時間
加熱した。溶液を室温に冷却し、濾過した。固体を３Ｌのジメチルアセトアミドで洗浄し
た。濾液を、撹拌下で２００Ｌの水に注加した。濾過して白色固体を得、蒸留水で濯ぎ、
次のステップで、さらに精製することなく使用した。
ステップ５
、４２．０８ｍｏｌ）、８−クロロ−１−オクタノール（７．６０Ｋｇ、４６．０８ｍｏ
ｌ）、ヨウ化ナトリウム水和物（７８０．８ｇ、４．２２ｍｏｌ）および無水炭酸ナトリ
ウム（１７．４２Ｋｇ、１２６．２４ｍｏｌ）の懸濁物を撹拌し、約１１０℃に１０時間
加熱した。溶液を室温に冷却し、濾過した。固体を３Ｌのジメチルアセトアミドで洗浄し
た。濾液を、撹拌下で２００Ｌの水に注加した。濾過して白色固体を得、蒸留水で濯ぎ、
次のステップで、さらに精製することなく使用した。
ステップ５
ステップ４からの生成物が入っている反応フラスコに、水酸化ナトリウム（４．０３Ｋ
ｇ、１００．９６ｍｏｌ）および４０Ｌのエタノールを加えた。混合物を４時間還流加熱
した。溶液を室温に冷却し、３０Ｌの３Ｎ ＨＣｌ溶液でｐＨ６〜７に酸性化した。多量
の白色固体が生成した。固体を濾過し、蒸留水で洗浄し、乾燥して９．６０Ｋｇの生成物
を白色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（８−ヒドロキシオクチルオキ
シ）安息香酸と一致する構造を有していることを示した。
ステップ６
ｇ、１００．９６ｍｏｌ）および４０Ｌのエタノールを加えた。混合物を４時間還流加熱
した。溶液を室温に冷却し、３０Ｌの３Ｎ ＨＣｌ溶液でｐＨ６〜７に酸性化した。多量
の白色固体が生成した。固体を濾過し、蒸留水で洗浄し、乾燥して９．６０Ｋｇの生成物
を白色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（８−ヒドロキシオクチルオキ
シ）安息香酸と一致する構造を有していることを示した。
ステップ６
ステップ５の生成物（６６５０ｇ、２５．００ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（４
７．５ｇ、０．２５ｍｏｌ）および２７．５ＬのＴＨＦの懸濁物が入っている反応フラス
コに、ジヒドロピラン（２．７５０Ｌ、３０．００ｍｏｌ）を、撹拌しながら１時間にわ
たって添加した。反応混合物を室温で２４時間撹拌した。溶液を珪藻土充填物で濾過した
。濾液を濃縮し、次いで１０Ｌの石油エーテルに注加した。沈殿物を濾過により収集し、
真空中で乾燥して白色固体（５．５Ｋｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（８−
（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）オクチルオキシ）−安息香酸と一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ７
７．５ｇ、０．２５ｍｏｌ）および２７．５ＬのＴＨＦの懸濁物が入っている反応フラス
コに、ジヒドロピラン（２．７５０Ｌ、３０．００ｍｏｌ）を、撹拌しながら１時間にわ
たって添加した。反応混合物を室温で２４時間撹拌した。溶液を珪藻土充填物で濾過した
。濾液を濃縮し、次いで１０Ｌの石油エーテルに注加した。沈殿物を濾過により収集し、
真空中で乾燥して白色固体（５．５Ｋｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（８−
（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）オクチルオキシ）−安息香酸と一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ７
１．５Ｌのジクロロメタン中の、４−ヒドロキシフェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４
’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレート（１７５ｇ
、４６９．７４ｍｍｏｌ）、ステップ６の生成物（１６４．６ｇ、４６９．７４ｍｍｏｌ
）および４−ジメチルアミノピリジン（５．７３ｇ、４６．９７ｍｍｏｌ）が入っている
反応フラスコに、アルゴン下で、撹拌しながらＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（１０１．８ｇ、４９３．２３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を終夜撹拌し、次いで０．
５Ｌのジクロロメタンで希釈した。Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を濾過によ
り除去し、０．５Ｌのジクロロメタンで洗浄した。溶液を短いシリカゲル充填物に通した
。得られた溶液を１０％ＨＣｌ（２×２５０ｍＬ）およびブライン（２×２５０ｍＬ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、溶媒を除去して生成物を得た。こ
れを、さらに精製することなく次のステップで直接使用した。
ステップ８
’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレート（１７５ｇ
、４６９．７４ｍｍｏｌ）、ステップ６の生成物（１６４．６ｇ、４６９．７４ｍｍｏｌ
）および４−ジメチルアミノピリジン（５．７３ｇ、４６．９７ｍｍｏｌ）が入っている
反応フラスコに、アルゴン下で、撹拌しながらＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（１０１．８ｇ、４９３．２３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を終夜撹拌し、次いで０．
５Ｌのジクロロメタンで希釈した。Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を濾過によ
り除去し、０．５Ｌのジクロロメタンで洗浄した。溶液を短いシリカゲル充填物に通した
。得られた溶液を１０％ＨＣｌ（２×２５０ｍＬ）およびブライン（２×２５０ｍＬ）で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、溶媒を除去して生成物を得た。こ
れを、さらに精製することなく次のステップで直接使用した。
ステップ８
５００ｍＬのエタノールおよび１０００ｍＬのＴＨＦ中の上記ステップ７からの生成物
（３３１．２ｇ）が入っている反応フラスコに８．９４ｇのｐ−トルエンスルホン酸を加
えた。得られた混合物を６５℃に加熱し、窒素雰囲気下で４時間撹拌し、次いで５００ｍ
Ｌのアセトニトリルを添加した。反応混合物を７０℃に加熱し、濾過して不溶性物質（約
１〜２グラム）を除去した。いくらか過剰なＴＨＦ（約２００ｍＬ）を使用して濾紙を濯
いだ。溶液を７０℃に加熱し、４時間で室温に冷却し、次いで終夜冷蔵保存した。生成し
た沈殿物を濾過により収集した。ＴＨＦ／アセトニトリル（１／１、ｖ／ｖ）からの２回
の再結晶により、白色結晶性固体（２１６．８ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４
−（（４−（（８−ヒドロキシオクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニルｔｒａ
ｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボ
キシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ９
（３３１．２ｇ）が入っている反応フラスコに８．９４ｇのｐ−トルエンスルホン酸を加
えた。得られた混合物を６５℃に加熱し、窒素雰囲気下で４時間撹拌し、次いで５００ｍ
Ｌのアセトニトリルを添加した。反応混合物を７０℃に加熱し、濾過して不溶性物質（約
１〜２グラム）を除去した。いくらか過剰なＴＨＦ（約２００ｍＬ）を使用して濾紙を濯
いだ。溶液を７０℃に加熱し、４時間で室温に冷却し、次いで終夜冷蔵保存した。生成し
た沈殿物を濾過により収集した。ＴＨＦ／アセトニトリル（１／１、ｖ／ｖ）からの２回
の再結晶により、白色結晶性固体（２１６．８ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４
−（（４−（（８−ヒドロキシオクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニルｔｒａ
ｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボ
キシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ９
３００ｍＬのジクロロメタン中の、ステップ８の生成物（３０．００ｇ、４８．３２ｍ
ｍｏｌ）および塩化トシル（９．２１ｇ、４８．３２ｍｍｏｌ）の溶液が入っている反応
フラスコに、トリエチルアミン（９．７８ｇ、９６．６４ｍｍｏｌ）およびピリジン（７
．６４ｇ、９６．６４ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下、室温で終夜
撹拌した。反応の間に生成した沈殿物を濾過により廃棄した。濾液を１Ｎ ＨＣｌ（１０
０ｍＬ×３）およびブライン（５０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた。濾過後、溶媒を除去して粗生成物を得、これを、ジクロロメタンで溶出しながらシ
リカプラグを通して生成物を得た。これを、アセトニトリル／ＴＨＦ（２／１、ｖ／ｖ）
からの再結晶により精製して白色固体（３３．０ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、
４−（（４−（（８−（トシルオキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニ
ルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４
−カルボキシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ１０
ｍｏｌ）および塩化トシル（９．２１ｇ、４８．３２ｍｍｏｌ）の溶液が入っている反応
フラスコに、トリエチルアミン（９．７８ｇ、９６．６４ｍｍｏｌ）およびピリジン（７
．６４ｇ、９６．６４ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下、室温で終夜
撹拌した。反応の間に生成した沈殿物を濾過により廃棄した。濾液を１Ｎ ＨＣｌ（１０
０ｍＬ×３）およびブライン（５０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた。濾過後、溶媒を除去して粗生成物を得、これを、ジクロロメタンで溶出しながらシ
リカプラグを通して生成物を得た。これを、アセトニトリル／ＴＨＦ（２／１、ｖ／ｖ）
からの再結晶により精製して白色固体（３３．０ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、
４−（（４−（（８−（トシルオキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニ
ルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４
−カルボキシレートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ１０
上記ステップ９の生成物（８．００ｇ、１０．３２ｍｍｏｌ）、２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン（３．３２ｇ、１５．４８ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（４．３１ｇ、
３０．９７ｍｍｏｌ）が入っている反応フラスコに、２００ｍＬのＤＭＦを加えた。得ら
れた混合物を７０℃油浴中で加熱し、窒素下で２時間撹拌した。ＨＰＬＣによって反応が
完了していることが示されてから、反応混合物を５００ｍＬの水に注加した。生成した沈
殿物を濾過により収集し、空気中で終夜乾燥した。粗生成物を、アセトニトリル／ＴＨＦ
（１／１、ｖ／ｖ）からの再結晶により精製して白色固体（５．１ｇ）を得た。ＮＭＲは
、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［ｔｒａｎｓ，ｔｒ
ａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致する構造を有
していることを示した。
（実施例２）
ステップ１
ベンゾフェノン（３．３２ｇ、１５．４８ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（４．３１ｇ、
３０．９７ｍｍｏｌ）が入っている反応フラスコに、２００ｍＬのＤＭＦを加えた。得ら
れた混合物を７０℃油浴中で加熱し、窒素下で２時間撹拌した。ＨＰＬＣによって反応が
完了していることが示されてから、反応混合物を５００ｍＬの水に注加した。生成した沈
殿物を濾過により収集し、空気中で終夜乾燥した。粗生成物を、アセトニトリル／ＴＨＦ
（１／１、ｖ／ｖ）からの再結晶により精製して白色固体（５．１ｇ）を得た。ＮＭＲは
、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［ｔｒａｎｓ，ｔｒ
ａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致する構造を有
していることを示した。
（実施例２）
ステップ１
２−メチルヒドロキノン（１８９ｇ）および硫酸第二鉄水和物（１２．１８ｇ）が入っ
ている反応フラスコに、１Ｌのジエチルエーテルを加えた。ジヒドロピラン（１６０．０
８ｇ）を滴下添加した。得られた溶液を、窒素下、室温で終夜撹拌した。濾過後、水（７
５０ｍＬ）中の水酸化ナトリウム（６７．５ｇ）を濾液に加え、立方体状のドライアイス
を２日間にわたって添加して、水相を酸性化した。生成した沈殿物を濾過により収集し、
脱イオン水で洗浄し、真空オーブン中で乾燥して褐色固体（１６０ｇ）を得た。ＮＭＲは
、この生成物が、２，３−メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オ
キシ）フェノールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ている反応フラスコに、１Ｌのジエチルエーテルを加えた。ジヒドロピラン（１６０．０
８ｇ）を滴下添加した。得られた溶液を、窒素下、室温で終夜撹拌した。濾過後、水（７
５０ｍＬ）中の水酸化ナトリウム（６７．５ｇ）を濾液に加え、立方体状のドライアイス
を２日間にわたって添加して、水相を酸性化した。生成した沈殿物を濾過により収集し、
脱イオン水で洗浄し、真空オーブン中で乾燥して褐色固体（１６０ｇ）を得た。ＮＭＲは
、この生成物が、２，３−メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オ
キシ）フェノールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ステップ７における４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェノ
ールの代わりに等モル量の２，３−メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−
イル）オキシ）フェノールを使用したこと以外は、実施例１の手順にしたがった。粗生成
物をジクロロメタン中で再結晶させ、薄褐色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下
の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２−メチルフェニル４’−ペンチル−［ｔｒ
ａｎｓ，ｔｒａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致
する構造を有していることを示した。
（実施例３）
ステップ１
ールの代わりに等モル量の２，３−メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−
イル）オキシ）フェノールを使用したこと以外は、実施例１の手順にしたがった。粗生成
物をジクロロメタン中で再結晶させ、薄褐色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下
の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２−メチルフェニル４’−ペンチル−［ｔｒ
ａｎｓ，ｔｒａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートと一致
する構造を有していることを示した。
（実施例３）
ステップ１
適切な反応フラスコ中、窒素下で、１−ブロモ−４−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシク
ロヘキシル）ベンゼン（４３．３１ｇ、０．２８５ｍｏｌ）、４−メトキシフェニルボロ
ン酸（８８．１ｇ、０．２８５ｍｏｌ）、ジメチルエチレングリコール（５００ｍＬ）、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１．６４ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、
炭酸ナトリウム（１２１ｇ、１．１４ｍｏｌ）および水（５７０ｍＬ）の混合物を脱ガス
し、次いで４時間還流させた。室温に冷却した後、ジクロロメタン（１Ｌ）および水（５
００ｍＬ）を加えた。有機層を分離し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し濃縮した。酢
酸エチル（ＥｔＯＡｃ）からの再結晶により、白色結晶（８２ｇ）を得た。ＮＭＲは、こ
の生成物が、４−メトキシ−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）ビフェ
ニルと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ロヘキシル）ベンゼン（４３．３１ｇ、０．２８５ｍｏｌ）、４−メトキシフェニルボロ
ン酸（８８．１ｇ、０．２８５ｍｏｌ）、ジメチルエチレングリコール（５００ｍＬ）、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１．６４ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、
炭酸ナトリウム（１２１ｇ、１．１４ｍｏｌ）および水（５７０ｍＬ）の混合物を脱ガス
し、次いで４時間還流させた。室温に冷却した後、ジクロロメタン（１Ｌ）および水（５
００ｍＬ）を加えた。有機層を分離し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濾過し濃縮した。酢
酸エチル（ＥｔＯＡｃ）からの再結晶により、白色結晶（８２ｇ）を得た。ＮＭＲは、こ
の生成物が、４−メトキシ−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）ビフェ
ニルと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ステップ１の生成物（８０ｇ）およびピリジン塩酸塩（３００ｇ）を反応フラスコに加
え、２００℃に１時間加熱した。得られた混合物を、熱い状態で水に注加した。生成物が
油状物として分離した。水をデカントし、生成物を塩化メチレンに溶解させ、水および飽
和重炭酸ナトリウム水溶液で数回洗浄し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥させ、次いで濃縮した。
濃縮された生成物をエタノールを使用して再結晶させて白色結晶（７５ｇ）を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、４−ヒドロキシ−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）ビフェニルと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
え、２００℃に１時間加熱した。得られた混合物を、熱い状態で水に注加した。生成物が
油状物として分離した。水をデカントし、生成物を塩化メチレンに溶解させ、水および飽
和重炭酸ナトリウム水溶液で数回洗浄し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥させ、次いで濃縮した。
濃縮された生成物をエタノールを使用して再結晶させて白色結晶（７５ｇ）を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、４−ヒドロキシ−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）ビフェニルと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
ジメチルアセトアミド（５００ｍＬ）中の６−クロロヘキサン−１−オール（６３．５
ｇ、４６５．１２ｍｍｏｌ）、４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［
１，１’−ビフェニル］−４−オール（１００ｇ、３１０．０８ｍｍｏｌ）およびヨウ化
カリウム（５．１ｇ、３１．０ｍｍｏｌ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カ
リウム（１２８．５ｇ、９３０．０ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、９０℃で終夜
撹拌した。クロロヘキサノール（１０ｇ）を加え、反応物を９０℃でさらに４０時間撹拌
した。得られた懸濁物を冷水（２．５Ｌ）に加えた。沈殿物を濾別し、水で洗浄した。固
体残留物をジクロロメタン（０．５Ｌ）に溶解させ、ブライン（２００ｍＬ×１）、ＨＣ
ｌ（２００ｍＬ×２）で洗浄し、次いでブライン（２００ｍＬ×１）で再度洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶液を、溶離液としてジクロロメタン／酢酸エチル（８
０／２０、ｖ／ｖ）を使用して短いシリカゲル充填物に通して生成物を得た。これを、ア
セトニトリルとＴＨＦ（２／１；ｖ／ｖ）の混合物からの再結晶によりさらに精製してや
やティントされた結晶（９５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、６−（（４’−（ｔ
ｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキ
シ）ヘキサン−１−オールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
ｇ、４６５．１２ｍｍｏｌ）、４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［
１，１’−ビフェニル］−４−オール（１００ｇ、３１０．０８ｍｍｏｌ）およびヨウ化
カリウム（５．１ｇ、３１．０ｍｍｏｌ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カ
リウム（１２８．５ｇ、９３０．０ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、９０℃で終夜
撹拌した。クロロヘキサノール（１０ｇ）を加え、反応物を９０℃でさらに４０時間撹拌
した。得られた懸濁物を冷水（２．５Ｌ）に加えた。沈殿物を濾別し、水で洗浄した。固
体残留物をジクロロメタン（０．５Ｌ）に溶解させ、ブライン（２００ｍＬ×１）、ＨＣ
ｌ（２００ｍＬ×２）で洗浄し、次いでブライン（２００ｍＬ×１）で再度洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶液を、溶離液としてジクロロメタン／酢酸エチル（８
０／２０、ｖ／ｖ）を使用して短いシリカゲル充填物に通して生成物を得た。これを、ア
セトニトリルとＴＨＦ（２／１；ｖ／ｖ）の混合物からの再結晶によりさらに精製してや
やティントされた結晶（９５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、６−（（４’−（ｔ
ｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキ
シ）ヘキサン−１−オールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
ピリジン（３７ｇ、４７３ｍｍｏｌ）を、室温で、丸底フラスコ中の２５０ｍｌのジク
ロロメタン中の上記ステップ３の生成物（５０ｇ、１１８．３ｍｍｏｌ）およびｐ−トル
エンスルホニルクロリド（３４ｇ、１７７ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。２４時間撹拌した
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液（５００ｍＬ）に注加した。水相をジクロロ
メタン（１５０ｍＬ×２）で抽出した。合わせた有機相をブライン溶液（１００ｍＬ×２
）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を約１５０ｍＬまで濃縮
し、短いシリカゲル充填物および頂部に珪藻土を使用してジクロロメタン／酢酸エチル（
９／１、ｖ／ｖ）で溶出して精製して生成物を得た。これを、−１０℃での酢酸エチルお
よびエタノール（１／８、ｖ／ｖ）からの沈殿によりさらに精製した。収量：６０ｇ。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−
ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する
構造を有していることを示した。
ステップ５
ロロメタン中の上記ステップ３の生成物（５０ｇ、１１８．３ｍｍｏｌ）およびｐ−トル
エンスルホニルクロリド（３４ｇ、１７７ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。２４時間撹拌した
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液（５００ｍＬ）に注加した。水相をジクロロ
メタン（１５０ｍＬ×２）で抽出した。合わせた有機相をブライン溶液（１００ｍＬ×２
）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を約１５０ｍＬまで濃縮
し、短いシリカゲル充填物および頂部に珪藻土を使用してジクロロメタン／酢酸エチル（
９／１、ｖ／ｖ）で溶出して精製して生成物を得た。これを、−１０℃での酢酸エチルお
よびエタノール（１／８、ｖ／ｖ）からの沈殿によりさらに精製した。収量：６０ｇ。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−
ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する
構造を有していることを示した。
ステップ５
ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４−（（４−（（８−（トシルオキシ）オクチル）オキシ）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに等モル量の上記ステップ４の生成物を使用し、溶媒とし
てアセトンを使用したこと以外は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。触媒量
のＫＩを加えて反応を促進させた。これはおよそ２日間要した。酢酸エチルからの再結晶
により、淡黄色針状物を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）フェニル）（フェ
ニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例４）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに等モル量の上記ステップ４の生成物を使用し、溶媒とし
てアセトンを使用したこと以外は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。触媒量
のＫＩを加えて反応を促進させた。これはおよそ２日間要した。酢酸エチルからの再結晶
により、淡黄色針状物を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）フェニル）（フェ
ニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例４）
２−ブタノン（１００ｍＬ）中の、６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−
［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネー
ト（８ｇ、１３．８６ｍｍｏｌ）、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノン（５
．１ｇ、２０．８６ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．
５ｇ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カリウム（４ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）
を加えた。反応物を窒素下、７０℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を水（約２００ｍＬ
）に加え、ＥｔＯＡｃ／ＴＨＦ（４／１、ｖ／ｖ）（２００ｍＬ×２）で２回抽出した。
合わせた有機相を水（１００ｍＬ×２）、ブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、溶媒を除去して生成物を得、これを、シリカゲル
を用いたＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）精製器を用い、勾配のあるジクロロメタン／
酢酸エチルで溶出して精製し、次いで酢酸エチルからの再結晶により、淡黄色固体（４．
８ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２，４−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−（（６−（
（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキ
シ）ヘキシル）オキシ）フェニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例５）
ステップ１
［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネー
ト（８ｇ、１３．８６ｍｍｏｌ）、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノン（５
．１ｇ、２０．８６ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．
５ｇ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カリウム（４ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）
を加えた。反応物を窒素下、７０℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を水（約２００ｍＬ
）に加え、ＥｔＯＡｃ／ＴＨＦ（４／１、ｖ／ｖ）（２００ｍＬ×２）で２回抽出した。
合わせた有機相を水（１００ｍＬ×２）、ブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、溶媒を除去して生成物を得、これを、シリカゲル
を用いたＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）精製器を用い、勾配のあるジクロロメタン／
酢酸エチルで溶出して精製し、次いで酢酸エチルからの再結晶により、淡黄色固体（４．
８ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２，４−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−（（６−（
（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキ
シ）ヘキシル）オキシ）フェニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例５）
ステップ１
５０ｍＬジクロロメタン中の（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）（２−ヒドロ
キシフェニル）メタノン（２４ｇ、８１．８８ｍｍｏｌ）の懸濁物を入れた反応フラスコ
に、ＢＢｒ３（５０ｇ、１６３．７７ｍｍｏｌ）（１００ｍＬのジクロロメタン中に５０
ｇ）を−７８℃で３０分間の期間にわたって滴下添加した。得られた溶液を徐々に室温に
加温し、引き続き終夜撹拌した。ＮａＣｌ飽和水溶液（１５０ｍＬ）を、撹拌しながら、
注意深く反応混合物に加えた。相を分離した後、有機相を保持し、水層をジクロロメタン
（２×２００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を合わせ、ブライン（１００ｍＬ）で２回洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。固体を除去し、溶媒を蒸発させた後、濾液は
生成物をもたらした。これを、シリカゲルを用いたｃｏｍｂｉｆｌａｓｈを用い、ジクロ
ロメタン／酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）（９０／１０、ｖ／ｖ）で溶出して精製した。こう
して得られた生成物は淡黄色固体であり、これを、次のステップで直接使用した。ＮＭＲ
は、この生成物が、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシフェニル）メタ
ノンと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
キシフェニル）メタノン（２４ｇ、８１．８８ｍｍｏｌ）の懸濁物を入れた反応フラスコ
に、ＢＢｒ３（５０ｇ、１６３．７７ｍｍｏｌ）（１００ｍＬのジクロロメタン中に５０
ｇ）を−７８℃で３０分間の期間にわたって滴下添加した。得られた溶液を徐々に室温に
加温し、引き続き終夜撹拌した。ＮａＣｌ飽和水溶液（１５０ｍＬ）を、撹拌しながら、
注意深く反応混合物に加えた。相を分離した後、有機相を保持し、水層をジクロロメタン
（２×２００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を合わせ、ブライン（１００ｍＬ）で２回洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。固体を除去し、溶媒を蒸発させた後、濾液は
生成物をもたらした。これを、シリカゲルを用いたｃｏｍｂｉｆｌａｓｈを用い、ジクロ
ロメタン／酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）（９０／１０、ｖ／ｖ）で溶出して精製した。こう
して得られた生成物は淡黄色固体であり、これを、次のステップで直接使用した。ＮＭＲ
は、この生成物が、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシフェニル）メタ
ノンと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンの代わりに等モル量の（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）（２−ヒドロキシフェニル）メタノンを使用したこと以外は、実施例
４の手順にしたがった。生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、以
下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキ
シル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェニル）
（２−ヒドロキシフェニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例６）
ステップ１
ドロキシフェニル）（２−ヒドロキシフェニル）メタノンを使用したこと以外は、実施例
４の手順にしたがった。生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、以
下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキ
シル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェニル）
（２−ヒドロキシフェニル）メタノンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例６）
ステップ１
室温でのブタン−２−オン（１００ｍＬ）中のビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）
メタノン（１５ｇ、６０．９２ｍｍｏｌ）、ヨードメタン（８．６５ｇ、６０．９２ｍｍ
ｏｌ）の懸濁物を入れた反応フラスコにＣｓ２ＣＯ３（２３．８ｇ、７３．１ｍｍｏｌ）
を加えた。反応物を４８時間撹拌し、この時間の後、ＨＰＬＣは、いくらかの不純物を含
む不完全な反応であることを示した。２００ｍＬの水をフラスコに加え、得られた混合物
を酢酸エチル（１００ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機抽出物をブライン（１００ｍ
Ｌ）で２回洗浄した。溶媒の蒸発により生成物を得た。これを、シリカゲルを用いたｃｏ
ｍｂｉｆｌａｓｈを用い、ジクロロメタン／酢酸エチル（９０／１０、ｖ／ｖ）で溶出し
て精製して、最終生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、（２，４
−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンと一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ２
メタノン（１５ｇ、６０．９２ｍｍｏｌ）、ヨードメタン（８．６５ｇ、６０．９２ｍｍ
ｏｌ）の懸濁物を入れた反応フラスコにＣｓ２ＣＯ３（２３．８ｇ、７３．１ｍｍｏｌ）
を加えた。反応物を４８時間撹拌し、この時間の後、ＨＰＬＣは、いくらかの不純物を含
む不完全な反応であることを示した。２００ｍＬの水をフラスコに加え、得られた混合物
を酢酸エチル（１００ｍＬ）で２回抽出した。合わせた有機抽出物をブライン（１００ｍ
Ｌ）で２回洗浄した。溶媒の蒸発により生成物を得た。これを、シリカゲルを用いたｃｏ
ｍｂｉｆｌａｓｈを用い、ジクロロメタン／酢酸エチル（９０／１０、ｖ／ｖ）で溶出し
て精製して、最終生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、（２，４
−ジヒドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンと一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ２
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンの代わりに等モル量の（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンを使用したこと
以外は、実施例４の手順にしたがった。生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、こ
の生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキ
シル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェニル）
（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンと一致する構造を有していることを
示した。
（実施例７）
ステップ１
ドロキシフェニル）（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンを使用したこと
以外は、実施例４の手順にしたがった。生成物を淡黄色固体の形態で得た。ＮＭＲは、こ
の生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキ
シル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェニル）
（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）メタノンと一致する構造を有していることを
示した。
（実施例７）
ステップ１
室温で６Ｌの蒸留水が入っている１０Ｌ反応フラスコに、ヒドロキノン（６６０ｇ、６
ｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６３６ｇ、６ｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、４
−メチル安息香酸クロリド（４−ｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）（７
７３ｇ、５ｍｏｌ）を、窒素下で滴下添加した。得られた懸濁物を室温で４時間撹拌した
。生成した沈殿物を濾過し、蒸留水（６Ｌ）で洗浄し、クロロホルム（６Ｌ）と蒸留水（
１Ｌ）の混合物に溶解させ、撹拌しながら５０℃に加熱した。有機相を回収し、室温に冷
却した。得られた沈殿物を濾過し、５０℃で乾燥させて白色固体（６５０ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、４−ヒドロキシフェニル４−メチルベンゾエートと一致する構造
を有していることを示した。
ステップ２
ｍｏｌ）および炭酸ナトリウム（６３６ｇ、６ｍｏｌ）を加えた。得られた混合物に、４
−メチル安息香酸クロリド（４−ｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｉｃ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）（７
７３ｇ、５ｍｏｌ）を、窒素下で滴下添加した。得られた懸濁物を室温で４時間撹拌した
。生成した沈殿物を濾過し、蒸留水（６Ｌ）で洗浄し、クロロホルム（６Ｌ）と蒸留水（
１Ｌ）の混合物に溶解させ、撹拌しながら５０℃に加熱した。有機相を回収し、室温に冷
却した。得られた沈殿物を濾過し、５０℃で乾燥させて白色固体（６５０ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、４−ヒドロキシフェニル４−メチルベンゾエートと一致する構造
を有していることを示した。
ステップ２
ステップ７の４−ヒドロキシフェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１
，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートの代わりに上記ステップ１の生
成物を使用したこと以外は、実施例１のステップ７〜８の手順にしたがった。白色固体を
生成物として回収した。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（８−ヒドロキシオク
チル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエートと一致する構造を
有していることを示した。
ステップ３
，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートの代わりに上記ステップ１の生
成物を使用したこと以外は、実施例１のステップ７〜８の手順にしたがった。白色固体を
生成物として回収した。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（８−ヒドロキシオク
チル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエートと一致する構造を
有していることを示した。
ステップ３
４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘ
キシル）ビフェニルの代わりに等モル量の上記ステップ２の生成物を使用したこと以外は
、実施例３のステップ４の手順にしたがった。生成物を、白色固体の形態で得た。ＮＭＲ
は、この生成物が、４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−トシ
ルオキシ）オクチル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
キシル）ビフェニルの代わりに等モル量の上記ステップ２の生成物を使用したこと以外は
、実施例３のステップ４の手順にしたがった。生成物を、白色固体の形態で得た。ＮＭＲ
は、この生成物が、４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−トシ
ルオキシ）オクチル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
２−ブタノン（１００ｍｌ）中の、上記ステップ３の生成物（１０ｇ、１５．８５ｍｍ
ｏｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（３．７３ｇ、１７．４４ｍｍｏｌ）およ
び触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．２５ｇ）の混合物が入っている反応
フラスコに、炭酸カリウム（４．４ｇ、３２ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、７０
℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を冷水（２００ｍＬ）に加えた。沈殿した生成物を濾
過し、それを水で洗浄した。水層を酢酸エチル／ＴＨＦ（４／１、ｖ／ｖ）（１５０ｍＬ
×２）で２回抽出し、収集した固体を合わせた有機相に溶解させ、これを水（１００ｍＬ
×２）およびブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
。溶媒を除去して残留物を得た。これを、溶離液としてジクロロメタンを使用してシリカ
ゲルの短い充填物に通した。粗生成物を酢酸エチルから１回結晶化させて淡黄色固体を得
た。収量：５．０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエートと一致する構
造を有していることを示した。
（実施例８）
ステップ１
ｏｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（３．７３ｇ、１７．４４ｍｍｏｌ）およ
び触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．２５ｇ）の混合物が入っている反応
フラスコに、炭酸カリウム（４．４ｇ、３２ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、７０
℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を冷水（２００ｍＬ）に加えた。沈殿した生成物を濾
過し、それを水で洗浄した。水層を酢酸エチル／ＴＨＦ（４／１、ｖ／ｖ）（１５０ｍＬ
×２）で２回抽出し、収集した固体を合わせた有機相に溶解させ、これを水（１００ｍＬ
×２）およびブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
。溶媒を除去して残留物を得た。これを、溶離液としてジクロロメタンを使用してシリカ
ゲルの短い充填物に通した。粗生成物を酢酸エチルから１回結晶化させて淡黄色固体を得
た。収量：５．０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエートと一致する構
造を有していることを示した。
（実施例８）
ステップ１
４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘ
キシル）ビフェニルの代わりに米国特許第８，３４９，２１０号の実施例３にしたがって
作製された等モル量の４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−ヒドロキシオクチル）オキシ）ベンゾエート
を使用したこと以外は、実施例３のステップ４の手順にしたがった。生成物を、白色固体
の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）
ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−（トシルオキシ）オクチ
ル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
キシル）ビフェニルの代わりに米国特許第８，３４９，２１０号の実施例３にしたがって
作製された等モル量の４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−ヒドロキシオクチル）オキシ）ベンゾエート
を使用したこと以外は、実施例３のステップ４の手順にしたがった。生成物を、白色固体
の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）
ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−（（８−（トシルオキシ）オクチ
ル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
２−ブタノン（１００ｍｌ）中の、上記ステップ１の生成物（１０ｇ、１２．７ｍｍｏ
ｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（３．０ｇ、１３．９７ｍｍｏｌ）および触
媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．２５ｇ）の混合物が入っている反応フラ
スコに、炭酸カリウム（３．６ｇ、２６ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を、窒素保護下、７
０℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を冷水（２００ｍＬ）に加えた。沈殿した生成物を
濾過し、それを水で洗浄した。水層を酢酸エチル（２００ｍＬ×２）で２回抽出し、収集
した固体を合わせた有機相に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）およびブライン（１
００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を除去して生成物を
得た。これを、短いシリカゲル充填物により、溶離液としてジクロロメタンを使用して精
製し、酢酸エチルから１回再結晶して、最終生成物をやや黄色の固体の形態で得た。収量
：５．０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベン
ゾイル）オキシ）フェニル−４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ
）オクチル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例９）
ｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（３．０ｇ、１３．９７ｍｍｏｌ）および触
媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（０．２５ｇ）の混合物が入っている反応フラ
スコに、炭酸カリウム（３．６ｇ、２６ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を、窒素保護下、７
０℃で終夜撹拌した。得られた懸濁物を冷水（２００ｍＬ）に加えた。沈殿した生成物を
濾過し、それを水で洗浄した。水層を酢酸エチル（２００ｍＬ×２）で２回抽出し、収集
した固体を合わせた有機相に溶解させ、これを水（１００ｍＬ×２）およびブライン（１
００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を除去して生成物を
得た。これを、短いシリカゲル充填物により、溶離液としてジクロロメタンを使用して精
製し、酢酸エチルから１回再結晶して、最終生成物をやや黄色の固体の形態で得た。収量
：５．０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベン
ゾイル）オキシ）フェニル−４−（（８−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ
）オクチル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例９）
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンの代わりに等モル量の１−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）エタン−１−オンを使用したこと以外は、実施例４の手順にした
がった。生成物を白色結晶の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような１−（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オ
キシ）フェニル）エタン−１−オンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１０）
ステップ１
ジヒドロキシフェニル）エタン−１−オンを使用したこと以外は、実施例４の手順にした
がった。生成物を白色結晶の形態で得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような１−（２−ヒドロキシ−４−（（６−（（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル）オ
キシ）フェニル）エタン−１−オンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１０）
ステップ１
反応フラスコ中で、４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）安息香酸
（１５０．０２ｇ、５１３．１９ｍｍｏｌ）、メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン−２−イル）オキシ）フェノール（１０７．９３ｇ、５１８．２６ｍｍｏｌ）、ＢＨ
Ｔ（１．１３ｇ、５．１３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（６．２７ｇ、
５１．３２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（７００ｍＬ）に溶解させ、氷上で冷却し、次い
でＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１１８．２４ｇ、５７３．０７ｍｍｏｌ
）を一括添加した。窒素下、室温で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を
濾別し、溶離液としてジクロロメタンを使用して、濾液をシリカのプラグを通して濾過し
た。溶媒を除去して、生成物を褐色油状物の形態で得た。これを、さらに精製することな
く次のステップで直接使用した。
ステップ２
（１５０．０２ｇ、５１３．１９ｍｍｏｌ）、メチル−４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン−２−イル）オキシ）フェノール（１０７．９３ｇ、５１８．２６ｍｍｏｌ）、ＢＨ
Ｔ（１．１３ｇ、５．１３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（６．２７ｇ、
５１．３２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（７００ｍＬ）に溶解させ、氷上で冷却し、次い
でＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１１８．２４ｇ、５７３．０７ｍｍｏｌ
）を一括添加した。窒素下、室温で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を
濾別し、溶離液としてジクロロメタンを使用して、濾液をシリカのプラグを通して濾過し
た。溶媒を除去して、生成物を褐色油状物の形態で得た。これを、さらに精製することな
く次のステップで直接使用した。
ステップ２
ステップ１からの生成物（１８００ｇ、３．７３ｍｏｌ）、ＡｌＣｌ３−６Ｈ２Ｏ（８
０ｇ、０．３３ｍｏｌ）およびメタノール（５Ｌ）の溶液を、２４時間還流加熱した。水
（１．５Ｌ）を反応混合物に加え、次いでこれを０℃で５時間冷却した。濾過により灰色
固体（１００５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−ヒドロキシ−２／３−メチル
フェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ３
０ｇ、０．３３ｍｏｌ）およびメタノール（５Ｌ）の溶液を、２４時間還流加熱した。水
（１．５Ｌ）を反応混合物に加え、次いでこれを０℃で５時間冷却した。濾過により灰色
固体（１００５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−ヒドロキシ−２／３−メチル
フェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致す
る構造を有していることを示した。
ステップ３
６５００ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が入っている反応フラスコに、ＴｓＯＨ
（１７．１３ｇ、０．０９ｍｏｌ）および４−（（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ）安
息香酸を加えた。得られた懸濁物を室温で撹拌し、ジヒドロピラン（９８４ｍｌ、１０．
８０ｍｏｌ）を１時間にわたって滴下添加し、次いで５０℃に加熱した。この温度で２４
時間撹拌した後、ジヒドロピラン（６５４ｍｌ、７．１７ｍｏｌ）を１時間にわたって滴
下添加し、反応混合物を５０℃で２４時間撹拌した。
（１７．１３ｇ、０．０９ｍｏｌ）および４−（（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ）安
息香酸を加えた。得られた懸濁物を室温で撹拌し、ジヒドロピラン（９８４ｍｌ、１０．
８０ｍｏｌ）を１時間にわたって滴下添加し、次いで５０℃に加熱した。この温度で２４
時間撹拌した後、ジヒドロピラン（６５４ｍｌ、７．１７ｍｏｌ）を１時間にわたって滴
下添加し、反応混合物を５０℃で２４時間撹拌した。
溶液を室温に冷却し、珪藻土で濾過し、次いで濃縮した。回収した生成物を９０００ｍ
ｌの塩化メチレンに溶解させ、珪藻土で再度濾過し、次いで濃縮し、９０００ｍｌの石油
エーテルに注加した。こうして生成した沈殿物を濾過により収集し、石油エーテル中での
再結晶により精製し、真空中で乾燥させて白色固体（１．７０Ｋｇ）を得た。ＮＭＲは、
この生成物が、４−（（６−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）ヘキ
シル）オキシ）安息香酸と一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
ｌの塩化メチレンに溶解させ、珪藻土で再度濾過し、次いで濃縮し、９０００ｍｌの石油
エーテルに注加した。こうして生成した沈殿物を濾過により収集し、石油エーテル中での
再結晶により精製し、真空中で乾燥させて白色固体（１．７０Ｋｇ）を得た。ＮＭＲは、
この生成物が、４−（（６−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）ヘキ
シル）オキシ）安息香酸と一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）フェノールおよびｔｒａｎ
ｓ，ｔｒａｎｓ−４−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボン酸
の代わりに上記ステップ２の生成物およびステップ３の生成物を使用したこと以外は、実
施例１のステップ２の手順にしたがった。粗生成物を、さらに精製することなく次のステ
ップで直接使用した。
ステップ５
ｓ，ｔｒａｎｓ−４−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボン酸
の代わりに上記ステップ２の生成物およびステップ３の生成物を使用したこと以外は、実
施例１のステップ２の手順にしたがった。粗生成物を、さらに精製することなく次のステ
ップで直接使用した。
ステップ５
４−（（４−（（８−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）オクチル
）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［
１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートの代わりにステップ４の生成
物を使用したこと以外は、実施例１のステップ８の手順にしたがった。酢酸エチルからの
再結晶により、白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（６−（アク
リロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２／３−メチルフェニル４
−（（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していること
を示した。
ステップ６
）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［
１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボキシレートの代わりにステップ４の生成
物を使用したこと以外は、実施例１のステップ８の手順にしたがった。酢酸エチルからの
再結晶により、白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（（６−（アク
リロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２／３−メチルフェニル４
−（（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していること
を示した。
ステップ６
４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）−４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘ
キシル）ビフェニルの代わりに等モル量の上記ステップ５の生成物を使用したこと以外は
、実施例３のステップ４の手順にしたがった。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（
（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２／３−メチ
ルフェニル４−（（６−（トシルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構
造を有していることを示した。
ステップ７
キシル）ビフェニルの代わりに等モル量の上記ステップ５の生成物を使用したこと以外は
、実施例３のステップ４の手順にしたがった。ＮＭＲは、この生成物が、４−（（４−（
（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）−２／３−メチ
ルフェニル４−（（６−（トシルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構
造を有していることを示した。
ステップ７
４−（（４−（（８−（トシルオキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェ
ニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに等モル量の上記ステップ６の生成物を使用したこと以外
は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。酢酸エチルからの再結晶により、淡黄
色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベン
ゾイル）オキシ）−２／３−メチルフェニル４−（（６−（４−ベンゾイル−３−ヒドロ
キシフェノキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示
した。
（実施例１１）
ステップ１
ニルｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに等モル量の上記ステップ６の生成物を使用したこと以外
は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。酢酸エチルからの再結晶により、淡黄
色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベン
ゾイル）オキシ）−２／３−メチルフェニル４−（（６−（４−ベンゾイル−３−ヒドロ
キシフェノキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示
した。
（実施例１１）
ステップ１
反応フラスコ中で、１００ｍＬのＤＭＦ中のベンゾオキサゾール（１０ｇ、８３．９４
ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２，４−ジメトキシベンゼン（２２ｇ、１００．７３ｍｍｏｌ
）、Ｃｓ２ＣＯ３（２７．３ｇ、８３．９４ｍｍｏｌ）、ＣｕＢｒ（２．４ｇ、１６．７
８ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１ｇ、４．２ｍｍｏｌ）およびＰ（ｔ−Ｂｕ）３（１
．７ｇ、８．３９ｍｍｏｌ）の懸濁物を、１２０℃で撹拌しながら窒素下で３時間加熱し
た。室温に冷却した後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、水（１００ｍＬ×３）で洗浄
し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、次いで濾過した。濾液から溶媒を蒸発させて粗生成物を得た
。これを、溶離液としてジクロロメタン／ＥｔＯＡｃ（９／１、ｖ／ｖ）を使用して、短
いシリカゲル充填物を通して精製した。収量：２０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、２−（
２，４−ジメトキシフェニル）ベンゾオキサゾールと一致する構造を有していることを示
した。
ステップ２
ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２，４−ジメトキシベンゼン（２２ｇ、１００．７３ｍｍｏｌ
）、Ｃｓ２ＣＯ３（２７．３ｇ、８３．９４ｍｍｏｌ）、ＣｕＢｒ（２．４ｇ、１６．７
８ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１ｇ、４．２ｍｍｏｌ）およびＰ（ｔ−Ｂｕ）３（１
．７ｇ、８．３９ｍｍｏｌ）の懸濁物を、１２０℃で撹拌しながら窒素下で３時間加熱し
た。室温に冷却した後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、水（１００ｍＬ×３）で洗浄
し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、次いで濾過した。濾液から溶媒を蒸発させて粗生成物を得た
。これを、溶離液としてジクロロメタン／ＥｔＯＡｃ（９／１、ｖ／ｖ）を使用して、短
いシリカゲル充填物を通して精製した。収量：２０ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、２−（
２，４−ジメトキシフェニル）ベンゾオキサゾールと一致する構造を有していることを示
した。
ステップ２
１００ｍＬのジクロロメタン中の上記ステップ１の生成物（２５ｇ、９７．９３ｍｍｏ
ｌ）の懸濁物に、ＢＢｒ３（７３．６ｇ、２９３．８ｍｍｏｌ、ジクロロメタン中に１Ｍ
）を−７８℃で３０分間の期間にわたって滴下添加した。得られた溶液を２時間の期間に
わたって室温に加温し、終夜撹拌した。ＮａＣｌ飽和水溶液（１００ｍＬ）を、反応混合
物に注意深く添加した。得られた混合物をジクロロメタン（２×２００ｍＬ）で抽出した
。合わせた有機抽出物をブライン（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。濾過後、濾液の溶媒を除去して粗生成物を得た。これを、溶離液としてジク
ロロメタン−１０％酢酸エチルを使用して、短いシリカゲル充填物に通して暗褐色固体（
１０ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（ベンゾオキサゾール−２−イル）ベン
ゼン−１，３−ジオールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
ｌ）の懸濁物に、ＢＢｒ３（７３．６ｇ、２９３．８ｍｍｏｌ、ジクロロメタン中に１Ｍ
）を−７８℃で３０分間の期間にわたって滴下添加した。得られた溶液を２時間の期間に
わたって室温に加温し、終夜撹拌した。ＮａＣｌ飽和水溶液（１００ｍＬ）を、反応混合
物に注意深く添加した。得られた混合物をジクロロメタン（２×２００ｍＬ）で抽出した
。合わせた有機抽出物をブライン（２００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させた。濾過後、濾液の溶媒を除去して粗生成物を得た。これを、溶離液としてジク
ロロメタン−１０％酢酸エチルを使用して、短いシリカゲル充填物に通して暗褐色固体（
１０ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（ベンゾオキサゾール−２−イル）ベン
ゼン−１，３−ジオールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンの代わりに等モル量の上記ステップ３
の生成物を使用したこと以外は、実施例４の手順にしたがった。粗生成物を、トルエンか
らの再結晶により精製して淡黄色結晶を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（ベンゾオキサゾール−２−イル）−５−（（６−（（４’−（４
−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル
）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１２）
ステップ１
の生成物を使用したこと以外は、実施例４の手順にしたがった。粗生成物を、トルエンか
らの再結晶により精製して淡黄色結晶を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（ベンゾオキサゾール−２−イル）−５−（（６−（（４’−（４
−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル
）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１２）
ステップ１
ＤＭＦ（２００ｍＬ）中の６−クロロヘキサン−１−オール（２５ｇ、１８２．６ｍｍ
ｏｌ）、４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキ
サン）］−４−イル）フェノール（５０ｇ、１５２．２ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラ
ブチルアンモニウムヨージド（０．５ｇ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カ
リウム（４２ｇ、３０４．４ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、８０℃で終夜撹拌し
た。追加の６−クロロヘキサン−１−オール（１０ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を加
え、混合物を９０℃でさらに２日間撹拌した。この懸濁物を水（２Ｌ）に注加し、沈殿生
成物を濾過し、水で洗浄し、ジクロロメタン（５００ｍＬ）に再度溶解させ、ブライン（
２００ｍｌ×２）で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を
シリカゲルの短い充填物に通した。溶媒を除去し、酢酸エチルから再結晶して、白色結晶
性固体（４５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎ
ｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘ
キサン−１−オールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ｏｌ）、４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキ
サン）］−４−イル）フェノール（５０ｇ、１５２．２ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラ
ブチルアンモニウムヨージド（０．５ｇ）の混合物が入っている反応フラスコに、炭酸カ
リウム（４２ｇ、３０４．４ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒素下、８０℃で終夜撹拌し
た。追加の６−クロロヘキサン−１−オール（１０ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を加
え、混合物を９０℃でさらに２日間撹拌した。この懸濁物を水（２Ｌ）に注加し、沈殿生
成物を濾過し、水で洗浄し、ジクロロメタン（５００ｍＬ）に再度溶解させ、ブライン（
２００ｍｌ×２）で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を
シリカゲルの短い充填物に通した。溶媒を除去し、酢酸エチルから再結晶して、白色結晶
性固体（４５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎ
ｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘ
キサン−１−オールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
反応フラスコ中で、ピリジン（１５ｇ、１８６．６ｍｍｏｌ）を、２００ｍＬのジクロ
ロメタン中の６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（
シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オール（２０ｇ、４６．６
５ｍｍｏｌ）および４−トルエンスルホニルクロリド（１７．８ｇ、９３．３ｍｍｏｌ）
の溶液に室温で加えた。終夜撹拌した後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム（約２００
ｍＬ）に加えた。有機相を保持した。水相をジクロロメタン（１００ｍＬ×２）で抽出し
た。合わせた有機相をブライン（２００ｍｌ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。濾過後、溶離液としてジクロロメタン（ｖ／ｖ）中の１０％ＥｔＯＡｃを使用
して、濾液を短いシリカゲル充填物に通した。溶媒を除去して生成物を得た。これを、Ｅ
ｔＯＡｃからの再結晶により精製した。収量：２５ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、６−（
４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］
−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する構造を有
していることを示した。
ステップ３
ロメタン中の６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（
シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オール（２０ｇ、４６．６
５ｍｍｏｌ）および４−トルエンスルホニルクロリド（１７．８ｇ、９３．３ｍｍｏｌ）
の溶液に室温で加えた。終夜撹拌した後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム（約２００
ｍＬ）に加えた。有機相を保持した。水相をジクロロメタン（１００ｍＬ×２）で抽出し
た。合わせた有機相をブライン（２００ｍｌ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた。濾過後、溶離液としてジクロロメタン（ｖ／ｖ）中の１０％ＥｔＯＡｃを使用
して、濾液を短いシリカゲル充填物に通した。溶媒を除去して生成物を得た。これを、Ｅ
ｔＯＡｃからの再結晶により精製した。収量：２５ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、６−（
４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］
−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する構造を有
していることを示した。
ステップ３
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［
１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼ
ンスルホネート（１０ｇ、１７．１５ｍｍｏｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（４．４ｇ、２０．５８ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（
０．２５ｇ）の混合物に、炭酸カリウム（４．７４ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）を加え、続い
て７０℃で４８時間撹拌した。ＴＨＦを除去して粘着性の残留物を得、これに２００ｍｌ
の水を加えた。混合物をジクロロメタン（１００ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機抽
出物をブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過
後、溶媒を蒸発させて生成物を得、これを、短いシリカゲル充填物を使用することによっ
て、溶離液としてジクロロメタンを使用して精製し、続いてＥｔＯＡｃからの再結晶を行
った。収量：６．６ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（４−（４’−ペンチル−［１，１’
−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル）オキシフェニル）メタノ
ンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１３）
ステップ１
１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼ
ンスルホネート（１０ｇ、１７．１５ｍｍｏｌ）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
（４．４ｇ、２０．５８ｍｍｏｌ）および触媒量のテトラブチルアンモニウムヨージド（
０．２５ｇ）の混合物に、炭酸カリウム（４．７４ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）を加え、続い
て７０℃で４８時間撹拌した。ＴＨＦを除去して粘着性の残留物を得、これに２００ｍｌ
の水を加えた。混合物をジクロロメタン（１００ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機抽
出物をブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過
後、溶媒を蒸発させて生成物を得、これを、短いシリカゲル充填物を使用することによっ
て、溶離液としてジクロロメタンを使用して精製し、続いてＥｔＯＡｃからの再結晶を行
った。収量：６．６ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような（２−ヒドロキシ−４−（（６−（４−（４’−ペンチル−［１，１’
−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル）オキシフェニル）メタノ
ンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１３）
ステップ１
４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）
］−４−イル）フェノールの代わりに２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎ
ｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノールを使
用したこと以外は、実施例１２のステップ１の手順にしたがって、白色結晶を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、６−（２，６−ジフルオロ−４−（４’−ペンチル−［１，１’−
ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オールと一致する構造
を有していることを示した。
ステップ２
］−４−イル）フェノールの代わりに２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎ
ｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノールを使
用したこと以外は、実施例１２のステップ１の手順にしたがって、白色結晶を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、６−（２，６−ジフルオロ−４−（４’−ペンチル−［１，１’−
ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オールと一致する構造
を有していることを示した。
ステップ２
６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキ
サン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オールの代わりに上記ステップ１の生
成物を使用したこと以外は、実施例１２のステップ２の手順にしたがって白色結晶を得た
。ＮＭＲは、この生成物が、ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−６−（２，６−ジフルオロ−（４
−（４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン（ｃｙｃｌｏｈａｘａｎｅ））］
−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する構造を有
していることを示した。
ステップ３
サン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキサン−１−オールの代わりに上記ステップ１の生
成物を使用したこと以外は、実施例１２のステップ２の手順にしたがって白色結晶を得た
。ＮＭＲは、この生成物が、ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−６−（２，６−ジフルオロ−（４
−（４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン（ｃｙｃｌｏｈａｘａｎｅ））］
−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートと一致する構造を有
していることを示した。
ステップ３
６−（４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキ
サン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートならびにビ
ス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンおよび２−ブタノンの代わりにそれぞれ上
記ステップ２の生成物、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンおよびＴＨＦを使用したこ
と以外は、実施例１２のステップ３の手順にしたがった。粗生成物を、ヘキサンからの再
結晶により精製して淡黄色結晶を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（６−（２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−
４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシ
ル）オキシ）−２−ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノンと一致する構造を有して
いることを示した。
（実施例１４）
サン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネートならびにビ
ス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタノンおよび２−ブタノンの代わりにそれぞれ上
記ステップ２の生成物、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンおよびＴＨＦを使用したこ
と以外は、実施例１２のステップ３の手順にしたがった。粗生成物を、ヘキサンからの再
結晶により精製して淡黄色結晶を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（６−（２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−
４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−イル）フェノキシ）ヘキシ
ル）オキシ）−２−ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノンと一致する構造を有して
いることを示した。
（実施例１４）
ジクロロメタン（１００ｍＬ）中の４−（（４−（（８−ヒドロキシオクチル）オキシ
）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエート（１０ｇ、２０．９８ｍｍｏｌ
）（ＣＩＡＣ、Ｃｈｉｎａにより特注合成されたもの）、アルファ−シアノケイ皮酸（４
．０ｇ、２３．０８ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（５．１８ｇ、２５．
１７ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．３８５ｇ、３．１５ｍｍｏｌ）
の混合物を、窒素下、室温で終夜撹拌した。生成した白色沈殿物を廃棄した。得られた溶
液を部分濃縮し、シリカゲルの短い充填物を用いて、ジクロロメタンで溶出して精製し、
次いで、ＴＨＦと酢酸エチルの混合物から結晶化させて白色固体（１０ｇ）を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、以下の式
で表されるような（Ｅ）−４−（（４−（（８−（（２−シアノ−３−フェニルアクリロ
イル）オキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエー
トと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１５）
ステップ１
）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエート（１０ｇ、２０．９８ｍｍｏｌ
）（ＣＩＡＣ、Ｃｈｉｎａにより特注合成されたもの）、アルファ−シアノケイ皮酸（４
．０ｇ、２３．０８ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（５．１８ｇ、２５．
１７ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．３８５ｇ、３．１５ｍｍｏｌ）
の混合物を、窒素下、室温で終夜撹拌した。生成した白色沈殿物を廃棄した。得られた溶
液を部分濃縮し、シリカゲルの短い充填物を用いて、ジクロロメタンで溶出して精製し、
次いで、ＴＨＦと酢酸エチルの混合物から結晶化させて白色固体（１０ｇ）を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、以下の式
で表されるような（Ｅ）−４−（（４−（（８−（（２−シアノ−３−フェニルアクリロ
イル）オキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエー
トと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１５）
ステップ１
エタノール（１００ｍＬ）、水（１００ｍＬ）およびＮａＯＨ（７．１２ｇ、１８４．
７５ｍｍｏｌ）中のメチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（２０．５ｇ
、７３．９ｍｍｏｌ）の懸濁物を室温で終夜撹拌し、次いで１０．２ｇの３６％ＨＣｌで
酸性化した。沈殿物を濾別し、水で洗浄し、乾燥して１７ｇの黄色がかった粉末を得た。
ＮＭＲは、この生成物が、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸と一致する構造を
有していることを示した。
ステップ２
７５ｍｍｏｌ）中のメチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（２０．５ｇ
、７３．９ｍｍｏｌ）の懸濁物を室温で終夜撹拌し、次いで１０．２ｇの３６％ＨＣｌで
酸性化した。沈殿物を濾別し、水で洗浄し、乾燥して１７ｇの黄色がかった粉末を得た。
ＮＭＲは、この生成物が、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸と一致する構造を
有していることを示した。
ステップ２
アルファ−シアノケイ皮酸の代わりに上記ステップ１の生成物を使用したこと以外は、
実施例１４の手順にしたがって白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイ
ル）オキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエート
と一致する構造を有していることを示した。
（実施例１６）
ステップ１
実施例１４の手順にしたがって白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−（（８−（（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイ
ル）オキシ）オクチル）オキシ）ベンゾイル）オキシ）フェニル４−メチルベンゾエート
と一致する構造を有していることを示した。
（実施例１６）
ステップ１
５０ｍＬのエチレングリコール中のエチルオキサニレート（１０ｇ、５１．７６ｍｍｏ
ｌ）および４−アミノフェノール（５．６５ｇ、５１．７６ｍｍｏｌ）の懸濁物を９０℃
に５時間加熱した。得られた懸濁物を水（２００ｍＬ）に加えて沈殿物を得、これを収集
し、６０℃で乾燥した。粗生成物を、−１０℃でジクロロメタンおよびメタノールから沈
殿させて灰白色結晶（７ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、Ｎ１−（４−ヒドロキシ
フェニル）−Ｎ２−フェニルオキサルアミドと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
ｌ）および４−アミノフェノール（５．６５ｇ、５１．７６ｍｍｏｌ）の懸濁物を９０℃
に５時間加熱した。得られた懸濁物を水（２００ｍＬ）に加えて沈殿物を得、これを収集
し、６０℃で乾燥した。粗生成物を、−１０℃でジクロロメタンおよびメタノールから沈
殿させて灰白色結晶（７ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、Ｎ１−（４−ヒドロキシ
フェニル）−Ｎ２−フェニルオキサルアミドと一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
実施例７のステップ２の生成物（２０ｇ、４１．９７ｍｍｏｌ）および無水コハク酸（
５．０４ｇ、５０．４ｍｍｏｌ、１．２当量）に、４００ｍＬのトルエンおよび触媒量の
４−ジメチルアミノピリジンを加えた。反応物を還流下で終夜加熱し、次いで室温に冷却
した。生成した沈殿物を濾過により収集し、空気乾燥して定量的な量の白色粉末を得た。
ステップ３
５．０４ｇ、５０．４ｍｍｏｌ、１．２当量）に、４００ｍＬのトルエンおよび触媒量の
４−ジメチルアミノピリジンを加えた。反応物を還流下で終夜加熱し、次いで室温に冷却
した。生成した沈殿物を濾過により収集し、空気乾燥して定量的な量の白色粉末を得た。
ステップ３
５００ｍＬの一口丸底フラスコ中の、上記ステップ２の生成物（４ｇ、１．７３ｍｍｏ
ｌ）、上記ステップ１の生成物（１．７６ｇ、１．７３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（１．６ｇ、１．９ｍｍｏｌ）および４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノピリジン（０．１ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）および２００ｍＬのジクロロメタンの溶液を
窒素雰囲気下、室温で終夜撹拌した。反応の間に生成した白色沈殿物を、ブフナー漏斗に
よる濾過によって廃棄した。得られた溶液を、ジクロロメタンを使用して溶出して、短い
シリカゲル充填物に通した。溶媒を除去して生成物を得た。これを、ＴＨＦとＥｔＯＡｃ
（１／２、ｖ／ｖ）の混合物からの再結晶により精製して最終生成物を白色固体として得
た。収量：５．５ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）
カルボニル）フェノキシ）オクチル（４−（２−オキソ−２−（フェニルアミノ）アセト
アミド）フェニル）スクシネートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１７）
ｌ）、上記ステップ１の生成物（１．７６ｇ、１．７３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（１．６ｇ、１．９ｍｍｏｌ）および４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノピリジン（０．１ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）および２００ｍＬのジクロロメタンの溶液を
窒素雰囲気下、室温で終夜撹拌した。反応の間に生成した白色沈殿物を、ブフナー漏斗に
よる濾過によって廃棄した。得られた溶液を、ジクロロメタンを使用して溶出して、短い
シリカゲル充填物に通した。溶媒を除去して生成物を得た。これを、ＴＨＦとＥｔＯＡｃ
（１／２、ｖ／ｖ）の混合物からの再結晶により精製して最終生成物を白色固体として得
た。収量：５．５ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）
カルボニル）フェノキシ）オクチル（４−（２−オキソ−２−（フェニルアミノ）アセト
アミド）フェニル）スクシネートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１７）
ジクロロメタン（１５０ｍＬ）中の２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（４．６０ｇ
、２１．５ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（５．８９ｇ、２
４．５ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２６００ｇ、２．１３０ｍｍ
ｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（４．９５ｇ、２４．０ｍ
ｍｏｌ）を加えた。室温で４時間撹拌した後、追加の４−（４−ペンチルシクロヘキシル
）安息香酸（０．２４ｇ、０．８７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（０．２６ｇ、１．３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０１２４
ｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）を加え、溶液を終夜撹拌した。Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿
素副生成物を除去し、濾液をシリカゲル上で濃縮し、次いでクロマトグラフにかけた（１
２０ｇカラム、溶離液はヘキサン中の２．５％ｖｏｌ／ｖｏｌ ＥｔＯＡｃであった）。
得られた灰白色物質をＥｔＯＨ／アセトニトリル／ＥｔＯＡｃ（６０／２０／２０、ｖ／
ｖ／ｖ）の混合物から再結晶して、淡黄色結晶（８．３６ｇ）を得た。ＮＭＲ分析は、こ
の生成物が、以下の式
で表されるような４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４−（４−ペンチルシクロヘ
キシル）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１８）
、２１．５ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（５．８９ｇ、２
４．５ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．２６００ｇ、２．１３０ｍｍ
ｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（４．９５ｇ、２４．０ｍ
ｍｏｌ）を加えた。室温で４時間撹拌した後、追加の４−（４−ペンチルシクロヘキシル
）安息香酸（０．２４ｇ、０．８７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（０．２６ｇ、１．３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０１２４
ｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）を加え、溶液を終夜撹拌した。Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿
素副生成物を除去し、濾液をシリカゲル上で濃縮し、次いでクロマトグラフにかけた（１
２０ｇカラム、溶離液はヘキサン中の２．５％ｖｏｌ／ｖｏｌ ＥｔＯＡｃであった）。
得られた灰白色物質をＥｔＯＨ／アセトニトリル／ＥｔＯＡｃ（６０／２０／２０、ｖ／
ｖ／ｖ）の混合物から再結晶して、淡黄色結晶（８．３６ｇ）を得た。ＮＭＲ分析は、こ
の生成物が、以下の式
で表されるような４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４−（４−ペンチルシクロヘ
キシル）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１８）
ジクロロメタン（１００ｍＬ）およびＥｔＯＡｃ（５ｍＬ）中の２，４，４’−トリヒ
ドロキシベンゾフェノン（３．１０ｇ、１３．４７ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシク
ロヘキシル）安息香酸（３．７１ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリ
ジン（０．１６５０ｇ、１．３５０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（３．２５ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３０分間撹拌した後、
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．７１ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）、４−
ジメチルアミノピリジン（０．１６５０ｇ、１．３５０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（３．２５ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）のさらなる添加を行った
。室温で週末にわたって撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（０
．４２ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．３８ｇ
、１．８ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０１７９ｇ、０．１４７ｍ
ｍｏｌ）のさらなる添加を行った。終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副
生成物を除去し、濾液を減圧下で部分濃縮し、次いでシリカプラグ（溶離液はヘキサン中
の８０％ｖ／ｖジクロロメタンであった）で濾過して淡黄色固体を得た。これを、ＥｔＯ
Ａｃから再結晶して淡黄色物質（８．５１ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の
式
で表されるような４−（２−ヒドロキシ−４−（（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）
ベンゾイル）オキシ）ベンゾイル）フェニル４−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾ
エートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１９）
ステップ１
ドロキシベンゾフェノン（３．１０ｇ、１３．４７ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシク
ロヘキシル）安息香酸（３．７１ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリ
ジン（０．１６５０ｇ、１．３５０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（３．２５ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３０分間撹拌した後、
４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．７１ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）、４−
ジメチルアミノピリジン（０．１６５０ｇ、１．３５０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（３．２５ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）のさらなる添加を行った
。室温で週末にわたって撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（０
．４２ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．３８ｇ
、１．８ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０１７９ｇ、０．１４７ｍ
ｍｏｌ）のさらなる添加を行った。終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副
生成物を除去し、濾液を減圧下で部分濃縮し、次いでシリカプラグ（溶離液はヘキサン中
の８０％ｖ／ｖジクロロメタンであった）で濾過して淡黄色固体を得た。これを、ＥｔＯ
Ａｃから再結晶して淡黄色物質（８．５１ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の
式
で表されるような４−（２−ヒドロキシ−４−（（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）
ベンゾイル）オキシ）ベンゾイル）フェニル４−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾ
エートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例１９）
ステップ１
ジクロロメタン／ＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ、９５／５ｖｏｌ％）中の２，２’，４，４
’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（３．１０ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）、４−（４−ペ
ンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．４６ｇ、１２．６０ｍｍｏｌ）および４−ジメチ
ルアミノピリジン（０．１５４０ｇ、１．２６０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（２．８４ｇ、１３．７６ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温
で３０分間撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．４６ｇ、１
２．６０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１５４０ｇ、１．２６０ｍｍｏ
ｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（２．８４ｇ、１３．７６ｍｍｏ
ｌ）の２回目の添加を行った。５時間撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）
安息香酸（１．０５ｇ、４．２６ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０９４
１ｇ、０．７７０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．９
０ｇ、４．３６ｍｍｏｌ）のさらなる添加を行い、混合物を終夜撹拌した。Ｎ，Ｎ’−ジ
シクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を濃縮して灰白色固体を得た。これをＥｔＯ
Ａｃから再結晶して、所望の生成物（１．９４ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以
下の式
で表されるようなカルボニルビス（３−ヒドロキシ−４，１−フェニレン）ビス（４−（
４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾエート）と一致する構造を有していることを示した
。
（実施例２０）
’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（３．１０ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）、４−（４−ペ
ンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．４６ｇ、１２．６０ｍｍｏｌ）および４−ジメチ
ルアミノピリジン（０．１５４０ｇ、１．２６０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（２．８４ｇ、１３．７６ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温
で３０分間撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）安息香酸（３．４６ｇ、１
２．６０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１５４０ｇ、１．２６０ｍｍｏ
ｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（２．８４ｇ、１３．７６ｍｍｏ
ｌ）の２回目の添加を行った。５時間撹拌した後、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）
安息香酸（１．０５ｇ、４．２６ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０９４
１ｇ、０．７７０ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．９
０ｇ、４．３６ｍｍｏｌ）のさらなる添加を行い、混合物を終夜撹拌した。Ｎ，Ｎ’−ジ
シクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を濃縮して灰白色固体を得た。これをＥｔＯ
Ａｃから再結晶して、所望の生成物（１．９４ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以
下の式
で表されるようなカルボニルビス（３−ヒドロキシ−４，１−フェニレン）ビス（４−（
４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾエート）と一致する構造を有していることを示した
。
（実施例２０）
ジクロロメタン／ＥｔＯＡｃ（９５／５ｖｏｌ％）中の２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン（４．００ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）、４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［
１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸（６．５４ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）および４−
ジメチルアミノピリジン（０．２３ｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（４．３６ｇ、２１．１ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温で６
時間撹拌した後、追加の４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニ
ル］−４−カルボン酸（０．３９ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（０．３６ｇ、１．７ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．
０１３１ｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）を加え、溶液を週末にわたって撹拌した。Ｎ，Ｎ’−
ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶
離液は１００％ジクロロメタンであった）に通した。得られた物質をＥｔＯＡｃから再結
晶して、所望の生成物（８．３２ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４’−（４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボキシレートと一致する構造を有して
いることを示した。
（実施例２１）
ェノン（４．００ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）、４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［
１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸（６．５４ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）および４−
ジメチルアミノピリジン（０．２３ｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（４．３６ｇ、２１．１ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温で６
時間撹拌した後、追加の４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニ
ル］−４−カルボン酸（０．３９ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド（０．３６ｇ、１．７ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．
０１３１ｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）を加え、溶液を週末にわたって撹拌した。Ｎ，Ｎ’−
ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶
離液は１００％ジクロロメタンであった）に通した。得られた物質をＥｔＯＡｃから再結
晶して、所望の生成物（８．３２ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４’−（４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボキシレートと一致する構造を有して
いることを示した。
（実施例２１）
ジクロロメタン／ＥｔＯＡｃ（９５／５ｖｏｌ％）中の２，２’，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン（５．００ｇ、２０．３ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシクロ
ヘキシル）安息香酸（５．３０ｇ、１９．３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジ
ン（０．２５ｇ、２．１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（４．７５ｇ、２３．０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で週末にわたって撹拌した後、Ｎ，
Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラ
グ（溶離液は、１００％ジクロロメタン、次いでジクロロメタン中の１０％ＥｔＯＡｃ、
ｖ／ｖに切り替えた）に通し、これにより２つの画分を得た。より純度の低い画分をＥｔ
ＯＡｃから再結晶し、これは、所望の生成物は母液中に残ったままで「ジメソゲン」を晶
出させた。母液と残りの画分を合わせ（５．９２ｇ）、シリカ上で濃縮し、次いでＣｏｍ
ｂｉＦｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の５％ジクロロメタンであった）により精製して物
質を得、次いでこれを、ＥｔＯＨから再結晶して所望の生成物（１．７４ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（２，４−ジヒドロキシベンゾイル）−３−ヒドロキシフェニル４
−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２２）
ステップ１
ドロキシベンゾフェノン（５．００ｇ、２０．３ｍｍｏｌ）、４−（４−ペンチルシクロ
ヘキシル）安息香酸（５．３０ｇ、１９．３ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジ
ン（０．２５ｇ、２．１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（４．７５ｇ、２３．０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で週末にわたって撹拌した後、Ｎ，
Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラ
グ（溶離液は、１００％ジクロロメタン、次いでジクロロメタン中の１０％ＥｔＯＡｃ、
ｖ／ｖに切り替えた）に通し、これにより２つの画分を得た。より純度の低い画分をＥｔ
ＯＡｃから再結晶し、これは、所望の生成物は母液中に残ったままで「ジメソゲン」を晶
出させた。母液と残りの画分を合わせ（５．９２ｇ）、シリカ上で濃縮し、次いでＣｏｍ
ｂｉＦｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の５％ジクロロメタンであった）により精製して物
質を得、次いでこれを、ＥｔＯＨから再結晶して所望の生成物（１．７４ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（２，４−ジヒドロキシベンゾイル）−３−ヒドロキシフェニル４
−（４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾエートと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２２）
ステップ１
窒素ブランケット下での一口丸底フラスコ中で、１Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］ト
リアゾール（２．６０ｇ、２１．８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン／ＴＨＦ（４０ｍＬ無水
、５０／５０、ｖ／ｖ）の溶液に溶解させ、続いてＳＯＣｌ２（０．５５ｍＬ、ｄ＝１．
６４ｇ／ｍＬ、７．６ｍｍｏｌ）を滴下添加した。室温で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１
５ｍＬ無水）中のサリチル酸（１．００ｇ、７．２５ｍｍｏｌ）の溶液を滴下添加し、約
２時間撹拌した。
ステップ２
リアゾール（２．６０ｇ、２１．８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン／ＴＨＦ（４０ｍＬ無水
、５０／５０、ｖ／ｖ）の溶液に溶解させ、続いてＳＯＣｌ２（０．５５ｍＬ、ｄ＝１．
６４ｇ／ｍＬ、７．６ｍｍｏｌ）を滴下添加した。室温で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１
５ｍＬ無水）中のサリチル酸（１．００ｇ、７．２５ｍｍｏｌ）の溶液を滴下添加し、約
２時間撹拌した。
ステップ２
４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−オール（２．７６ｇ、１
０．９ｍｍｏｌ）の別の溶液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ、無水）に溶解させ、続いて、水素化
ナトリウム（０．４７ｇ、鉱油中の６０％分散液、１２ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒
素下、室温で１０分間撹拌し、次いで、液体をデカントして除去し、上記ステップ１の溶
液に加えた。窒素下、室温で終夜撹拌した後、この物質をシリカプラグ（溶離液はヘキサ
ン中の５％ＥｔＯＡｃであった）に通して白色固体を得、これを、ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ
（８０／２０、ｖ／ｖ）から２回再結晶して、白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が
、以下の式
で表されるような４’−ペンチル−［ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘ
キサン）］−４−イル２−ヒドロキシベンゾエートと一致する構造を有していることを示
した。
（実施例２３）
ステップ１
０．９ｍｍｏｌ）の別の溶液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ、無水）に溶解させ、続いて、水素化
ナトリウム（０．４７ｇ、鉱油中の６０％分散液、１２ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を窒
素下、室温で１０分間撹拌し、次いで、液体をデカントして除去し、上記ステップ１の溶
液に加えた。窒素下、室温で終夜撹拌した後、この物質をシリカプラグ（溶離液はヘキサ
ン中の５％ＥｔＯＡｃであった）に通して白色固体を得、これを、ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ
（８０／２０、ｖ／ｖ）から２回再結晶して、白色固体を得た。ＮＭＲは、この生成物が
、以下の式
で表されるような４’−ペンチル−［ｔｒａｎｓ−ｔｒａｎｓ−１，１’−ビ（シクロヘ
キサン）］−４−イル２−ヒドロキシベンゾエートと一致する構造を有していることを示
した。
（実施例２３）
ステップ１
ジクロロメタン（１００ｍＬ）中の２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（６．００ｇ
、２８．０ｍｍｏｌ）、４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）安息
香酸（６．２２ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９５年、
２８巻、３３１３〜３３２頁に公開されている手順にしたがって作製した）および４−ジ
メチルアミノピリジン（０．３４２２ｇ、２．８０１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド（６．３６ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室
温で終夜撹拌した後、追加の４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）
安息香酸（０．７５ｇ、３．４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０４０９
ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．９０ｇ
、４．４ｍｍｏｌ）を加えた。４時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生
成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶離液はジクロロメタン中の
２．５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）を通して濾過して灰白色固体（１１．８７ｇ）を
得、これを、さらに精製することなく次のステップで直接使用した。
ステップ２
、２８．０ｍｍｏｌ）、４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）安息
香酸（６．２２ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９５年、
２８巻、３３１３〜３３２頁に公開されている手順にしたがって作製した）および４−ジ
メチルアミノピリジン（０．３４２２ｇ、２．８０１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド（６．３６ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室
温で終夜撹拌した後、追加の４−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）
安息香酸（０．７５ｇ、３．４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０４０９
ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．９０ｇ
、４．４ｍｍｏｌ）を加えた。４時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生
成物を除去し、濾液を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶離液はジクロロメタン中の
２．５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）を通して濾過して灰白色固体（１１．８７ｇ）を
得、これを、さらに精製することなく次のステップで直接使用した。
ステップ２
上記ステップ１からの生成物をＭｅＯＨ／ＴＨＦ（１／１ｖｏｌ／ｖｏｌ％）（２００
ｍＬ）の混合物に溶解させ、次いでＴｓＯＨ（１．０７ｇ、５．６０ｍｍｏｌ）を加えた
。室温で３０分間撹拌した後、溶液を約１００ｍＬの全体積まで濃縮し、氷冷メタノール
（２０ｍＬ）を加えることによって生成物を沈殿させた。得られた固体を収集し、真空下
で乾燥させた。ＮＭＲは、この生成物が、４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４−
ヒドロキシベンゾエート（８．６７ｇ）と一致する構造を有していることを示した。これ
を、さらに精製することなく次のステップで使用した。
ステップ３
ｍＬ）の混合物に溶解させ、次いでＴｓＯＨ（１．０７ｇ、５．６０ｍｍｏｌ）を加えた
。室温で３０分間撹拌した後、溶液を約１００ｍＬの全体積まで濃縮し、氷冷メタノール
（２０ｍＬ）を加えることによって生成物を沈殿させた。得られた固体を収集し、真空下
で乾燥させた。ＮＭＲは、この生成物が、４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル４−
ヒドロキシベンゾエート（８．６７ｇ）と一致する構造を有していることを示した。これ
を、さらに精製することなく次のステップで使用した。
ステップ３
ジクロロメタン（１００ｍＬ）中の上記ステップ２の生成物（５．００ｇ、１５．０ｍ
ｍｏｌ）、４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）安息香酸（４．３８
ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１８２５ｇ、１．４９ｍｍ
ｏｌ）およびＢＨＴ（０．０３２８ｇ、０．１４８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（３．５２ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温
で５時間撹拌した後、窒素下でＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液
を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶離液は、ジクロロメタン／ヘキサンの５０：５
０溶液中の１０％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）を通して濾過して黄色の純粋
でない油状物（８．９ｇ）を得た。この物質をシリカ上で濃縮し、次いで、ＣｏｍｂｉＦ
ｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の２０％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）で精製
して灰白色固体（３．７３ｇ）を得、これを、ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ（７５／２５ｖｏｌ
／ｖｏｌ％）から再結晶した。収量：３．１７ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）カルボニル）フ
ェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する
構造を有していることを示した。
（実施例２４）
ステップ１
ｍｏｌ）、４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）安息香酸（４．３８
ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１８２５ｇ、１．４９ｍｍ
ｏｌ）およびＢＨＴ（０．０３２８ｇ、０．１４８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（３．５２ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下、室温
で５時間撹拌した後、窒素下でＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液
を部分濃縮し、次いで、シリカプラグ（溶離液は、ジクロロメタン／ヘキサンの５０：５
０溶液中の１０％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）を通して濾過して黄色の純粋
でない油状物（８．９ｇ）を得た。この物質をシリカ上で濃縮し、次いで、ＣｏｍｂｉＦ
ｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の２０％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）で精製
して灰白色固体（３．７３ｇ）を得、これを、ＥｔＯＨ／ＥｔＯＡｃ（７５／２５ｖｏｌ
／ｖｏｌ％）から再結晶した。収量：３．１７ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）カルボニル）フ
ェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエートと一致する
構造を有していることを示した。
（実施例２４）
ステップ１
６−（（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニ
ル］−４−イル）オキシ）ヘキサン−１−オールの代わりに、１−（６−（６−（６−（
６−（６−（６−（６−（６−（６−（４−（４−（４−（６−アクリリルオキシヘキシ
ルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチルオキシ
）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオ
キシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシ
ルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキサノールを使用し、塩基とし
てトリメチルアミンを使用したこと以外は、実施例３のステップ４の手順にしたがった。
粗生成物を、−２０℃でのジクロロメタン／ＭｅＯＨ（１／１０、ｖ／ｖ）からの沈殿に
より精製して灰白色固体を得、これを、さらに精製することなく次のステップで直接使用
した。
ステップ２
ル］−４−イル）オキシ）ヘキサン−１−オールの代わりに、１−（６−（６−（６−（
６−（６−（６−（６−（６−（６−（４−（４−（４−（６−アクリリルオキシヘキシ
ルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチルオキシ
）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオ
キシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシ
ルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキサノールを使用し、塩基とし
てトリメチルアミンを使用したこと以外は、実施例３のステップ４の手順にしたがった。
粗生成物を、−２０℃でのジクロロメタン／ＭｅＯＨ（１／１０、ｖ／ｖ）からの沈殿に
より精製して灰白色固体を得、これを、さらに精製することなく次のステップで直接使用
した。
ステップ２
ｔｒａｎｓ，ｔｒａｎｓ−４−（（４−（（８−（トシルオキシ）オクチル）オキシ）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに上記ステップ１の生成物（５．３０ｇ）を使用したこと
以外は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。粗生成物を、ジクロロメタン中の
１０％ＥｔＯＡｃ（ｖ／ｖ）で溶出してシリカプラグを通して精製し、続いて、０℃でジ
クロロメタン／メタノール（１／１０、ｖ／ｖ）から沈殿させて灰白色固体を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、以下の式
で表されるような（４−（１−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６
−（４−（４−（４−（６−アクリリルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェ
ニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−
６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ
）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオ
キシ）−６−オキソヘキシルキシル）−２−ヒドロキシルフェニル）（フェニル）メタノ
ンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例２５）
ベンゾイル）オキシ）フェニル４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−
４−カルボキシレートの代わりに上記ステップ１の生成物（５．３０ｇ）を使用したこと
以外は、実施例１のステップ１０の手順にしたがった。粗生成物を、ジクロロメタン中の
１０％ＥｔＯＡｃ（ｖ／ｖ）で溶出してシリカプラグを通して精製し、続いて、０℃でジ
クロロメタン／メタノール（１／１０、ｖ／ｖ）から沈殿させて灰白色固体を得た。ＮＭ
Ｒは、この生成物が、以下の式
で表されるような（４−（１−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６
−（４−（４−（４−（６−アクリリルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェ
ニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−
６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ
）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオ
キシ）−６−オキソヘキシルキシル）−２−ヒドロキシルフェニル）（フェニル）メタノ
ンと一致する構造を有していることを示した。
（実施例２５）
ジクロロメタン（７５ｍＬ）中の４−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）
ベンゼン−１，３−ジオール（３．００ｇ、１３．３ｍｍｏｌ）、４−ペンチルシクロヘ
キサンカルボン酸（２．６５ｇ、１３．４ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン
（０．１６０７ｇ、１．３２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド（３．２４ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’
−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液をシリカ上で濃縮し、次いでクロマトグ
ラフにかけ（溶離液はヘキサン中の２５％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）、次
いで酢酸エチルから再結晶した。収量：１．６９ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−３−ヒドロキシ
フェニル４−ペンチルシクロヘキサン−１−カルボキシレートと一致する構造を有してい
ることを示した。
（実施例２６）
ステップ１
ベンゼン−１，３−ジオール（３．００ｇ、１３．３ｍｍｏｌ）、４−ペンチルシクロヘ
キサンカルボン酸（２．６５ｇ、１３．４ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン
（０．１６０７ｇ、１．３２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド（３．２４ｇ、１５．７ｍｍｏｌ）を加えた。窒素下で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’
−ジシクロヘキシル尿素副生成物を除去し、濾液をシリカ上で濃縮し、次いでクロマトグ
ラフにかけ（溶離液はヘキサン中の２５％ＥｔＯＡｃ、ｖｏｌ／ｖｏｌ％であった）、次
いで酢酸エチルから再結晶した。収量：１．６９ｇ。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−３−ヒドロキシ
フェニル４−ペンチルシクロヘキサン−１−カルボキシレートと一致する構造を有してい
ることを示した。
（実施例２６）
ステップ１
ＴＨＦ（５０ｍＬ；無水）中の６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１
，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネート（
３．９７ｇ、６．８８ｍｍｏｌ）および２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．９
５ｇ、６．９ｍｍｏｌ）の溶液に、炭酸カリウム（１．８９ｇ、１３．７ｍｍｏｌ）を加
えた。反応物を還流下で終夜加熱したが、相当な出発原料が依然として存在していた。２
，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．３８ｇ、０．４６ｇ、０．２５ｇ、０．１１
ｇ）を毎日添加しながら、反応物を窒素下でさらに４日間還流下で加熱した。ＣｓＣＯ３
（０．４２ｇ、０．４２ｇ）を加え、反応物をさらに２日間還流させて、反応が完了した
。室温にして、水を加えて、溶液から生成物を析出させた。生成した沈殿物を濾過により
収集し、その溶液がやや濁ったままになるまで、エタノールを滴下添加しながら熱ＴＨＦ
からの再結晶を行い灰白色固体（２．４６ｇ）を得た。
ステップ２
，１’−ビフェニル］−４−イル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネート（
３．９７ｇ、６．８８ｍｍｏｌ）および２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．９
５ｇ、６．９ｍｍｏｌ）の溶液に、炭酸カリウム（１．８９ｇ、１３．７ｍｍｏｌ）を加
えた。反応物を還流下で終夜加熱したが、相当な出発原料が依然として存在していた。２
，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．３８ｇ、０．４６ｇ、０．２５ｇ、０．１１
ｇ）を毎日添加しながら、反応物を窒素下でさらに４日間還流下で加熱した。ＣｓＣＯ３
（０．４２ｇ、０．４２ｇ）を加え、反応物をさらに２日間還流させて、反応が完了した
。室温にして、水を加えて、溶液から生成物を析出させた。生成した沈殿物を濾過により
収集し、その溶液がやや濁ったままになるまで、エタノールを滴下添加しながら熱ＴＨＦ
からの再結晶を行い灰白色固体（２．４６ｇ）を得た。
ステップ２
ＤＭＦ（４０ｍＬ、無水）中の上記ステップ１の生成物（２．４６ｇ、４．５３ｍｍｏ
ｌ）、Ｎａ２Ｓ２Ｏ５（０．８７ｇ、４．６ｍｍｏｌ）およびベンゼン−１，２−ジアミ
ン（０．５０ｇ、４．６ｍｍｏｌ）を窒素下、１３０℃で約８時間加熱した。その冷却さ
れた溶液に水を加え（約２００ｍＬ）、氷浴中で撹拌した後、得られた暗褐色固体を濾過
により単離した。この物質をシリカ上で濃縮し、クロマトグラフにかけて（溶離液は、ジ
クロロメタン中の１％酢酸を含む１０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）、黄褐色固体を得
た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−５−（（６−（
（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４
−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２７）
ｌ）、Ｎａ２Ｓ２Ｏ５（０．８７ｇ、４．６ｍｍｏｌ）およびベンゼン−１，２−ジアミ
ン（０．５０ｇ、４．６ｍｍｏｌ）を窒素下、１３０℃で約８時間加熱した。その冷却さ
れた溶液に水を加え（約２００ｍＬ）、氷浴中で撹拌した後、得られた暗褐色固体を濾過
により単離した。この物質をシリカ上で濃縮し、クロマトグラフにかけて（溶離液は、ジ
クロロメタン中の１％酢酸を含む１０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）、黄褐色固体を得
た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−５−（（６−（
（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４
−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２７）
６−（（４’−（４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４−イ
ル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネート（８．００、１３．８７ｍｍｏｌ
）、４−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，
３−ジオール（３．１５ｇ、１３．８７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（３．７５ｇ、４
１．６１ｍｍｏｌ）が入っている反応フラスコに、無水ＴＨＦ（２００ｍＬ）を加えた。
混合物を、窒素下で２４時間還流加熱し、次いで、５００ｍＬの氷水に注加した。生成し
た沈殿物を濾過により収集し、ＴＨＦ／酢酸エチル（１／１、ｖ／ｖ）から３回再結晶を
行い、薄い色の固体（２ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−５−（（６−（
（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４
−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２８）
ステップ１
ル）オキシ）ヘキシル４−メチルベンゼンスルホネート（８．００、１３．８７ｍｍｏｌ
）、４−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）ベンゼン−１，
３−ジオール（３．１５ｇ、１３．８７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（３．７５ｇ、４
１．６１ｍｍｏｌ）が入っている反応フラスコに、無水ＴＨＦ（２００ｍＬ）を加えた。
混合物を、窒素下で２４時間還流加熱し、次いで、５００ｍＬの氷水に注加した。生成し
た沈殿物を濾過により収集し、ＴＨＦ／酢酸エチル（１／１、ｖ／ｖ）から３回再結晶を
行い、薄い色の固体（２ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような２−（１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール−２−イル）−５−（（６−（
（４’−（ｔｒａｎｓ−４−ペンチルシクロヘキシル）−［１，１’−ビフェニル］−４
−イル）オキシ）ヘキシル）オキシ）フェノールと一致する構造を有していることを示し
た。
（実施例２８）
ステップ１
１，２−ジクロロエタン（１００ｍＬ）中の、公開されている手順（Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００８年、１０巻、５号、７０９〜７１２頁）にしたがって作製され
た２−クロロ−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン（４．６８ｇ、１７．５ｍ
ｍｏｌ）およびレゾルシノール（２．５１ｇ、２２．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＣｌ３
（３．１１ｇ、２３．３ｍｍｏｌ）を加えた。得られた溶液を６０℃油浴中、窒素下で終
夜加熱した。溶媒を減圧下で除去し、得られた固体を水（２００ｍＬ）に懸濁させた。暗
黄色固体をエタノールから再結晶して、４−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリア
ジン−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールを褐色固体の形態で得た。これを、次のス
テップで、さらに精製することなく使用した。
ステップ２
Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００８年、１０巻、５号、７０９〜７１２頁）にしたがって作製され
た２−クロロ−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン（４．６８ｇ、１７．５ｍ
ｍｏｌ）およびレゾルシノール（２．５１ｇ、２２．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＣｌ３
（３．１１ｇ、２３．３ｍｍｏｌ）を加えた。得られた溶液を６０℃油浴中、窒素下で終
夜加熱した。溶媒を減圧下で除去し、得られた固体を水（２００ｍＬ）に懸濁させた。暗
黄色固体をエタノールから再結晶して、４−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリア
ジン−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールを褐色固体の形態で得た。これを、次のス
テップで、さらに精製することなく使用した。
ステップ２
ジクロロメタン（７５ｍＬ）中の上記ステップ１の生成物（１．８５ｇ、５．４２ｍｍ
ｏｌ）、４−（（８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）
カルボニル）フェノキシ）オクチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（３．１７ｇ、５．
５０ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０７２５ｇ、０．５９３ｍｍｏ
ｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．３２ｇ、６．４０ｍｍ
ｏｌ）を加えた。窒素下、室温で５時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副
生成物を除去し、濾液を、シリカの短いプラグ（ジクロロメタン溶離液）を通して灰白色
固体（４．９８ｇ）を得、次いでこれを、ＴＨＦから再結晶して、灰白色固体（３．７１
ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−３
−ヒドロキシフェニル（８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノ
キシ）カルボニル）フェノキシ）オクチル）スクシネートと一致する構造を有しているこ
とを示した。
（実施例２９）
ステップ１
ｏｌ）、４−（（８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）
カルボニル）フェノキシ）オクチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（３．１７ｇ、５．
５０ｍｍｏｌ）および４−ジメチルアミノピリジン（０．０７２５ｇ、０．５９３ｍｍｏ
ｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．３２ｇ、６．４０ｍｍ
ｏｌ）を加えた。窒素下、室温で５時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副
生成物を除去し、濾液を、シリカの短いプラグ（ジクロロメタン溶離液）を通して灰白色
固体（４．９８ｇ）を得、次いでこれを、ＴＨＦから再結晶して、灰白色固体（３．７１
ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、以下の式
で表されるような４−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−３
−ヒドロキシフェニル（８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノ
キシ）カルボニル）フェノキシ）オクチル）スクシネートと一致する構造を有しているこ
とを示した。
（実施例２９）
ステップ１
一口丸底フラスコ中で、２，４−ジメトキシベンズアルデヒド（２．４９ｇ）および２
−（アミノメチル）アニリン（３．４０ｇ）をエタノール（７５ｍＬ）に溶解させ、室温
で終夜撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、次いで水を加えて二相系を得た。これを酢酸エ
チル（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４
で乾燥させ、減圧下で濃縮して粘度の高い油状物を得、これを徐々に固化させて白色物質
（５．７０ｇ）を得た。これを、さらに精製することなく使用した。ＮＭＲは、この生成
物が、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−１，２，３，４−テトラヒドロキナゾリン
と一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
−（アミノメチル）アニリン（３．４０ｇ）をエタノール（７５ｍＬ）に溶解させ、室温
で終夜撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、次いで水を加えて二相系を得た。これを酢酸エ
チル（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４
で乾燥させ、減圧下で濃縮して粘度の高い油状物を得、これを徐々に固化させて白色物質
（５．７０ｇ）を得た。これを、さらに精製することなく使用した。ＮＭＲは、この生成
物が、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−１，２，３，４−テトラヒドロキナゾリン
と一致する構造を有していることを示した。
ステップ２
アセトン（１００ｍＬ）中の上記ステップ１の生成物（５．６０ｇ）の溶液に、ＫＭｎ
Ｏ４（４．０９ｇ）を加えた。混合物を６時間撹拌し、追加のＫＭｎＯ４（１．０１ｇ）
を加え、反応物を終夜撹拌し、続いてＫＭｎＯ４（１．３５ｇ）のさらなる添加を行った
。混合物をさらに４時間撹拌し、２−プロパノール（１０ｍＬ）を加えることによってク
エンチし、珪藻土で濾過し、濃縮した。得られた残留物を酢酸エチルに溶解させ、短いシ
リカプラグで濾過してオレンジ色の半固体（５．４０ｇ）を得、これを、さらに精製する
ことなく使用した。ＮＭＲは、主生成物が、２−（２，４−ジメトキシフェニル）キナゾ
リンと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
Ｏ４（４．０９ｇ）を加えた。混合物を６時間撹拌し、追加のＫＭｎＯ４（１．０１ｇ）
を加え、反応物を終夜撹拌し、続いてＫＭｎＯ４（１．３５ｇ）のさらなる添加を行った
。混合物をさらに４時間撹拌し、２−プロパノール（１０ｍＬ）を加えることによってク
エンチし、珪藻土で濾過し、濃縮した。得られた残留物を酢酸エチルに溶解させ、短いシ
リカプラグで濾過してオレンジ色の半固体（５．４０ｇ）を得、これを、さらに精製する
ことなく使用した。ＮＭＲは、主生成物が、２−（２，４−ジメトキシフェニル）キナゾ
リンと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
ジクロロメタン（１００ｍＬ）中の上記ステップ２からの生成物（５．４０ｇ）の−７
８℃での溶液に、ＢＢｒ３（４．６０ｍＬ）を約１分間にわたって滴下添加した。溶液を
窒素下、−７８℃で１時間撹拌し、次いで、３時間にわたって室温に加温した。溶液をＮ
ａ２ＣＯ３水溶液で約ｐＨ８に中和し、次いで、酢酸エチル（３×１００ｍＬ）で抽出し
た。合わせた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥させ、部分濃縮し、短いシリカプラグで濾過
して黒ずんだ材料（３．６３ｇ）を得た。シリカ上で濃縮した後、この物質を、Ｃｏｍｂ
ｉＦｌａｓｈによりクロマトグラフにかけて黄色固体（約１．５ｇ）を得た。これは、Ｎ
ＭＲ分析により、モノメトキシ物質であることが分かった。これをジクロロメタン（約７
５ｍＬ）に溶解させ、−７８℃に冷却し、続いてＢＢｒ３（１．１０ｍＬ、１１．６ｍｍ
ｏｌ）を約１分間にわたって滴下添加した。溶液を−７８℃で約４５分間保持し、次いで
、室温に加温した。溶液を、還流下で約７日間加熱した。Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して
、溶液を約ｐＨ８に調節し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出
物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮して黒ずんだ油状物を得、次いでこ
れをシリカ上で濃縮した。この物質を、ＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の２
０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）で精製してオレンジ色の油状物（０．１７ｇ）を得た
。ＮＭＲは、この生成物が、４−（キナゾリン−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオール
と一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
８℃での溶液に、ＢＢｒ３（４．６０ｍＬ）を約１分間にわたって滴下添加した。溶液を
窒素下、−７８℃で１時間撹拌し、次いで、３時間にわたって室温に加温した。溶液をＮ
ａ２ＣＯ３水溶液で約ｐＨ８に中和し、次いで、酢酸エチル（３×１００ｍＬ）で抽出し
た。合わせた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥させ、部分濃縮し、短いシリカプラグで濾過
して黒ずんだ材料（３．６３ｇ）を得た。シリカ上で濃縮した後、この物質を、Ｃｏｍｂ
ｉＦｌａｓｈによりクロマトグラフにかけて黄色固体（約１．５ｇ）を得た。これは、Ｎ
ＭＲ分析により、モノメトキシ物質であることが分かった。これをジクロロメタン（約７
５ｍＬ）に溶解させ、−７８℃に冷却し、続いてＢＢｒ３（１．１０ｍＬ、１１．６ｍｍ
ｏｌ）を約１分間にわたって滴下添加した。溶液を−７８℃で約４５分間保持し、次いで
、室温に加温した。溶液を、還流下で約７日間加熱した。Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して
、溶液を約ｐＨ８に調節し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出
物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮して黒ずんだ油状物を得、次いでこ
れをシリカ上で濃縮した。この物質を、ＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の２
０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖであった）で精製してオレンジ色の油状物（０．１７ｇ）を得た
。ＮＭＲは、この生成物が、４−（キナゾリン−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオール
と一致する構造を有していることを示した。
ステップ４
ジクロロメタン（５ｍＬ）中の上記ステップ３からの生成物（０．１７ｇ）、４−（（
８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェ
ノキシ）オクチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（０．４２ｇ）および４−ジメチルア
ミノピリジン（０．０８８０ｇ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（０．１８ｇ）を加えた。窒素下、室温で４時間撹拌した後、溶液をシリカの短い充填物
（溶離液はジクロロメタン中の５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖ）に通して黄色固体（０．４４ｇ
）を得、次いでこれをシリカ上で濃縮し、クロマトグラフにかけて（ジクロロメタン中に
２．５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖ）、淡黄色固体（０．２９４５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この
生成物が、３−ヒドロキシ−４−（キナゾリン−２−イル）フェニル（８−（４−（（４
−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オクチル
）スクシネートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例３０）
ステップ１
８−（４−（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェ
ノキシ）オクチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（０．４２ｇ）および４−ジメチルア
ミノピリジン（０．０８８０ｇ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（０．１８ｇ）を加えた。窒素下、室温で４時間撹拌した後、溶液をシリカの短い充填物
（溶離液はジクロロメタン中の５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖ）に通して黄色固体（０．４４ｇ
）を得、次いでこれをシリカ上で濃縮し、クロマトグラフにかけて（ジクロロメタン中に
２．５％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖ）、淡黄色固体（０．２９４５ｇ）を得た。ＮＭＲは、この
生成物が、３−ヒドロキシ−４−（キナゾリン−２−イル）フェニル（８−（４−（（４
−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オクチル
）スクシネートと一致する構造を有していることを示した。
（実施例３０）
ステップ１
一口丸底フラスコ中で、ＴＨＦ（２２．４ｍＬ）および水（９．４ｍＬ）の溶液中で、
２−ブロモピリジン（１．００ｇ）、（２，４−ジメトキシフェニル）ボロン酸（１．１
５ｇ）およびＮａ２ＣＯ３（２．０２ｇ）（Ｄａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓ． ２０１４年、
４３巻（１５号）、５６６７〜５６７９頁に公開されている手順にしたがって作製した）
を撹拌し、次いで真空下での超音波処理により脱ガスした。Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（０．３
４ｇ）を加え、溶液を、窒素下で終夜還流下で加熱した。溶媒を減圧下で除去し、得られ
た残留物を酢酸エチルに溶解させ、水で洗浄した。次いで、水層を酢酸エチル（３×５０
ｍＬ）で抽出し、合わせた有機抽出物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。残
留物を減圧下で濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルの短いプラグ（溶離液は
ジクロロメタンであった）に通した。得られた物質を、さらに精製することなく使用した
。
ステップ２
２−ブロモピリジン（１．００ｇ）、（２，４−ジメトキシフェニル）ボロン酸（１．１
５ｇ）およびＮａ２ＣＯ３（２．０２ｇ）（Ｄａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓ． ２０１４年、
４３巻（１５号）、５６６７〜５６７９頁に公開されている手順にしたがって作製した）
を撹拌し、次いで真空下での超音波処理により脱ガスした。Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（０．３
４ｇ）を加え、溶液を、窒素下で終夜還流下で加熱した。溶媒を減圧下で除去し、得られ
た残留物を酢酸エチルに溶解させ、水で洗浄した。次いで、水層を酢酸エチル（３×５０
ｍＬ）で抽出し、合わせた有機抽出物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。残
留物を減圧下で濃縮し、ジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルの短いプラグ（溶離液は
ジクロロメタンであった）に通した。得られた物質を、さらに精製することなく使用した
。
ステップ２
一口丸底フラスコ中で、上記ステップ１からの生成物（２．６７ｇ）およびピリジン塩
酸塩（２１．５５ｇ）（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １９９８年、４１巻（１５号）、
２７３２〜２７４４頁に公開されている手順にしたがって作製した）を窒素下、１６０℃
で約４０時間加熱した。室温にしてから、溶液を水および酢酸エチルで希釈し、次いで、
Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して約ｐＨ８に調節した。有機層を保持し、水層を酢酸エチル
（３×７５ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、Ｍ
ｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮して黒ずんだ油状物を得た。次いで、この物質をＣｏｍｂｉＦ
ｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の３０％酢酸エチル、ｖ／ｖであった）によりクロマトグ
ラフにかけて黄色固体（１．７９ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（ピリジン
−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
酸塩（２１．５５ｇ）（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １９９８年、４１巻（１５号）、
２７３２〜２７４４頁に公開されている手順にしたがって作製した）を窒素下、１６０℃
で約４０時間加熱した。室温にしてから、溶液を水および酢酸エチルで希釈し、次いで、
Ｎａ２ＣＯ３水溶液を使用して約ｐＨ８に調節した。有機層を保持し、水層を酢酸エチル
（３×７５ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、Ｍ
ｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮して黒ずんだ油状物を得た。次いで、この物質をＣｏｍｂｉＦ
ｌａｓｈ（溶離液はヘキサン中の３０％酢酸エチル、ｖ／ｖであった）によりクロマトグ
ラフにかけて黄色固体（１．７９ｇ）を得た。ＮＭＲは、この生成物が、４−（ピリジン
−２−イル）ベンゼン−１，３−ジオールと一致する構造を有していることを示した。
ステップ３
ジクロロメタン中の上記ステップ２からの生成物（１．３０ｇ）、４−（（８−（４−
（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オ
クチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（４．０１ｇ）および４−ジメチルアミノピリジ
ン（０．０８８９ｇ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．８２
ｇ）を加えた。窒素下、室温で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成
物を除去し、濾液を、シリカの短いプラグ（溶離液はジクロロメタン、次いでジクロロメ
タン中の１０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖに切り替えた）に通した。次いで得られた物質をシリ
カ上で濃縮し、クロマトグラフ（溶離液は、ジクロロメタン／ヘキサンの５０／５０溶液
中の７％ＥｔＯＡｃ（ｖ／ｖ）であった）にかけて灰白色固体（３．３９ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲ分析は、以下の式
で表されるような３−ヒドロキシ−４−（ピリジン−２−イル）フェニル（８−（４−（
（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オク
チル）スクシネートと一致した。
パートＢ
パート１ − プライマー層配合物（ＰＬＦ）の調製。
（（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オ
クチル）オキシ）−４−オキソブタン酸（４．０１ｇ）および４−ジメチルアミノピリジ
ン（０．０８８９ｇ）の溶液に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．８２
ｇ）を加えた。窒素下、室温で終夜撹拌した後、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素副生成
物を除去し、濾液を、シリカの短いプラグ（溶離液はジクロロメタン、次いでジクロロメ
タン中の１０％ＥｔＯＡｃ、ｖ／ｖに切り替えた）に通した。次いで得られた物質をシリ
カ上で濃縮し、クロマトグラフ（溶離液は、ジクロロメタン／ヘキサンの５０／５０溶液
中の７％ＥｔＯＡｃ（ｖ／ｖ）であった）にかけて灰白色固体（３．３９ｇ）を得た。Ｎ
ＭＲ分析は、以下の式
で表されるような３−ヒドロキシ−４−（ピリジン−２−イル）フェニル（８−（４−（
（４−（（４−メチルベンゾイル）オキシ）フェノキシ）カルボニル）フェノキシ）オク
チル）スクシネートと一致した。
パートＢ
パート１ − プライマー層配合物（ＰＬＦ）の調製。
磁気撹拌子を備えた適切な容器中に、以下の材料を、以下の表１に示す量で添加した。
１ 米国特許第６，１８７，４４４号の実施例１の組成物Ｄに従って、スチレンをメチル
メタクリレートで置き換え、０．５重量％のトリフェニルホスファイトを加えた。
２ Ｇｒｅａｔ Ｌａｋｅｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．から入手可能なポリアルキ
レンカーボネートジオール
３ Ｃｏｖｅｓｔｒｏ ＡＧから入手可能なブロック化脂肪族ポリイソシアネート
４ Ｂａｘｅｎｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｌｔｄから入手可能なブロック化三官能
性ウレタン架橋剤
５ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なポリエーテル改質ポリジメチルシロキ
サン
６ Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手可能なカルボン酸ビスマス触媒
７ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なヒンダードアミン光安定剤
８ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な酸化防止剤
１ 米国特許第６，１８７，４４４号の実施例１の組成物Ｄに従って、スチレンをメチル
メタクリレートで置き換え、０．５重量％のトリフェニルホスファイトを加えた。
２ Ｇｒｅａｔ Ｌａｋｅｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．から入手可能なポリアルキ
レンカーボネートジオール
３ Ｃｏｖｅｓｔｒｏ ＡＧから入手可能なブロック化脂肪族ポリイソシアネート
４ Ｂａｘｅｎｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｌｔｄから入手可能なブロック化三官能
性ウレタン架橋剤
５ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なポリエーテル改質ポリジメチルシロキ
サン
６ Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから入手可能なカルボン酸ビスマス触媒
７ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なヒンダードアミン光安定剤
８ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な酸化防止剤
混合物を室温で２時間撹拌して、その溶液の全重量に対して５１．４７重量％の最終固
形分を有する溶液を得た。
パート２ − 液晶配列配合物（ＬＣＡＦ）の調製。
形分を有する溶液を得た。
パート２ − 液晶配列配合物（ＬＣＡＦ）の調製。
米国特許出願公開第２０１１／０１３５８５０Ａ１号に比較例として記載されている光
配列材料を、その溶液の全重量に対して６重量パーセントの光配列材料をシクロペンタノ
ンに加えることによって調製した。この混合物を、光配列材料が完全に溶解するまで撹拌
した。
パート３ − コーティング層配合物（ＣＬＦ）の調製。
配列材料を、その溶液の全重量に対して６重量パーセントの光配列材料をシクロペンタノ
ンに加えることによって調製した。この混合物を、光配列材料が完全に溶解するまで撹拌
した。
パート３ − コーティング層配合物（ＣＬＦ）の調製。
コーティング層配合物を、以下の表２に示した材料を一緒にし、８０℃で２時間撹拌し
て均一溶液を得、次いで室温に冷却することによって調製した。すべての量は重量部とし
て報告されている。
１ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なアラルキル改質ポリ−メチル−アルキ
ル−シロキサン
２ ＥＭＤ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．から市販されている液晶モノマー、４−（
３−アクリロイルオキシプロピルオキシ）−安息香酸２−メチル−１，４−フェニレンエ
ステル
３ 米国特許第７，９１０，０１９Ｂ２号に記載されている手順に従って調製された１−
（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（８−（４−（４−（（１ｒ，１’
ｓ，４Ｒ，４’Ｒ）−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カル
ボニルオキシ）２−または３−メチルフェニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチル
オキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキ
シルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソ
ヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−２−メ
チルプロパ−２−エン−１−オン
４ 米国特許第７，９１０，０１９Ｂ２号の実施例１７に従って調製された１−（６−（
６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（８−（４−（４−（４−（６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェノキシカルボニル）フェノキシ）オク
チルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソ
ヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オ
キソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキサノール
５ ４−（（（１ｓ，４ｒ）−ｒ−ペンチルシクロヘキサン−１−カルボニル）オキシ）
フェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエート
６ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な光開始剤
７ 米国特許第８，５１８，５４６Ｂ２号の実施例４４の手順に従って調製された、構造
３，３−ビス（４−メトキシフェニル）−６−メトキシ−７−（４−（４−（ｔｒａｎｓ
，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボニル
オキシ）フェニル）ピペラジン−１−イル）−１０，１２−ジ（トリフルオロメチル）−
１３，１３−ジメチル−３，１３−ジヒドロ−インデノ［２’，３’：３，４］ナフト［
１，２−ｂ］ピランのフォトクロミック二色性染料
８ 米国特許第８，５４５，９８４Ｂ２号の実施例３３に従って調製された、構造３−フ
ェニル−３−（４−モルホリノフェニル）−１０−［４−（４−（４−（ｔｒａｎｓ−４
−ペンチルシクロヘキシル）フェニル）ベンズアミド）フェニル］−６−トリフルオロメ
チル−１３，１３−ジメチル−３，１３−ジヒドロ−インデノ［２’，３’：３，４］ナ
フト［１，２−ｂ］ピランのフォトクロミック二色性染料
て均一溶液を得、次いで室温に冷却することによって調製した。すべての量は重量部とし
て報告されている。
１ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なアラルキル改質ポリ−メチル−アルキ
ル−シロキサン
２ ＥＭＤ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．から市販されている液晶モノマー、４−（
３−アクリロイルオキシプロピルオキシ）−安息香酸２−メチル−１，４−フェニレンエ
ステル
３ 米国特許第７，９１０，０１９Ｂ２号に記載されている手順に従って調製された１−
（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（８−（４−（４−（（１ｒ，１’
ｓ，４Ｒ，４’Ｒ）−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カル
ボニルオキシ）２−または３−メチルフェニルオキシカルボニル）フェノキシ）オクチル
オキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキ
シルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソ
ヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−２−メ
チルプロパ−２−エン−１−オン
４ 米国特許第７，９１０，０１９Ｂ２号の実施例１７に従って調製された１−（６−（
６−（６−（６−（６−（６−（６−（６−（８−（４−（４−（４−（６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ）フェノキシカルボニル）フェノキシ）オク
チルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソ
ヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オ
キソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキシルオキシ）−６−オキソヘキサノール
５ ４−（（（１ｓ，４ｒ）−ｒ−ペンチルシクロヘキサン−１−カルボニル）オキシ）
フェニル４−（（６−（アクリロイルオキシ）ヘキシル）オキシ）ベンゾエート
６ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な光開始剤
７ 米国特許第８，５１８，５４６Ｂ２号の実施例４４の手順に従って調製された、構造
３，３−ビス（４−メトキシフェニル）−６−メトキシ−７−（４−（４−（ｔｒａｎｓ
，ｔｒａｎｓ−４’−ペンチル−［１，１’−ビ（シクロヘキサン）］−４−カルボニル
オキシ）フェニル）ピペラジン−１−イル）−１０，１２−ジ（トリフルオロメチル）−
１３，１３−ジメチル−３，１３−ジヒドロ−インデノ［２’，３’：３，４］ナフト［
１，２−ｂ］ピランのフォトクロミック二色性染料
８ 米国特許第８，５４５，９８４Ｂ２号の実施例３３に従って調製された、構造３−フ
ェニル−３−（４−モルホリノフェニル）−１０−［４−（４−（４−（ｔｒａｎｓ−４
−ペンチルシクロヘキシル）フェニル）ベンズアミド）フェニル］−６−トリフルオロメ
チル−１３，１３−ジメチル−３，１３−ジヒドロ−インデノ［２’，３’：３，４］ナ
フト［１，２−ｂ］ピランのフォトクロミック二色性染料
追加のコーティング層配合物を、以下の表３にまとめたように、ＣＬＦ−１をパートＡ
の合成実施例の化合物と一緒にすることによって調製した。これらの成分を一緒にし、８
０℃で１時間撹拌して完全な溶解を達成した。以下の表３において、すべての量は重量部
で挙げられている。
パート４ − トップコート層配合物（ＴＬＦ）の調製。
の合成実施例の化合物と一緒にすることによって調製した。これらの成分を一緒にし、８
０℃で１時間撹拌して完全な溶解を達成した。以下の表３において、すべての量は重量部
で挙げられている。
パート４ − トップコート層配合物（ＴＬＦ）の調製。
磁気撹拌子を備えた適切な容器中に、以下の材料を表４に示した量で加え、室温で２時
間撹拌した。
１ Ｃｏｖｅｓｔｒｏ ＡＧから入手可能なブロック化脂肪族ポリイソシアネート（ｐｏ
ｌｙｉｓｏｃｙａｎｔｅ）
２ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な光開始剤
３ Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓから入手可能な
ガンマ−アミノプロピルトリエトキシシラン
パート５ − ハードコート配合物（ＨＣＦ）の調製。
間撹拌した。
１ Ｃｏｖｅｓｔｒｏ ＡＧから入手可能なブロック化脂肪族ポリイソシアネート（ｐｏ
ｌｙｉｓｏｃｙａｎｔｅ）
２ ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な光開始剤
３ Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓから入手可能な
ガンマ−アミノプロピルトリエトキシシラン
パート５ − ハードコート配合物（ＨＣＦ）の調製。
ＨＣＦを、表５にまとめた構成要素から、以下のようにして調製した：チャージ１を清
浄な乾燥したビーカーに加え、撹拌しながら５℃で氷浴に置いた。チャージ２を加え、５
０℃への発熱がもたらされた。得られた反応混合物の温度をおよそ２０〜２５℃に冷却し
、撹拌しながらチャージ３を加えた。チャージ４を加えてｐＨを５．５に調節した。チャ
ージ５を加え、溶液を半時間混合した。得られた溶液を０．４５ミクロンカプセルフィル
ターで濾過し、使用時まで４℃で貯蔵した。
１ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なポリエーテル改質ポリジメチルシロキ
サンの溶液
パート６ − 表６にまとめた基材およびコーティングスタックを調製するために使用
した手順。
コロナ処理
浄な乾燥したビーカーに加え、撹拌しながら５℃で氷浴に置いた。チャージ２を加え、５
０℃への発熱がもたらされた。得られた反応混合物の温度をおよそ２０〜２５℃に冷却し
、撹拌しながらチャージ３を加えた。チャージ４を加えてｐＨを５．５に調節した。チャ
ージ５を加え、溶液を半時間混合した。得られた溶液を０．４５ミクロンカプセルフィル
ターで濾過し、使用時まで４℃で貯蔵した。
１ ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ、ＵＳＡから入手可能なポリエーテル改質ポリジメチルシロキ
サンの溶液
パート６ − 表６にまとめた基材およびコーティングスタックを調製するために使用
した手順。
コロナ処理
以下に示されている場合、報告されるコーティング層のいずれかの適用の前に、高圧変
圧器を備えたＴａｎｔｅｃ ＥＳＴ Ｓｙｓｔｅｍｓ発電機ＨＶ２０００シリーズコロナ
処理装置中のコンベヤーベルトを通過させることによって、基材またはコーティングされ
た基材をコロナ処理にかけた。３ｆｔ／分（９１．４ｃｍ／分）のベルト速度でコンベヤ
ー上を移動させながら、基材を、７０．００ＫＶおよび１０００ワットで発生させたコロ
ナに曝露した。
基材調製
圧器を備えたＴａｎｔｅｃ ＥＳＴ Ｓｙｓｔｅｍｓ発電機ＨＶ２０００シリーズコロナ
処理装置中のコンベヤーベルトを通過させることによって、基材またはコーティングされ
た基材をコロナ処理にかけた。３ｆｔ／分（９１．４ｃｍ／分）のベルト速度でコンベヤ
ー上を移動させながら、基材を、７０．００ＫＶおよび１０００ワットで発生させたコロ
ナに曝露した。
基材調製
ＣＲ−３９（登録商標）モノマーから調製された５．０８ｃｍ×５．０８ｃｍ×０．３
１８ｃｍ（２インチ（ｉｎ）×２ｉｎ×０．１２５ｉｎ）の寸法の正方形の基材をＨｏｍ
ａｌｉｔｅ， Ｉｎｃ．から入手した。各基材を、アセトンを染み込ませたティッシュペ
ーパーで拭くことによって清浄化し、空気流で乾燥させ、上記したようにしてコロナ処理
した。
プライマー層のためのコーティング手順
１８ｃｍ（２インチ（ｉｎ）×２ｉｎ×０．１２５ｉｎ）の寸法の正方形の基材をＨｏｍ
ａｌｉｔｅ， Ｉｎｃ．から入手した。各基材を、アセトンを染み込ませたティッシュペ
ーパーで拭くことによって清浄化し、空気流で乾燥させ、上記したようにしてコロナ処理
した。
プライマー層のためのコーティング手順
プライマー層を施される試料については、およそ１．５ｍＬの溶液を分注し、基材を９
７５回転／分（ｒｐｍ）で４秒間、次いで１５００ｒｐｍで２秒間、次いで２５００ｒｐ
ｍで１秒間回転させて、試験基材の表面の一部の上にスピンコーティングすることによっ
て、ＰＬＦを試験基材に適用して、８ミクロンの目標フィルム厚さを得た。その後、コー
ティングされた基材をオーブンに入れ、１２５℃で６０分間維持し、次いで室温に冷却し
た。次いで、コーティングされた基材を上記したようにコロナ処理した。
液晶配列層のためのコーティング手順
７５回転／分（ｒｐｍ）で４秒間、次いで１５００ｒｐｍで２秒間、次いで２５００ｒｐ
ｍで１秒間回転させて、試験基材の表面の一部の上にスピンコーティングすることによっ
て、ＰＬＦを試験基材に適用して、８ミクロンの目標フィルム厚さを得た。その後、コー
ティングされた基材をオーブンに入れ、１２５℃で６０分間維持し、次いで室温に冷却し
た。次いで、コーティングされた基材を上記したようにコロナ処理した。
液晶配列層のためのコーティング手順
およそ１．０ｍＬの溶液を分注し、基材を８００回転／分（ｒｐｍ）で３秒間、次いで
１，０００ｒｐｍで７秒間、次いで２，５００ｒｐｍで４秒間回転させて、試験基材の表
面の一部の上にスピンコーティングすることによって、ＬＣＡＦを試験基材に適用して、
１ミクロン未満の目標フィルム厚さを得た。その後、コーティングされた基材をオーブン
に入れ、１２０℃で３０分間維持し、次いで室温に冷却した。
１，０００ｒｐｍで７秒間、次いで２，５００ｒｐｍで４秒間回転させて、試験基材の表
面の一部の上にスピンコーティングすることによって、ＬＣＡＦを試験基材に適用して、
１ミクロン未満の目標フィルム厚さを得た。その後、コーティングされた基材をオーブン
に入れ、１２０℃で３０分間維持し、次いで室温に冷却した。
基材のそれぞれの上の乾燥させた光配列層を、直線偏光した紫外放射線に曝露すること
によって、少なくとも部分的に秩序立てた。光源を、放射線が基材の表面に対して垂直な
面内で直線偏光するように、方向付けた。各光配列層が曝露される紫外放射線の量は、Ｅ
ＩＴ Ｉｎｃ．からのＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫ（商標）高エネルギー放射計を使用し
て、以下のようにして測定した：ＵＶＡ ０．０１８Ｗ／ｃｍ２および５．３６１Ｊ／ｃ
ｍ２；ＵＶＢ ０Ｗ／ｃｍ２および０Ｊ／ｃｍ２；ＵＶＣ ０Ｗ／ｃｍ２および０Ｊ／ｃ
ｍ２；ならびにＵＶＶ ０．００５Ｗ／ｃｍ２および１．５４１Ｊ／ｃｍ２。光方向付け
可能なポリマーネットワークの少なくとも一部を秩序立てた後、基材を、室温に冷却し、
覆われた状態で維持し、コロナ処理にはかけなかった。
コーティング層のためのコーティング手順
によって、少なくとも部分的に秩序立てた。光源を、放射線が基材の表面に対して垂直な
面内で直線偏光するように、方向付けた。各光配列層が曝露される紫外放射線の量は、Ｅ
ＩＴ Ｉｎｃ．からのＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫ（商標）高エネルギー放射計を使用し
て、以下のようにして測定した：ＵＶＡ ０．０１８Ｗ／ｃｍ２および５．３６１Ｊ／ｃ
ｍ２；ＵＶＢ ０Ｗ／ｃｍ２および０Ｊ／ｃｍ２；ＵＶＣ ０Ｗ／ｃｍ２および０Ｊ／ｃ
ｍ２；ならびにＵＶＶ ０．００５Ｗ／ｃｍ２および１．５４１Ｊ／ｃｍ２。光方向付け
可能なポリマーネットワークの少なくとも一部を秩序立てた後、基材を、室温に冷却し、
覆われた状態で維持し、コロナ処理にはかけなかった。
コーティング層のためのコーティング手順
表６にまとめたようなコーティング層配合物を、試験基材上の少なくとも部分的に秩序
立てられた光配列材料上へ、４００回転／分（ｒｐｍ）の速度で６秒間、次いで８００ｒ
ｐｍで６秒間スピンコーティングすることによって適用して、およそ２０ミクロンの目標
フィルム厚さを得た。コーティングされた基材を各々、６０〜７５℃で３０分間オーブン
に入れた。その後、それらを、Ｂｅｌｃａｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇにより設計し構築
されたＵＶ硬化オーブン装置中、窒素雰囲気下、２つの紫外線ランプのもとで、６１ｃｍ
／分（２ｆｔ／分）の線速度で稼働するコンベヤーベルト上を連続的に移動させながら硬
化させた。このオーブンは、０．３８８ワット／ｃｍ２のＵＶＡおよび０．１６５ワット
／ｃｍ２のＵＶＶのピーク強度、ならびに７．３８６ジュール／ｃｍ２のＵＶＡおよび３
．３３７ジュール／ｃｍ２のＵＶＶのＵＶ線量で稼働させた。さらなるトップコート層を
施された、コーティングされた基材を、上記したようにコロナ処理した。さらなるトップ
コート層を施されていない、コーティングされた基材を、１０５℃で３時間加熱した。
トップコート層のためのコーティング手順
立てられた光配列材料上へ、４００回転／分（ｒｐｍ）の速度で６秒間、次いで８００ｒ
ｐｍで６秒間スピンコーティングすることによって適用して、およそ２０ミクロンの目標
フィルム厚さを得た。コーティングされた基材を各々、６０〜７５℃で３０分間オーブン
に入れた。その後、それらを、Ｂｅｌｃａｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇにより設計し構築
されたＵＶ硬化オーブン装置中、窒素雰囲気下、２つの紫外線ランプのもとで、６１ｃｍ
／分（２ｆｔ／分）の線速度で稼働するコンベヤーベルト上を連続的に移動させながら硬
化させた。このオーブンは、０．３８８ワット／ｃｍ２のＵＶＡおよび０．１６５ワット
／ｃｍ２のＵＶＶのピーク強度、ならびに７．３８６ジュール／ｃｍ２のＵＶＡおよび３
．３３７ジュール／ｃｍ２のＵＶＶのＵＶ線量で稼働させた。さらなるトップコート層を
施された、コーティングされた基材を、上記したようにコロナ処理した。さらなるトップ
コート層を施されていない、コーティングされた基材を、１０５℃で３時間加熱した。
トップコート層のためのコーティング手順
示されている場合、ＴＬＦを、硬化されたＣＬＦコーティングされた基材上に、１，４
００回転／分（ｒｐｍ）の速度で１０秒間スピンコーティングすることによって適用して
およそ８ミクロンの目標フィルム厚さを得た。その後、基材を、Ｂｅｌｃａｎ Ｅｎｇｉ
ｎｅｅｒｉｎｇにより設計し構築されたＵＶ硬化オーブン装置中、窒素雰囲気で２つの紫
外線ランプのもとで、１８３ｃｍ／分（６ｆｔ／分）の線速度で稼働するコンベヤーベル
ト上を連続的に移動させながら硬化させた。このオーブンは、１．８８７ワット／ｃｍ２
のＵＶＡおよび０．６９４ワット／ｃｍ２のＵＶＶのピーク強度、ならびに４．６９９ジ
ュール／ｃｍ２のＵＶＡおよび１．７８７ジュール／ｃｍ２のＵＶＶのＵＶ線量で稼働さ
せた。表６に示すようなさらなるハードコート層を施されたコーティングされた基材で、
ＵＶ硬化された層を上記したようなコロナ処理にかけた。さらなるハードコート層を施さ
れないコーティングされた基材を、１０５℃で３時間加熱した。
ハードコート層のためのコーティング手順
００回転／分（ｒｐｍ）の速度で１０秒間スピンコーティングすることによって適用して
およそ８ミクロンの目標フィルム厚さを得た。その後、基材を、Ｂｅｌｃａｎ Ｅｎｇｉ
ｎｅｅｒｉｎｇにより設計し構築されたＵＶ硬化オーブン装置中、窒素雰囲気で２つの紫
外線ランプのもとで、１８３ｃｍ／分（６ｆｔ／分）の線速度で稼働するコンベヤーベル
ト上を連続的に移動させながら硬化させた。このオーブンは、１．８８７ワット／ｃｍ２
のＵＶＡおよび０．６９４ワット／ｃｍ２のＵＶＶのピーク強度、ならびに４．６９９ジ
ュール／ｃｍ２のＵＶＡおよび１．７８７ジュール／ｃｍ２のＵＶＶのＵＶ線量で稼働さ
せた。表６に示すようなさらなるハードコート層を施されたコーティングされた基材で、
ＵＶ硬化された層を上記したようなコロナ処理にかけた。さらなるハードコート層を施さ
れないコーティングされた基材を、１０５℃で３時間加熱した。
ハードコート層のためのコーティング手順
示されている場合、ＨＣＦを、硬化されたトップコート層コーティングされた基材上に
、１，４００回転／分（ｒｐｍ）の速度で１２秒間スピンコーティングすることによって
適用して２ミクロンの目標フィルム厚さを得た。コーティングされた基材の後硬化は１０
５℃、３時間で完了した。
、１，４００回転／分（ｒｐｍ）の速度で１２秒間スピンコーティングすることによって
適用して２ミクロンの目標フィルム厚さを得た。コーティングされた基材の後硬化は１０
５℃、３時間で完了した。
上記したように調製した試料についてのコーティングスタックを以下の表６にまとめる
。以下の表６において、セル中の「Ｘ」は、特定の層がコーティングスタック中に存在し
ていたことを示し、一方で、空白セルは、コーティングスタック中に特定の層が存在して
いなかったことを示す。以下の表６にまとめたように、各コーティングスタックは「コー
ティング層（ＣＬＦ）」（すなわち、ＣＬＦ−１、またはＣＬＦ−２、またはＣＬＦ−３
、またはＣＬＦ−４）を含んだ。
パート７ − 吸光度比および光学的応答測定を含むフォトクロミック性能試験。
。以下の表６において、セル中の「Ｘ」は、特定の層がコーティングスタック中に存在し
ていたことを示し、一方で、空白セルは、コーティングスタック中に特定の層が存在して
いなかったことを示す。以下の表６にまとめたように、各コーティングスタックは「コー
ティング層（ＣＬＦ）」（すなわち、ＣＬＦ−１、またはＣＬＦ−２、またはＣＬＦ−３
、またはＣＬＦ−４）を含んだ。
パート７ − 吸光度比および光学的応答測定を含むフォトクロミック性能試験。
フォトクロミック二色性染料（ＰＣＤＤ）を含有するコーティングを有する基材のそれ
ぞれについての吸光度比（ＡＲ）を、以下のようにして決定した。Ｃａｒｙ６０００ｉ
ＵＶ−可視分光光度計は、回転ステージ上に搭載された自己センタリング型試料ホルダー
（Ｐｏｌｙｔｅｃｈ、ＰＩからのモデルＭ−０６０−ＰＤ）および適切なソフトウェアを
備えた。偏光板アナライザー（Ｍｏｘｔｅｋ ＰＲＯＦＬＵＸ（登録商標）偏光板）を試
料前の試料ビーム中に置いた。装置を以下のパラメーターで設定した：スキャン速度＝６
００ｎｍ／ｍｉｎ；データ間隔＝１．０ｎｍ；積分時間＝１００ｍｓ；吸光度範囲＝０〜
６．５；Ｙモード＝吸光度；Ｘモード＝ナノメートルであり；スキャン範囲は３８０〜８
００ｎｍであった。オプションを３．５ＳＢＷ（スリットバンド幅）に設定し、ビームモ
ードについてダブルで設定した。ベースラインオプションをゼロ／ベースライン補正に設
定した。また、１．１および１．５（合わせて約２．６）のスクリーンニュートラルデン
シティフィルターが、すべてのスキャンについて、参照経路内にあった。コーティングさ
れた基材試料を、実験室用空調設備で維持された、空気中室温で（２２．７℃±２．４℃
）で試験した。
ぞれについての吸光度比（ＡＲ）を、以下のようにして決定した。Ｃａｒｙ６０００ｉ
ＵＶ−可視分光光度計は、回転ステージ上に搭載された自己センタリング型試料ホルダー
（Ｐｏｌｙｔｅｃｈ、ＰＩからのモデルＭ−０６０−ＰＤ）および適切なソフトウェアを
備えた。偏光板アナライザー（Ｍｏｘｔｅｋ ＰＲＯＦＬＵＸ（登録商標）偏光板）を試
料前の試料ビーム中に置いた。装置を以下のパラメーターで設定した：スキャン速度＝６
００ｎｍ／ｍｉｎ；データ間隔＝１．０ｎｍ；積分時間＝１００ｍｓ；吸光度範囲＝０〜
６．５；Ｙモード＝吸光度；Ｘモード＝ナノメートルであり；スキャン範囲は３８０〜８
００ｎｍであった。オプションを３．５ＳＢＷ（スリットバンド幅）に設定し、ビームモ
ードについてダブルで設定した。ベースラインオプションをゼロ／ベースライン補正に設
定した。また、１．１および１．５（合わせて約２．６）のスクリーンニュートラルデン
シティフィルターが、すべてのスキャンについて、参照経路内にあった。コーティングさ
れた基材試料を、実験室用空調設備で維持された、空気中室温で（２２．７℃±２．４℃
）で試験した。
試料偏光板の配向が分析器偏光板に対して平行かつ垂直となるように、以下の仕方で実
施した。Ｃａｒｙ６０００ｉを、ＤＤ−２を含有する試料について４４３ｎｍ、ＤＤ−１
を含有する試料について６７５ｎｍに設定し、試料を小さい増分（０．１〜５度、例えば
５、１、０．５および０．１度）で回転させながら、吸光度を監視した。試料の回転を、
吸光度が最大化されるまで続行した。この位置を、垂直すなわち９０度の位置と定義した
。平行位置は、ステージを９０度時計回りまたは反時計回りに回転させることによって得
た。試料の配列は±０．１°まで達成された。
施した。Ｃａｒｙ６０００ｉを、ＤＤ−２を含有する試料について４４３ｎｍ、ＤＤ−１
を含有する試料について６７５ｎｍに設定し、試料を小さい増分（０．１〜５度、例えば
５、１、０．５および０．１度）で回転させながら、吸光度を監視した。試料の回転を、
吸光度が最大化されるまで続行した。この位置を、垂直すなわち９０度の位置と定義した
。平行位置は、ステージを９０度時計回りまたは反時計回りに回転させることによって得
た。試料の配列は±０．１°まで達成された。
吸収スペクトルを、各試料について９０と０度の両方で収集した。データ分析はＷａｖ
ｅＭｅｔｒｉｃｓから入手可能なＩｇｏｒ Ｐｒｏソフトウェアで処理した。スペクトル
をＩｇｏｒ Ｐｒｏにロードし、吸光度値を４４３ｎｍと６７５ｎｍでの吸光度比を計算
するために使用した。算出された吸光度比を表７に挙げる。
ｅＭｅｔｒｉｃｓから入手可能なＩｇｏｒ Ｐｒｏソフトウェアで処理した。スペクトル
をＩｇｏｒ Ｐｒｏにロードし、吸光度値を４４３ｎｍと６７５ｎｍでの吸光度比を計算
するために使用した。算出された吸光度比を表７に挙げる。
光学ベンチでの応答試験の前に、フォトクロミック分子を予備活性化させるために、基
材を、電磁放射線の供給源から約１４ｃｍの距離で３６５ｎｍ紫外線に１０分間曝露する
ことによって調整した。試料でのＵＶＡ放射照度をＬｉｃｏｒモデルＬｉ−１８００分光
放射計で測定し、平方メートル当たり２２．２ワットであることが分かった。次いで、試
料中のフォトクロミック化合物をブリーチまたは不活性化するために、試料を、ハロゲン
ランプ（５００Ｗ、１２０Ｖ）下に、ランプから約３６ｃｍの距離で約１０分間置いた。
試料での照度をＬｉｃｏｒ分光放射計で測定し、２１．９Ｋルクスであることが分かった
。次いで、冷却されて基底状態へ退色し続けるように、試験前に、試料を暗所に少なくと
も１時間保持した。
材を、電磁放射線の供給源から約１４ｃｍの距離で３６５ｎｍ紫外線に１０分間曝露する
ことによって調整した。試料でのＵＶＡ放射照度をＬｉｃｏｒモデルＬｉ−１８００分光
放射計で測定し、平方メートル当たり２２．２ワットであることが分かった。次いで、試
料中のフォトクロミック化合物をブリーチまたは不活性化するために、試料を、ハロゲン
ランプ（５００Ｗ、１２０Ｖ）下に、ランプから約３６ｃｍの距離で約１０分間置いた。
試料での照度をＬｉｃｏｒ分光放射計で測定し、２１．９Ｋルクスであることが分かった
。次いで、冷却されて基底状態へ退色し続けるように、試験前に、試料を暗所に少なくと
も１時間保持した。
光学ベンチを、コーティングされた基材の光学的特性を測定し、吸光度比およびフォト
クロミック特性を誘導するために使用した。各試験試料を、試験試料の表面に対して３０
°〜３５°の入射角で配置された、活性化用光源（迷光がデータ収集過程を妨げないよう
に、データ収集中に一時的に閉じられるＵＮＩＢＬＩＴＺ（登録商標）ＶＳ−２５高速コ
ンピューター制御のシャッター、短い波長放射線を除去するＳＣＨＯＴＴ（登録商標）３
ｍｍ ＫＧ−１帯域通過フィルター、強度減衰のためのニュートラルデンシティフィルタ
ー、およびビームコリメーションのための集光レンズを取り付けた、Ｎｅｗｐｏｒｔ／Ｏ
ｒｉｅｌモデル６６４８５ ３００ワットキセノンアークランプ）を有する光学ベンチ上
に置いた。アークランプは、光強度制御装置（Ｎｅｗｐｏｒｔ／Ｏｒｉｅｌモデル６８９
５０）を備えた。
クロミック特性を誘導するために使用した。各試験試料を、試験試料の表面に対して３０
°〜３５°の入射角で配置された、活性化用光源（迷光がデータ収集過程を妨げないよう
に、データ収集中に一時的に閉じられるＵＮＩＢＬＩＴＺ（登録商標）ＶＳ−２５高速コ
ンピューター制御のシャッター、短い波長放射線を除去するＳＣＨＯＴＴ（登録商標）３
ｍｍ ＫＧ−１帯域通過フィルター、強度減衰のためのニュートラルデンシティフィルタ
ー、およびビームコリメーションのための集光レンズを取り付けた、Ｎｅｗｐｏｒｔ／Ｏ
ｒｉｅｌモデル６６４８５ ３００ワットキセノンアークランプ）を有する光学ベンチ上
に置いた。アークランプは、光強度制御装置（Ｎｅｗｐｏｒｔ／Ｏｒｉｅｌモデル６８９
５０）を備えた。
応答測定を監視するための広帯域光源を、試験試料の表面に対して垂直な形で配置した
。１００ワットタングステンハロゲンランプ（ＬＡＭＢＤＡ（登録商標）ＵＰ６０−１４
定電圧粉末供給によって制御）からの別個にフィルターをかけた光を、スプリット末端型
二股ファイバー光ケーブルで収集し一緒にすることによって、より短い可視波長のシグナ
ルの増大が得られた。タングステンハロゲンランプの一方からの光を、熱を吸収するため
のＳＣＨＯＴＴ（登録商標）ＫＧ１フィルター、および、より短い波長の通過を可能にす
るためのＨＯＹＡ（登録商標）Ｂ−４４０フィルターでフィルターにかけた。その光の他
方は、ＳＣＨＯＴＴ（登録商標）ＫＧ１フィルターでフィルターをかけるか、またはフィ
ルターをかけなかった。ランプのそれぞれの側から、スプリット末端型二股ファイバー光
ケーブルの別個の末端上へ光を集束させることによって光を収集し、続いて、そのケーブ
ルの単一末端から現れる１つの光源に合体させた。４インチ（１０．２ｃｍ）ライトパイ
プをそのケーブルの単一末端に取り付けて確実に適正に混合するようにした。広帯域光源
には、データ収集中に一時的に開かれるＵＮＩＢＬＩＴＺ（登録商標）ＶＳ−２５高速コ
ンピューター制御のシャッターが取り付けられている。
。１００ワットタングステンハロゲンランプ（ＬＡＭＢＤＡ（登録商標）ＵＰ６０−１４
定電圧粉末供給によって制御）からの別個にフィルターをかけた光を、スプリット末端型
二股ファイバー光ケーブルで収集し一緒にすることによって、より短い可視波長のシグナ
ルの増大が得られた。タングステンハロゲンランプの一方からの光を、熱を吸収するため
のＳＣＨＯＴＴ（登録商標）ＫＧ１フィルター、および、より短い波長の通過を可能にす
るためのＨＯＹＡ（登録商標）Ｂ−４４０フィルターでフィルターにかけた。その光の他
方は、ＳＣＨＯＴＴ（登録商標）ＫＧ１フィルターでフィルターをかけるか、またはフィ
ルターをかけなかった。ランプのそれぞれの側から、スプリット末端型二股ファイバー光
ケーブルの別個の末端上へ光を集束させることによって光を収集し、続いて、そのケーブ
ルの単一末端から現れる１つの光源に合体させた。４インチ（１０．２ｃｍ）ライトパイ
プをそのケーブルの単一末端に取り付けて確実に適正に混合するようにした。広帯域光源
には、データ収集中に一時的に開かれるＵＮＩＢＬＩＴＺ（登録商標）ＶＳ−２５高速コ
ンピューター制御のシャッターが取り付けられている。
光源の偏光は、コンピューター作動電動式回転ステージ（Ｐｏｌｙｔｅｃｈ、ＰＩから
のモデルＭ−０６１−ＰＤ）に保持されたＭｏｘｔｅｋ、ＰＲＯＦＬＵＸ（登録商標）偏
光板を通して、ケーブルの単一末端から光を通過させることによって達成した。監視ビー
ムを、１つの偏光面（０°）が光学ベンチテーブルの面に対して垂直となり、第２の偏光
面（９０°）が光学ベンチテーブルの面に対して平行となるように設定した。試料を、温
度制御されたエアセルにより維持された空気中、２３℃±０．１℃で実行した。
のモデルＭ−０６１−ＰＤ）に保持されたＭｏｘｔｅｋ、ＰＲＯＦＬＵＸ（登録商標）偏
光板を通して、ケーブルの単一末端から光を通過させることによって達成した。監視ビー
ムを、１つの偏光面（０°）が光学ベンチテーブルの面に対して垂直となり、第２の偏光
面（９０°）が光学ベンチテーブルの面に対して平行となるように設定した。試料を、温
度制御されたエアセルにより維持された空気中、２３℃±０．１℃で実行した。
各試料を配列するために、第２の偏光板を光学経路に加えた。第２の偏光板は第１の偏
光板に対して９０°に設定した。試料を、回転ステージ（Ｐｏｌｙｔｅｃｈ、ＰＩからの
モデル番号Ｍ−０６１．ＰＤ）上に搭載された自己センタリング型ホルダーのエアセル中
に置いた。レーザービーム（コヒーレントＵＬＮ６３５ダイオードレーザー）を、交差し
た偏光板および試料を通すように方向付けた。最小透過率を見出すために、試料を回転さ
せた（コース動作として３°目盛りで、微細動作として０．１°目盛りで）。この時点で
、試料をＭｏｘｔｅｋ偏光板および第２の偏光板に対して平行かまたは垂直に配列し、ま
た、ダイオードレーザービームは光学経路から除いた。試料は、活性化の前に±０．２°
で配列された。
光板に対して９０°に設定した。試料を、回転ステージ（Ｐｏｌｙｔｅｃｈ、ＰＩからの
モデル番号Ｍ−０６１．ＰＤ）上に搭載された自己センタリング型ホルダーのエアセル中
に置いた。レーザービーム（コヒーレントＵＬＮ６３５ダイオードレーザー）を、交差し
た偏光板および試料を通すように方向付けた。最小透過率を見出すために、試料を回転さ
せた（コース動作として３°目盛りで、微細動作として０．１°目盛りで）。この時点で
、試料をＭｏｘｔｅｋ偏光板および第２の偏光板に対して平行かまたは垂直に配列し、ま
た、ダイオードレーザービームは光学経路から除いた。試料は、活性化の前に±０．２°
で配列された。
測定を実行するために、各試験試料を、活性化光源からの６．７Ｗ／ｍ２のＵＶＡに１
０〜２０分間曝露してフォトクロミック化合物を活性化させた。検出器システム（モデル
ＳＥＤ０３３検出器、Ｂフィルターおよびディフューザー）を備えた国際光研究放射計（
Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒ）
（モデルＩＬ−１７００）を、それぞれの日の最初に、曝露を検証するために使用した。
次いで、０°偏光面に対して偏光された監視ソースからの光を、コーティングされた試料
を通過させ、単機能ファイバー光ケーブルを使用して、ＯＣＥＡＮ ＯＰＴＩＣＳ（登録
商標）Ｓ２０００分光光度計に接続された１”積分球中に集束させた。試料を通過させた
後、スペクトル情報をＯＣＥＡＮ ＯＰＴＩＣＳ（登録商標）ＯＯＩＢａｓｅ３２および
ＯＯＩＣｏｌｏｒソフトウェア、ならびにＰＰＧプロプライエタリーソフトウエアを使用
して収集した。フォトクロミック材料を活性化させながら、偏光させるシートの位置を前
後に回転させて、監視光源からの光を９０°偏光面へ偏光させ、また戻した。活性化の間
、データを５秒間隔でおよそ６００〜１２００秒間収集した。各試験について、偏光板の
回転は、以下の偏光面のシーケンス：０°、９０°、９０°、０°等でデータを収集する
ように調節した。
０〜２０分間曝露してフォトクロミック化合物を活性化させた。検出器システム（モデル
ＳＥＤ０３３検出器、Ｂフィルターおよびディフューザー）を備えた国際光研究放射計（
Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒ）
（モデルＩＬ−１７００）を、それぞれの日の最初に、曝露を検証するために使用した。
次いで、０°偏光面に対して偏光された監視ソースからの光を、コーティングされた試料
を通過させ、単機能ファイバー光ケーブルを使用して、ＯＣＥＡＮ ＯＰＴＩＣＳ（登録
商標）Ｓ２０００分光光度計に接続された１”積分球中に集束させた。試料を通過させた
後、スペクトル情報をＯＣＥＡＮ ＯＰＴＩＣＳ（登録商標）ＯＯＩＢａｓｅ３２および
ＯＯＩＣｏｌｏｒソフトウェア、ならびにＰＰＧプロプライエタリーソフトウエアを使用
して収集した。フォトクロミック材料を活性化させながら、偏光させるシートの位置を前
後に回転させて、監視光源からの光を９０°偏光面へ偏光させ、また戻した。活性化の間
、データを５秒間隔でおよそ６００〜１２００秒間収集した。各試験について、偏光板の
回転は、以下の偏光面のシーケンス：０°、９０°、９０°、０°等でデータを収集する
ように調節した。
Ｉｇｏｒ Ｐｒｏソフトウェア（ＷａｖｅＭｅｔｒｉｃｓから入手可能）を使用して、
各試験試料について吸収スペクトルを得、分析した。各試験試料について、各偏光方向に
おける吸光度の変化を、試験した各波長での試料についての０時間（すなわち、非活性化
）吸光度測定値を差し引くことによって計算した。平均吸光度値は、この領域において各
時間間隔で吸光度を平均化することによって、各試料についてフォトクロミック化合物の
フォトクロミック応答が飽和しているまたはほぼ飽和している活性化プロファイルの領域
（すなわち、経時的に測定吸光度が増大しないまたはそれほど増大しない領域）で得た。
λｍａｘ−ｖｉｓ＋／−５ｎｍに相当する所定の範囲の波長での平均吸光度値を０°およ
び９０°偏光について抽出し、この範囲での各波長についての吸光度比を、より大きい平
均吸光度を小さい平均吸光度で除すことによって計算した。抽出された各波長について、
５〜１００のデータ点を平均化した。次いで、フォトクロミック化合物についての平均吸
光度比を、これらの個々の吸光度比を平均化することによって計算した。
各試験試料について吸収スペクトルを得、分析した。各試験試料について、各偏光方向に
おける吸光度の変化を、試験した各波長での試料についての０時間（すなわち、非活性化
）吸光度測定値を差し引くことによって計算した。平均吸光度値は、この領域において各
時間間隔で吸光度を平均化することによって、各試料についてフォトクロミック化合物の
フォトクロミック応答が飽和しているまたはほぼ飽和している活性化プロファイルの領域
（すなわち、経時的に測定吸光度が増大しないまたはそれほど増大しない領域）で得た。
λｍａｘ−ｖｉｓ＋／−５ｎｍに相当する所定の範囲の波長での平均吸光度値を０°およ
び９０°偏光について抽出し、この範囲での各波長についての吸光度比を、より大きい平
均吸光度を小さい平均吸光度で除すことによって計算した。抽出された各波長について、
５〜１００のデータ点を平均化した。次いで、フォトクロミック化合物についての平均吸
光度比を、これらの個々の吸光度比を平均化することによって計算した。
ブリーチされた状態から暗くなった状態への光学密度の変化（ΔＯＤ）を、初期透過率
を確立し、試験レンズをブリーチされた状態から活性化された（すなわち、暗くなった）
状態へ変化させる紫外放射線を提供するためにキセノンランプからのシャッターを開くこ
とによって決定した。データを選択された時間間隔で収集し、活性化された状態で透過率
を測定し、式：ΔＯＤ＝ｌｏｇ（％Ｔｂ／％Ｔａ）にしたがって光学密度の変化を計算し
た。ここで、％Ｔｂはブリーチされた状態での透過率パーセントであり、％Ｔａは活性化
された状態での透過率パーセントであり、対数は１０を底とする。測定は、明所視（Ｐｈ
ｏｔ）波長ならびに４４０ｎｍおよび５７０ｎｍの平均での波長で行った。これを表７に
報告する。
を確立し、試験レンズをブリーチされた状態から活性化された（すなわち、暗くなった）
状態へ変化させる紫外放射線を提供するためにキセノンランプからのシャッターを開くこ
とによって決定した。データを選択された時間間隔で収集し、活性化された状態で透過率
を測定し、式：ΔＯＤ＝ｌｏｇ（％Ｔｂ／％Ｔａ）にしたがって光学密度の変化を計算し
た。ここで、％Ｔｂはブリーチされた状態での透過率パーセントであり、％Ｔａは活性化
された状態での透過率パーセントであり、対数は１０を底とする。測定は、明所視（Ｐｈ
ｏｔ）波長ならびに４４０ｎｍおよび５７０ｎｍの平均での波長で行った。これを表７に
報告する。
退色半減期（ｆａｄｅ ｈａｌｆ−ｌｉｆｅ）（Ｔ１／２）は、試験試料中の活性化さ
れた形態のフォトクロミック化合物のΔＯＤが、１５分後、または、例えばシャッターを
閉じることによって、活性化させる光の供給源を取り除いた後、室温で飽和もしくはほぼ
飽和が達成された後に測定されたΔＯＤの２分の１に達するまでの秒数での時間間隔であ
る。
れた形態のフォトクロミック化合物のΔＯＤが、１５分後、または、例えばシャッターを
閉じることによって、活性化させる光の供給源を取り除いた後、室温で飽和もしくはほぼ
飽和が達成された後に測定されたΔＯＤの２分の１に達するまでの秒数での時間間隔であ
る。
パートＢの本発明による実施例および比較例（ＣＥ）についての結果を表７にまとめる
。実施例Ｅ〜Ｌについてのコーティングスタックを、比較例Ａ〜Ｄと同時に調製した。実
施例ＯおよびＰのコーティングスタックは、比較例ＭおよびＮと一緒に調製し試験した。
。実施例Ｅ〜Ｌについてのコーティングスタックを、比較例Ａ〜Ｄと同時に調製した。実
施例ＯおよびＰのコーティングスタックは、比較例ＭおよびＮと一緒に調製し試験した。
表７にまとめた結果は、本発明による化合物を含むコーティング層（ＣＬＦ）（ＣＬＦ
−２、ＣＬＦ−３またはＣＬＦ−４）を含む本発明によるコーティングスタックが、本発
明による化合物を含まないコーティング層（ＣＬＦ）（ＣＬＦ−１）を含む比較コーティ
ングスタックと比較して、活性化された状態で改善された二色性特性を有することを実証
している（より大きいＡＲ値によって示されるように）。
−２、ＣＬＦ−３またはＣＬＦ−４）を含む本発明によるコーティングスタックが、本発
明による化合物を含まないコーティング層（ＣＬＦ）（ＣＬＦ−１）を含む比較コーティ
ングスタックと比較して、活性化された状態で改善された二色性特性を有することを実証
している（より大きいＡＲ値によって示されるように）。
本発明を、その特定の実施形態の具体的な詳細を参照して記載してきた。それらが添付
の特許請求の範囲に含まれる場合およびその含まれる程度までを除いて、そうした詳細を
本発明の範囲に対する限定とみなそうとするものではない。
の特許請求の範囲に含まれる場合およびその含まれる程度までを除いて、そうした詳細を
本発明の範囲に対する限定とみなそうとするものではない。
本発明の好ましい実施形態によれば、例えば、以下が提供される。
（項目１）
以下の式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）
（式中、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ は各ｘについて独立に、Ｒ ２ は各ｙについて独立に、そしてＲ ６ は各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、各Ｒ ７ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され、Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ６ およびＲ ７ の前記ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されており、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
各ｎについて独立にＭ １ 、各ｐについて独立にＭ ２ 、各ｆについて独立にＭ ３ および各ｇについて独立にＭ ４ は、いずれの場合にも、独立に、以下の式（Ｘ）
で表され、ここで、各式（Ｘ）について独立に、
Ｌ １ は、いずれの場合にも、単結合；−Ｏ−；−Ｓ−；−Ｃ（Ｏ）−；−Ｓ（Ｏ）−；−ＳＯ ２ −；−Ｎ＝Ｎ−；−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つからなる群から独立に選択され、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル；−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され；ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルはそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択され、
ｔは１〜４であり、
ｍは、各ｔについて独立に、０〜８であり、
Ｌ ２ は、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ ペルハロアルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで任意に介在されており、
Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ｑは、各ｔについて独立に、０〜８であり、ただし、ｍとｑの合計は各ｔについて少なくとも１であり、ただし、ｑは少なくとも１つのｔについて少なくとも１であり、
Ｌ ３ は、各ｑについて独立に、以下の式（ＸＩ−１）
で表され、
Ｙは、各ｑについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−、−Ｎ（Ｒ ９ ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ｖおよびｕは、各ｑについてそれぞれ独立に、０〜５から選択され、ただし、ｖとｕの合計は、０より大きい各ｑについて少なくとも２であり、
Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−、−Ｎ（Ｒ ９ ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリール、置換二価ヘテロアリール、二価シクロアルキル、置換二価シクロアルキル、二価ヘテロシクロアルキルおよび置換二価ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、
Ｅ １ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで任意に介在されており、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびに（メタ）アクリロイルからなる群から選択され、
ただし、Ｌ １ とＬ ２ の間の直接的なＬ １ −Ｌ ２ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、Ｌ １ とＬ ３ の間の直接的なＬ １ −Ｌ ３ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、それぞれ直接に連結されたＬ ２ とＬ ３ の間のそれぞれの直接的なＬ ２ −Ｌ ３ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず；
式（Ｉ）について、
Ｒ ３ は単結合または−ＣＨ ２ −であり、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ただし、
ｎとｐの合計は少なくとも１であり、
Ｍ １ およびＭ ２ はそれぞれ、Ｌ ３ および／またはＥ １ がヒドロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ ３ −Ｅ １ 基を含まず、
Ｍ １ およびＭ ２ はそれぞれ、Ｅ １ がヒドロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ ２ −Ｅ １ 基を含まず、
式（ＩＩ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
Ｒ ４ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
環Ａは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＩＶ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
環Ｂは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択され、
Ｄは、Ｏ、ＳおよびＮ−Ｒ ２ ’からなる群から選択され、Ｒ ２ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択され、
式（Ｖ）について、
ｘは０〜５であり、
ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計は５であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ただし、ｎとｐの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩ）について、
ｘは０〜５であり、
ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計は５であり、
Ｒ ５ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ およびＲ １２ はそれぞれ独立に、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ 、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ただし、ｎは少なくとも１であり、かつ／またはＲ ５ はＭ ２ であり、
式（ＶＩＩ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ｄは０〜５であり、
ｆは０〜５であり、ただし、ｄとｆの合計は５であり、
ただし、ｎ、ｐおよびｆの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩＩＩ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
式（ＩＸ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４である）
の少なくとも１つで表される化合物。
（項目２）
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ が各ｘについて独立に、Ｒ ２ が各ｙについて独立に、そしてＲ ６ が各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、
各Ｒ ７ は、水素、Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、各Ｍ １ について独立に、各Ｍ ２ について独立に、各Ｍ ３ について独立に、そして各Ｍ ４ について独立に、
ｍが、少なくとも１つのｔについて少なくとも１であり、
Ｌ ２ が、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ ペルハロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており、
Ｌ ３ が、各ｑについて独立に、以下の式（ＸＩ−２）
で表され、二価の環
が、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、置換シクロヘキサン−１，４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル（その芳香環は置換されている）、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５（６）−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２，７−ジイル、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル、（１，３，４）チアジアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，４−ジイル、チオフェン−２，４−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、（１，３）ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイルおよびピペラジン−１，４−ジイルからなる群から選択され、
Ｅ １ が、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルからなる群から独立に選択され、それぞれ、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており；
式（ＩＩ）について、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
環Ａがアリールまたは置換アリールであり、
式（ＩＶ）について、
環Ｂがアリールまたは置換アリールであり、
ＤのＲ ２ ’が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＶＩ）について、
Ｒ ５ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ が、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ 、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択され、
Ｒ １２ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択される、項目１に記載の化合物。
（項目３）
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ が各ｘについて独立に、Ｒ ２ が各ｙについて独立に、そしてＲ ６ が各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、各Ｒ ７ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、各Ｍ １ について独立に、各Ｍ ２ について独立に、各Ｍ ３ について独立に、そして各Ｍ ４ について独立に、
Ｌ ２ が、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ ペルフルオロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており、
各Ｌ ３ について独立に、
Ｚが、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され、
二価の環
が、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイルおよび置換シクロヘキサン−１，４−ジイルからなる群から選択され、
Ｅ １ が、いずれの場合にも、水素、ならびに−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から独立に選択され；
式（ＩＩ）について、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキル、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
環Ａがフェニルであり、
ｇが０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
式（ＩＶ）について、
環Ｂがフェニルであり、
ＤのＲ ２ ’が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
ｇが０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩ）について、
Ｒ ５ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ が、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
Ｒ １２ が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択される、項目２に記載の化合物。
（項目４）
二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリールおよび置換二価ヘテロアリールからなる群から選択される、項目１に記載の化合物。
（項目５）
二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイルおよびフェナントレン−２，７−ジイルからなる群から選択される、項目２に記載の化合物。
（項目６）
少なくとも１つの二価の環（Ｃ）および少なくとも１つの二価の環（Ｄ）が、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイルおよび置換フェニレン−１，４−ジイルからなる群から選択される、項目３に記載の化合物。
（項目７）
式（Ｉ）について、
ｎとｐの合計が１であり、
式（ＩＩ）について、
ｎが１であり、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび−ＯＲ ８ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
ｎとｇの合計が１であり、
式（ＩＶ）について、
ｎとｇの合計が１であり、
式（Ｖ）について、
ｎとｐの合計が１であり、
式（ＶＩ）について、
ｎが１であり、
Ｒ ５ が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＶＩＩ）について、
ｎ、ｐおよびｆの合計が１であり、
式（ＶＩＩＩ）について、
ｎが１であり、
式（ＩＸ）について、
ｎが１である、
項目３に記載の化合物。
（項目８）
各Ｌ ３ が、以下の式
からなる群から独立に選択される、項目３に記載の化合物。
（項目９）
少なくとも１つのＬ ３ が独立にメソゲン基であり、前記化合物がメソゲン化合物である、項目１に記載の化合物。
（項目１０）
前記化合物がメソゲン紫外線吸収性化合物である、項目９に記載の化合物。
（項目１１）
項目１に記載の化合物を含む組成物。
（項目１２）
（ｉ）フォトクロミック化合物、（ｉｉ）二色性化合物、（ｉｉｉ）フォトクロミック−二色性化合物および（ｉｖ）固定ティントの少なくとも１つをさらに含む、項目１１に記載の組成物。
（項目１３）
液晶材料をさらに含む、項目１１に記載の組成物。
（項目１４）
項目１に記載の化合物を含む製造物品。
（項目１５）
前記製造物品が、
光学的基材；および
前記光学的基材の表面の少なくとも一部の上にある層
を含む光学素子であり、前記層が項目１に記載の化合物を含む、項目１４に記載の製造物品。
（項目１６）
前記層が、前記層の少なくとも一部を、磁場、電場、直線偏光した放射線およびせん断力の少なくとも１つに曝露することによって少なくとも部分的に配列されている、項目１５に記載の光学素子。
（項目１７）
前記層が、ネマチック相、スメクチック相およびキラルネマチック相の少なくとも１つを有する液晶相を含む、項目１５に記載の光学素子。
（項目１８）
前記層が、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目１９）
少なくとも１つのさらなる層をさらに含み、さらなる層が各々、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から独立に選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目２０）
前記光学素子が眼用素子、表示素子、ウィンドウ、ミラーおよび液晶セル素子からなる群から選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目２１）
前記眼用素子が、矯正レンズ、非矯正レンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズ、保護レンズおよびバイザーからなる群から選択される、項目２０に記載の光学素子。
（項目２２）
前記層がフォトクロミック−二色性化合物をさらに含み、前記層がフォトクロミック層である、項目１５に記載の光学素子。
（項目２３）
前記フォトクロミック−二色性化合物がフォトクロミック化合物の残基を含み、
前記フォトクロミック化合物が、インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン、フェナントロピラン、キノリノピラン、フルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオランテノオキサジン、スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリールアルキルエテン、ジアリールアルケニルエテン、熱的に可逆性のフォトクロミック化合物および非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物からなる群から選択される、項目２２に記載の光学素子。
（項目２４）
前記層が固定ティントをさらに含み、前記層が二色性層である、項目１５に記載の光学素子。
（項目１）
以下の式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）
（式中、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ は各ｘについて独立に、Ｒ ２ は各ｙについて独立に、そしてＲ ６ は各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、各Ｒ ７ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され、Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ６ およびＲ ７ の前記ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルは、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで独立にかつ任意に介在されており、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
各ｎについて独立にＭ １ 、各ｐについて独立にＭ ２ 、各ｆについて独立にＭ ３ および各ｇについて独立にＭ ４ は、いずれの場合にも、独立に、以下の式（Ｘ）
で表され、ここで、各式（Ｘ）について独立に、
Ｌ １ は、いずれの場合にも、単結合；−Ｏ−；−Ｓ−；−Ｃ（Ｏ）−；−Ｓ（Ｏ）−；−ＳＯ ２ −；−Ｎ＝Ｎ−；−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つからなる群から独立に選択され、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル；−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から独立に選択され；ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルはそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択され、
ｔは１〜４であり、
ｍは、各ｔについて独立に、０〜８であり、
Ｌ ２ は、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ ペルハロアルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで任意に介在されており、
Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ｑは、各ｔについて独立に、０〜８であり、ただし、ｍとｑの合計は各ｔについて少なくとも１であり、ただし、ｑは少なくとも１つのｔについて少なくとも１であり、
Ｌ ３ は、各ｑについて独立に、以下の式（ＸＩ−１）
で表され、
Ｙは、各ｑについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−、−Ｎ（Ｒ ９ ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ｖおよびｕは、各ｑについてそれぞれ独立に、０〜５から選択され、ただし、ｖとｕの合計は、０より大きい各ｑについて少なくとも２であり、
Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−、−Ｎ（Ｒ ９ ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−からなる群から選択される二価連結基であり、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
二価の環
は、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリール、置換二価ヘテロアリール、二価シクロアルキル、置換二価シクロアルキル、二価ヘテロシクロアルキルおよび置換二価ヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、
Ｅ １ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ（Ｒ ９ ）−および−Ｓｉ（Ｒ ９ ）（Ｒ １０ ）−の少なくとも１つで任意に介在されており、Ｒ ９ およびＲ １０ はそれぞれ独立に、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびに（メタ）アクリロイルからなる群から選択され、
ただし、Ｌ １ とＬ ２ の間の直接的なＬ １ −Ｌ ２ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、Ｌ １ とＬ ３ の間の直接的なＬ １ −Ｌ ３ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、それぞれ直接に連結されたＬ ２ とＬ ３ の間のそれぞれの直接的なＬ ２ −Ｌ ３ 連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず；
式（Ｉ）について、
Ｒ ３ は単結合または−ＣＨ ２ −であり、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ただし、
ｎとｐの合計は少なくとも１であり、
Ｍ １ およびＭ ２ はそれぞれ、Ｌ ３ および／またはＥ １ がヒドロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ ３ −Ｅ １ 基を含まず、
Ｍ １ およびＭ ２ はそれぞれ、Ｅ １ がヒドロキシル置換アリール基を含む末端−Ｌ ２ −Ｅ １ 基を含まず、
式（ＩＩ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
Ｒ ４ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
環Ａは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＩＶ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｇは０〜６であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
環Ｂは、アリール、置換アリール、ヘテロアリールおよび置換ヘテロアリールからなる群から選択され、
Ｄは、Ｏ、ＳおよびＮ−Ｒ ２ ’からなる群から選択され、Ｒ ２ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）−、−ＳＯ ２ −、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（Ｒ １１ ’）−の少なくとも１つで任意にかつ独立に介在されており、Ｒ １１ ’は、水素、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＯＲ ８ ’） ｗ （Ｒ ８ ’） ｅ −からなる群から選択され、ｗおよびｅはそれぞれ独立に０〜２であり、ただし、ｗとｅの合計は２であり、各Ｒ ８ ’は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルならびにそれらの２つまたはそれ超の組合せからなる群から独立に選択され、
式（Ｖ）について、
ｘは０〜５であり、
ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計は５であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ただし、ｎとｐの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩ）について、
ｘは０〜５であり、
ｎは０〜５であり、ただし、ｘとｎの合計は５であり、
Ｒ ５ は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ およびＲ １２ はそれぞれ独立に、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ 、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素、ヒドロカルビルおよび置換ヒドロカルビルからなる群から選択され、
ただし、ｎは少なくとも１であり、かつ／またはＲ ５ はＭ ２ であり、
式（ＶＩＩ）について、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｙは０〜５であり、
ｐは０〜５であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ｄは０〜５であり、
ｆは０〜５であり、ただし、ｄとｆの合計は５であり、
ただし、ｎ、ｐおよびｆの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩＩＩ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
式（ＩＸ）について、
ｘは０〜３であり、
ｎは１〜４であり、ただし、ｘとｎの合計は４である）
の少なくとも１つで表される化合物。
（項目２）
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ が各ｘについて独立に、Ｒ ２ が各ｙについて独立に、そしてＲ ６ が各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、
各Ｒ ７ は、水素、Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、各Ｍ １ について独立に、各Ｍ ２ について独立に、各Ｍ ３ について独立に、そして各Ｍ ４ について独立に、
ｍが、少なくとも１つのｔについて少なくとも１であり、
Ｌ ２ が、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ ペルハロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており、
Ｌ ３ が、各ｑについて独立に、以下の式（ＸＩ−２）
で表され、二価の環
が、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、置換シクロヘキサン−１，４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル（その芳香環は置換されている）、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５（６）−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、フェナントレン−２，７−ジイル、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル、（１，３，４）チアジアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，５−ジイル、（１，３）チアゾール−２，４−ジイル、チオフェン−２，４−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、（１，３）ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイルおよびピペラジン−１，４−ジイルからなる群から選択され、
Ｅ １ が、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルからなる群から独立に選択され、それぞれ、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており；
式（ＩＩ）について、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
環Ａがアリールまたは置換アリールであり、
式（ＩＶ）について、
環Ｂがアリールまたは置換アリールであり、
ＤのＲ ２ ’が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され、
式（ＶＩ）について、
Ｒ ５ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキル、Ｃ ３ 〜Ｃ １２ ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ が、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ 、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択され、
Ｒ １２ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ ２５ アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ ２ 〜Ｃ ２５ アルケニルおよびＣ ３ 〜Ｃ １２ シクロアルキルからなる群から選択される、項目１に記載の化合物。
（項目３）
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）のそれぞれについて独立に、
Ｒ １ が各ｘについて独立に、Ｒ ２ が各ｙについて独立に、そしてＲ ６ が各ｄについて独立に、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび−ＯＲ ７ からなる群から独立に選択され、各Ｒ ７ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、各Ｍ １ について独立に、各Ｍ ２ について独立に、各Ｍ ３ について独立に、そして各Ｍ ４ について独立に、
Ｌ ２ が、各ｍについて独立に、二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび二価の直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ ペルフルオロアルキルからなる群から選択され、いずれの場合にも、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されており、
各Ｌ ３ について独立に、
Ｚが、各ｖについて独立に、単結合、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され、
二価の環
が、それぞれ独立に、各ｖおよび各ｕについて、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイルおよび置換シクロヘキサン−１，４−ジイルからなる群から選択され、
Ｅ １ が、いずれの場合にも、水素、ならびに−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から独立に選択され；
式（ＩＩ）について、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキル、−ＯＲ ８ およびＭ ２ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
環Ａがフェニルであり、
ｇが０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
式（ＩＶ）について、
環Ｂがフェニルであり、
ＤのＲ ２ ’が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
ｇが０〜４であり、ただし、ｎとｇの合計は少なくとも１であり、
式（ＶＩ）について、
Ｒ ５ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよびＭ ２ からなる群から選択され、
Ｒ １１ が、水素、−ＣＮ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ １３ および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、Ｒ １３ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
Ｒ １２ が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択される、項目２に記載の化合物。
（項目４）
二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、二価アリール、置換二価アリール、二価ヘテロアリールおよび置換二価ヘテロアリールからなる群から選択される、項目１に記載の化合物。
（項目５）
二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、置換ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、置換ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイルおよびフェナントレン−２，７−ジイルからなる群から選択される、項目２に記載の化合物。
（項目６）
少なくとも１つの二価の環（Ｃ）および少なくとも１つの二価の環（Ｄ）が、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイルおよび置換フェニレン−１，４−ジイルからなる群から選択される、項目３に記載の化合物。
（項目７）
式（Ｉ）について、
ｎとｐの合計が１であり、
式（ＩＩ）について、
ｎが１であり、
Ｒ ４ が、水素、直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルおよび−ＯＲ ８ からなる群から選択され、Ｒ ８ は、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＩＩＩ）について、
ｎとｇの合計が１であり、
式（ＩＶ）について、
ｎとｇの合計が１であり、
式（Ｖ）について、
ｎとｐの合計が１であり、
式（ＶＩ）について、
ｎが１であり、
Ｒ ５ が、水素および直鎖状または分枝状Ｃ １ 〜Ｃ １０ アルキルからなる群から選択され、
式（ＶＩＩ）について、
ｎ、ｐおよびｆの合計が１であり、
式（ＶＩＩＩ）について、
ｎが１であり、
式（ＩＸ）について、
ｎが１である、
項目３に記載の化合物。
（項目８）
各Ｌ ３ が、以下の式
からなる群から独立に選択される、項目３に記載の化合物。
（項目９）
少なくとも１つのＬ ３ が独立にメソゲン基であり、前記化合物がメソゲン化合物である、項目１に記載の化合物。
（項目１０）
前記化合物がメソゲン紫外線吸収性化合物である、項目９に記載の化合物。
（項目１１）
項目１に記載の化合物を含む組成物。
（項目１２）
（ｉ）フォトクロミック化合物、（ｉｉ）二色性化合物、（ｉｉｉ）フォトクロミック−二色性化合物および（ｉｖ）固定ティントの少なくとも１つをさらに含む、項目１１に記載の組成物。
（項目１３）
液晶材料をさらに含む、項目１１に記載の組成物。
（項目１４）
項目１に記載の化合物を含む製造物品。
（項目１５）
前記製造物品が、
光学的基材；および
前記光学的基材の表面の少なくとも一部の上にある層
を含む光学素子であり、前記層が項目１に記載の化合物を含む、項目１４に記載の製造物品。
（項目１６）
前記層が、前記層の少なくとも一部を、磁場、電場、直線偏光した放射線およびせん断力の少なくとも１つに曝露することによって少なくとも部分的に配列されている、項目１５に記載の光学素子。
（項目１７）
前記層が、ネマチック相、スメクチック相およびキラルネマチック相の少なくとも１つを有する液晶相を含む、項目１５に記載の光学素子。
（項目１８）
前記層が、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目１９）
少なくとも１つのさらなる層をさらに含み、さらなる層が各々、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から独立に選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目２０）
前記光学素子が眼用素子、表示素子、ウィンドウ、ミラーおよび液晶セル素子からなる群から選択される、項目１５に記載の光学素子。
（項目２１）
前記眼用素子が、矯正レンズ、非矯正レンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズ、保護レンズおよびバイザーからなる群から選択される、項目２０に記載の光学素子。
（項目２２）
前記層がフォトクロミック−二色性化合物をさらに含み、前記層がフォトクロミック層である、項目１５に記載の光学素子。
（項目２３）
前記フォトクロミック−二色性化合物がフォトクロミック化合物の残基を含み、
前記フォトクロミック化合物が、インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン、フェナントロピラン、キノリノピラン、フルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオランテノオキサジン、スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリールアルキルエテン、ジアリールアルケニルエテン、熱的に可逆性のフォトクロミック化合物および非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物からなる群から選択される、項目２２に記載の光学素子。
（項目２４）
前記層が固定ティントをさらに含み、前記層が二色性層である、項目１５に記載の光学素子。
Claims (24)
- 式（Ｉ）
Ｒ１は各ｘについて独立に、そしてＲ２は各ｙについて独立に、いずれの場合にも、水素および−ＯＨからなる群から独立に選択され、
Ｍ １は、そしてＭ ２は、いずれの場合にも、独立に、以下の式（Ｘ）
ここで、各式（Ｘ）について独立に、
Ｌ１は、いずれの場合にも、単結合；−Ｏ−；−Ｃ（Ｏ）−の少なくとも１つからなる群から独立に選択され、
ｔは１であり、
ｍは、０〜８であり、
Ｌ２は、各ｍについて独立に、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−で任意に介在されている二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルからなる群から選択され、
ｑは、１であり、
Ｌ３は、以下の式（ＸＩ−１）
Ｙは、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される二価連結基であり、
ｖおよびｕは、それぞれ独立に、０〜５から選択され、ただし、ｖとｕの合計は、少なくとも２であり、
Ｚは、各ｖについて独立に、単結合、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、または−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される二価連結基であり、
二価の環
Ｅ１は、水素または−Ｏ−、および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されているヒドロカルビルからなる群から選択され、
ただし、Ｌ１とＬ２の間の直接的なＬ１−Ｌ２連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、Ｌ１とＬ３の間の直接的なＬ１−Ｌ３連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず、それぞれ直接に連結されたＬ２とＬ３の間のそれぞれの直接的なＬ２−Ｌ３連結は、互いに連結された２個のヘテロ原子を含まず；
Ｒ３は単結合であり、
ｘは０〜４であり、
ｎは０〜１であり、ただし、ｘとｎの合計は４であり、
ｙは０〜５であり、そして
ｐは０〜１であり、ただし、ｙとｐの合計は５であり、
ただし、
ｎとｐの合計は少なくとも１である）
で表される化合物。 - Ｒ１が各ｘについて独立に、そしてＲ２が各ｙについて独立に、いずれの場合にも、水素および−ＯＨからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、Ｍ１について、そしてＭ２について、
ｍが、少なくとも１つのｔについて少なくとも１であり、
Ｌ２が、各ｍについて独立に、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキルからなる群から選択され、
Ｌ３が、以下の式（ＸＩ−２）
ここで、二価の環
Ｅ１が、いずれの場合にも、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ２５アルキル、直鎖状または分枝状Ｃ２〜Ｃ２５アルケニルからなる群から独立に選択され、それぞれ、−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている、
請求項１に記載の化合物。 - Ｒ１が各ｘについて独立に、そしてＲ２が各ｙについて独立に、いずれの場合にも、水素および−ＯＨからなる群から独立に選択され、
各式（Ｘ）について独立に、かつ、Ｍ１について、そしてＭ２について、
Ｌ２が、各ｍについて独立に、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−および−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている二価の直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から選択され、
各Ｌ３について独立に、
Ｚが、各ｖについて独立に、単結合および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−からなる群から選択され、そして
二価の環
Ｅ１が、いずれの場合にも、水素、ならびに−Ｏ−および−Ｃ（Ｏ）Ｏ−の少なくとも１つで任意に介在されている直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１０アルキルからなる群から独立に選択される、
請求項２に記載の化合物。 - 二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、二価アリールおよび置換二価アリールからなる群から選択される、請求項１に記載の化合物。
- 二価の環（Ｃ）および二価の環（Ｄ）の少なくとも１つが、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイル、置換フェニレン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、置換ナフタレン−２，６−ジイルおよびフェナントレン−２，７−ジイルからなる群から選択される、請求項２に記載の化合物。
- 少なくとも１つの二価の環（Ｃ）および少なくとも１つの二価の環（Ｄ）が、それぞれ独立に、フェニレン−１，４−ジイルおよび置換フェニレン−１，４−ジイルからなる群から選択される、請求項３に記載の化合物。
- ｎとｐの合計が１である、請求項３に記載の化合物。
- 各Ｌ３が、以下の式
- 少なくとも１つのＬ３が独立にメソゲン基であり、前記化合物がメソゲン化合物である、請求項１に記載の化合物。
- 前記化合物がメソゲン紫外線吸収性化合物である、請求項９に記載の化合物。
- 請求項１に記載の化合物を含む組成物。
- （ｉ）フォトクロミック化合物、（ｉｉ）二色性化合物、（ｉｉｉ）フォトクロミック−二色性化合物および（ｉｖ）固定ティントの少なくとも１つをさらに含む、請求項１１に記載の組成物。
- 液晶材料をさらに含む、請求項１１に記載の組成物。
- 請求項１に記載の化合物を含む製造物品。
- 前記製造物品が、
光学的基材；および
前記光学的基材の表面の少なくとも一部の上にある層
を含む光学素子であり、前記層が請求項１に記載の化合物を含む、請求項１４に記載の製造物品。 - 前記層が、前記層の少なくとも一部を、磁場、電場、直線偏光した放射線およびせん断力の少なくとも１つに曝露することによって少なくとも部分的に配列されている、請求項１５に記載の光学素子。
- 前記層が、ネマチック相、スメクチック相およびキラルネマチック相の少なくとも１つを有する液晶相を含む、請求項１５に記載の光学素子。
- 前記層が、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から選択される、請求項１５に記載の光学素子。
- 少なくとも１つのさらなる層をさらに含み、さらなる層が各々、プライマー層、保護層、フォトクロミック層、配列層および反射防止層から独立に選択される、請求項１５に記載の光学素子。
- 前記光学素子が眼用素子、表示素子、ウィンドウ、ミラーおよび液晶セル素子からなる群から選択される、請求項１５に記載の光学素子。
- 前記眼用素子が、矯正レンズ、非矯正レンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、拡大レンズ、保護レンズおよびバイザーからなる群から選択される、請求項２０に記載の光学素子。
- 前記層がフォトクロミック−二色性化合物をさらに含み、前記層がフォトクロミック層である、請求項１５に記載の光学素子。
- 前記フォトクロミック−二色性化合物がフォトクロミック化合物の残基を含み、
前記フォトクロミック化合物が、インデノ縮合ナフトピラン、ナフト［１，２−ｂ］ピラン、ナフト［２，１−ｂ］ピラン、スピロフルオロエノ［１，２−ｂ］ピラン、フェナントロピラン、キノリノピラン、フルオロアンテノピラン、スピロピラン、ベンゾオキサジン、ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ナフトオキサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンゾオキサジン、スピロ（インドリン）フルオランテノオキサジン、スピロ（インドリン）キノキサジン、フルジド、フルジミド、ジアリールエテン、ジアリールアルキルエテン、ジアリールアルケニルエテン、熱的に可逆性のフォトクロミック化合物および非熱的に可逆性のフォトクロミック化合物からなる群から選択される、請求項２２に記載の光学素子。 - 前記層が固定ティントをさらに含み、前記層が二色性層である、請求項１５に記載の光学素子。
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