JP6652747B2 - アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 - Google Patents
アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6652747B2 JP6652747B2 JP2016557719A JP2016557719A JP6652747B2 JP 6652747 B2 JP6652747 B2 JP 6652747B2 JP 2016557719 A JP2016557719 A JP 2016557719A JP 2016557719 A JP2016557719 A JP 2016557719A JP 6652747 B2 JP6652747 B2 JP 6652747B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- underlayer film
- resist underlayer
- formula
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/02—Macromolecular compounds containing only carbon atoms in the main chain of the macromolecule, e.g. polyxylylenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/094—Multilayer resist systems, e.g. planarising layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/30604—Chemical etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/308—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching using masks
- H01L21/3081—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching using masks characterised by their composition, e.g. multilayer masks, materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/10—Definition of the polymer structure
- C08G2261/13—Morphological aspects
- C08G2261/135—Cross-linked structures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/10—Definition of the polymer structure
- C08G2261/14—Side-groups
- C08G2261/142—Side-chains containing oxygen
- C08G2261/1422—Side-chains containing oxygen containing OH groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/34—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating partially-aromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/342—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating partially-aromatic structural elements in the main chain containing only carbon atoms
- C08G2261/3424—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating partially-aromatic structural elements in the main chain containing only carbon atoms non-conjugated, e.g. paracyclophanes or xylenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/70—Post-treatment
- C08G2261/76—Post-treatment crosslinking
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/02—Polyamines
Description
さらに、ポリマーの主鎖中に3つ又はそれ以上縮合した芳香族環を有するポリマーを含む、スピンコート可能な反射防止膜組成物が開示されている(特許文献2)。
また、フェニルナフチルアミンを用いたノボラック樹脂が用いられている(特許文献3)。
この様なポリマーを分散剤として使用することも提案されている(特許文献4)。
第2観点として、式(1)中、X1の定義におけるアリーレン基がフェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、フルオレニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ピレニレン基、又はカルバゾリレン基である第1観点に記載のレジスト下層膜形成組成物、
第3観点として、式(1)中、X1が式(2):
第4観点として、更に架橋剤を含む第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載のレジスト下層膜形成組成物、
第5観点として、更に酸及び/又は酸発生剤を含む第1観点乃至第4観点のいずれか一つに記載のレジスト下層膜形成組成物、
第6観点として、第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のレジスト下層膜形成組成物の硬化物からなる、半導体基板上に形成されたレジスト下層膜、
第7観点として、半導体基板上に第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のレジスト下層膜形成組成物から下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、光又は電子線の照射と現像によりレジストパターンを形成する工程、形成されたレジストパターンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパターン化された下層膜により該半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法、及び
第8観点として、半導体基板上に第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のレジスト下層膜形成組成物から下層膜を形成する工程、その上にハードマスクを形成する工程、更にその上にレジスト膜を形成する工程、光又は電子線の照射と現像によりレジストパターンを形成する工程、形成されたレジストパターンによりハードマスクをエッチングする工程、パターン化されたハードマスクにより該下層膜をエッチングする工程、及びパターン化された下層膜により該半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法である。
また、第1観点に記載のポリマーの好ましい一態様として、下記式(1):
レン基を表す。A 2 はヒドロキシル基で置換されていても良いフェニレン基もしくはナフチレン基、又は式(3):
そして、架橋剤と酸を含むことができ、必要に応じて酸発生剤、界面活性剤等の添加剤を含むことができる。この組成物の固形分は0.1乃至70質量%、又は0.1乃至60質量%、又は0.2乃至30質量%、又は0.3乃至15質量%である。ここで、固形分はレジスト下層膜形成組成物から溶剤を除いた全成分の含有割合である。固形分中に上記ポリマーを1乃至100質量%、または1乃至99.9質量%、または50乃至99.9質量%、または50乃至95質量%、または50乃至90質量%の割合で含有することができる。
本発明に用いられるポリマーは、重量平均分子量が600乃至1000000、又は600乃至200000、又は1500乃至15000である。
式(2)中、A1はフェニレン基又はナフチレン基を表す。A2はフェニレン基、ナフチレン基、又は式(3)で示される有機基を表す。なお、式(2)中、点線は結合を表す。
式(3)中、A3及びA4はそれぞれ独立にフェニレン基又はナフチレン基を表す。なお、式(3)中、点線は結合を表す。
上記架橋剤としては耐熱性の高い架橋剤を用いることができる。耐熱性の高い架橋剤としては分子内に芳香族環(例えば、ベンゼン環、ナフタレン環)を有する架橋形成置換基を含有する化合物を好ましく用いることができる。
上記式中、R11、R12、R13、及びR14はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1乃至10のアルキル基を表し、これらのアルキル基は上述の例示を用いることができる。また、n1は1乃至2の整数を表し、n2は1乃至(6−n1)の整数を表し、n3は1乃至2の整数を表し及びn4は0乃至(4−n3)の整数を表す。
GPCカラム:TSKgel SuperMultipore〔登録商標〕Hz−N(東ソー(株))
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:0.35ml/分
標準試料:ポリスチレン(東ソー(株))
窒素下、300mL四口フラスコにα,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(28.79g、0.148mol、東京化成工業(株)製)、N−フェニル−1−ナフチルアミン(30.00g、0.1368mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(5.68g、0.029mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下本明細書ではPGMEAという略称で示すこともある。)(150.43g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(1600g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−1)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(38.6g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2000であった。
窒素下、500mL四口フラスコにα,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(37.33g、0.1921mol東京化成工業(株)製)、N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン(50.00g、0.1921mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(1.53g、0.008mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)207.33g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(1600g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で50℃、16時間乾燥させ、式(1−2)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(56.04g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2700であった。
窒素下、100mL四口フラスコにα,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(3.23g、0.017mol、東京化成工業(株)製)、N,N’−ジ−2−ナフチル−1,4−フェニレンジアミン(6.00g、0.017mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(0.50g、0.003mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)22.70g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(800g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−3)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(5.8g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は1700であった。
窒素下、200mL四口フラスコにα,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(5.97g、0.031mol、東京化成工業(株)製)、N−フェニル−1−ナフチルアミン(3.37g、0.015mol、東京化成工業(株)製)、N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン(4.00g、0.015mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(0.25g、0.001mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)31.70g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(1000g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−4)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(7.1g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2800であった。
窒素下、100mL四口フラスコにα,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(6.65g、0.034mol、東京化成工業(株)製)、N−フェニル−1−ナフチルアミン(3.68g、0.017mol、東京化成工業(株)製)、2,2−ビフェノール(3.00g、0.016mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(1.34g、0.007mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)34.23g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(1000g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−5)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(7.1g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2800であった。
窒素下、100mL四口フラスコに1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン(5.00g、0.030mol、東京化成工業(株)製)、N−フェニル−1−ナフチルアミン(3.23g、0.015mol、東京化成工業(株)製)、1−ナフトール(2.04g、0.014mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(1.18g、0.006mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)26.71g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、メタノール(1000g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−6)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(7.6g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2000であった。
窒素下、500mL四口フラスコに3−ヒドロキシジフェニルアミン(5.00g、0.324mol、東京化成工業(株)製)、1,4−ベンゼンジメタノール(44.76g、0.324mol、東京化成工業(株)製)、メタンスルホン酸(6.23g、0.065mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテル(以下本明細書ではPGMEという略称で示すこともある。)(206.11g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。17時間後60℃まで放冷後、メタノール(3200g、関東化学(株)製)純水(800g)の混合溶媒へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−7)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(62.9g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は3300であった。
窒素下、200mL四口フラスコに2,2−ビフェノール(5.00g、0.027mol、東京化成工業(株)製)、α,α’−ジヒドロキシ−1,3−ジイソプロピルベンゼン(5.97g、0.031mol東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(1.09g、0.006mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)26.88g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、リフラックスが確認されるまで昇温し溶解させ、重合を開始した。16時間後60℃まで放冷後、水/メタノール=1/1(1000g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で60℃、16時間乾燥させ、式(1−8)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(7.6g)を得た。得られたポリマーの、GPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は3400であった。
窒素下、100mL四口フラスコにカルバゾール(6.69g、0.040mol、東京化成工業(株)製)、9−フルオレノン(7.28g、0.040mol、東京化成工業(株)製)、パラトルエンスルホン酸一水和物(0.76g、0.0040mol、東京化成工業(株)製)を加え、さらに1,4−ジオキサン(6.69g、関東化学(株)製)を仕込み、撹拌し、100℃まで昇温し溶解させ、重合を開始した。24時間後60℃まで放冷後、クロロホルム(34g、関東化学(株)製)を加え希釈し、メタノール(168g、関東化学(株)製)へ再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で80℃、24時間乾燥させ、下記式(7−1)で表される構造単位を有する目的とするポリマー(9.37g)を得た。得られたポリマーのGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量は2800であった。
合成例1で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製、式(6−23))0.4g、触媒としてピリジニウムパラトルエンスルホン酸0.05g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.003gを混合し、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)16.71gとPGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)4.18gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例2で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.4g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.06g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA14.70gとPGME4.44gとシクロヘキサノン4.44gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例3で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.4g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.06g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA13.31gとPGME4.44gとシクロヘキサノン4.44gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例4で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.4g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.06g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA15.52gとPGME6.65gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例5で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.4g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.06g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA15.52gとPGME6.65gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例6で得たポリマー2.0gに、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA12.63gとPGME5.41gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例7で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.3g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.03g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA12.60gとPGME8.40gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
合成例8で得たポリマー2.0gに、架橋剤として商品名TMOM−BP(本州化学工業(株)製)0.4g、触媒としてピリジニウムフェノールスルホン酸0.06g、界面活性剤として商品名メガファックR−40LM(DIC(株)製)0.004gを混合し、PGMEA15.52gとPGME6.65gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
比較合成例1で得たポリマー20gに、架橋剤としてテトラメトキシメチルグリコリールウリル3.0g、触媒としてピリジニウムパラトルエンスルホン酸0.02g、界面活性剤として商品名メガファックR−40(DIC(株)製)0.006gを混合し、PGMEA16.71gとPGME4.18gに溶解させ溶液とした。その後、孔径0.10μmのポリエチレン製ミクロフィルターを用いてろ過して、多層膜によるリソグラフィープロセスに用いるレジスト下層膜形成組成物を調製した。
実施例1乃至実施例8と比較例1で調製したレジスト下層膜形成組成物を、それぞれスピンコーターを用いてシリコンウェハ上に塗布した。ホットプレート上で400℃90秒間ベークし、レジスト下層膜(膜厚0.2μm)を形成した。これらのレジスト下層膜をシリコンウェハから削り取り、粉末体を得た。得られた粉末体の400℃での熱重量現象をTG/DTA(BRUKER社製 TG−DTA2010SR)にて測定した。その結果を表1に示す。
材料の平坦化性と埋め込み性を評価するために次の様なウェハをArF露光機とドライエッチングを用いて作成した。ホール径75nm、ホール深さ500nm、ホールとホールのスペースが105nmとなるパターンをTEOSウェハに作成した。そのTEOSウェハ上に実施例1乃至実施例8及び比較例1で調製したレジスト下層膜形成組成物を、それぞれスピンコーターを用いて塗布した。それらをホットプレート上で400℃90秒間ベークし、レジスト下層膜(膜厚220nm)を形成した。次いで電子顕微鏡にてウェハの断面を観察して、ホール密集地エリアのTEOS表面上のレジスト下層膜の膜厚を測定した。また、パターンエリアの横に位置するフラットなエリアの膜厚も測定した。得られた測定値に基づいて以下の計算式により平坦化性を数値化した。
平坦化性(%)={(フラットエリアの膜厚)−(ホールエリアの膜厚)}/(フラットエリアの膜厚)×100
この平坦化性が20%以下であるものを良好とし、それ以上を不良とした。測定結果を表2に示す。
Claims (6)
- ポリマーと溶剤とを含むレジスト下層膜形成組成物であって、
該ポリマーは下記式(1):
- 更に架橋剤を含む請求項1に記載のレジスト下層膜形成組成物。
- 更に酸及び/又は酸発生剤を含む請求項1又は請求項2に記載のレジスト下層膜形成組成物。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成組成物の硬化物からなる、半導体基板上に形成されたレジスト下層膜。
- 半導体基板上に請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成組成物から下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、光又は電子線の照射と現像によりレジストパターンを形成する工程、形成されたレジストパターンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパターン化された下層膜により該半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。
- 半導体基板上に請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成組成物から下層膜を形成する工程、その上にハードマスクを形成する工程、更にその上にレジスト膜を形成する工程、光又は電子線の照射と現像によりレジストパターンを形成する工程、形成されたレジストパターンによりハードマスクをエッチングする工程、パターン化されたハードマスクにより該下層膜をエッチングする工程、及びパターン化された下層膜により該半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014224514 | 2014-11-04 | ||
JP2014224514 | 2014-11-04 | ||
PCT/JP2015/080217 WO2016072316A1 (ja) | 2014-11-04 | 2015-10-27 | アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016072316A1 JPWO2016072316A1 (ja) | 2017-09-14 |
JP6652747B2 true JP6652747B2 (ja) | 2020-02-26 |
Family
ID=55909042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016557719A Active JP6652747B2 (ja) | 2014-11-04 | 2015-10-27 | アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10394124B2 (ja) |
JP (1) | JP6652747B2 (ja) |
KR (1) | KR102454445B1 (ja) |
CN (1) | CN107077071B (ja) |
SG (1) | SG11201703411TA (ja) |
TW (1) | TWI687771B (ja) |
WO (1) | WO2016072316A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016072316A1 (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-12 | 日産化学工業株式会社 | アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 |
KR102634064B1 (ko) | 2015-12-01 | 2024-02-07 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 인돌로카바졸노볼락 수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 |
KR102432622B1 (ko) * | 2016-09-01 | 2022-08-16 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 트리아릴디아민함유 노볼락 수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 |
JP7475140B2 (ja) * | 2017-06-23 | 2024-04-26 | 日産化学株式会社 | 平坦化性が改善されたレジスト下層膜形成組成物 |
KR102389247B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2022-04-20 | 동우 화인켐 주식회사 | 하드마스크용 조성물 |
KR102612701B1 (ko) * | 2017-07-14 | 2023-12-12 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 레지스트 하층막 형성 조성물, 레지스트 하층막, 레지스트 패턴의 형성방법 및 반도체장치의 제조방법 |
KR20200123117A (ko) * | 2018-02-20 | 2020-10-28 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 방향족 비닐 화합물이 부가된 트리아릴디아민함유노볼락 수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 |
JP2022025161A (ja) * | 2018-12-11 | 2022-02-10 | 日産化学株式会社 | イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物 |
KR20210113990A (ko) * | 2019-01-11 | 2021-09-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 막형성용 조성물, 레지스트 조성물, 감방사선성 조성물, 아모퍼스막의 제조방법, 레지스트 패턴 형성방법, 리소그래피용 하층막 형성용 조성물, 리소그래피용 하층막의 제조방법 및 회로패턴 형성방법 |
KR102053921B1 (ko) * | 2019-03-13 | 2019-12-09 | 영창케미칼 주식회사 | 반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법 |
KR102499390B1 (ko) * | 2019-10-29 | 2023-02-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물, 레지스트 하층막, 상기 조성물을 이용한 패턴형성방법 |
Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8814652B2 (en) * | 2004-07-30 | 2014-08-26 | Igt | Bingo game with multicard patterns |
JP4539845B2 (ja) | 2005-03-17 | 2010-09-08 | 信越化学工業株式会社 | フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 |
US7829638B2 (en) * | 2005-05-09 | 2010-11-09 | Cheil Industries, Inc. | Antireflective hardmask composition and methods for using same |
KR100665758B1 (ko) * | 2005-09-15 | 2007-01-09 | 제일모직주식회사 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 |
KR100697979B1 (ko) * | 2005-09-26 | 2007-03-23 | 제일모직주식회사 | 반사방지 하드마스크 조성물 |
JP4421566B2 (ja) * | 2005-12-26 | 2010-02-24 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | フォトレジスト下層膜用ハードマスク組成物及びこれを利用した半導体集積回路デバイスの製造方法 |
US7664744B2 (en) * | 2006-07-14 | 2010-02-16 | Yahoo! Inc. | Query categorizer |
KR100896451B1 (ko) | 2006-12-30 | 2009-05-14 | 제일모직주식회사 | 카본 함량이 개선된 고 내에칭성 반사방지 하드마스크조성물, 이를 이용한 패턴화된 재료 형상의 제조방법 |
CN101641390B (zh) * | 2007-04-02 | 2013-05-01 | 第一毛织株式会社 | 具有抗反射性能的硬掩模组合物及用其图案化材料的方法 |
KR100819162B1 (ko) * | 2007-04-24 | 2008-04-03 | 제일모직주식회사 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 및 이를 이용한재료의 패턴화 방법 |
US8017296B2 (en) | 2007-05-22 | 2011-09-13 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Antireflective coating composition comprising fused aromatic rings |
KR100908601B1 (ko) * | 2007-06-05 | 2009-07-21 | 제일모직주식회사 | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 기판상 재료의패턴화 방법 |
US7833893B2 (en) * | 2007-07-10 | 2010-11-16 | International Business Machines Corporation | Method for forming conductive structures |
KR101397354B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2014-05-19 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 리소그라피용 하층막 형성 조성물 및 다층 레지스트 패턴 형성 방법 |
KR100930673B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2009-12-09 | 제일모직주식회사 | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한재료의 패턴화 방법 |
KR20110086812A (ko) * | 2008-10-10 | 2011-08-01 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 플루오렌을 함유하는 수지를 포함하는 리소그래피용 레지스트 하층막 형성 조성물 |
JP5336306B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2013-11-06 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜形成方法、これを用いたパターン形成方法、及びレジスト下層膜材料 |
US8722841B2 (en) * | 2009-06-19 | 2014-05-13 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Carbazole novolak resin |
KR101140856B1 (ko) * | 2009-06-26 | 2012-05-03 | 현대제철 주식회사 | 결속기의 오일히터 구동장치 |
KR101257694B1 (ko) * | 2009-06-29 | 2013-04-24 | 제일모직주식회사 | 레지스트 하층막용 방향족 고리 함유 중합체, 이 중합체의 제조 방법, 이 중합체를 포함하는 레지스트 하층막 조성물, 및 이를 이용하는 소자의 패턴 형성 방법 |
KR101414278B1 (ko) * | 2009-11-13 | 2014-07-02 | 제일모직 주식회사 | 레지스트 하층막용 고분자, 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 및 소자의 패턴 형성 방법 |
WO2011065395A1 (ja) | 2009-11-25 | 2011-06-03 | 日産化学工業株式会社 | カーボンナノチューブ分散剤 |
KR101824285B1 (ko) * | 2010-09-29 | 2018-01-31 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 패턴 형성 방법, 레지스트 하층막 및 레지스트 하층막 형성용 조성물 |
US20130189533A1 (en) * | 2010-10-14 | 2013-07-25 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film forming composition for lithography containing polyether structure-containing resin |
WO2013047516A1 (ja) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | 日産化学工業株式会社 | ジアリールアミンノボラック樹脂 |
JP6084986B2 (ja) * | 2011-12-30 | 2017-02-22 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | ハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物および前記ハードマスク組成物を用いたパターン形成方法 |
KR101575039B1 (ko) * | 2012-07-19 | 2015-12-07 | (주)아모레퍼시픽 | 노즐 장치 및 이를 포함하는 최소 침습형 주입 장치 |
US9141581B2 (en) * | 2012-07-25 | 2015-09-22 | Sap Se | Production scheduling management |
CN104508558B (zh) * | 2012-08-10 | 2016-07-06 | 日产化学工业株式会社 | 抗蚀剂下层膜形成用组合物 |
KR101666483B1 (ko) * | 2013-04-12 | 2016-10-14 | 제일모직 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 |
KR101655394B1 (ko) | 2013-04-25 | 2016-09-07 | 제일모직 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 |
JP5717797B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2015-05-13 | ファナック株式会社 | 物品を搬送するためのロボットハンド、ロボットハンドを備えたロボットおよびロボットシステム、ならびにロボットハンドの制御方法 |
CN104253024B (zh) | 2013-06-27 | 2017-07-28 | 第一毛织株式会社 | 硬掩模组合物、使用其形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路装置 |
TWI524226B (zh) * | 2013-07-12 | 2016-03-01 | 恆顥科技股份有限公司 | 觸控面板之設計及其方法 |
KR20150011717A (ko) * | 2013-07-23 | 2015-02-02 | 주식회사 한라캐스트 | 다이캐스팅용 알루미늄 합금 및 이를 이용하여 제조된 알루미늄 합금 다이캐스팅물 |
KR20150079199A (ko) | 2013-12-31 | 2015-07-08 | 제일모직주식회사 | 하드마스크 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 |
KR101767080B1 (ko) | 2014-04-09 | 2017-08-10 | 제일모직 주식회사 | 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 |
WO2016072316A1 (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-12 | 日産化学工業株式会社 | アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 |
KR102324658B1 (ko) * | 2015-04-22 | 2021-11-10 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 신규한 레지스트 하층막 형성용 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 및 이를 이용한 레지스트 하층막의 형성 방법 |
US9589788B2 (en) * | 2015-06-11 | 2017-03-07 | Sk Innovation Co., Ltd. | Polymer with a good heat resistance and storage stability, underlayer film composition containing the polymer and process for forming underlayer film using the composition |
KR102421597B1 (ko) * | 2015-07-14 | 2022-07-18 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 신규한 레지스트 하층막 형성용 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이를 이용한 레지스트 패턴의 형성 방법 |
JP7475140B2 (ja) * | 2017-06-23 | 2024-04-26 | 日産化学株式会社 | 平坦化性が改善されたレジスト下層膜形成組成物 |
-
2015
- 2015-10-27 WO PCT/JP2015/080217 patent/WO2016072316A1/ja active Application Filing
- 2015-10-27 KR KR1020177008745A patent/KR102454445B1/ko active IP Right Grant
- 2015-10-27 JP JP2016557719A patent/JP6652747B2/ja active Active
- 2015-10-27 CN CN201580055292.1A patent/CN107077071B/zh active Active
- 2015-10-27 SG SG11201703411TA patent/SG11201703411TA/en unknown
- 2015-10-27 US US15/520,133 patent/US10394124B2/en active Active
- 2015-11-03 TW TW104136168A patent/TWI687771B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201631400A (zh) | 2016-09-01 |
CN107077071B (zh) | 2020-10-02 |
KR102454445B1 (ko) | 2022-10-14 |
WO2016072316A1 (ja) | 2016-05-12 |
US20170315445A1 (en) | 2017-11-02 |
US10394124B2 (en) | 2019-08-27 |
TWI687771B (zh) | 2020-03-11 |
SG11201703411TA (en) | 2017-05-30 |
JPWO2016072316A1 (ja) | 2017-09-14 |
CN107077071A (zh) | 2017-08-18 |
KR20170081166A (ko) | 2017-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6652747B2 (ja) | アリーレン基を有するポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物 | |
JP6593616B2 (ja) | 置換された架橋性化合物を含むレジスト下層膜形成組成物 | |
JP6124025B2 (ja) | 多核フェノール類を有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物 | |
TWI810152B (zh) | 用以形成膜密度經提昇之阻劑下層膜的組成物 | |
TWI765872B (zh) | 含有吲哚并咔唑酚醛清漆樹脂之光阻下層膜形成組成物 | |
TWI671598B (zh) | 含有具丙烯醯胺構造與丙烯酸酯構造之聚合物的微影用阻劑下層膜形成組成物 | |
JP7396049B2 (ja) | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 | |
TWI817950B (zh) | 阻劑下層膜形成組成物、阻劑下層膜、阻劑圖型之形成方法及半導體裝置之製造方法 | |
JP7332982B2 (ja) | 炭素原子間の不飽和結合によるプラズマ硬化性化合物を含む段差基板被覆膜形成組成物 | |
WO2014171326A1 (ja) | レジスト下層膜形成組成物 | |
WO2016159358A1 (ja) | 光架橋基を有する段差基板被覆組成物 | |
JP7208591B2 (ja) | 架橋性化合物を含有する光硬化性段差基板被覆組成物 | |
CN116888537A (zh) | 具有亚苄基氰基乙酸酯基的抗蚀剂下层膜形成用组合物 | |
CN115280241A (zh) | 药液耐性保护膜 | |
CN114503033A (zh) | 抗蚀剂下层膜形成用组合物 | |
WO2023095461A1 (ja) | カテコール基を有する薬液耐性保護膜形成用組成物 | |
CN113574044A (zh) | 抗蚀剂下层膜形成用组合物 | |
TW202210555A (zh) | 阻劑下層膜形成組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190605 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200107 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6652747 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |