JP6632300B2 - 膜形成装置及び膜形成方法 - Google Patents
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基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向かって膜材料を液滴化して吐出するノズルヘッドと、
前記ステージに保持された前記基板と、前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
形成すべき膜のイメージデータ、及び膜厚補正情報を記憶する記憶装置と、
前記イメージデータに基づいて、前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御することにより、前記イメージデータで定義されたパターンを有する膜を前記基板に形成する制御装置と、
前記制御装置へデータを入力するための入力装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記入力装置から膜厚指令値が入力されると、前記膜厚指令値を、前記膜厚補正情報に基づいて補正することにより、前記膜厚指令値より厚い膜厚目標値を算出し、
前記膜厚目標値の厚さの膜が形成されるように前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御し、
前記膜厚補正情報は、前記制御装置の制御に基づいて前記基板に前記膜を形成した後に行われるプラズマ処理において、前記膜の表層部が除去される厚さに基づいて、前記膜厚指令値から前記膜厚目標値への増分が設定されるように定義されている膜形成装置が提供される。
ノズルヘッドから基板に向かって、イメージデータに基づいて、光硬化性の膜材料の液滴を吐出させることにより、前記イメージデータで定義されたパターンに基づいて前記基板に前記膜材料を付着させる工程と、
前記基板に付着している前記膜材料に仮硬化用の光を照射して前記膜材料の表面に皮膜を形成する工程と、
前記膜材料の表面に皮膜を形成した後、前記基板の全域に対してプラズマ処理することにより、不要な領域に付着した前記膜材料を除去する工程と
を有する膜形成方法が提供される。
21 搬送ローラ
22 ストッパ
30、30A 塗布装置
31 定盤
32 移動機構
33 ステージ
34 昇降ピン
35 ノズルユニット
36 ノズルヘッド
37 仮硬化用光源
37A 第1の仮硬化用光源
37B 第2の仮硬化用光源
38 膜材料供給装置
40、40A 本硬化装置
41 搬送ローラ
42 本硬化用光源
50 搬送装置
51 ガイド
52 リフタ
60 制御装置
61 成膜処理部
62 膜厚補正処理部
63 記憶装置
65 入力装置
66 出力装置
70 基板
71 膜
72 サテライト
73 開口部
75 プラズマ
80、80A プラズマ処理装置
80B 両面プラズマ処理装置
83 反転装置
85 熱処理装置
90 プラズマ照射装置
91 大気圧ジェットプラズマ
Tr 膜厚指令値
Tt 膜厚目標値
Claims (12)
- 基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向かって膜材料を液滴化して吐出するノズルヘッドと、
前記ステージに保持された前記基板と、前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
形成すべき膜のイメージデータ、及び膜厚補正情報を記憶する記憶装置と、
前記イメージデータに基づいて、前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御することにより、前記イメージデータで定義されたパターンを有する膜を前記基板に形成する制御装置と、
前記制御装置へデータを入力するための入力装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記入力装置から膜厚指令値が入力されると、前記膜厚指令値を、前記膜厚補正情報に基づいて補正することにより、前記膜厚指令値より厚い膜厚目標値を算出し、
前記膜厚目標値の厚さの膜が形成されるように前記ノズルヘッド及び前記移動機構を制御し、
前記膜厚補正情報は、前記制御装置の制御に基づいて前記基板に前記膜を形成した後に行われるプラズマ処理において、前記膜の表層部が除去される厚さに基づいて、前記膜厚指令値から前記膜厚目標値への増分が設定されるように定義されている膜形成装置。 - さらに、
前記プラズマ処理を施し、前記基板に形成された膜の表層部を除去するプラズマ処理装置と、
前記ステージに保持されている膜形成後の前記基板を、前記プラズマ処理装置に搬入する搬送装置と
を有し、
前記制御装置は、
前記搬送装置を制御して、膜形成後の前記基板を前記プラズマ処理装置に搬入する請求項1に記載の膜形成装置。 - 前記プラズマ処理装置は、搬入された前記基板の表面の全域に対してプラズマ処理を施す請求項2に記載の膜形成装置。
- 前記膜厚指令値から前記膜厚目標値への増分が1μm〜3μmの範囲内になるように、前記膜厚補正情報が定義されており、
前記プラズマ処理装置において、プラズマを用いた還元処理が行われる請求項2または3に記載の膜形成装置。 - さらに、前記移動機構による移動方向に関して、前記ノズルヘッドから吐出された膜材料が付着する位置よりも下流側において、前記基板にプラズマを照射するプラズマ照射装置を有する請求項1に記載の膜形成装置。
- 前記ノズルヘッドから吐出される前記膜材料が光硬化性の樹脂を含み、
さらに、前記移動機構による移動方向に関して、前記ノズルヘッドから吐出された膜材料が付着する位置よりも下流側において、前記基板に、前記膜材料を硬化させる光を照射する光源を有する請求項5に記載の膜形成装置。 - 前記プラズマ照射装置によってプラズマが照射される位置よりも、前記移動方向の上流側及び下流側の少なくとも一方において、前記光源が前記基板に前記光を照射する請求項6に記載の膜形成装置。
- 基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向かって光硬化性の膜材料を液滴化して吐出するノズルヘッドと、
前記ステージに保持された前記基板と、前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
前記移動機構による移動方向に関して、前記ノズルヘッドから吐出された膜材料が付着する位置よりも下流側において、前記ステージに保持された前記基板にプラズマを照射するプラズマ照射装置と、
前記基板に前記プラズマ照射装置からプラズマが照射される位置よりも上流側において、前記ステージに保持された前記基板に付着している膜材料に仮硬化用の光を照射する仮硬化用光源と
を有する膜形成装置。 - 基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された前記基板に対向し、前記基板に向かって光硬化性の膜材料を液滴化して吐出するノズルヘッドと、
前記ステージに保持された前記基板と、前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
前記移動機構による移動方向に関して、前記ノズルヘッドから吐出された膜材料が付着する位置よりも下流側において、前記ステージに保持された前記基板にプラズマを照射するプラズマ照射装置と、
前記基板に前記プラズマ照射装置からプラズマが照射される位置よりも下流側において、前記基板に付着している膜材料に仮硬化用の光を照射する仮硬化用光源と
を有する膜形成装置。 - ノズルヘッドから基板に向かって、イメージデータに基づいて、光硬化性の膜材料の液滴を吐出させることにより、前記イメージデータで定義されたパターンに基づいて前記基板に前記膜材料を付着させる工程と、
前記基板に付着している前記膜材料に仮硬化用の光を照射して前記膜材料の表面に皮膜を形成する工程と、
前記膜材料の表面に皮膜を形成した後、前記基板の全域に対してプラズマ処理することにより、不要な領域に付着した前記膜材料を除去する工程と
を有する膜形成方法。 - ノズルヘッド及び基板の一方を他方に対して移動させながら、前記ノズルヘッドから前記基板に向かって、イメージデータに基づいて、光硬化性の膜材料の液滴を吐出させることにより、前記イメージデータで定義されたパターンに基づいて前記基板に前記膜材料を付着させる工程と、
前記膜材料が付着する位置よりも下流側において、前記基板に付着した前記膜材料に対してプラズマ処理することにより、不要な領域に付着した前記膜材料を除去する工程と、
前記プラズマ処理が行われた位置よりも下流側において、前記基板に付着している前記膜材料に仮硬化用の光を照射して仮硬化させる工程と
を有する膜形成方法。 - 前記プラズマ処理において、前記不要な領域以外に付着している前記膜材料の表層部も除去され、
前記プラズマ処理で前記膜材料の表層部が除去される厚さを見込んで、前記膜材料を付着させる工程で付着する前記膜材料の厚さを、形成すべき膜の厚さよりも厚く設定しておく請求項10または11に記載の膜形成方法。
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