JP6620132B2 - シール材及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、シール材及びその製造方法に関する。

シリコーンゴムは、耐酸素プラズマ性は高いものの、耐フッ素プラズマ性がやや低いゴム成分として知られている。フッ化ビニリデン系フッ素ゴム（以下、「ＦＫＭ」という。）は、耐フッ素プラズマ性は高いものの、耐酸素プラズマ性がやや低いゴム成分として知られている。テトラフルオロエチレン−パーフルオロビニルエーテル系フッ素ゴム（以下、「ＦＦＫＭ」という。）は、耐酸素プラズマ性及び耐フッ素プラズマ性のいずれも高いものの、シリコーンゴムやＦＫＭと比較すると高価なゴム成分として知られている。そこで、これらのゴム成分を混合して用いることが提案されている。例えば、特許文献１には、シリコーンゴムとＦＦＫＭとを混合して用いること、及びＦＫＭとＦＦＫＭとを混合して用いることが開示されている。特許文献２には、ＦＫＭとＦＦＫＭとを混合して用いることが開示されている。特許文献３には、シリコーンゴムとＦＫＭとを混合して用いることが開示されている。

また、耐プラズマ性を高める技術として、特許文献４及び５には、ＦＫＭに反応性フッ素系化合物を添加することが開示されている。さらに、特許文献６には、ＦＫＭに過剰な架橋助剤を添加し、ＦＫＭを加熱して架橋助剤により架橋させるのに加えて、放射線を照射して余剰の架橋助剤により更に架橋させ、それによって架橋密度を高めることによりゴム物性自体を向上させることが開示されている。

特許第４７７８７８２号公報 特許第４６２８８１４号公報 特開２００１−３４８４６２号公報 特許第４６７５９０７号公報 特許第５１８９７２８号公報 特許第４３８１０８７号公報

本発明の課題は、耐プラズマ性の優れるシール材を提供することである。

本発明は、未架橋ゴム組成物を用いて製造されるシール材であって、前記未架橋ゴム組成物は、水素含有フッ素ゴムと、所定の温度に加熱されたときに前記水素含有フッ素ゴムを架橋させる熱架橋剤と、放射線が照射されたときに前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断されて生じる炭素のラジカルに結合する水素サイト保護剤とを含有し、前記水素サイト保護剤は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するアルケニル基を２以上有するパーフルオロ骨格の化合物、及び／又は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するアルケニル基を２以上有するシロキサン骨格の化合物を含み、前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して１質量部以上２０質量部以下であり、且つ前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が５．０以上１０以下であり、前記未架橋ゴム組成物が、所定の温度に加熱されて前記水素含有フッ素ゴムが前記熱架橋剤により架橋した後、放射線が照射されて前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断された後の炭素に前記水素サイト保護剤が結合したゴム組成物で形成されている。

本発明は、本発明のシール材の製造方法であって、前記未架橋ゴム組成物を、所定の温度に加熱して前記水素含有フッ素ゴムを前記熱架橋剤により架橋させた後、放射線を照射して前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合を切断して生じる炭素のラジカルに前記水素サイト保護剤を結合させる。

本発明によれば、耐プラズマ性の低い部位である水素含有フッ素ゴムの水素サイトが、放射線が照射されたときに炭素−水素間の結合が切断されて炭素のラジカルを生じ、その炭素のラジカルに水素サイト保護剤が結合することにより保護されるので、これを用いることにより耐プラズマ性の優れるゴム製品を製造することができる。

以下、実施形態について詳細に説明する。

実施形態に係る未架橋ゴム組成物は、ゴム製品、特に、例えば半導体のエッチング装置やプラズマＣＶＤ装置のようなプラズマを使用する装置に使用される耐プラズマ性の優れるＯリング等のシール材の製造に好適に用いられるものであって、ゴム成分の水素含有フッ素ゴムと熱架橋剤と水素サイト保護剤とを含有する。

本出願における「水素含有フッ素ゴム」とは、高分子の主鎖に水素が結合した炭素が含まれたフッ素ゴムである。水素含有フッ素ゴムは、単量体として、例えば、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）、プロピレン（Ｐｒ）、エチレン（Ｅ）等を含むことが好ましい。

水素含有フッ素ゴムとしては、例えば、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）の重合体（ＰＶＤＦ）、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）とヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）との共重合体、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）とヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）とテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）との共重合体、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とプロピレン（Ｐｒ）との共重合体（ＦＥＰ）、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）とプロピレン（Ｐｒ）とテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）との共重合体、エチレン（Ｅ）とテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）との共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン（Ｅ）とテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とパーフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）との共重合体、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）とテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とパーフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）との共重合体、ビニリデンフルオライド（ＶＤＦ）とパーフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）との共重合体等が挙げられる。水素含有フッ素ゴムは、これらのうちの１種又は２種以上を用いることが好ましい。

熱架橋剤は、所定の温度に加熱されたときに水素含有フッ素ゴムを架橋させる化合物である。熱架橋剤としては、例えば、パーオキサイド、ポリオール、ポリアミン、トリアジン等が挙げられる。熱架橋剤は、プラズマ雰囲気下でのパーティクルの発生の原因となる受酸剤を用いる必要がないという観点から、これらのうちのパーオキサイドを用いることが好ましい。パーオキサイドとしては、例えば、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、α，α−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）−ヘキシン−３、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゼン、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエイト等が挙げられる。熱架橋剤は、これらのうちの１種又は２種以上を用いることが好ましく、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンを用いることがより好ましい。熱架橋剤の含有量（Ａ）は、十分に架橋を進め、シール材として良好な物性を得るという観点から、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、好ましくは０．５質量部以上２．５質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上２．０質量部以下である。

水素サイト保護剤は、放射線が照射されたときに水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断されて生じる炭素のラジカルに結合する化合物である。ここで、本出願における「水素サイト」とは、水素含有フッ素ゴムを構成する高分子の主鎖における水素が結合した炭素の部位をいう。具体的には、例えばＶＤＦ成分におけるＣ−Ｈ結合部位である。水素サイト保護剤は、分子内に水素含有フッ素ゴムの炭素のラジカルに結合するアルケニル基を有するパーフルオロ骨格の化合物、及び／又は、分子内に水素含有フッ素ゴムの炭素のラジカルに結合するアルケニル基を有するシロキサン骨格の化合物を含むことが好ましい。

アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基等が挙げられる。アルケニル基は、これらのうちのビニル基が好ましい。

分子内にアルケニル基を有するパーフルオロ骨格の化合物としては、例えば、パーフルオロポリエーテル構造の化合物、パーフルオロアルキレン構造の化合物等が挙げられる。

分子内にアルケニル基を有するシロキサン骨格の化合物としては、例えば、メチルビニルシロキサンの重合体、ジメチルシロキサンの重合体、ジメチルシロキサンとメチルビニルシロキサンとの共重合体、ジメチルシロキサンとメチルビニルシロキサンとメチルフェニルシロキサンとの共重合体等が挙げられる。その他、付加重合の液状シリコーンゴムである分子中にアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンが挙げられる。

これらのパーフルオロ骨格の化合物やシロキサン骨格の化合物は、分子内にアルケニル基を２個以上有することが好ましい。２個以上のアルケニル基は、同一であってもよく、また、異なっていてもよい。水素サイト保護剤が分子内にアルケニル基を２個以上有せば、水素サイトの保護に加え、水素含有フッ素ゴム間を架橋する架橋助剤としても機能することができる。

水素サイト保護剤は、これらのうちの１種又は２種以上を用いることが好ましく、分子内にアルケニル基を有するパーフルオロポリエーテル構造の化合物を用いることがより好ましく、分子内にアルケニル基を２個以上有するパーフルオロポリエーテル構造の化合物を用いることが更に好ましい。

水素サイト保護剤は、一液型の液状材料であることが好ましい。その場合、水素サイト保護剤の２３℃における粘度は、パーフルオロ骨格の化合物の場合、好ましくは３０Ｐａ・ｓ以上１００Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは４０Ｐａ・ｓ以上７０Ｐａ・ｓ以下であり、シロキサン骨格の化合物の場合、好ましくは１００Ｐａ・ｓ以上１５０Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは１２０Ｐａ・ｓ以上１４０Ｐａ・ｓ以下である。

水素サイト保護剤の含有量（Ｂ）は、耐プラズマ性を高める観点から、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上２０質量部以下、より好ましくは５質量部以上１５質量部以下である。水素サイト保護剤の含有量（Ｂ）は、耐プラズマ性を高める観点から、熱架橋剤の含有量（Ａ）よりも多いことが好ましい。水素サイト保護剤の含有量（Ｂ）の熱架橋剤の含有量（Ａ）に対する比（Ｂ／Ａ）は、耐プラズマ性を高める観点から、好ましくは２．５以上３０以下、より好ましくは５．０以上１０以下である。

実施形態に係る未架橋ゴム組成物は、架橋助剤を更に含有していてもよい。架橋助剤は、水素含有フッ素ゴムが熱架橋剤により架橋するときに、水素含有フッ素ゴムの分子間に介在するように水素含有フッ素ゴムと結合する化合物である。

架橋助剤としては、例えば、トリアリルシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアクリルホルマール、トリアリルトリメリテート、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレンビスマレイミド、ジプロパギルテレフタレート、ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタレートアミド、トリアリルホスフェート、ビスマレイミド、フッ素化トリアリルイソシアヌレート（１，３，５−トリス（２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオン）、トリス（ジアリルアミン）−Ｓ−トリアジン、亜リン酸トリアリル、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、１，６−ジビニルドデカフルオロヘキサン、ヘキサアリルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリルフタルアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリルマロンアミド、トリビニルイソシアヌレート、２，４，６−トリビニルメチルトリシロキサン、トリ（５−ノルボルネン−２−メチレン）シアヌレート、トリアリルホスファイトなどが挙げられる。架橋助剤は、これらのうちの１種又は２種以上を用いることが好ましく、トリアリルイソシアヌレートを用いることがより好ましい。

架橋助剤の含有量（Ｃ）は、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、シール材として良好な物性を得る観点から好ましくは１質量部以上１０質量部以下、より好ましくは２質量部以上５質量部以下である。架橋助剤の含有量（Ｃ）は、耐プラズマ性を高める観点から、熱架橋剤の含有量（Ａ）よりも多いことが好ましい。架橋助剤の含有量（Ｃ）の熱架橋剤の含有量（Ａ）に対する比（Ｃ／Ａ）は、架橋助剤を過不足なく反応させ、シール材として良好な物性を得るという観点から、好ましくは１．０以上４．０よりも小さく、より好ましくは２．０以上３．０以下である。

実施形態に係る未架橋ゴム組成物は、水素含有フッ素ゴムの含有量よりも少なければ、水素含有フッ素ゴム以外のゴム成分であるシリコーンゴムやテトラフルオロエチレンとパープルオロビニルエーテルとの共重合体のように高分子の主鎖に水素が結合した炭素が含まれないフッ素ゴムを含有していてもよい。実施形態に係る未架橋ゴム組成物は、製造するゴム製品によっては、カーボンブラックやシリカなどの補強材、可塑剤、加工助剤、加硫促進剤、老化防止剤等を含有していてもよい。但し、プラズマ雰囲気下でのパーティクルの発生が問題となるようなゴム製品の製造に用いられる場合には、カーボンブラック、シリカ、金属酸化物等の粉状の無機充填剤の含有量は、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下、最も好ましくは０質量部である。粉状の有機充填剤は、ＰＶＤＦやＥＴＦＥのような水素含有フッ素樹脂粉等の場合、後述の放射線の照射時に水素含有フッ素ゴムとの間の架橋による物性向上を期待することができる。

実施形態に係る未架橋ゴム組成物は、オープンロールなどの開放式のゴム混練機、或いは、ニーダーなどの密閉式のゴム混練機を用いて製造することができる。

次に、実施形態に係る未架橋ゴム組成物を用いたゴム製品の製造方法について説明する。

ゴム製品の製造方法では、まず、実施形態に係る未架橋ゴム組成物の所定量を、予熱した金型のキャビティに充填し、次いで型締めした後、その状態で、所定の成形温度及び所定の成形圧力で所定の成形時間だけ保持する。このとき、実施形態に係る未架橋ゴム組成物がキャビティの形状に成形されるとともに、水素含有フッ素ゴムが熱架橋剤により架橋して可塑性を喪失する。この成形は、プレス成形であってもよく、また、射出成形であってもよい。成形温度は、例えば１５０℃以上１８０℃以下である。成形圧力は、例えば０．１ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下である。成形時間は、例えば３分以上２０分以下である。

そして、金型を型開きし、内部から成形品を取り出して冷却した後、成形品に対して放射線を照射する。このとき、放射線が照射されて水素含有フッ素ゴムの水素サイトの炭素−水素間の結合が切断されて炭素のラジカルを生じ、その炭素のラジカルに水素サイト保護剤が結合する。放射線としては、例えば、α線、β線、γ線、電子線、イオン等が挙げられる。放射線は、これらのうちの電子線又はγ線を用いることが好ましい。放射線の照射線量は、耐プラズマ性を高める観点から、好ましくは１０ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ以下、より好ましくは３０ｋＧｙ以上８０ｋＧｙ以下である。

以上により、実施形態に係る未架橋ゴム組成物から、水素含有フッ素ゴムが熱架橋剤により架橋するとともに、水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断された後の炭素に水素サイト保護剤が結合したゴム組成物で形成されたゴム製品が得られる。

以上の構成の実施形態に係る未架橋ゴム組成物によれば、耐プラズマ性の低い部位である水素含有フッ素ゴムの水素サイトが、放射線が照射されたときに炭素−水素間の結合が切断されて炭素のラジカルを生じ、その炭素のラジカルに水素サイト保護剤が結合することにより保護されるので、これを用いることにより耐プラズマ性の優れるゴム製品を製造することができる。また、水素サイト保護剤は、水素含有フッ素ゴムと反応するので、ブリードアウトが問題となることはない。

（ゴム組成物）
以下の実施例１〜２及び比較例１〜３のゴム組成物を調製した。それぞれの構成については表１にも示す。

＜実施例１＞
ビニリデンフルオライドとヘキサフルオロプロピレンとテトラフルオロエチレンとの共重合体からなる水素含有フッ素ゴム（ダイエルＧ９１２ ダイキン工業社製）に、この水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、熱架橋剤のパーオキサイドである２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン（パーヘキサ２５Ｂ 日本油脂社製）１．５質量部、水素サイト保護剤の一液型の液状材料である分子内にビニル基を有するパーフルオロ骨格の化合物（ＳＩＦＥＬ３５９０−Ｎ 信越化学工業社製、粘度（２３℃）：５０Ｐａ・ｓ）１０質量部、及び架橋助剤のトリアリルイソシアヌレート（タイク 日本化成社製）４質量部を配合して混練した未架橋ゴム組成物を調製した。続いて、この未架橋ゴム組成物を、成形温度１６５℃、成形圧力５ＭＰａ、及び成形時間１５分としてプレス成形した後、加熱温度２００℃及び加熱時間４時間で熱処理してシート状のゴム組成物を得た。そして、このシート状のゴム組成物に対して、照射線量３０ｋＧｙのγ線を照射した。このγ線を照射したシート状のゴム組成物を実施例１とした。

＜実施例２＞
水素サイト保護剤として、一液型の液状材料である分子内にビニル基を有するシロキサン骨格の化合物（ＫＥ−１８３０ 信越化学工業社製、粘度（２３℃）：１３０Ｐａ・ｓ）を配合したことを除いて実施例１と同様にして作製したシート状のゴム組成物を実施例２とした。

＜比較例１＞
水素サイト保護剤を配合していないことを除いて実施例１と同様にして作製したシート状のゴム組成物を比較例１とした。

＜比較例２＞
水素サイト保護剤を配合せず、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、シリコーンゴム（ＫＥ−９４１−Ｕ 信越化学工業社製）を２０質量部配合したことを除いて実施例１と同様にして作製したシート状のゴム組成物を比較例２とした。

＜比較例３＞
水素サイト保護剤を配合せず、水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して、テトラフルオロエチレンとパーフルオロビニルエーテルとの共重合体（ＦＦＫＭ：ＡＦＬＡＳＰｒｅｍｉｕｍＰＭ１１００ 旭硝子社製）を２０質量部配合したことを除いて実施例１と同様にして作製したシート状のゴム組成物を比較例３とした。

（試験方法）
＜耐プラズマ性＞
実施例１〜２及び比較例１〜３のそれぞれについて、マイクロ波プラズマ発生機を用いて、伸張率１０％として、Ｏ_２プラズマ照射試験及びＣＦ_４プラズマ照射試験を行い、質量減量、クラックの有無、及びパーティクルの発生の有無を調べた。試験では、反応ガスとしてＯ_２及びＣＦ_４を用い、Ｏ_２プラズマ照射試験では、それらの流量比を５０：１とし、ＣＦ_４プラズマ照射試験では、それらの流量比を１：５０とした。また、反応圧力を１００Ｐａ及びプラズマ照射時間を６０分とした。

＜引張特性＞
実施例１〜２及び比較例１〜３のそれぞれについて、ＪＩＳＫ６２５１に基づいて引張試験を行い、１００％モジュラス（Ｍ_１００：１００％伸び時における引張応力）、引張強さ（ＴＢ）、及び切断時伸び（ＥＢ）を測定した。

＜圧縮永久ひずみ＞
実施例１〜２及び比較例１〜３のそれぞれについて、ＪＩＳＫ６２６２：２０１３に基づき、試験時間７２時間及び試験温度２００℃として圧縮永久ひずみの測定を行った。

（試験結果）
試験結果を表１に示す。

表１によれば、水素サイト保護剤を用いた実施例１及び２は、Ｏ_２プラズマ及びＣＦ_４プラズマのいずれに対しても、優れた耐プラズマ性を有することが分かる。一方、水素サイト保護剤を用いていない比較例１〜３は、Ｏ_２プラズマに対して、パーティクルの発生は無いものの、質量減量が大きく（特に比較例１）、クラックが発生していることが分かる。また、ＣＦ_４プラズマに対しては、比較例１及び３は優れた耐プラズマ性を有するものの、比較例２は、パーティクルの発生は無いとしても、質量減量が大きく、クラックが発生していることが分かる。なお、引張特性及び圧縮永久ひずみについては、実施例１〜２と比較例１〜３との間での優劣は認められなかった。

本発明は、シール材及びその製造方法の技術分野について有用である。

Claims (9)

1. 未架橋ゴム組成物を用いて製造されるシール材であって、
   前記未架橋ゴム組成物は、水素含有フッ素ゴムと、所定の温度に加熱されたときに前記水素含有フッ素ゴムを架橋させる熱架橋剤と、放射線が照射されたときに前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断されて生じる炭素のラジカルに結合する水素サイト保護剤とを含有し、
   前記水素サイト保護剤は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するアルケニル基を２以上有するパーフルオロ骨格の化合物、及び／又は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するアルケニル基を２以上有するシロキサン骨格の化合物を含み、
   前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して１質量部以上２０質量部以下であり、且つ前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が５．０以上１０以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物が、所定の温度に加熱されて前記水素含有フッ素ゴムが前記熱架橋剤により架橋した後、放射線が照射されて前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断された後の炭素に前記水素サイト保護剤が結合したゴム組成物で形成されているシール材。
2. 請求項１に記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物が、前記水素含有フッ素ゴムが前記熱架橋剤により架橋するときに、前記水素含有フッ素ゴムの分子間に介在するように前記水素含有フッ素ゴムと結合する架橋助剤を更に含有するシール材。
3. 請求項２に記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物における前記架橋助剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が４．０よりも小さいシール材。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物における無機充填剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して５質量部以下であるシール材。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物における前記熱架橋剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して０．５質量部以上２．５質量部以下であるシール材。
6. 請求項２又は３に記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物における前記架橋助剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して１質量部以上１０質量部以下であるシール材。
7. 請求項２、３、又は６に記載されたシール材において、
   前記未架橋ゴム組成物における前記架橋助剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が１．０以上であるシール材。
8. 未架橋ゴム組成物を用いて製造されるシール材であって、
   前記未架橋ゴム組成物は、水素含有フッ素ゴムと、所定の温度に加熱されたときに前記水素含有フッ素ゴムを架橋させる熱架橋剤と、放射線が照射されたときに前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断されて生じる炭素のラジカルに結合する水素サイト保護剤と、前記水素含有フッ素ゴムが前記熱架橋剤により架橋するときに、前記水素含有フッ素ゴムの分子間に介在するように前記水素含有フッ素ゴムと結合する架橋助剤とを含有し、
   前記水素含有フッ素ゴムは、ビニリデンフルオライドとヘキサフルオロプロピレンとテトラフルオロエチレンとの共重合体であり、
   前記熱架橋剤は、パーオキサイドであり、
   前記水素サイト保護剤は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するビニル基を２以上有するパーフルオロ骨格の化合物、又は、分子内に前記炭素のラジカルに結合するビニル基を２以上有するシロキサン骨格の化合物であり、
   前記架橋助剤は、トリアリルイソシヌレートであり、
   前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して５質量部以上１５質量部以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物における前記熱架橋剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して０．５質量部以上２．０質量部以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物における前記架橋助剤の含有量が、前記水素含有フッ素ゴム１００質量部に対して２質量部以上５質量部以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物における前記水素サイト保護剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が５．０以上１０以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物における前記架橋助剤の含有量の前記熱架橋剤の含有量に対する比が２．０以上３．０以下であり、
   前記未架橋ゴム組成物が、所定の温度に加熱されて前記水素含有フッ素ゴムが前記熱架橋剤により架橋した後、放射線が照射されて前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合が切断された後の炭素に前記水素サイト保護剤が結合したゴム組成物で形成されているシール材。
9. 請求項１乃至８のいずれかに記載されたシール材の製造方法であって、
   前記未架橋ゴム組成物を、所定の温度に加熱して前記水素含有フッ素ゴムを前記熱架橋剤により架橋させた後、放射線を照射して前記水素含有フッ素ゴムの炭素−水素間の結合を切断して生じる炭素のラジカルに前記水素サイト保護剤を結合させるシール材の製造方法。