JP2021105179A - 未架橋ゴム組成物並びにそれを用いて製造されるゴム製品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の実施例1〜6、比較例、及び参考例のそれぞれにおいて、未架橋ゴム組成物を混練するとともに、それを用いて架橋ゴムシートを調製した。各構成については表1にも示す。
8インチオープンロールを用い、ゴム成分の3元系FKM(ダイエルG912 ダイキン工業社製)に、このゴム成分100質量部に対して、有機過酸化物の2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(パーヘキサ25B 日本油脂社製)1.5質量部、架橋助剤のトリアリルイソシアヌレート(タイク 日本化成社製)4質量部、パウダー状のPVDF(ダイキン工業社製、平均粒子径:7μm)5質量部、及び水素サイト保護剤(I)の分子内にビニル基を有するパーフルオロ骨格の化合物(SIFEL3590−N 信越化学工業社製)10質量部を添加して混練した未架橋ゴム組成物を調製した。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は2.0時間であった。
γ線の照射を行わず、熱処理して得られたシート状のゴム組成物を架橋ゴムシートとしたことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は2.0時間であった。
パウダー状のPVDFの添加量を、ゴム成分100質量部に対して10質量部としたことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は1.5時間であった。
パウダー状のPVDFの添加量を、ゴム成分100質量部に対して30質量部としたことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は1.0時間であった。
ゴム成分を、3元系FKM及びPVDF(ダイキン工業社製)をそれぞれ90質量%及び10質量%含有するブレンドゴムで構成した、つまり、PVDFを、ゴム成分の一部を構成するように含有させたことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は2.5時間であった。
水素サイト保護剤(I)に代えて、水素サイト保護剤(II)の分子内にビニル基を有するシロキサン骨格の化合物(KE−1830 信越化学工業社製)を添加したことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は2.0時間であった。
パウダー状のPVDFを添加しなかったことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は5.0時間であった。
パウダー状のPVDFに代えて、パウダー状のPTFE(ダイキン工業社製、平均粒子径:27μm)を添加したことを除いて実施例1と同様の操作を行った。4kgの均一な未架橋ゴム組成物を得るまでに要した混練時間は2.0時間であった。
<耐プラズマ性>
実施例1〜6、比較例、及び参考例のそれぞれで調製した架橋ゴムシートについて、マイクロ波プラズマ発生機を用いて、伸張率10%として、O2プラズマ照射試験及びCF4プラズマ照射試験を行い、質量減量、クラックの有無、及びパーティクルの発生の有無を調べた。試験では、反応ガスとしてO2及びCF4を用い、O2プラズマ照射試験では、それらの流量比を50:1とし、CF4プラズマ照射試験では、それらの流量比を1:50とした。また、反応圧力を100Pa及びプラズマ照射時間を60分とした。
実施例1〜6、比較例、及び参考例のそれぞれで調製した架橋ゴムシートについて、JISK6251に基づいて引張試験を行い、100%モジュラス(M100:100%伸び時における引張応力)、引張強さ(TB)、及び切断時伸び(EB)を測定した。
実施例1〜6、比較例、及び参考例のそれぞれで調製した架橋ゴムシートについて、JISK6262:2013に基づき、試験時間72時間及び試験温度200℃として圧縮永久ひずみの測定を行った。
実施例1〜6、比較例、及び参考例のそれぞれで調製した架橋ゴムシートについて、150℃で24時間の加熱処理を行った後、40%圧縮したときの亀裂の有無を目視確認した。
試験結果を表1に示す。
Claims (6)
- ポリフッ化ビニリデン以外の水素含有フッ素ゴムをゴム成分の主体として含有するとともに、有機過酸化物と、架橋助剤と、ポリフッ化ビニリデンと、放射線が照射されたとき、前記ゴム成分の炭素−水素間の結合が切断されて生じる炭素のラジカルに結合する化合物である水素サイト保護剤とを含有する未架橋ゴム組成物であって、
前記有機過酸化物の含有量が、前記ゴム成分100質量部に対して0.5質量部以上2.5質量部以下であり、
前記架橋助剤の含有量が、前記ゴム成分100質量部に対して1質量部以上10質量部以下であり、
前記ポリフッ化ビニリデンが、パウダー状であるとともに、前記ポリフッ化ビニリデンの含有量が、前記ゴム成分100質量部に対して5質量部以上30質量部以下であり、
前記水素サイト保護剤の含有量が、前記ゴム成分100質量部に対して1質量部以上20質量部以下である未架橋ゴム組成物。 - 請求項1に記載された未架橋ゴム組成物において、
前記ポリフッ化ビニリデンの平均粒径が1μm以上100μm以下である未架橋ゴム組成物。 - 請求項1又は2に記載された未架橋ゴム組成物において、
前記ポリフッ化ビニリデンの含有量の前記有機過酸化物の含有量及び前記架橋助剤の含有量の和に対する比が0.9以上2以下である未架橋ゴム組成物。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載された未架橋ゴム組成物における前記ゴム成分が架橋して構成されるとともに、前記ゴム成分の炭素に前記水素サイト保護剤が結合したゴム組成物で形成されているゴム製品。
- 請求項4に記載されたゴム製品において、
前記ゴム製品がシール材であるゴム製品。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載された未架橋ゴム組成物を、所定の温度に加熱して前記ゴム成分を前記有機過酸化物により架橋させ、前記加熱した後のものに対して放射線を照射するゴム製品の製造方法。
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