JP6611521B2 - 薄膜トランジスタ及びアレイ基板 - Google Patents
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Description
図1はこの発明の実施の形態1であるTFTの全体構造示す断面図であり、図2は実施の形態1のTFTの詳細な断面構造を示す断面図であり、ゲート電極,ソース電極(ドレイン電極)間の詳細構造を示している。図3は図1で示したTFTを用いたLCD用アレイ構成を模式的に示す説明図である。
条件A:水素含有量は0.2(at%(原子%))以下
条件B:水素含有量は10〜35(at%)の範囲
条件C1:シート抵抗値は50M(Ω/sq)以上(望ましくは、1G(Ω/sq)以上)である。
条件C2:シート抵抗値は1K〜100M(Ω/sq)の範囲にある。
条件C3:シート抵抗値は1〜50K(Ω/sq)の範囲にある。
なお、条件C1〜C3間に一部重複する範囲があるが、酸化物半導体領域41〜43のシート抵抗値R1〜R3は必ず、R1>R2>R3を満足する。
実施の形態1のTFTにおいて、第1の酸化物半導体領域及び第2の酸化物半導体領域となる酸化物半導体領域41及び43は、水素関連特性である水素含有量が異なるゲート絶縁膜21の第1の絶縁領域及びゲート絶縁膜23の第2の絶縁領域上に形成されることにより、酸化物半導体領域41のシート抵抗値R1が比較的高く、酸化物半導体領域43のシート抵抗値R3が比較的低く、R1>R3の関係となる。
図8及び図9は実施の形態1の第2の変形例の断面構造を示す断面図である。図10及び図11は実施の形態1の第2の変形例の製造方法の一部を示す断面図である。図12は第2の変形例において画素領域における平面構造を模式的に示す平面図である。図13は実施の形態1の第2の変形例の平面構造を模式的に示す平面図である。図13のC−Cが図8及び図9で示す断面構造に相当する。
図14はこの発明の実施の形態2であるTFTの詳細構造を示す断面図である。図15は実施の形態2のTFTの平面構造を模式的に示す平面図である。図15のD−D断面が図14で示す構造に相当する。実施の形態2のTFTも実施の形態1と同様、図3等で示すスイッチングトランジスタT1に相当する。以下、TFT形成領域に絞って実施の形態2のTFTの説明を行う。
条件D:「1×10−25mol/cm/sec/KPa0.5@600K」以下である。
なお、条件Dにおいて「@600K」は600Kの温度環境下を意味する。
図18はこの発明の実施の形態3であるTFTの詳細構造を示す断面図である。図19は実施の形態3のTFTの平面構造を模式的に示す平面図である。図19のE−E断面が図18で示す構造に相当する。実施の形態3のTFTも実施の形態1と同様、図3等で示すスイッチングトランジスタT1に相当する。以下、TFT形成領域に絞って実施の形態3のTFTの説明を行う。
図23はこの発明の実施の形態4のTFTの詳細構造を示す断面図である。図24は実施の形態4のTFTの平面構造を模式的に示す平面図である。図24のF−F断面が図23で示す構造に相当する。実施の形態4のTFTも実施の形態1と同様、図3等で示すスイッチングトランジスタT1に相当する。以下、TFT形成領域に絞って実施の形態4のTFTの説明を行う。
条件B1:水素含有量は1〜35(at%)の範囲である。
図29〜図32は実施の形態4の変形例の断面構造を示す断面図である。以下、TFT形成領域に絞って説明を行う。
図33はこの発明の実施の形態5であるTFTの詳細構造を示す断面図である。実施の形態5のTFTも実施の形態1〜実施の形態4と同様、図3等で示すスイッチングトランジスタT1に相当する。以下、TFT形成領域に絞って実施の形態4のTFTの説明を行う。
図36及び図37は実施の形態5の変形例の断面構造を示す断面図である。以下、図36及び図37を参照して、実施の形態5のTFTの変形例を説明する。
図38は、この発明の実施の形態6であるTFTの詳細構造を示す断面図である。実施の形態1〜5ではゲート電極が半導体層よりも下層に位置する逆スタガ型TFTを用いて発明内容を説明してきた。一方、図38に示すTFTはトップゲート型TFTである。以下、TFT形成領域に絞って実施の形態6のTFTの説明を行う。
図39は実施の形態6の第1の変形例の断面構造を示す断面図である。図39に示すように、予め絶縁領域321に相当する箇所に水素吸蔵膜30をパターニング成形しておき、その後に水素含有量の多い絶縁層32を形成してもよい。この場合、実施の形態3と同様の効果により各絶縁領域における水素含有量を設定することができる。
図40は、実施の形態6の第2の変形例の断面構造を示す断面図である。以下、図40を参照して、実施の形態6のTFTの変形例を説明する。
実施の形態1〜実施の形態6のTFTを有するTN液晶表示用等のアレイ基板は、実施の形態1〜実施の形態6と同様の効果を奏する。
Claims (20)
- 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記ゲート絶縁膜は、
前記ゲート電極上にのみ形成される第1のゲート絶縁膜と、
前記絶縁性基板上から、前記第1のゲート絶縁膜の端部上に延びて形成される第2のゲート絶縁膜を含み、前記第2のゲート絶縁膜の水素含有量は前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量より多く、
前記第1のゲート絶縁膜の形成領域において、前記第1及び第2のゲート絶縁膜が積層する絶縁積層領域を除く領域が前記第1の絶縁領域となり、
前記第2のゲート絶縁膜の形成領域において、前記絶縁積層領域を除く領域が前記第2の絶縁領域となり、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は前記第2の絶縁領域の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記ゲート絶縁膜は、
前記ゲート電極上全面を含む前記絶縁性基板上に形成される第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上に選択的に形成される第2のゲート絶縁膜とを含み、前記第2のゲート絶縁膜は前記第1のゲート絶縁膜を介して、前記絶縁性基板の上方から、前記ゲート電極の端部上方に延びて形成され、前記第2のゲート絶縁膜の水素含有量は前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量より多く、
前記第1及び第2のゲート絶縁膜が積層する絶縁積層領域以外の前記第1のゲート絶縁膜の形成領域が前記第1の絶縁領域となり、前記第2のゲート絶縁膜の形成領域において前記絶縁性基板上に形成される前記第1のゲート絶縁膜上の領域が前記第2の絶縁領域となり、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は前記第2の絶縁領域の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 請求項1または請求項2に記載の薄膜トランジスタであって、
前記ゲート電極の上方における前記第2のゲート絶縁膜の端部は、断面形状がテーパー状に先細りになる先細形状領域を有し、前記先細形状領域が中間絶縁領域として規定され、
前記酸化物半導体層は、前記中間絶縁領域上に形成される中間酸化物半導体領域をさらに含み、
前記中間酸化物半導体領域は前記中間絶縁領域上に形成されており、その抵抗値が前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値より低く、前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く設定されることを特徴とする、
薄膜トランジスタ。 - 請求項1から請求項3のうち、いずれか1項に記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は0.2(at%)以下であり、
前記第2の絶縁領域の水素含有量は10〜35(at%)の範囲にあり、
前記第1の酸化物半導体領域のシート抵抗値は50M(Ω/sq)以上であり、
前記第2の酸化物半導体領域のシート抵抗値は1〜50K(Ω/sq)の範囲にある、
薄膜トランジスタ。 - 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記ゲート絶縁膜は、
前記ゲート電極上全面を含む前記絶縁性基板上に形成される第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極の上方に選択的に形成される第2のゲート絶縁膜とを含み、前記第2のゲート絶縁膜は前記第1のゲート絶縁膜から水素の移動を抑制する水素透過防止特性を有し、
前記第2のゲート絶縁膜の形成領域が前記第1の絶縁領域となり、前記第1及び第2のゲート絶縁膜が積層する絶縁積層領域以外の前記第1のゲート絶縁膜の形成領域が前記第2の絶縁領域となり、
前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量は前記第2のゲート絶縁膜の水素含有量より多く、前記第1の絶縁領域は前記水素透過防止特性を有する、
薄膜トランジスタ。 - 請求項5記載の薄膜トランジスタであって、
前記第2のゲート絶縁膜の水素透過率は600Kの温度環境下で「1×10−25mol/cm/sec/KPa0.5」以下である、
薄膜トランジスタ。 - 請求項5または請求項6に記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量は10〜35(at%)の範囲にある、
薄膜トランジスタ。 - 請求項5から請求項7のうち、いずれか1項に記載の薄膜トランジスタであって、
前記第2のゲート絶縁膜の端部は、断面形状がテーパー状に先細りになる先細形状領域を有し、前記先細形状領域が中間絶縁領域として規定され、
前記酸化物半導体層は、前記中間絶縁領域上に形成される中間酸化物半導体領域をさらに含み、
前記中間酸化物半導体領域は前記中間絶縁領域上に形成されており、その抵抗値が前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値より低く、前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く設定されることを特徴とする、
薄膜トランジスタ。 - 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記ゲート電極上に形成される水素吸蔵膜をさらに備え、
前記ゲート絶縁膜は、
前記水素吸蔵膜上全面を含む前記絶縁性基板上に形成され、
前記ゲート絶縁膜の形成領域のうち、前記水素吸蔵膜上に形成される領域が前記第1の絶縁領域となり、前記水素吸蔵膜上以外に形成される領域が前記第2の絶縁領域となり、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は前記第2の絶縁領域の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 請求項9記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は0.2(at%)以下であり、
前記第2の絶縁領域の水素含有量は10〜35(at%)の範囲にある、
薄膜トランジスタ。 - 請求項9または請求項10記載の薄膜トランジスタであって、
前記水素吸蔵膜の端部は、断面形状がテーパー状に先細りになる先細形状領域を有し、前記先細形状領域が中間絶縁領域として規定され、
前記酸化物半導体層は、前記中間絶縁領域上に形成される中間酸化物半導体領域をさらに含み、
前記中間酸化物半導体領域は前記中間絶縁領域上に形成されており、その抵抗値が前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値より低く、前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く設定されることを特徴とする、
薄膜トランジスタ。 - 請求項9から請求項11のうち、いずれか1項に記載の薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は、
前記水素吸蔵膜上全面を含む前記絶縁性基板上に形成される第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜上に形成される第2のゲート絶縁膜とを含み、前記第2のゲート絶縁膜の水素含有量は前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記ゲート絶縁膜は、
前記絶縁性基板上に形成される第1のゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極及び前記第1のゲート絶縁膜上に形成される第2のゲート絶縁膜とを含み、前記第2のゲート絶縁膜の水素含有量は前記第1のゲート絶縁膜の水素含有量より少なく、前記第1及び第2のゲート絶縁膜が積層する絶縁積層領域において前記第1のゲート絶縁膜内の水素が前記第2のゲート絶縁膜に透過され、
前記第2のゲート絶縁膜の形成領域において、前記絶縁積層領域が前記第2の絶縁領域となり、前記絶縁積層領域以外の前記ゲート電極上の形成領域が前記第1の絶縁領域となり、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は前記第2の絶縁領域の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 請求項13記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は0.2(at%)以下であり、
前記第2の絶縁領域の水素含有量は10〜35(at%)の範囲にある、
薄膜トランジスタ。 - 請求項13または請求項14記載の薄膜トランジスタであって、
前記ゲート電極の上方における前記第1のゲート絶縁膜の端部は、断面形状がテーパー状に先細りになる先細形状領域を有し、前記先細形状領域上における前記第2のゲート絶縁膜の形成領域が中間絶縁領域として規定され、
前記酸化物半導体層は、前記中間絶縁領域上に形成される中間酸化物半導体領域をさらに含み、
前記中間酸化物半導体領域は前記中間絶縁領域上に形成されており、その抵抗値が前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値より低く、前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く設定されることを特徴とする、
薄膜トランジスタ。 - 請求項13または請求項14に記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1のゲート絶縁膜は、前記ゲート電極上に形成されることなく、側面が前記ゲート電極の側面に接し、形成高さが前記ゲート電極と一致するように形成される、
薄膜トランジスタ。 - 絶縁性基板の上方に形成されるゲート電極と、
前記ゲート電極上を含み前記絶縁性基板の上方に形成されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成される酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上に形成されるソース電極とを備えた薄膜トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は前記ゲート電極上に形成される第1の絶縁領域と、前記ゲート電極を介することなく前記絶縁性基板の上方に形成され、水素含有量が前記第1の絶縁領域と異なる第2の絶縁領域とを含み、
前記酸化物半導体層は、前記第1の絶縁領域上に形成され、チャネル領域を少なくとも有する第1の酸化物半導体領域と、前記第2の絶縁領域上に形成され、前記ソース電極と接続される第2の酸化物半導体領域とを含み、
前記第1の酸化物半導体領域の抵抗値が前記第2の酸化物半導体領域の抵抗値より高く、
前記絶縁性基板上に形成され、水素を含有する絶縁層をさらに備え、
前記ゲート電極及び前記ゲート絶縁膜は前記絶縁層を介して前記絶縁性基板の上方に形成され、
前記ゲート絶縁膜は、
前記ゲート電極上全面を含む前記絶縁層上に形成され、前記ゲート絶縁膜の水素含有量は前記絶縁層の水素含有量より少なく、前記ゲート絶縁膜と前記絶縁層とが積層する絶縁積層領域において前記絶縁層内の水素が前記ゲート絶縁膜に透過され、
前記ゲート絶縁膜の形成領域のうち、前記ゲート電極上に形成される領域が前記第1の絶縁領域となり、前記絶縁層上に形成される領域が前記第2の絶縁領域となり、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は前記第2の絶縁領域の水素含有量より少ない、
薄膜トランジスタ。 - 請求項17記載の薄膜トランジスタであって、
前記第1の絶縁領域の水素含有量は0.2(at%)以下であり、
前記第2の絶縁領域の水素含有量は10〜35(at%)の範囲にある、
薄膜トランジスタ。 - 請求項17または請求項18記載の薄膜トランジスタであって、
前記ゲート電極は、
導電層と水素透過を防止する水素透過防止膜との積層構造を有する、
薄膜トランジスタ。 - 請求項1から請求項19のうち、いずれか1項に記載の薄膜トランジスタを含む、
アレイ基板。
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