JP6497435B2 - 弾性波装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る弾性波装置を示す模式的平面図である。また、図2(a)は、図1のA−A線に沿う略図的正面断面図であり、図2(b)は、図1のB−B線に沿う略図的断面図である。なお、図1中、破線は、空洞9が設けられている部分を示し、斜線は、貫通孔10を示すものとする。
圧電基板4…LiNbO3{オイラー角(90,90,40)}、膜厚:0.1λ
薄膜6…誘電体膜(SiO2膜)、膜厚:0〜0.34λ
図3は、本発明の第2の実施形態に係る弾性波装置を示す略図的正面断面図である。弾性波装置21では、圧電基板4の第1の主面4a上において、支持基板2と薄膜6を介して接合されている領域と、弾性波装置21を平面視した場合にIDT電極5が配置されている領域とに薄膜6が設けられている。そのため、凹部2cは、支持基板2と、薄膜6及び圧電基板4により囲まれた空洞9を形成することとなる。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
弾性波装置1の製造方法は、特に限定されないが、一例を図4〜図6を参照して説明する。
2…支持基板
2a…上面
2b…下面
2c…凹部
2A…平坦化用膜
3…補強基板
4…圧電基板
4a,4b…第1,第2の主面
4A…圧電板
5…IDT電極
6…薄膜
7a,7b…電極ランド
8a,8b…2層目配線
9…空洞
10…貫通孔
11…犠牲層
Claims (6)
- 上面に凹部を有する支持基板と、
前記支持基板上に配置されている、薄膜と、
第1の主面と、該第1の主面と対向している第2の主面と、を有し、前記第1の主面側が前記薄膜上に配置されている、圧電基板と、
前記圧電基板の前記第2の主面上に設けられている、IDT電極と、
を備え、
前記支持基板と、前記薄膜及び前記圧電基板のうち少なくとも前記薄膜と、で囲まれた空洞が形成されており、
前記圧電基板の前記第1の主面上の領域であって、前記支持基板と前記薄膜を介して接合されている領域、並びに、前記空洞の上方の領域の少なくとも一部分の領域に、前記薄膜が配置されており、
前記圧電基板の材料は、LiNbO 3 であり、
前記薄膜は、SiO 2 膜であり、
前記薄膜の厚みは、前記圧電基板の厚みの3倍以下であり、
前記圧電基板を伝搬する弾性波が、音速5000〜6000m/秒である、S 0 モードの弾性波である、弾性波装置。 - 前記薄膜が、前記圧電基板の前記第1の主面の全面に配置されている、請求項1に記載の弾性波装置。
- 前記空洞の上方の領域の少なくとも一部分の領域とは、前記支持基板と前記薄膜を介して接合されている領域よりも空洞側の領域である、請求項1又は2に記載の弾性波装置。
- 前記空洞の上方の領域の少なくとも一部分の領域とは、前記弾性波装置を平面視した場合に、前記IDT電極が配置されている領域のみである、請求項1又は2に記載の弾性波装置。
- 前記圧電基板及び前記薄膜を貫通している貫通孔が設けられている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 圧電基板の第1の主面上に薄膜を形成する工程と、
前記圧電基板の前記第1の主面と対向する第2の主面上に、IDT電極を形成する工程と、
前記薄膜の前記圧電基板と接している側とは反対側の主面に、犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層を覆うように、上面に凹部を有する支持基板を形成する工程と、
前記圧電基板及び前記薄膜に、前記圧電基板の前記第2の主面側から前記犠牲層に至る貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔を利用して、エッチングにより前記犠牲層を除去し、前記犠牲層が設けられている部分を空洞とする工程と、
を備え、
前記圧電基板の前記第1の主面上の領域であって、前記支持基板と前記薄膜を介して接合される領域、並びに、前記空洞の上方の領域の少なくとも一部分の領域に前記薄膜を形成し、
前記圧電基板の材料は、LiNbO 3 であり、
前記薄膜は、SiO 2 膜であり、
前記薄膜の厚みは、前記圧電基板の厚みの3倍以下であり、
前記圧電基板を伝搬する弾性波が、音速5000〜6000m/秒である、S 0 モードの弾性波である、弾性波装置の製造方法。
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