JP6490921B2 - 表示装置、及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (10)
- 第1の基板と、
前記第1の基板に対向して貼り合わされ、外気から封止される、第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板により封止される空間に配置される、充填材と、
を備える、表示装置であって、
前記第1の基板上に、画素回路と、多層構造を有する封止膜と、が順に形成され、
前記第2の基板上に、カラーフィルタが形成され、
前記封止膜は、前記画素回路に接して形成され、シリコン含有無機材料からなる第1層を含み、
前記第1層は、少なくとも一部の成分が積層方向に沿って連続的に変化する、混合成膜である、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1に記載の表示装置であって、
前記封止膜は、前記第1層の上面の少なくとも一部に形成され、樹脂材料からなる第2層をさらに含む、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項2に記載の表示装置であって、
前記第1層の上面を構成する組成は、前記第1層の下面を構成する組成と比較して、前記第2層の下面に対する密着性がより高い、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置であって、
前記第1層の下面を構成する組成は、窒化シリコン、酸窒化シリコン、及び酸化シリコンから選択されるいずれかである、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置であって、
前記第1層の下面を構成する組成は、窒化シリコンであり、
前記第1層の上面を構成する組成は、酸化シリコン及び無結晶シリコンから選択されるいずれかである、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項2又は3に記載の表示装置であって、
前記第2層の前記樹脂材料は、有機樹脂である、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の表示装置であって、
前記画素回路は、有機エレクトロルミネッセンス層を含む、
ことを特徴とする、表示装置。 - 第1の基板と、
前記第1の基板に対向して貼り合わされ、外気から封止される、第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板により封止される空間に配置される、充填材と、
を備える、表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板上に、画素回路と、多層構造を有する封止膜と、を順に形成する、工程と、
前記第2の基板上に、カラーフィルタを形成する、工程と、
前記封止膜は、前記画素回路に接して形成され、シリコン含有無機材料からなる第1層
を含み、前記第1層を、少なくとも一部の成分を積層方向に沿って連続的に変化させて順に成膜する、第1層成膜工程と、
を含むことを特徴とする、表示装置の製造方法。 - 請求項8に記載の表示装置の製造方法であって、
前記第1層成膜工程は、化学気相成長法を用いて前記第1層を形成する際に、流入するプロセスガスの種類とそれぞれの流量を連続的に変化させる、
ことを特徴とする、表示装置の製造方法。 - 請求項9に記載の表示装置の製造方法であって、
前記封止膜は、樹脂材料からなる第2層をさらに含み、
前記第1層の上面の少なくとも一部に、前記第2層を形成する、第2層成膜工程を、
さらに含むことを特徴とする、表示装置の製造方法。
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