JP2016039078A - 表示装置、及びその製造方法 - Google Patents
表示装置、及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016039078A JP2016039078A JP2014162742A JP2014162742A JP2016039078A JP 2016039078 A JP2016039078 A JP 2016039078A JP 2014162742 A JP2014162742 A JP 2014162742A JP 2014162742 A JP2014162742 A JP 2014162742A JP 2016039078 A JP2016039078 A JP 2016039078A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- display device
- sealing film
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 61
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 49
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000000123 silicon containing inorganic group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 124
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 45
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 10
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 316
- 239000010408 film Substances 0.000 description 248
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 68
- 230000008859 change Effects 0.000 description 35
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 6
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 AlMg Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000000550 scanning electron microscopy energy dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
Abstract
Description
Claims (10)
- 基板上に、画素回路と、多層構造を有する封止膜と、が順に形成される、表示装置であって、
前記封止膜は、前記画素回路に接して形成され、シリコン含有無機材料からなる第1層を含み、
前記第1層は、少なくとも一部の成分が積層方向に沿って連続的に変化する、混合成膜である、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1に記載の表示装置であって、
前記封止膜は、前記第1層の上面の少なくとも一部に形成され、樹脂材料からなる第2層をさらに含む、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項2に記載の表示装置であって、
前記第1層の上面を構成する組成は、前記第1層の下面を構成する組成と比較して、前記第2層の下面に対する密着性がより高い、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置であって、
前記第1層の下面を構成する組成は、窒化シリコン、酸窒化シリコン、及び酸化シリコンから選択されるいずれかである、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の表示装置であって、
前記第1層の下面を構成する組成は、窒化シリコンであり、
前記第1層の上面を構成する組成は、酸化シリコン及び無結晶シリコンから選択されるいずれかである、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項2又は3に記載の表示装置であって、
前記第2層の前記樹脂材料は、有機樹脂である、
ことを特徴とする、表示装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の表示装置であって、
前記画素回路は、有機エレクトロルミネッセンス層を含む、
ことを特徴とする、表示装置。 - 基板上に、画素回路と、多層構造を有する封止膜と、が順に形成される、表示装置の製造方法であって、
前記封止膜は、前記画素回路に接して形成され、シリコン含有無機材料からなる第1層を含み、
前記第1層を、少なくとも一部の成分を積層方向に沿って連続的に変化させて順に成膜する、
ことを特徴とする、表示装置の製造方法。 - 請求項8に記載の表示装置の製造方法であって、
化学気相成長法を用いて前記第1層を形成し、その工程において、流入するプロセスガスの種類とそれぞれの流量を連続的に変化させる、
ことを特徴とする、表示装置の製造方法。 - 請求項9に記載の表示装置の製造方法であって、
前記封止膜は、樹脂材料からなる第2層をさらに含み、
前記第1層の上面の少なくとも一部に、前記第2層を形成する、
ことを特徴とする、表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014162742A JP6490921B2 (ja) | 2014-08-08 | 2014-08-08 | 表示装置、及びその製造方法 |
TW104122615A TWI584512B (zh) | 2014-08-08 | 2015-07-13 | 顯示裝置及其製造方法 |
KR1020150108815A KR101733293B1 (ko) | 2014-08-08 | 2015-07-31 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
US14/818,390 US9673419B2 (en) | 2014-08-08 | 2015-08-05 | Display device and manufacturing method thereof |
CN201510484923.3A CN105374848B (zh) | 2014-08-08 | 2015-08-07 | 显示装置及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014162742A JP6490921B2 (ja) | 2014-08-08 | 2014-08-08 | 表示装置、及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016039078A true JP2016039078A (ja) | 2016-03-22 |
JP6490921B2 JP6490921B2 (ja) | 2019-03-27 |
Family
ID=55268089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014162742A Active JP6490921B2 (ja) | 2014-08-08 | 2014-08-08 | 表示装置、及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9673419B2 (ja) |
JP (1) | JP6490921B2 (ja) |
KR (1) | KR101733293B1 (ja) |
CN (1) | CN105374848B (ja) |
TW (1) | TWI584512B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6330112B1 (ja) * | 2017-03-08 | 2018-05-23 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機elデバイスの製造方法および成膜装置 |
WO2019058555A1 (ja) * | 2017-09-25 | 2019-03-28 | シャープ株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
US10840478B2 (en) | 2018-09-28 | 2020-11-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Display panel |
JP2021504873A (ja) * | 2017-11-30 | 2021-02-15 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | 表示パネル、その封止方法及び表示装置 |
WO2022269863A1 (ja) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置 |
WO2022269714A1 (ja) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置 |
KR102663899B1 (ko) | 2018-09-28 | 2024-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107535026B (zh) * | 2015-04-15 | 2019-07-26 | 夏普株式会社 | 有机el显示装置 |
US10340479B2 (en) * | 2015-08-27 | 2019-07-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electroluminescence device |
KR102541448B1 (ko) * | 2016-03-08 | 2023-06-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
KR102553910B1 (ko) | 2016-08-31 | 2023-07-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치와 그의 검사방법 |
CN206179906U (zh) * | 2016-12-01 | 2017-05-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置 |
US10547029B2 (en) * | 2016-12-15 | 2020-01-28 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | OLED package structure |
CN106784398B (zh) * | 2016-12-15 | 2019-12-03 | 武汉华星光电技术有限公司 | Oled封装方法与oled封装结构 |
CN111788327A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-10-16 | 夏普株式会社 | 成膜用掩模以及使用其之显示装置的制造方法 |
JP7150527B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2022-10-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
JP2020119803A (ja) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
EP4024463A4 (en) * | 2019-08-27 | 2022-09-14 | BOE Technology Group Co., Ltd. | DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR PREPARING IT, AND ELECTRONIC DEVICE |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003133062A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス発光装置 |
JP2003197368A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置 |
JP2004022396A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Ulvac Japan Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
KR20040085675A (ko) * | 2003-04-01 | 2004-10-08 | 한국전자통신연구원 | 유기발광소자 |
WO2005051525A1 (en) * | 2003-11-25 | 2005-06-09 | Polyvalor, Limited Partnership | Permeation barrier coating or layer with modulated properties and methods of making the same |
JP2005537963A (ja) * | 2002-09-11 | 2005-12-15 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 傾斜組成を有する拡散障壁コーティング及びそれを含むデバイス |
US20070228944A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-04 | Tetsuo Oosono | Organic electroluminescence element and manufacturing method of the same |
JP2009230953A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2010049956A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法ならびに電子機器 |
JP2013206811A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンスパネル |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW439308B (en) | 1998-12-16 | 2001-06-07 | Battelle Memorial Institute | Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making |
JP2006004781A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Tohoku Pioneer Corp | 有機el素子および有機el表示パネル |
US8034419B2 (en) * | 2004-06-30 | 2011-10-11 | General Electric Company | Method for making a graded barrier coating |
JP2007184251A (ja) * | 2005-12-07 | 2007-07-19 | Sony Corp | 表示装置 |
JP2009110710A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Denso Corp | 有機elディスプレイおよびその製造方法 |
KR101015851B1 (ko) * | 2009-02-09 | 2011-02-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
JP5341701B2 (ja) * | 2009-10-02 | 2013-11-13 | キヤノン株式会社 | 表示装置およびデジタルカメラ |
KR101097321B1 (ko) * | 2009-12-14 | 2011-12-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 장치 및 이의 제조 방법 |
KR101155904B1 (ko) * | 2010-01-04 | 2012-06-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
JP2011213847A (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Mitsui Chemicals Inc | シリコン含有封止膜、シリコン含有封止膜を用いた太陽電池素子並びに有機el素子及びシリコン含有封止膜の製造方法 |
JP2012116151A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Sony Corp | バリアフィルム及びその製造方法 |
JP5935263B2 (ja) | 2011-08-19 | 2016-06-15 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、及びガスバリア性フィルムを有する有機電子デバイス |
US20150069349A1 (en) * | 2012-03-08 | 2015-03-12 | Panasonic Corporation | Method of preparing organic electroluminescent element and organic electroluminescent element |
US8598786B1 (en) * | 2012-10-23 | 2013-12-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display apparatus having a hydroxyquinoline-based layer as part of the sealing structure and method of manufacturing the same |
KR102048926B1 (ko) * | 2012-11-19 | 2019-11-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
JP5914397B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2016-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 機能性フィルム |
KR102117612B1 (ko) * | 2013-08-28 | 2020-06-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
JP6494411B2 (ja) * | 2014-06-24 | 2019-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法および成膜装置 |
-
2014
- 2014-08-08 JP JP2014162742A patent/JP6490921B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-13 TW TW104122615A patent/TWI584512B/zh active
- 2015-07-31 KR KR1020150108815A patent/KR101733293B1/ko active IP Right Grant
- 2015-08-05 US US14/818,390 patent/US9673419B2/en active Active
- 2015-08-07 CN CN201510484923.3A patent/CN105374848B/zh active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003133062A (ja) * | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス発光装置 |
JP2003197368A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置 |
JP2004022396A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Ulvac Japan Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
JP2005537963A (ja) * | 2002-09-11 | 2005-12-15 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 傾斜組成を有する拡散障壁コーティング及びそれを含むデバイス |
KR20040085675A (ko) * | 2003-04-01 | 2004-10-08 | 한국전자통신연구원 | 유기발광소자 |
WO2005051525A1 (en) * | 2003-11-25 | 2005-06-09 | Polyvalor, Limited Partnership | Permeation barrier coating or layer with modulated properties and methods of making the same |
US20070228944A1 (en) * | 2006-03-30 | 2007-10-04 | Tetsuo Oosono | Organic electroluminescence element and manufacturing method of the same |
JP2007273094A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
JP2009230953A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2010049956A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法ならびに電子機器 |
JP2013206811A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンスパネル |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6330112B1 (ja) * | 2017-03-08 | 2018-05-23 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機elデバイスの製造方法および成膜装置 |
WO2018163338A1 (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-13 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 有機elデバイスの製造方法および成膜装置 |
US10522784B2 (en) | 2017-03-08 | 2019-12-31 | Sakai Display Products Corporation | Method for producing organic electroluminescent device and film deposition apparatus |
US10665817B2 (en) | 2017-03-08 | 2020-05-26 | Sakai Display Products Corporation | Method for producing organic electroluminescent device and film deposition apparatus |
WO2019058555A1 (ja) * | 2017-09-25 | 2019-03-28 | シャープ株式会社 | 表示装置及びその製造方法 |
US10714706B2 (en) | 2017-09-25 | 2020-07-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
JP2021504873A (ja) * | 2017-11-30 | 2021-02-15 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | 表示パネル、その封止方法及び表示装置 |
JP7275447B2 (ja) | 2017-11-30 | 2023-05-18 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 表示パネル、その封止方法及び表示装置 |
US10840478B2 (en) | 2018-09-28 | 2020-11-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Display panel |
KR102663899B1 (ko) | 2018-09-28 | 2024-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 |
WO2022269714A1 (ja) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置 |
WO2022269863A1 (ja) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160019368A (ko) | 2016-02-19 |
US20160043340A1 (en) | 2016-02-11 |
TW201607099A (zh) | 2016-02-16 |
CN105374848A (zh) | 2016-03-02 |
CN105374848B (zh) | 2018-10-09 |
JP6490921B2 (ja) | 2019-03-27 |
KR101733293B1 (ko) | 2017-05-08 |
US9673419B2 (en) | 2017-06-06 |
TWI584512B (zh) | 2017-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6490921B2 (ja) | 表示装置、及びその製造方法 | |
KR102632615B1 (ko) | 디스플레이 장치 | |
KR102416742B1 (ko) | 투명 표시 장치 | |
US8716058B2 (en) | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same | |
KR102389622B1 (ko) | 투명 표시 장치 및 투명 표시 장치의 제조 방법 | |
KR102435156B1 (ko) | 투명 표시 기판 및 투명 표시 장치 | |
WO2016052151A1 (ja) | 有機el表示装置およびその製造方法、並びに電子機器 | |
EP2144292A2 (en) | Organic light emitting diode display apparatus and method of manufacturing the same | |
KR20160096760A (ko) | 투명 표시 기판, 투명 표시 장치 및 투명 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20170029037A (ko) | 투명 표시 장치 및 투명 표시 장치의 제조 방법 | |
CN113380959A (zh) | 有机发光显示装置及其制造方法 | |
JP2011238597A (ja) | 有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法 | |
KR20150029959A (ko) | 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터를 포함하는 표시장치 | |
US20230006178A1 (en) | Display panel, display apparatus, and method for manufacturing display panel | |
WO2021097690A1 (zh) | 显示基板及其制作方法和显示装置 | |
WO2014196107A1 (ja) | 薄膜トランジスタ素子とその製造方法及び表示装置 | |
KR20150065246A (ko) | 표시 기판, 표시 기판의 제조 방법 및 표시 기판을 포함하는 표시 장치 | |
US20160240632A1 (en) | Method of manufacturing thin-film transistor substrate | |
JP6111443B2 (ja) | 薄膜トランジスタ素子とその製造方法及び表示装置 | |
CN110620191B (zh) | 电子设备及其制造方法 | |
KR101753773B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
KR20150059884A (ko) | 유기발광 표시장치 제조방법 | |
JP2010278165A (ja) | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 | |
KR20160005959A (ko) | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
CN113745293A (zh) | 显示面板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170707 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180703 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6490921 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |