JP6475388B1 - ポリシラザン含有組成物 - Google Patents

ポリシラザン含有組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP6475388B1
JP6475388B1 JP2018135156A JP2018135156A JP6475388B1 JP 6475388 B1 JP6475388 B1 JP 6475388B1 JP 2018135156 A JP2018135156 A JP 2018135156A JP 2018135156 A JP2018135156 A JP 2018135156A JP 6475388 B1 JP6475388 B1 JP 6475388B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polysilazane
containing composition
mol
octane
pyridine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018135156A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020012059A (ja
Inventor
達朗 兼子
達朗 兼子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2018135156A priority Critical patent/JP6475388B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6475388B1 publication Critical patent/JP6475388B1/ja
Priority to TW108122516A priority patent/TWI807058B/zh
Priority to US16/502,548 priority patent/US20200024479A1/en
Priority to KR1020190086010A priority patent/KR20200010077A/ko
Priority to CN201910645020.7A priority patent/CN110734701B/zh
Publication of JP2020012059A publication Critical patent/JP2020012059A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/16Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/16Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/60Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C08G77/62Nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/02Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
    • C08J3/09Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids
    • C08J3/091Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in organic liquids characterised by the chemical constitution of the organic liquid
    • C08J3/092Hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2383/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2383/16Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

【課題】脂肪族炭化水素系溶剤に容易に溶解するポリシラザンおよびシリカガラス様の特性を持つポリシラザン含有組成物を提供する。
【解決手段】ポリシラザン含有組成物であって、(A)下記式(1)で示される単位及び下記式(2)で示される単位を有し、Si−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であるポリシラザンと、(B)脂肪族炭化水素系溶剤、を含み、前記(A)成分及び前記(B)成分の配合比率が、質量比で(A)/(B)=0.001以上1.0以下の範囲内のものであることを特徴とするポリシラザン含有組成物。
Figure 0006475388
(式中、Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる基であり、ポリシラザン1分子中でRは同一であっても異なっていてもよい。)
【選択図】なし

Description

本発明は、ポリシラザン含有組成物に関する。
ポリシラザンは、車体や建物外壁などの防汚膜、有機EL表示装置などの半導体表示装置や電子ディスプレイの防湿膜、また半導体やLEDなど装置における層間絶縁膜、パッシベーション膜、保護膜、平坦化膜等の形成材料として様々な用途に検討されている。
これらの膜はポリシラザンとポリシラザンを溶解させる溶媒とを含むコーティング液を適宜の基材上に塗布後、適当な硬化処理を施し、ポリシラザンをシリカ質膜に転化させることにより形成されている。ポリシラザン樹脂は一般的には水分や酸素に弱く、溶液の形態にすることでこれらのゲル化および硬化の促進作用のある物質から保護することが可能である。この時、有機基で変性されたポリシラザンは有機溶媒と親和性が高く、有機基の割合が増えるほど有機溶媒への溶解性が向上する(例えば、特許文献1、2参照)。
特開平6−116389号公報 国際公開WO2015/163360号公報 特開2004−155834号公報 特表2006−515641号公報 特開平9−157594号公報
しかし、硬化後に完全なシリカガラスを生じるペルヒドロポリシラザンに対して、有機基で変性されたオルガノポリシラザンは有機変性の割合が増えるに従い、本来必要とされるシリカガラス様の特性が損なわれていく。そのため、良質なシリカガラス膜を生成させるためにはペルヒドロポリシラザンが溶解する溶剤を選定する必要があった。
従来、ペルヒドロポリシラザンが溶解する溶剤として主に使用されているのはトルエン、キシレン、ジブチルエーテルなどが挙げられる。しかし、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤は健康に対する有害性が指摘されており、必ずしも安全であるとは言いがたい。また、ジブチルエーテルは酸素存在下で爆発性のペルオキシドを生成するため保管や換気に注意を払う必要がある。さらに、上記の溶剤は独特の臭気を伴うため、作業者によっては不快に感じることがある。匂いは長期間作業を行う作業者にとって無視できない項目であり、仮に作業者にとって不快な匂いを長時間吸引すると頭痛、眩暈、吐き気、食欲不振を催し、場合によっては嘔吐する場合もある。
そこで、安全性と低臭気性を持つ優れた溶剤として脂肪族炭化水素系溶剤が挙げられるが、ペルヒドロポリシラザンの溶解性に乏しいため溶剤に対してごく少量であれば混和するが、多量に混合すると即座に白色の濁り及び沈殿を生じるため、脂肪族炭化水素系溶剤を単体で使用する場合には用途に応じて任意の濃度で混和することができず、ペルヒドロポリシラザンを容易に溶解させることができ、なおかつ作業性や安全性に優れた溶剤の存在が必要であった(例えば、特許文献3〜5参照)。
これらの理由からシリカガラス様の特性と溶剤の安全性および低臭気性の両立は困難であり、これらの問題を解決するため、ポリシラザンが一般的な脂肪族炭化水素系溶剤もしくは用途により任意に選択される有機溶剤に容易に溶解しており、かつ硬化膜がペルヒドロポリシラザンと同等の特性を持つポリシラザン含有組成物の提供が待たれている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤に容易に溶解しており、かつ硬化膜がペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等のシリカガラス様の特性を持つポリシラザン含有組成物を提供することを目的とする。
上記課題を達成するために、本発明では、
ポリシラザン含有組成物であって、
(A)下記式(1)で示される単位及び下記式(2)で示される単位を有し、Si−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であるポリシラザンと、
(B)脂肪族炭化水素系溶剤、
を含み、前記(A)成分及び前記(B)成分の配合比率が、質量比で(A)/(B)=0.001以上1.0以下の範囲内のものであることを特徴とするポリシラザン含有組成物を提供する。
Figure 0006475388
(式中、Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる基であり、ポリシラザン1分子中でRは同一であっても異なっていてもよい。)
このようなポリシラザン含有組成物であれば、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤に容易に溶解しており、かつ硬化膜がペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等のシリカガラス様の特性を持つものとなる。
また、前記式(2)のRがメチル基であることが好ましい。
変性基としてメチル基を有するポリシラザンであれば、調製がより容易なものとなる。
また、前記ポリシラザン含有組成物の厚さ1μmの硬化膜において、JIS K 7129:2008 附属書A記載の方法で測定した40℃における水蒸気透過度が0.05g/(m・day)以下であることが好ましい。
硬化物が、このような水蒸気透過度を示すポリシラザン含有組成物であれば、ガスバリア性に優れるために、より有用な組成物となる。
以上のように、本発明のポリシラザン含有組成物であれば、ペルヒドロポリシラザンの特性を損なわずに有機溶剤への溶解性を向上させたポリシラザンを用いているため、任意の脂肪族炭化水素系有機溶剤に容易にポリシラザンが溶解し、硬化膜がペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等のシリカガラス様の特性を持つポリシラザン含有組成物となる。
上述のように、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤に容易に溶解しており、かつ硬化膜がペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等のシリカガラス様の特性を持つポリシラザン含有組成物の開発が求められていた。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、所定の範囲の変性率を満たすポリシラザンと脂肪族炭化水素系溶剤とを、所定の配合比率で含む組成物であれば、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤に容易に溶解しており、かつ、硬化膜がペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等のシリカガラス様の特性を持つポリシラザン含有組成物となることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、
ポリシラザン含有組成物であって、
(A)下記式(1)で示される単位及び下記式(2)で示される単位を有し、Si−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であるポリシラザンと、
(B)脂肪族炭化水素系溶剤、
を含み、前記(A)成分及び前記(B)成分の配合比率が、質量比で(A)/(B)=0.001以上1.0以下の範囲内のものであることを特徴とするポリシラザン含有組成物である。
Figure 0006475388
(式中、Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる基であり、ポリシラザン1分子中でRは同一であっても異なっていてもよい。)
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<ポリシラザン含有組成物>
本発明のポリシラザン含有組成物は、後述する(A)成分及び(B)成分を必須として含み、必要に応じて後述する添加物を含む組成物である。
[(A)成分:ポリシラザン]
本発明で用いるポリシラザンは、下記式(1)で示される単位及び下記式(2)で示される単位を有している。
Figure 0006475388
前記式(2)中、Rは炭素数1〜6、好ましくは1〜3の脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12、好ましくは6〜8の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基から選ばれる基であり、例えばメチル基、エチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。Rはポリシラザン1分子中で繰り返し単位毎に適宜選択することができ、同一であっても異なっていてもよい。
本発明におけるポリシラザンは、前記式(1)及び(2)におけるSi−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であることを特徴とし、0.01以上0.03以下であることが好ましい。この比が0.01より小さいと有機溶剤に対する溶解性が乏しくなる。また、0.05より大きいと硬化後の膜の特性がペルヒドロポリシラザンによるシリカガラス膜に比べて低下する。
また、Si−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であれば、硬化後にペルヒドロポリシラザン硬化膜と同等の特性を持つシリカガラス様の硬化物を生成することができる。この特性とは、例えば硬度、ガスバリア性、光透過性、耐熱性などが挙げられ、一般的にこれらの特性はペルヒドロポリシラザンに対して有機基で変性された割合が増えるほど低下する傾向にある。
本発明におけるポリシラザンは、塗布時の作業性の観点からTHF(テトラヒドロフラン)を溶離液として用いた際の重量平均分子量が100〜100,000,000が好ましく、より好ましくは1,000〜1,000,000、更に好ましくは3,000〜500,000の範囲内である。重量平均分子量が100以上であれば、揮発性が高くないため、有機溶剤の乾燥及び硬化処理時に塗膜の膜質が劣化する恐れがないため好ましい。また、100,000,000以下であれば、有機溶剤に対して十分な溶解性を示すため、塗布後の溶剤乾燥工程で不均一に析出する恐れがなく好ましい。
なお、本発明中で言及する重量平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質とした重量平均分子量を指すこととする。
[測定条件]
展開溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:0.6mL/min
検出器:UV検出器
カラム:TSK Guardcolumn SuperH−L
TSKgel SuperMultiporeHZ−M(4.6mmI.D.×15cm×4)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:20μL(濃度0.5重量%のTHF溶液)
[(B)成分:脂肪族炭化水素系溶剤]
本発明で用いるポリシラザンの希釈溶剤としては、脂肪族炭化水素系溶剤を用いることを特徴とする。本発明において「脂肪族炭化水素系溶剤」とは、脂肪族炭化水素基を必須とする有機化合物からなる溶剤のことを指す。
通常、ポリシラザン含有溶液中の溶剤の最大の役割は、水分に対して不安定なポリシラザンを水分から防護し保存安定性を高めることであり、更に加えて基材に対して塗布する際の作業性向上を目的とした粘度調整や均一膜にするための揮発性の調整などの役割が挙げられる。例えばn−ペンタン、i−ペンタン、n−ヘキサン、i−ヘキサン、n−ヘプタン、i−ヘプタン、n−オクタン、i−オクタン、n−ノナン、i−ノナン、n−デカン、およびi−デカンオクタンなどの鎖状脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、p−メンタン、およびデカヒドロナフタレンなどの環状脂肪族炭化水素などが挙げられる。また、これらの溶剤は単一でも複数種類を混合しても良く、作業環境や作業性により任意のものを選択できる。なお、脂肪族炭化水素系溶剤は、純度が95%以上のものが好ましく、より好ましくは99%以上であり、この範囲を満たせば、脂肪族炭化水素以外の有機化合物を含んでいてもよい。
本発明において、(A)成分であるポリシラザンと(B)成分である脂肪族炭化水素系溶剤の配合比(A/B)は、質量比でA/B=0.001以上1.0以下であり、好ましくは0.001以上0.5以下である。A/Bが0.001未満、つまり、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤100質量部に対して0.1質量部より少ないと、組成物を塗布した際に十分な厚みの塗膜を得られない。また、A/Bが1.0より大きい、つまり、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤100質量部に対して100質量部より多いと、組成物の長期保管時にポリシラザンが析出しやすくなる。
また、ポリシラザン含有溶液中の水分は500ppm以下であることが好ましく、300ppm以下であることがより好ましい。水分が500ppm以下であれば、ポリシラザンと水分とが反応しないため、発熱、水素ガスやアンモニアガスの発生、増粘、ゲル化などを引き起こす恐れがなく好ましい。
[添加物]
本発明のポリシラザン含有組成物にはポリシラザンと有機溶媒の他にも触媒やフィラーなどの添加物を含んでいても良い。例えば、マグネシウム、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、ガリウム、ジルコニウム、ニオブ、パラジウム、白金などの金属元素を含む均一もしくは不均一金属触媒、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、などの脂肪族アミン類、メチルアミノエタノール、ジメチルアミノエタノールなどの脂肪族アミノアルコール類、アニリン、フェニルエチルアミン、トルイジンなどの芳香族アミン類、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジンピラジンなどの複素環式アミン類などのアミン触媒、ヒュームドシリカ、ヒュームド二酸化チタン、ヒュームドアルミナ等の補強性無機充填剤、溶融シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、二酸化チタン、酸化第二鉄、酸化亜鉛等の非補強性無機充填剤、SiH基、アルケニル基、アルコキシシリル基、エポキシ基から選ばれる官能性基を少なくとも2種、好ましくは2種又は3種含有するオルガノシロキサンオリゴマー、オルガノオキシシリル変性イソシアヌレート化合物およびその加水分解縮合物などの接着助剤ジメチルシリコーンやフェニルシリコーンなどのシリコーンオイルなどが挙げられ任意の割合で添加できる。
本発明のポリシラザン含有組成物は、以下のような用途に用いることができる。
例えば、本発明のポリシラザン含有組成物は、そのままコーティング組成物として使用できる。ポリシラザン含有コーティング組成物(ポリシラザン含有組成物)を塗布する方法としては、例えば、チャンバードクターコーター、一本ロールキスコーター、リバースキスコーター、バーコーター、リバースロールコーター、正回転ロールコーター、ブレードコーター、ナイフコーターなどのロールコート法やスピンコート法、ディスペンス法、ディップ法、スプレー法、転写法、スリットコート法等が挙げられる。
塗布対象となる基材としては、シリコン基板、ガラス基板、金属基板、樹脂基板、樹脂フィルム等が挙げられ、必要であれば半導体素子を形成する過程での半導体膜や回路などの設けられた基板などに塗布されてもよい。塗膜の厚さは、膜の使用目的などにより異なるが、一般的には、硬化膜厚で、10〜100,000nm、好ましくは100〜1,000nmとされる。
こうしてコーティング組成物の塗布によりポリシラザン樹脂塗膜を形成した後、該塗膜の硬化のため塗膜を加熱・乾燥処理することが好ましい。この工程は、塗膜中に含まれる溶媒の完全除去と、ポリシラザンからポリシロキサン結合への交換反応を促進するための硬化反応を目的とするものである。
加熱・乾燥温度は通常室温(25℃)〜300℃、好ましくは70℃〜200℃の範囲内である。加熱・乾燥工程の好ましい処理方法として、加熱処理や水蒸気加熱処理、大気圧プラズマ処理、低温プラズマ処理、UV処理、エキシマ光処理などがある。それぞれ対応する基板、フィルムなどとの組み合わせにより選択される。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記の例で部は質量部を示す。
[実施例1]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.004molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300ml中に撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は5,225であった。
[実施例2]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300ml中に撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,583であった。
[実施例3]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.02molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,582であった。
[実施例4]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとフェニルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,620であった。
[実施例5]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.004molおよびフェニルジクロロシラン0.004molを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300ml中に撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,784であった。
[実施例6]
純度99%以上のジクロロシラン0.190molを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液にエタノール0.01molを加えポリシラザンを反応させた後に150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,567であった。
[実施例7]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300ml中に撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次に脂肪族炭化水素系溶剤エクソールD40(エクソンモービル社製)を300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/エクソールD40が0.05となるようにエクソールD40を添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,833であった。
[実施例8]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にシクロヘキサンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/シクロヘキサンが0.05となるようにシクロヘキサンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,777であった。
[実施例9]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.001となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,489であった。
[実施例10]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが1.0となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,564であった。
[実施例11]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn‐オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.06となるように、またジメチルシリコーンが5部となるように、n−オクタンと動粘度が50mm/sのジメチルシリコーン(商品名:KF−96−50CS、信越化学工業製)を添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,821であった。
[実施例12]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn‐オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるように、またプロピオン酸パラジウムが0.05部となるように、n−オクタンとプロピオン酸パラジウムを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,812であった。
[比較例1]
純度99%以上のジクロロシラン0.190molを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は7,458であった。
[比較例2]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.002molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は5,420であった。
[比較例3]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.04molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.05となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は3,855であった。
[比較例4]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molとを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが0.0005となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,549であった。
[比較例5]
純度99%以上のジクロロシラン0.189molとメチルジクロロシラン0.01molを、窒素ガスとともに−10℃の脱水ピリジン300mlに撹拌しながら吹き込んだ。その後、純度99%以上のアンモニアを0.57mol吹き込み、生成した塩を加圧濾過により取り除くことでポリシラザン溶液を得た。このポリシラザン溶液を150℃に加熱しピリジンを150ml溜去した。次にn−オクタンを300ml加え、共沸蒸留によりピリジンを取り除き、溶液全体を100部としたときに質量比でポリシラザン/n−オクタンが1.5となるようにn−オクタンを添加してポリシラザン含有組成物を得た。得られたポリシラザンの重量平均分子量は1,603であった。
[参考例]
n−オクタンをジブチルエーテルに変更した以外は比較例1と同様にして、ペルヒドロポリシラザン含有組成物を調製した。
上記実施例1〜12及び比較例1〜5及び参考例で得られた各組成物に対して以下の評価を行った。
外観
ポリシラザンが溶剤に十分に溶解しているかを、得られた各組成物を目視で評価した。
水蒸気透過度
水蒸気透過度の測定はLyssy L80‐5000(Systech Instruments製)水蒸気透過度計を用い、JIS K 7129:2008 附属書A記載の方法により40℃で測定した。測定サンプルは水蒸気透過度100g/(m・day)のポリイミドフィルム上にスピンコーターを用いて塗布膜厚が1.0μmになるように塗布し、150℃で48時間加熱・硬化した。
鉛筆硬度
鉛筆硬度の測定は鉛筆硬度試験器(ペパレス製作所製)を用いて行い、測定サンプルはSUS430製の試験片にスピンコーターを用いて塗布膜厚が1.0μmになるように塗布し、150℃で48時間加熱・硬化した。
実施例、比較例及び参考例の結果を表1に示す。
Figure 0006475388
表1から明らかなように、本発明のポリシラザン含有組成物である実施例1〜12では、ポリシラザンが脂肪族炭化水素系溶剤に十分溶解しており、かつ、ペルヒドロポリシラザン硬化膜(参考例)と同等のシリカガラス様の特性を持つ硬化膜を与えるものであることが示された。
一方、有機変性されていないポリシラザン(ペルヒドロポリシラザン)を用いた比較例1及びポリシラザンの有機変性率が本発明の範囲を下回る比較例2では、脂肪族炭化水素系溶剤に溶解しなかった。またポリシラザンの有機変性率が本発明の範囲を上回る比較例3では、オクタンに溶解したものの、実施例及び参考例と比べて水蒸気透過度や鉛筆硬度に劣っていた。さらに、本発明の(A)成分と(B)成分の配合比を満たさない比較例4及び比較例5についても、実施例に対して劣る結果となっていた。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

Claims (3)

  1. ポリシラザン含有組成物であって、
    (A)下記式(1)で示される単位及び下記式(2)で示される単位を有し、前記式(1)及び(2)におけるSi−H結合とSi−R結合との合計数に対するSi−R結合の数の比が0.01以上0.05以下であるポリシラザンと、
    (B)脂肪族炭化水素系溶剤、
    を含み、前記(A)成分及び前記(B)成分の配合比率が、質量比で(A)/(B)=0.001以上1.0以下の範囲内のものであることを特徴とするポリシラザン含有組成物。
    Figure 0006475388
    (式中、Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基から選ばれる基であり、ポリシラザン1分子中でRは同一であっても異なっていてもよい。)
  2. 前記式(2)のRがメチル基であることを特徴とする請求項1に記載のポリシラザン含有組成物。
  3. 前記ポリシラザン含有組成物の厚さ1μmの硬化膜において、JIS K 7129:2008 附属書A記載の方法で測定した40℃における水蒸気透過度が0.05g/(m・day)以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のポリシラザン含有組成物。
JP2018135156A 2018-07-18 2018-07-18 ポリシラザン含有組成物 Active JP6475388B1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018135156A JP6475388B1 (ja) 2018-07-18 2018-07-18 ポリシラザン含有組成物
TW108122516A TWI807058B (zh) 2018-07-18 2019-06-27 含聚矽氮烷之組成物
US16/502,548 US20200024479A1 (en) 2018-07-18 2019-07-03 Polysilazane-containing composition
KR1020190086010A KR20200010077A (ko) 2018-07-18 2019-07-16 폴리실라잔 함유 조성물
CN201910645020.7A CN110734701B (zh) 2018-07-18 2019-07-17 含聚硅氮烷的组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018135156A JP6475388B1 (ja) 2018-07-18 2018-07-18 ポリシラザン含有組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6475388B1 true JP6475388B1 (ja) 2019-02-27
JP2020012059A JP2020012059A (ja) 2020-01-23

Family

ID=65516934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018135156A Active JP6475388B1 (ja) 2018-07-18 2018-07-18 ポリシラザン含有組成物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200024479A1 (ja)
JP (1) JP6475388B1 (ja)
KR (1) KR20200010077A (ja)
CN (1) CN110734701B (ja)
TW (1) TWI807058B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020171887A (ja) * 2019-04-11 2020-10-22 信越化学工業株式会社 ポリシラザン含有組成物

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7222948B2 (ja) * 2020-04-23 2023-02-15 信越化学工業株式会社 高硬度皮膜形成用コーティング剤組成物
JP2021172063A (ja) * 2020-04-30 2021-11-01 信越化学工業株式会社 積層構造熱可塑性樹脂成型物

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05311121A (ja) * 1992-05-14 1993-11-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 皮膜形成剤組成物
JPH09125006A (ja) * 1995-10-30 1997-05-13 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポリシラザン系塗布液及びそれを用いたセラミックス被膜の形成方法
JPH11236533A (ja) * 1998-02-24 1999-08-31 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用塗布液及びシリカ系被膜
JPH11250764A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Gunze Ltd 抵抗膜型透明タッチパネル
JP2002072452A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Glass Co Ltd 膜面保護層を有するフォトマスクおよびその製造方法
JP2002105676A (ja) * 2000-07-27 2002-04-10 Contamination Control Service:Kk コーティング膜とそれが施された部材及びコーティング膜の製造方法
WO2005014744A1 (ja) * 2003-08-12 2005-02-17 Az Electronic Materials (Japan) K.K. コーティング組成物、およびそれを用いて製造した低誘電多孔質シリカ質材料
JP2010169260A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Arai Seisakusho Co Ltd シール部材
JP2010169261A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Arai Seisakusho Co Ltd 密封装置
JP2011131650A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Kyosan Denki Co Ltd 樹脂部品および樹脂部品が取り付けられた樹脂製の燃料タンク
JP2011162543A (ja) * 2010-01-15 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd トリシリルアミンの製造方法
JP2012137778A (ja) * 2012-03-19 2012-07-19 Az Electronic Materials Ip Ltd ケイ素含有微細パターン形成用組成物
JP2013515142A (ja) * 2009-12-22 2013-05-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 貯蔵安定性硬化性ポリシラザンの調製プロセス、及びそれにより調製されるポリシラザン
JP2013544222A (ja) * 2010-11-17 2013-12-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 銀のエレクトロマイグレーションの低減方法及びそれによって製造される物品
JP2014103351A (ja) * 2012-11-22 2014-06-05 Az Electronic Materials Mfg Co Ltd シリカ質膜の形成方法及び同方法で形成されたシリカ質膜

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06116389A (ja) 1992-10-08 1994-04-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 共重合ポリシラザン
JPH09157594A (ja) 1995-12-07 1997-06-17 Tonen Corp ポリシラザン塗布液
JP3479648B2 (ja) * 2001-12-27 2003-12-15 クラリアント インターナショナル リミテッド ポリシラザン処理溶剤およびこの溶剤を用いるポリシラザンの処理方法
RU2332437C2 (ru) 2002-11-01 2008-08-27 Клариант Интернэшнл Лтд Раствор для нанесения полисилазансодержащего покрытия и его применение
JP2004155834A (ja) * 2002-11-01 2004-06-03 Clariant Internatl Ltd ポリシラザン含有コーティング液
US20150093545A1 (en) * 2013-10-01 2015-04-02 Samsung Sdi Co., Ltd. Composition for a silica based layer, silica based layer, and method of manufacturing a silica based layer
WO2015163360A1 (ja) 2014-04-24 2015-10-29 アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 共重合ポリシラザン、その製造方法およびそれを含む組成物ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法
CN107022269B (zh) * 2017-04-10 2020-04-07 北京易净星科技有限公司 自清洁超硬聚硅氮烷疏水涂料及其制备和使用方法
CN108232154A (zh) * 2017-12-30 2018-06-29 国联汽车动力电池研究院有限责任公司 一种锂离子电池复合正极材料及其制备方法和锂离子电池

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05311121A (ja) * 1992-05-14 1993-11-22 Shin Etsu Chem Co Ltd 皮膜形成剤組成物
JPH09125006A (ja) * 1995-10-30 1997-05-13 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポリシラザン系塗布液及びそれを用いたセラミックス被膜の形成方法
JPH11236533A (ja) * 1998-02-24 1999-08-31 Hitachi Chem Co Ltd シリカ系被膜形成用塗布液及びシリカ系被膜
JPH11250764A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Gunze Ltd 抵抗膜型透明タッチパネル
JP2002105676A (ja) * 2000-07-27 2002-04-10 Contamination Control Service:Kk コーティング膜とそれが施された部材及びコーティング膜の製造方法
JP2002072452A (ja) * 2000-08-31 2002-03-12 Asahi Glass Co Ltd 膜面保護層を有するフォトマスクおよびその製造方法
WO2005014744A1 (ja) * 2003-08-12 2005-02-17 Az Electronic Materials (Japan) K.K. コーティング組成物、およびそれを用いて製造した低誘電多孔質シリカ質材料
JP2010169260A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Arai Seisakusho Co Ltd シール部材
JP2010169261A (ja) * 2008-12-25 2010-08-05 Arai Seisakusho Co Ltd 密封装置
JP2011131650A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Kyosan Denki Co Ltd 樹脂部品および樹脂部品が取り付けられた樹脂製の燃料タンク
JP2013515142A (ja) * 2009-12-22 2013-05-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 貯蔵安定性硬化性ポリシラザンの調製プロセス、及びそれにより調製されるポリシラザン
JP2011162543A (ja) * 2010-01-15 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd トリシリルアミンの製造方法
JP2013544222A (ja) * 2010-11-17 2013-12-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 銀のエレクトロマイグレーションの低減方法及びそれによって製造される物品
JP2012137778A (ja) * 2012-03-19 2012-07-19 Az Electronic Materials Ip Ltd ケイ素含有微細パターン形成用組成物
JP2014103351A (ja) * 2012-11-22 2014-06-05 Az Electronic Materials Mfg Co Ltd シリカ質膜の形成方法及び同方法で形成されたシリカ質膜

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020171887A (ja) * 2019-04-11 2020-10-22 信越化学工業株式会社 ポリシラザン含有組成物
JP7141978B2 (ja) 2019-04-11 2022-09-26 信越化学工業株式会社 ポリシラザン含有組成物

Also Published As

Publication number Publication date
CN110734701A (zh) 2020-01-31
TW202006071A (zh) 2020-02-01
KR20200010077A (ko) 2020-01-30
CN110734701B (zh) 2022-07-12
JP2020012059A (ja) 2020-01-23
US20200024479A1 (en) 2020-01-23
TWI807058B (zh) 2023-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6475388B1 (ja) ポリシラザン含有組成物
JP5160189B2 (ja) 緻密なシリカ質膜を得ることができるポリシラザン化合物含有組成物
JP5966022B2 (ja) エポキシシロキサンコーティング組成物
JP4966493B2 (ja) 有機官能性ポリシロキサン
JP2005529198A (ja) アミノ官能性ポリシロキサンおよびコーティング剤におけるその使用
JP2017508598A (ja) 化学装置における表面のための被覆方法
JPH06299118A (ja) コーティング用組成物及びコーティング方法
JP6571296B2 (ja) 緻密なシリカ質膜形成用組成物
CN111471397B (zh) 透明涂膜形成用组合物
JP7222948B2 (ja) 高硬度皮膜形成用コーティング剤組成物
JP7141978B2 (ja) ポリシラザン含有組成物
JP2022064372A (ja) 電子材料保護用コーティング剤
JP2010180301A (ja) 変性ポリシラザン及びコーティング液
JP2024004092A (ja) 耐擦傷性皮膜形成用コーティング剤組成物、硬化皮膜及び耐擦傷性コーティング皮膜
JP2021172063A (ja) 積層構造熱可塑性樹脂成型物
JP2004025598A (ja) 耐レトルト性に優れたガスバリア用フィルム
JPH11279280A (ja) ケイ素系樹脂組成物および成形物
JPH0465477A (ja) シリカ系被膜形成用組成物およびシリカ系被膜の製造法
JPH0478663B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180718

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20180720

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20180927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181009

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190115

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190131

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6475388

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150