JP6402134B2 - 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法 - Google Patents

水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6402134B2
JP6402134B2 JP2016096107A JP2016096107A JP6402134B2 JP 6402134 B2 JP6402134 B2 JP 6402134B2 JP 2016096107 A JP2016096107 A JP 2016096107A JP 2016096107 A JP2016096107 A JP 2016096107A JP 6402134 B2 JP6402134 B2 JP 6402134B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
water
copper
soluble preflux
acetate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016096107A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017203194A (ja
Inventor
泰貴 小川
泰貴 小川
一貴 中波
一貴 中波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Corp
Original Assignee
Tamura Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tamura Corp filed Critical Tamura Corp
Priority to JP2016096107A priority Critical patent/JP6402134B2/ja
Priority to US15/591,230 priority patent/US10149395B2/en
Priority to TW106115561A priority patent/TWI733803B/zh
Priority to KR1020170058531A priority patent/KR102380459B1/ko
Priority to CN201710334152.9A priority patent/CN107365521B/zh
Publication of JP2017203194A publication Critical patent/JP2017203194A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6402134B2 publication Critical patent/JP6402134B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/08Anti-corrosive paints
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N25/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators, characterised by their forms, or by their non-active ingredients or by their methods of application, e.g. seed treatment or sequential application; Substances for reducing the noxious effect of the active ingredients to organisms other than pests
    • A01N25/02Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators, characterised by their forms, or by their non-active ingredients or by their methods of application, e.g. seed treatment or sequential application; Substances for reducing the noxious effect of the active ingredients to organisms other than pests containing liquids as carriers, diluents or solvents
    • A01N25/04Dispersions, emulsions, suspoemulsions, suspension concentrates or gels
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/501,3-Diazoles; Hydrogenated 1,3-diazoles
    • A01N43/521,3-Diazoles; Hydrogenated 1,3-diazoles condensed with carbocyclic rings, e.g. benzimidazoles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/362Selection of compositions of fluxes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/20Diluents or solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/63Additives non-macromolecular organic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/282Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/06Ethers; Acetals; Ketals; Ortho-esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3445Five-membered rings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/12Using specific substances
    • H05K2203/122Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax, thiol
    • H05K2203/124Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • Pest Control & Pesticides (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

本発明は、水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法に関する。
プリント配線基板は、ソルダーレジスト被膜が形成された状態で流通する場合が多い。このような場合、プリント配線基板の大部分はソルダーレジスト被膜に覆われているが、電子部品を搭載するために電極端子(ランド)には、ソルダーレジスト被膜が存在しない。そのため、プリント配線基板を流通する際や保管する際に、電極端子の表面が酸化されやすい。そこで、プリント配線基板の電極端子には、電極端子の表面の酸化を防止するために、電極端子の表面に金メッキ処理が施される場合がある。しかしながら、金メッキ処理には貴金属を使用するためにコストが高くなるという問題がある。そこで、プリント配線基板においては、金メッキ処理に代えて、水溶性プリフラックスにより電極端子の表面に保護被膜を形成する方法が採用されている(例えば、特許文献1)。
特開平6−322551号公報
特許文献1に記載のような従来の水溶性プリフラックスにおいては、低温(例えば5℃以下)で保存した場合には、水溶性プリフラックス中のイミダゾール系化合物が結晶化してしまうという問題があった。そこで、水溶性プリフラックスには、低温の環境下でも保管可能であること(低温安定性)が求められている。
水溶性プリフラックス中のイミダゾール系化合物は、水に不溶または難溶なため、通常、酢酸などの有機酸を用いて、水に溶解させている。そして、イミダゾール系化合物の種類や有機酸の種類について、低温安定性を含む諸特性の検討がされているが、十分な低温安定性を有する組み合わせは見出されていない。また、水溶性プリフラックスの低温安定性を向上させる方法としては、イミダゾール系化合物を溶解できるアルコール類などの有機溶剤を用いる方法もある。しかし、アルコール類などの有機溶剤を用いて、低温安定性の向上を試みたとしても、電極端子の表面にイミダゾール系化合物の保護被膜を形成しにくくなるという問題が発生する。このように、保護被膜の形成性を維持しつつ、低温安定性を向上させることは非常に困難であった。
そこで、本発明は、優れた低温安定性を有する水溶性プリフラックス、並びに、それを用いた表面処理方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、次の知見を見出した。すなわち、イミダゾール系化合物、有機酸および錯体被膜形成助剤を含有する水溶性プリフラックスに対し、有機溶剤を添加した場合には、通常、低温安定性の向上とともに、保護被膜の形成性が低下する。しかし、特定の条件を満たす有機溶剤を用いた場合には、驚くべきことに、保護被膜の形成性を維持しつつ、低温安定性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の水溶性プリフラックスは、(A)イミダゾール化合物と、(B)有機酸と、(C)錯体被膜形成助剤と、(D)有機溶剤と、(E)水とを含有し、前記(D)有機溶剤は、温度20℃における水への溶解度が10g/100g以上であり、かつ沸点が100℃以上300℃以下であり、前記(A)イミダゾール化合物が、下記一般式(1)で表される化合物であり、前記(C)錯体被膜形成助剤が、ギ酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、シュウ酸銅、酢酸銅、水酸化銅、炭酸銅、リン酸銅、硫酸銅、ギ酸マンガン、塩化マンガン、シュウ酸マンガン、硫酸マンガン、酢酸亜鉛、酢酸鉛、酢酸ニッケル、酢酸バリウム、水素化亜鉛、塩化第一鉄、塩化第二鉄、酸化第一鉄、酸化第二鉄、ヨウ化銅、ヨウ化カリウム、ヨウ化亜鉛、臭化第一銅、臭化第二銅、臭化カリウム、および臭化亜鉛からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とするものである。
本発明の水溶性プリフラックスにおいては、前記(A)イミダゾール化合物が、下記一般式(1)で表される化合物であることが必要である
(下記一般式(1)中、XおよびYは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアルキル基、ハロゲン原子、アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、カルバモイル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基およびニトロ基からなる群から選択される少なくとも一つを表し、nは0〜4の整数を表し、mは0〜10の整数を表し、pは0〜4の整数を表す。)
Figure 0006402134
本発明の水溶性プリフラックスにおいては、前記(D)有機溶剤が、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(メチルプロピレントリグリコール)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルトリグリコール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフルフリルアルコール、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい
発明の表面処理方法は、前記水溶性プリフラックスを用いて、電子基板の電極端子上に保護被膜を形成する工程を備えることを特徴とする方法である。
本発明によれば優れた低温安定性を有する水溶性プリフラックス、並びに、それを用いた表面処理方法を提供できる。
本発明の水溶性プリフラックスは、以下説明する(A)イミダゾール系化合物、(B)有機酸、(C)錯体被膜形成助剤、(D)有機溶剤、および(E)水を含有するものである。
[(A)成分]
本発明に用いる(A)イミダゾール系化合物としては、公知のイミダゾール系化合物を用いることができる。この(A)成分としては、形成される保護被膜の性能の観点から、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。
Figure 0006402134
前記一般式(1)において、XおよびYは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアルキル基、ハロゲン原子、アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、カルバモイル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基およびニトロ基からなる群から選択される少なくとも一つを表し、nは0〜4の整数を表し、mは0〜10の整数を表し、pは0〜4の整数を表す。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、電極端子のはんだぬれ性向上の観点から、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。
前記一般式(1)で表される化合物としては、2−(3−クロロ)ベンジルベンズイミダゾール、2−(3,4−ジクロロ)ベンジルベンズイミダゾール、4−クロロ−2−(3−フェニルプロピル)ベンズイミダゾール、6−クロロ−2−{(2−ニトロフェニル)エチル}ベンズイミダゾール、および6−カルボエトキシ−2−(3−ブロモベンジル)ベンズイミダゾールなどが挙げられる。これらの中でも、電極端子の表面の酸化抑制の観点から、2−(3−クロロ)ベンジルベンズイミダゾール、2−(3,4−ジクロロ)ベンジルベンズイミダゾール、4−クロロ−2−(3−フェニルプロピル)ベンズイミダゾールがより好ましい。また、これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記(A)成分の配合量としては、水溶性プリフラックス100質量%に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。配合量を前記下限以上とすることによって、防錆膜などの塗膜を形成しやすくなる。また、配合量が前記上限を超えると、不溶解分が多くなり易くなる傾向にあり、経済的にも好ましくない。
[(B)成分]
本発明に用いる(B)有機酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、グリコール酸、酒石酸、乳酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ブロモ酢酸、およびメトキシ酢酸などが挙げられる。これらの中でも、ギ酸、酢酸が好ましい。また、これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記(B)成分の配合量としては、水溶性プリフラックス100質量%に対して、1質量%以上40質量%以下であることが好ましく、1質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限未満では、被膜形成イミダゾール系化合物を溶解させにくくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、保護被膜の形成性が低下し易くなる傾向にある。
[(C)成分]
本発明に用いる(C)錯体被膜形成助剤としては、ギ酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、シュウ酸銅、酢酸銅、水酸化銅、炭酸銅、リン酸銅、硫酸銅、ギ酸マンガン、塩化マンガン、シュウ酸マンガン、硫酸マンガン、酢酸亜鉛、酢酸鉛、酢酸ニッケル、酢酸バリウム、水素化亜鉛、塩化第一鉄、塩化第二鉄、酸化第一鉄、酸化第二鉄、ヨウ化銅、ヨウ化カリウム、ヨウ化亜鉛、臭化第一銅、臭化第二銅、臭化カリウム、および臭化亜鉛などの金属化合物が挙げられる。これらの中でも、はんだぬれ性向上や、耐熱性向上の観点から、塩化亜鉛、臭化銅、ヨウ化カリウムが好ましい。また、これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記(C)成分の配合量としては、水溶性プリフラックス100質量%に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。配合量が前記下限未満では、保護被膜の形成性を向上させる効果が不足する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、保護被膜の形成性が過剰となったり、低温での液安定性が低下する傾向にある。
[(D)成分]
本発明に用いる(D)有機溶剤は、温度20℃における水への溶解度が10g/100g以上であり、かつ沸点が100℃以上300℃以下であることが必要である。このような(D)成分を含有することにより、水溶性プリフラックスの低温安定性を向上できる。
また、水溶性プリフラックスの低温安定性の観点から、(D)成分の温度20℃における水への溶解度は、15g/100g以上であることがより好ましく、50g/100g以上であることが特に好ましい。なお、水100gに対して任意の量を混和できる有機溶剤の場合には、この有機溶剤の溶解度を任意混和と表現する。
また、水溶性プリフラックスの低温安定性の観点から、(D)成分の沸点は、120℃以上280℃以下であることがより好ましく、180℃以上260℃以下であることが特に好ましい。なお、本明細書において、沸点とは、1013hPaにおける沸点のことをいう。
前記(D)成分としては、上記の条件を満たすものであれば、グリコールエーテル系溶剤、グリコールエステル系溶剤およびアルコール系溶剤などを用いることができる。これらの中でも、低温安定性の観点から、グリコールエーテル系溶剤が好ましい。
前記(D)成分としては、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:242℃)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:271℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:121℃)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:275℃)、テトラヒドロフルフリルアルコール(溶解度:任意混和、沸点:178℃)、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶解度:18.5g/100g、沸点:146℃)などが挙げられる。これらの中でも、低温安定性および保護被膜の形成性とのバランスの観点から、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。また、これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。なお、括弧内に記載の溶解度は、温度20℃における水への溶解度である。
前記(D)成分の配合量は、水溶性プリフラックス100質量%に対して、0.2質量%以上15質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限未満では、水溶性プリフラックスの低温安定性が不十分となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、保護被膜の形成性が低下する傾向にある。
[(E)成分および他の成分]
本発明に用いる(E)水は、水溶性プリフラックスにおける前記(A)成分、前記(B)成分、前記(C)成分、前記(D)成分、および以下説明する他の成分以外の残部である。
本発明の水溶性プリフラックスに配合できる他の成分としては、前記(C)成分から分離する金属イオンに対する塩基を含有する緩衝液や、ハロゲン化合物などが挙げられる。
前記緩衝液中の塩基としては、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、イソプロピルエタノールアミン、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムなどが挙げられる。
前記ハロゲン化合物としては、臭化プロピオン酸およびヨードプロピオン酸などが挙げられる。これらのハロゲン化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記ハロゲン化合物を用いる場合、その配合量は、水溶性プリフラックス100質量%に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。
[表面処理方法および電子基板]
次に、本発明の表面処理方法および電子基板について説明する。
本発明の表面処理方法は、水溶性プリフラックスを用いて、電子基板の電極端子上に保護被膜を形成する工程を備える方法である。
電子基板としては、プリント配線基板および半導体用基板などが挙げられる。
保護被膜の形成方法としては、例えば、処理対象のプリント配線基板の電極端子の表面を脱脂、化学研磨(ソフトエッチング)、酸洗、水洗する前処理工程を施した後、前記水溶性プリフラックスに、10〜60℃で1秒間〜100分間(好ましくは20〜50℃で、5秒間〜60分間、より好ましくは20〜50℃で、10秒間〜10分間)プリント配線基板を浸漬する方法を採用できる。このようにして前記一般式(1)で表される化合物は電極端子の表面に付着するが、その付着量は処理温度を高く、処理時間を長くする程多くなる。このときに、超音波を利用するとより好ましい。なお、他の塗布手段、例えば噴霧法、刷毛塗り、ローラー塗りなどで保護被膜を形成してもよい。
以上のようにして、本発明の電子基板を製造することができる。すなわち、本発明の電子基板は、前記水溶性プリフラックスにより形成された保護被膜を備えるものである。
次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
イミダゾール系化合物:4−クロロ−2−(3−フェニルプロピル)ベンズイミダゾール
((B)成分)
有機酸A:酢酸
有機酸B:酒石酸
((C)成分)
錯体被膜形成助剤A:塩化亜鉛
錯体被膜形成助剤B:臭化銅
錯体被膜形成助剤C:ヨウ化カリウム
((D)成分)
有機溶剤A:トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:242℃)
有機溶剤B:トリエチレングリコールモノブチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:271℃)
有機溶剤C:プロピレングリコールモノメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:121℃)
有機溶剤D:テトラエチレングリコールジメチルエーテル(溶解度:任意混和、沸点:275℃)
有機溶剤E:テトラヒドロフルフリルアルコール(溶解度:任意混和、沸点:178℃)
有機溶剤F:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶解度:18.5g/100g、沸点:146℃)
((E)成分)
水:純水
(他の成分)
有機溶剤G:フェニルグリコール(溶解度:2.7g/100g、沸点:245℃)
有機溶剤H:ブチルプロピレントリグリコール(溶解度:0.4g/100g、沸点:274℃)
有機溶剤I:ジエチレングリコールジブチルエーテル(溶解度:0.3g/100g、沸点:256℃)
有機溶剤J:エチルアルコール(溶解度:任意混和、沸点:78℃)
有機溶剤K:イソプロピルアルコール(溶解度:任意混和、沸点:82℃)
[実施例1]
水96質量%に対し、イミダゾール系化合物1質量%、有機酸A2質量%、錯体被膜形成助剤A0.5質量%および有機溶剤Aを溶解させて、水溶性プリフラックスを得た。また、得られた水溶性プリフラックスは、緩衝液として25質量%アンモニア水でpH調整し、被膜を形成可能な水溶性プリフラックス処理液とした。
[実施例2〜15]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして水溶性プリフラックスおよび処理液を得た。
[比較例1〜7]
表2に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして水溶性プリフラックスおよび処理液を得た。
<水溶性プリフラックスの評価>
水溶性プリフラックスの性能(被膜厚、低温保管安定性、再溶解性)を以下のような方法で評価または測定した。得られた結果を表1〜表3に示す。
(1)被膜厚
両面銅張積層板(大きさ:25mm×50mm、厚み:1.6mm、基材の種類:FR−4)を脱脂、ソフトエッチングおよび水洗し表面を清浄にした後、水溶性プリフラックス処理液に40℃で2分間浸漬し被膜形成して、水洗、温風乾燥し、試験基板を得た。この試験基板について、表面積25cmの試験基板上の被膜を0.5%塩酸50mLに抽出した後、抽出液中の被膜有効成分に起因する極大吸光度を測定し、換算式から被膜厚(単位:μm)を算出した。
(2)低温保管安定性
密閉可能なガラス瓶(容積:120mL〜150mL)に、水溶性プリフラックス100mLを採取し、密栓して試料を得た。この試料を、温度5℃(誤差2℃以内)に設定された冷蔵保管庫に静置した。その後、24時間毎に試料を取り出し、結晶の有無を目視にて確認した。そして、下記の基準に従って、低温保管安定性を評価した。
◎:240時間経過しても結晶が発生しない。
○:168時間経過しても結晶が発生しないが、240時間以内に結晶が発生する。
△:48時間経過しても結晶が発生しないが、168時間以内に結晶が発生する。
×:48時間以内に結晶が発生する。
(3)再溶解性
密閉可能なガラス瓶(容積:120mL〜150mL)に、水溶性プリフラックス100mLを採取し、密栓して試料を得た。この試料を、温度−15℃(誤差2℃以内)に設定された冷凍保管庫に静置した。その後、水溶性プリフラックスが完全に凝固した後に取り出した(時間の目安は24時間以上48時間以下)。次いで、この試料を、温度40℃の恒温水槽で1時間静置加温した後、マグネチックスターラーにて室温で1時間撹拌し、試料の温度が室温に戻った後の結晶の有無を目視にて確認した。そして、下記の基準に従って、再溶解性を評価した。
○:析出物が完全に溶解する。
×:析出物が残留し、完全に溶解しない。
Figure 0006402134
Figure 0006402134
表1および表2に示す結果からも明らかなように、本発明の水溶性プリフラックス(実施例1〜15)については、被膜厚、低温保管安定性および再溶解性の全てが良好であることが確認された。そのため、本発明によれば、優れた低温安定性を有する水溶性プリフラックスが得られることが確認された。
一方で、(D)成分を含有しない水溶性プリフラックス(比較例1〜6)については、再溶解性が良好なものはなく、また、被膜厚および低温保管安定性の両方が良好となるものはないことが分かった。
本発明の水溶性プリフラックスは、プリント配線基板や半導体用基板などの製造技術として有用である。

Claims (3)

  1. (A)イミダゾール化合物と、(B)有機酸と、(C)錯体被膜形成助剤と、(D)有機溶剤と、(E)水とを含有し、
    前記(D)有機溶剤は、温度20℃における水への溶解度が10g/100g以上であり、かつ沸点が100℃以上300℃以下であり、
    前記(A)イミダゾール化合物が、下記一般式(1)で表される化合物であり、
    前記(C)錯体被膜形成助剤が、ギ酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、シュウ酸銅、酢酸銅、水酸化銅、炭酸銅、リン酸銅、硫酸銅、ギ酸マンガン、塩化マンガン、シュウ酸マンガン、硫酸マンガン、酢酸亜鉛、酢酸鉛、酢酸ニッケル、酢酸バリウム、水素化亜鉛、塩化第一鉄、塩化第二鉄、酸化第一鉄、酸化第二鉄、ヨウ化銅、ヨウ化カリウム、ヨウ化亜鉛、臭化第一銅、臭化第二銅、臭化カリウム、および臭化亜鉛からなる群から選択される少なくとも1種である
    ことを特徴とする水溶性プリフラックス。
    Figure 0006402134
    (一般式(1)中、XおよびYは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアルキル基、ハロゲン原子、アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、カルバモイル基、ホルミル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基およびニトロ基からなる群から選択される少なくとも一つを表し、nは0〜4の整数を表し、mは0〜10の整数を表し、pは0〜4の整数を表す。)
  2. 請求項1に記載の水溶性プリフラックスにおいて、
    前記(D)有機溶剤が、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフルフリルアルコール、および、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選択される少なくとも1種である
    ことを特徴とする水溶性プリフラックス。
  3. 請求項1または請求項2に記載の水溶性プリフラックスを用いて、電子基板の電極端子上に保護被膜を形成する工程を備えることを特徴とする表面処理方法。
JP2016096107A 2016-05-12 2016-05-12 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法 Active JP6402134B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016096107A JP6402134B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法
US15/591,230 US10149395B2 (en) 2016-05-12 2017-05-10 Water-based organic solderability preservative, and electronic board and surface treatment method using the same
TW106115561A TWI733803B (zh) 2016-05-12 2017-05-11 水溶性預焊劑、使用其之電子基板及表面處理方法
KR1020170058531A KR102380459B1 (ko) 2016-05-12 2017-05-11 수용성 프리플럭스, 그것을 사용한 전자기판 및 표면 처리 방법
CN201710334152.9A CN107365521B (zh) 2016-05-12 2017-05-12 水溶性预焊剂、使用其的电子基板及表面处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016096107A JP6402134B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017203194A JP2017203194A (ja) 2017-11-16
JP6402134B2 true JP6402134B2 (ja) 2018-10-10

Family

ID=60296975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016096107A Active JP6402134B2 (ja) 2016-05-12 2016-05-12 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10149395B2 (ja)
JP (1) JP6402134B2 (ja)
KR (1) KR102380459B1 (ja)
CN (1) CN107365521B (ja)
TW (1) TWI733803B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109735838B (zh) * 2019-03-14 2021-06-29 广东省石油与精细化工研究院 一种铜面选择性有机可焊保护剂

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05202492A (ja) * 1991-11-05 1993-08-10 Hideaki Yamaguchi 金属の表面処理方法
TW270944B (ja) * 1993-05-10 1996-02-21 Shikoku Kakoki Co Ltd
JP3277025B2 (ja) 1993-05-10 2002-04-22 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理剤
JP2923596B2 (ja) * 1993-08-11 1999-07-26 メック株式会社 イミダゾール系化合物を用いた銅および銅合金の表面処理剤
JP4920401B2 (ja) * 2006-12-27 2012-04-18 昭和電工株式会社 導電性回路基板の製造方法
US7794531B2 (en) * 2007-01-08 2010-09-14 Enthone Inc. Organic solderability preservative comprising high boiling temperature alcohol
US8541111B2 (en) 2007-05-21 2013-09-24 Sony Corporation Organic electroluminescent device and display apparatus
TW200907107A (en) * 2007-07-20 2009-02-16 Mec Co Ltd Surface treating agent
CN101259572A (zh) * 2008-04-11 2008-09-10 湖南利尔电子材料有限公司 Osp防氧化有机预焊剂
CN102000927B (zh) * 2009-09-03 2012-11-14 浙江省冶金研究院有限公司 一种无铅焊锡膏
CN101697662B (zh) * 2009-10-29 2011-04-27 深圳市唯特偶新材料股份有限公司 一种高抗热性有机保焊剂
CN101758338B (zh) * 2009-12-23 2012-02-29 长沙理工大学 一种有机保焊剂的低温增溶剂及其应用方法
CA2815504C (en) * 2010-10-22 2018-01-02 Agilex Flavor & Fragrances Water-based air freshener compositions, systems, and methods of use thereof
CN103477728B (zh) * 2011-03-30 2016-05-18 富士胶片株式会社 印刷配线基板及其制造方法、印刷配线基板用的金属表面处理液以及集成电路封装基板
CN102350599B (zh) * 2011-08-25 2013-02-13 华南理工大学 无卤素高阻抗水基免清洗助焊剂及其制备方法与应用
JP5985367B2 (ja) * 2012-11-20 2016-09-06 四国化成工業株式会社 銅または銅合金の表面処理方法およびその利用
JP5657761B1 (ja) * 2013-08-30 2015-01-21 株式会社タムラ製作所 半導体用基板の表面処理方法、半導体パッケージの製造方法、およびこれらの方法に用いる水溶性プリフラックス
KR20150085542A (ko) * 2014-01-15 2015-07-24 주식회사 영인플라켐 구리 및 구리합금의 표면에 피막을 형성하는 프리플럭스 조성물
JP2015132009A (ja) * 2014-01-16 2015-07-23 四国化成工業株式会社 金属の表面処理方法およびその利用

Also Published As

Publication number Publication date
CN107365521A (zh) 2017-11-21
KR20170128122A (ko) 2017-11-22
TWI733803B (zh) 2021-07-21
US20170327702A1 (en) 2017-11-16
KR102380459B1 (ko) 2022-03-31
TW201807095A (zh) 2018-03-01
JP2017203194A (ja) 2017-11-16
US10149395B2 (en) 2018-12-04
CN107365521B (zh) 2021-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW591120B (en) Etchant for copper or copper alloys
EP0620293B1 (en) Composition for treating copper or copper alloys
KR100668129B1 (ko) 프리플럭스 조성물
JPH04501138A (ja) 銅表面からスズ、鉛またはスズ―鉛合金を剥離するための抑制剤含有組成物および方法
JP5219304B2 (ja) エッチング剤及びこれを用いたエッチング方法
JP4694251B2 (ja) 無鉛半田付け用の銅または銅合金の表面処理剤及びその利用
JP2007000928A (ja) 水溶性プレフラックス及びその利用
JP6062418B2 (ja) エッチング液組成物及びエッチング方法
KR20150085542A (ko) 구리 및 구리합금의 표면에 피막을 형성하는 프리플럭스 조성물
JP6078394B2 (ja) エッチング液組成物及びエッチング方法
EP1753728A1 (en) Phenylnaphthylimidazoles for use on copper surfaces during soldering
JP6402134B2 (ja) 水溶性プリフラックス、それを用いた表面処理方法
JP2005226082A (ja) 金属の表面処理剤、プリント回路基板およびプリント回路基板の金属の表面処理方法
US5219484A (en) Solder and tin stripper compositions
KR102217484B1 (ko) 반도체용 기판의 표면 처리 방법, 반도체 패키지의 제조 방법, 및 이들의 방법에 사용하는 수용성 프리플럭스
JPH02217431A (ja) 銅素地から錫、鉛、または錫・鉛合金析出物を剥離する方法と剥離用組成物
KR20100038034A (ko) 신규 이미다졸 화합물, 표면 처리제, 프린트 회로 기판 및 그 제조 방법
JP2009046761A (ja) 表面処理剤
JP5301218B2 (ja) 銅または銅合金の表面処理剤及びその利用
JP5985368B2 (ja) 銅または銅合金の表面処理液及びその利用
JP7377323B2 (ja) 水溶性プリフラックス、および表面処理方法
KR20230046212A (ko) 수용성 프리플럭스, 및 표면 처리 방법
JP2913410B2 (ja) 銅又は銅合金の表面処理剤
JP2022145633A (ja) 水溶性プリフラックス、および表面処理方法
JPH1072682A (ja) 錫および錫合金の剥離液

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180710

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180808

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180828

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180910

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6402134

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150