JP6390819B2 - 弾性波装置及びその製造方法 - Google Patents
弾性波装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6390819B2 JP6390819B2 JP2018514158A JP2018514158A JP6390819B2 JP 6390819 B2 JP6390819 B2 JP 6390819B2 JP 2018514158 A JP2018514158 A JP 2018514158A JP 2018514158 A JP2018514158 A JP 2018514158A JP 6390819 B2 JP6390819 B2 JP 6390819B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric film
- idt
- thickness
- density
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14538—Formation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6423—Means for obtaining a particular transfer characteristic
- H03H9/6433—Coupled resonator filters
- H03H9/6436—Coupled resonator filters having one acoustic track only
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6423—Means for obtaining a particular transfer characteristic
- H03H9/6433—Coupled resonator filters
- H03H9/6483—Ladder SAW filters
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6489—Compensation of undesirable effects
Description
2…圧電基板
3A〜3C…第1〜第3の弾性波フィルタ
4A〜4C…第1〜第3のIDT電極
5…誘電体膜
5X…第1の誘電体膜
6…入力端子
7…出力端子
8…縦結合共振子型弾性波フィルタ
9…レジスト層
15X,15Y…第1,第2の誘電体膜
19…レジスト層
103A…第1の弾性波フィルタ
105…誘電体膜
S1,P1…共振子
Claims (12)
- 圧電基板と、
前記圧電基板上に設けられている第1〜第3のIDT電極と、
前記第1〜第3のIDT電極を覆うように前記圧電基板上に設けられており、かつ前記第1のIDT電極を覆っている領域の厚みと、前記第2及び第3のIDT電極を覆っている領域の厚みとが異なる誘電体膜と、
を備え、
前記第1〜第3のIDT電極及び前記誘電体膜を含む第1〜第3の弾性波素子が構成されており、
前記第1〜第3のIDT電極をそれぞれ構成している材料の密度を全て同じ密度として換算した厚みを密度換算厚みとしたときに、前記第1,第2のIDT電極の前記密度換算厚みが等しく、前記第3のIDT電極の前記密度換算厚みは前記第1,第2のIDT電極の前記密度換算厚みと異なる、弾性波装置。 - 前記第1〜第3のIDT電極は互いに電極指ピッチが異なる、請求項1に記載の弾性波装置。
- 前記誘電体膜の密度換算厚みを、前記誘電体膜及び前記第1〜第3のIDT電極をそれぞれ構成している材料の密度を全て同じ密度として換算した厚みとしたときに、前記第1のIDT電極上に位置している前記誘電体膜の前記密度換算厚み及び前記第1のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第1のIDT電極の電極指ピッチに対する比と、前記第2のIDT電極上に位置している前記誘電体膜の前記密度換算厚み及び前記第2のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第2のIDT電極の電極指ピッチに対する比と、前記第3のIDT電極上に位置している前記誘電体膜の前記密度換算厚み及び前記第3のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第3のIDT電極の電極指ピッチに対する比とが互いに異なる、請求項1または2に記載の弾性波装置。
- 前記第1〜第3の弾性波素子が第1〜第3の弾性波フィルタである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記第1,第2のIDT電極を構成している材料と、前記第3のIDT電極を構成している材料とが異なる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 圧電基板を用意する工程と、
前記圧電基板上に、第1,第2のIDT電極を設ける工程と、
前記圧電基板上に、第3のIDT電極を設ける工程と、
前記圧電基板上に、前記第1〜第3のIDT電極を覆うように、かつ前記第1のIDT電極を覆う領域の厚みと、前記第2及び第3のIDT電極を覆う領域の厚みとが異なるように、誘電体膜を設ける工程と、
を備え、
前記第1〜第3のIDT電極及び前記誘電体膜を含む第1〜第3の弾性波素子を構成し、
前記第1〜第3のIDT電極を設ける工程において、前記第1〜第3のIDT電極をそれぞれ構成している材料の密度を全て同じ密度として換算した厚みを密度換算厚みとしたときに、前記第1,第2のIDT電極の前記密度換算厚みを等しくし、前記第3のIDT電極の前記密度換算厚みを前記第1,第2のIDT電極の前記密度換算厚みと異ならせる、弾性波装置の製造方法。 - 前記第1〜第3のIDT電極を設ける工程において、前記第1〜第3のIDT電極の電極指ピッチを互いに異ならせる、請求項6に記載の弾性波装置の製造方法。
- 前記誘電体膜を設ける工程において、前記第1〜第3のIDT電極を覆うように、前記誘電体膜と同じ誘電体からなる第1の誘電体膜を設けた後に、前記第1の誘電体膜上における、前記第1の誘電体膜が前記第1のIDT電極を覆っている領域にレジスト層を積層し、前記第1の誘電体膜をエッチングする、請求項6または7に記載の弾性波装置の製造方法。
- 前記誘電体膜を設ける工程において、前記第1〜第3のIDT電極を覆うように、前記誘電体膜と同じ誘電体からなる第1の誘電体膜を設けた後に、前記第1の誘電体膜上における、前記第1の誘電体膜が前記第2,第3のIDT電極を覆っている領域にレジスト層を積層し、前記第1の誘電体膜上に、前記第1の誘電体膜と同じ誘電体からなる第2の誘電体膜をさらに形成した後に前記レジスト層を剥離する、請求項6または7に記載の弾性波装置の製造方法。
- 前記誘電体膜の密度換算厚みを、前記誘電体膜及び前記第1〜第3のIDT電極をそれぞれ構成している材料の密度を全て同じ密度として換算した厚みとしたときに、前記第1〜第3のIDT電極を設ける工程及び前記誘電体膜を設ける工程において、前記第1のIDT電極上に位置している前記誘電体膜の前記密度換算厚み及び前記第1のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第1のIDT電極の電極指ピッチに対する比と、前記第2のIDT電極上に位置している前記誘電体膜及び前記第2のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第2のIDT電極の電極指ピッチに対する比と、前記第3のIDT電極上に位置している前記誘電体膜の前記密度換算厚み及び前記第3のIDT電極の前記密度換算厚みの合計の前記第3のIDT電極の電極指ピッチに対する比とを互いに異ならせる、請求項6〜9のいずれか1項に記載の弾性波装置の製造方法。
- 前記第1〜第3の弾性波素子が第1〜第3の弾性波フィルタである、請求項6〜10のいずれか1項に記載の弾性波装置の製造方法。
- 前記第1,第2のIDT電極を構成している材料と、前記第3のIDT電極を構成している材料とが異なる、請求項6〜11のいずれか1項に記載の弾性波装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016086907 | 2016-04-25 | ||
JP2016086907 | 2016-04-25 | ||
PCT/JP2017/007829 WO2017187768A1 (ja) | 2016-04-25 | 2017-02-28 | 弾性波装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017187768A1 JPWO2017187768A1 (ja) | 2018-09-13 |
JP6390819B2 true JP6390819B2 (ja) | 2018-09-19 |
Family
ID=60160286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018514158A Active JP6390819B2 (ja) | 2016-04-25 | 2017-02-28 | 弾性波装置及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10270421B2 (ja) |
JP (1) | JP6390819B2 (ja) |
CN (1) | CN109075764B (ja) |
WO (1) | WO2017187768A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016117483A1 (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置の製造方法、および弾性波装置 |
JP6788024B2 (ja) * | 2016-10-11 | 2020-11-18 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置 |
CN110601677A (zh) * | 2018-06-13 | 2019-12-20 | 天工方案公司 | 铌酸锂滤波器中添加高速层的杂散剪切水平模式频率控制 |
US11349450B2 (en) * | 2018-06-15 | 2022-05-31 | Resonant Inc. | Symmetric transversely-excited film bulk acoustic resonators with reduced spurious modes |
US11658639B2 (en) | 2020-10-05 | 2023-05-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with noncontiguous passband |
US11728784B2 (en) | 2020-10-05 | 2023-08-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with split die sub-filters |
US11476834B2 (en) | 2020-10-05 | 2022-10-18 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with switches in parallel with sub-filter shunt capacitors |
KR20240007679A (ko) * | 2021-06-22 | 2024-01-16 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 탄성파 장치 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100644470B1 (ko) * | 1997-07-28 | 2006-11-13 | 가부시끼가이샤 도시바 | 탄성표면파 필터 및 그의 제조방법 |
JP4063414B2 (ja) * | 1998-08-25 | 2008-03-19 | 沖電気工業株式会社 | 弾性表面波フィルタ |
JP2000196409A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Kyocera Corp | 弾性表面波フィルタ |
JP3317274B2 (ja) | 1999-05-26 | 2002-08-26 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置及び弾性表面波装置の製造方法 |
JP2002232264A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-08-16 | Kyocera Corp | 弾性表面波フィルタ |
KR20050079691A (ko) * | 2004-02-06 | 2005-08-11 | 삼성전기주식회사 | 표면 탄성파 소자의 제조방법 |
US7327205B2 (en) * | 2004-03-12 | 2008-02-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Demultiplexer and surface acoustic wave filter |
DE102004037819B4 (de) * | 2004-08-04 | 2021-12-16 | Snaptrack, Inc. | Elektroakustisches Bauelement mit geringen Verlusten |
JP4917396B2 (ja) * | 2006-09-25 | 2012-04-18 | 太陽誘電株式会社 | フィルタおよび分波器 |
CN104734662B (zh) * | 2009-04-22 | 2017-09-22 | 天工滤波方案日本有限公司 | 弹性波元件和使用它的电子设备 |
JP5565474B2 (ja) * | 2010-12-29 | 2014-08-06 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
JP5672050B2 (ja) * | 2011-02-21 | 2015-02-18 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波フィルタ装置 |
DE102013100286B3 (de) * | 2013-01-11 | 2014-06-05 | Epcos Ag | Breitbandiges Filter in Abzweigtechnik |
CN105247785B (zh) * | 2013-05-27 | 2018-01-26 | 株式会社村田制作所 | 声表面波装置 |
WO2016027707A1 (ja) * | 2014-08-22 | 2016-02-25 | 株式会社村田製作所 | ラダー型フィルタ |
-
2017
- 2017-02-28 JP JP2018514158A patent/JP6390819B2/ja active Active
- 2017-02-28 WO PCT/JP2017/007829 patent/WO2017187768A1/ja active Application Filing
- 2017-02-28 CN CN201780025581.6A patent/CN109075764B/zh active Active
-
2018
- 2018-10-04 US US16/151,367 patent/US10270421B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10270421B2 (en) | 2019-04-23 |
CN109075764A (zh) | 2018-12-21 |
WO2017187768A1 (ja) | 2017-11-02 |
JPWO2017187768A1 (ja) | 2018-09-13 |
CN109075764B (zh) | 2019-06-18 |
US20190044498A1 (en) | 2019-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6390819B2 (ja) | 弾性波装置及びその製造方法 | |
JP5041063B2 (ja) | 帯域阻止フィルタ | |
JP5766457B2 (ja) | 弾性波デバイス及びその製造方法 | |
JP5392353B2 (ja) | 弾性表面波装置 | |
JP5461817B2 (ja) | ラム波共振器 | |
KR101686689B1 (ko) | 경사 에지를 포함한 리액턴스 필터 | |
JP5942740B2 (ja) | ラダー型フィルタ及び分波器 | |
JP4760908B2 (ja) | 弾性表面波装置 | |
JP6380558B2 (ja) | 弾性波装置 | |
KR100954688B1 (ko) | 탄성파 장치 및 그 제조방법 | |
JP2013038471A (ja) | 弾性波フィルタ | |
JP6493630B2 (ja) | 弾性波装置及びその製造方法 | |
JPWO2007119556A1 (ja) | 圧電共振子及び圧電フィルタ | |
JP2016136687A (ja) | ラダー型フィルタ | |
CN102484467B (zh) | 弹性波元件、和其使用的双工器及电子设备 | |
JPWO2010131450A1 (ja) | アンテナ共用器 | |
JP2010278830A (ja) | ラダー型フィルタ及びその製造方法並びにデュプレクサ | |
WO2013172287A1 (ja) | 弾性波装置 | |
JP5275153B2 (ja) | 弾性波デバイスの製造方法 | |
WO2010101166A1 (ja) | 弾性表面波素子とその製造方法 | |
JP5891049B2 (ja) | アンテナ共用器とその製造方法 | |
JP5273247B2 (ja) | ラダー型フィルタ | |
KR100839789B1 (ko) | 탄성 표면파 장치 | |
JP7421541B2 (ja) | フィルタおよびマルチフィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180622 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180622 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180709 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180724 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180806 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6390819 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |