JP2000196409A - 弾性表面波フィルタ - Google Patents
弾性表面波フィルタInfo
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- JP2000196409A JP2000196409A JP37173398A JP37173398A JP2000196409A JP 2000196409 A JP2000196409 A JP 2000196409A JP 37173398 A JP37173398 A JP 37173398A JP 37173398 A JP37173398 A JP 37173398A JP 2000196409 A JP2000196409 A JP 2000196409A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 肩特性が急峻で、通過帯域内が平坦な周波数
特性を実現でき、基板の焦電性によるIDT電極スパー
ク不良が低減される弾性表面波フィルタを提供するこ
と。 【解決手段】 圧電基板S上に保護膜1で被覆したID
T電極から成る共振子2の複数をラダー型回路に接続し
て成る弾性表面波フィルタであって、各共振子2上の保
護膜1の材質および/又は保護膜の厚みを2種類以上に
異ならせた弾性表面波フィルタとする。
特性を実現でき、基板の焦電性によるIDT電極スパー
ク不良が低減される弾性表面波フィルタを提供するこ
と。 【解決手段】 圧電基板S上に保護膜1で被覆したID
T電極から成る共振子2の複数をラダー型回路に接続し
て成る弾性表面波フィルタであって、各共振子2上の保
護膜1の材質および/又は保護膜の厚みを2種類以上に
異ならせた弾性表面波フィルタとする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話等の移動
体通信機器に用いられる弾性表面波フィルタであって、
複数の弾性表面波共振子を梯子型(ラダー型)に配設し
た構造の弾性表面波フィルタに関する。
体通信機器に用いられる弾性表面波フィルタであって、
複数の弾性表面波共振子を梯子型(ラダー型)に配設し
た構造の弾性表面波フィルタに関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】近年、電波を利用する電子
機器のフィルタ,遅延線,発信機等の素子として多くの
弾性表面波素子が用いられている。特に小型・軽量でか
つフィルタとしての急峻遮断性能が高い弾性表面波フィ
ルタは、移動体通信分野において、携帯端末装置のRF
段及びIF段のフィルタとして多用されるようになって
来ており、低損失かつ通過帯域外の遮断特性が優れた様
々の比帯域幅を有する弾性表面波フィルタが要求されて
いる。
機器のフィルタ,遅延線,発信機等の素子として多くの
弾性表面波素子が用いられている。特に小型・軽量でか
つフィルタとしての急峻遮断性能が高い弾性表面波フィ
ルタは、移動体通信分野において、携帯端末装置のRF
段及びIF段のフィルタとして多用されるようになって
来ており、低損失かつ通過帯域外の遮断特性が優れた様
々の比帯域幅を有する弾性表面波フィルタが要求されて
いる。
【0003】現在、実用化されている弾性表面波フィル
タには、電極構成の観点から、梯子型(ラダー型),ト
ランスバーサル型,縦モード結合共振器型等種々のもの
が実用化されているが、中でもラダー型表面弾性波フィ
ルタは低損失でかつ良好な通過帯域近傍の遮断特性を有
し、高周波化による電極微細化に伴う耐電力面での信頼
性も高く、非常に有望視されている弾性表面波フィルタ
である。
タには、電極構成の観点から、梯子型(ラダー型),ト
ランスバーサル型,縦モード結合共振器型等種々のもの
が実用化されているが、中でもラダー型表面弾性波フィ
ルタは低損失でかつ良好な通過帯域近傍の遮断特性を有
し、高周波化による電極微細化に伴う耐電力面での信頼
性も高く、非常に有望視されている弾性表面波フィルタ
である。
【0004】近年、携帯電話システムにおいて、通信チ
ャンネルの拡大が望まれており、このため、通過帯域
幅が大きいこと、受信・送信帯域での高い減衰傾度
(肩特性)を有すること、の2点を備えた弾性表面波フ
ィルタが望まれている。
ャンネルの拡大が望まれており、このため、通過帯域
幅が大きいこと、受信・送信帯域での高い減衰傾度
(肩特性)を有すること、の2点を備えた弾性表面波フ
ィルタが望まれている。
【0005】まず、通過帯域幅を決定するのは、フィル
タを構成する弾性表面波共振子のΔf(共振周波数と反
共振周波数の差)であり、これは電気機械結合係数k2
と電極膜厚によって変化する。
タを構成する弾性表面波共振子のΔf(共振周波数と反
共振周波数の差)であり、これは電気機械結合係数k2
と電極膜厚によって変化する。
【0006】次に、弾性表面波フィルタの肩特性を決め
るのは、ラダー型フィルタを構成する弾性表面波共振子
のQであるが、これは圧電基板の電気機械結合係数k2
に反比例し、電極膜厚によっても若干変化する。所望の
フィルタを得るためには、適切な電気機械結合係数を有
する圧電基板・及び電極膜厚を選択して設計する必要が
ある。
るのは、ラダー型フィルタを構成する弾性表面波共振子
のQであるが、これは圧電基板の電気機械結合係数k2
に反比例し、電極膜厚によっても若干変化する。所望の
フィルタを得るためには、適切な電気機械結合係数を有
する圧電基板・及び電極膜厚を選択して設計する必要が
ある。
【0007】しかしながら、このような帯域幅が広く肩
特性が優れたフィルタを設計する場合は、一般的なk2
を持った圧電基板や電極膜厚の組み合わせだけでは困難
となっている。
特性が優れたフィルタを設計する場合は、一般的なk2
を持った圧電基板や電極膜厚の組み合わせだけでは困難
となっている。
【0008】そこで、本発明は、任意の帯域幅を有し、
かつ急峻な肩特性を有するラダー型弾性表面波フィルタ
の電極構成を提供することを目的とする。
かつ急峻な肩特性を有するラダー型弾性表面波フィルタ
の電極構成を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の弾性表
面波装置は、圧電基板上に保護膜で被覆したIDT電極
から成る共振子の複数をラダー型回路に接続して成る弾
性表面波フィルタであって、各共振子上の保護膜の材質
を2種類以上および/又は保護膜の厚みを2箇所以上に
異ならせたことを特徴とする。
面波装置は、圧電基板上に保護膜で被覆したIDT電極
から成る共振子の複数をラダー型回路に接続して成る弾
性表面波フィルタであって、各共振子上の保護膜の材質
を2種類以上および/又は保護膜の厚みを2箇所以上に
異ならせたことを特徴とする。
【0010】さらに、圧電基板を伝搬させる弾性表面波
の波長λで規格化した保護膜の厚みが、下記直線の式
(A)〜(E)で囲まれた領域の値を満足することを特
徴とする。
の波長λで規格化した保護膜の厚みが、下記直線の式
(A)〜(E)で囲まれた領域の値を満足することを特
徴とする。
【0011】 Hp=−Hs+0.022 ・・・ (A) Hp=0.07 ・・・ (B) Hp=3Hs−0.09 ・・・ (C) Hp=−0.2Hs+0.027 ・・・ (D) Hs=0.008 ・・・ (E) (ただし、Hs:ラダー型回路における直列共振子上の
保護膜の平均厚み〔λ〕、Hp:ラダー型回路における
並列共振子上の保護膜の平均厚み〔λ〕) また、保護膜が珪素,酸化珪素,窒化珪素,窒化チタ
ン,炭化珪素,アルミナのうちの1種類以上から成るこ
とを特徴とする。
保護膜の平均厚み〔λ〕、Hp:ラダー型回路における
並列共振子上の保護膜の平均厚み〔λ〕) また、保護膜が珪素,酸化珪素,窒化珪素,窒化チタ
ン,炭化珪素,アルミナのうちの1種類以上から成るこ
とを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る弾性表面波フ
ィルタの実施形態について図面に基づき詳細に説明す
る。
ィルタの実施形態について図面に基づき詳細に説明す
る。
【0013】図1に本発明の弾性表面波フィルタの平面
構造を、図2に従来構造を示す。従来、圧電基板S上に
反射器及び励振電極(IDT電極)から成る弾性表面波
共振子(以下、共振子ともいう)2の複数をラダー型回
路に接続しているが、共振子2上に形成する保護膜1を
すべて同じ膜厚にしていた。
構造を、図2に従来構造を示す。従来、圧電基板S上に
反射器及び励振電極(IDT電極)から成る弾性表面波
共振子(以下、共振子ともいう)2の複数をラダー型回
路に接続しているが、共振子2上に形成する保護膜1を
すべて同じ膜厚にしていた。
【0014】本発明では、各弾性表面波共振子どうしの
保護膜1を分離し、2箇所以上の領域で膜厚を異なるよ
うにしてもよいし、保護膜1の種類を2種類以上に異な
らせる構成としてもよい。
保護膜1を分離し、2箇所以上の領域で膜厚を異なるよ
うにしてもよいし、保護膜1の種類を2種類以上に異な
らせる構成としてもよい。
【0015】通常、弾性表面波共振子上に保護膜1を装
荷した場合、基板Sとの音速差から、弾性表面波共振子
の共振周波数が低下することが知られている。このた
め、Δf=fa−fr(fr:共振周波数、fa:反共
振周波数)は装荷前よりも小さくなる。
荷した場合、基板Sとの音速差から、弾性表面波共振子
の共振周波数が低下することが知られている。このた
め、Δf=fa−fr(fr:共振周波数、fa:反共
振周波数)は装荷前よりも小さくなる。
【0016】図7に示す従来特性5はΔfの減少により
特性4のようになる。このため従来は、保護膜1の厚み
が薄い場合Δfが大きすぎるために、図3に示すように
通過帯域幅は大きく肩特性の劣化した特性になり、逆
に、図4に示すように保護膜1の厚みが厚い場合Δfが
小さすぎるため、肩特性は急峻ではあるが、通過帯域内
にリップルが発生したり、あるいは通過帯域幅が小さす
ぎることがあった。
特性4のようになる。このため従来は、保護膜1の厚み
が薄い場合Δfが大きすぎるために、図3に示すように
通過帯域幅は大きく肩特性の劣化した特性になり、逆
に、図4に示すように保護膜1の厚みが厚い場合Δfが
小さすぎるため、肩特性は急峻ではあるが、通過帯域内
にリップルが発生したり、あるいは通過帯域幅が小さす
ぎることがあった。
【0017】そこで、本発明は、従来問題であった肩特
性のなまりを、急峻な肩特性を有する良好な特性を持た
せるために、各共振子2でΔfを違わせる様、各共振子
2で保護膜2の膜厚を制御することにした。
性のなまりを、急峻な肩特性を有する良好な特性を持た
せるために、各共振子2でΔfを違わせる様、各共振子
2で保護膜2の膜厚を制御することにした。
【0018】このようにして、Δfの大きな共振子と小
さな共振子を混在させ、ラダー型弾性表面波フィルタを
構成すれば、図5に示すように肩特性が急峻で、通過帯
域内の平坦な周波数特性を実現できる。これは、基板方
位や電極膜厚を変えることでは、事実上不可能な効果で
ある。
さな共振子を混在させ、ラダー型弾性表面波フィルタを
構成すれば、図5に示すように肩特性が急峻で、通過帯
域内の平坦な周波数特性を実現できる。これは、基板方
位や電極膜厚を変えることでは、事実上不可能な効果で
ある。
【0019】なお、保護膜1の膜厚の組み合わせは、各
段の共振子保護膜膜厚の平均が異なり、上記の範囲内で
あれば良く、特に各段での絶対値を制限するものではな
い。
段の共振子保護膜膜厚の平均が異なり、上記の範囲内で
あれば良く、特に各段での絶対値を制限するものではな
い。
【0020】図9〜11に各共振子に装荷する保護膜の
最適範囲を示した。
最適範囲を示した。
【0021】すなわち、ラダー型回路がIDT電極をπ
型接続させた場合、図9に示すように、圧電基板を伝搬
させる弾性表面波の波長λで規格化した保護膜の平均厚
みが、下記直線の式(F)〜(J)で囲まれた領域の値
を満足する領域で好適な特性を有する。
型接続させた場合、図9に示すように、圧電基板を伝搬
させる弾性表面波の波長λで規格化した保護膜の平均厚
みが、下記直線の式(F)〜(J)で囲まれた領域の値
を満足する領域で好適な特性を有する。
【0022】 Hp=−Hs+0.027 ・・・ (F) Hp=0.07 ・・・ (G) Hp=3Hs−0.09 ・・・ (H) Hp=−0.2Hs+0.027 ・・・ (I) Hs=0.008 ・・・ (J) (ただし、Hs:ラダー型回路における直列共振子上の
保護膜の平均厚み〔λ〕、Hp:ラダー型回路における
並列共振子上の保護膜の平均厚み〔λ〕) また、ラダー型回路がIDT電極をT接続させた場合
は、図10に示すように、下記直線の式(K)〜(O)
で囲まれた領域の値を満足する領域で好適な特性を有す
る。
保護膜の平均厚み〔λ〕、Hp:ラダー型回路における
並列共振子上の保護膜の平均厚み〔λ〕) また、ラダー型回路がIDT電極をT接続させた場合
は、図10に示すように、下記直線の式(K)〜(O)
で囲まれた領域の値を満足する領域で好適な特性を有す
る。
【0023】 Hp=−Hs+0.022 ・・・ (K) Hp=0.07 ・・・ (L) Hp=0.027 ・・・ (M) Hp=−0.17Hs+0.027 ・・・ (N) Hs=0.008 ・・・ (O) また、ラダー型回路がIDT電極を偶数段接続させた場
合は、図11に示すように、下記直線の式(P)〜
(T)で囲まれた領域の値を満足する領域で好適な特性
を有する。
合は、図11に示すように、下記直線の式(P)〜
(T)で囲まれた領域の値を満足する領域で好適な特性
を有する。
【0024】 Hp=−Hs+0.022 ・・・ (P) Hp=0.07 ・・・ (Q) Hp=3Hs−0.09 ・・・ (R) Hp=−0.2Hs+0.027 ・・・ (S) Hs=0.008 ・・・ (T) これらを総合すると、好適な条件は、上述した(A)〜
(E)式の範囲となる。
(E)式の範囲となる。
【0025】ここで、ターゲットとなる目標仕様は、通
過帯域のすぐ両側に減衰が必要なものを選んだ。ここ
で、波長で規格化した周波数マージンは9〜11(MH
z/μm)、波長λ=2μmで、通過帯域では|S21
|>−3dB、通過帯域近傍の減衰量<−20dBとし
た。このようにすれば、直列共振子と並列共振子の構成
数が異なるので、π型接続,T型接続で違いが出るが、
図示のエリア(○印)で減衰特性およびVSWR特性の
両方で良好な特性を有する。なお、△印は減衰特性もし
くはVSWR特性のどちらか片方で良好な特性を有す
る。
過帯域のすぐ両側に減衰が必要なものを選んだ。ここ
で、波長で規格化した周波数マージンは9〜11(MH
z/μm)、波長λ=2μmで、通過帯域では|S21
|>−3dB、通過帯域近傍の減衰量<−20dBとし
た。このようにすれば、直列共振子と並列共振子の構成
数が異なるので、π型接続,T型接続で違いが出るが、
図示のエリア(○印)で減衰特性およびVSWR特性の
両方で良好な特性を有する。なお、△印は減衰特性もし
くはVSWR特性のどちらか片方で良好な特性を有す
る。
【0026】また、本発明構造のラダー型弾性表面波フ
ィルタでは、各弾性表面波共振子間で別個の保護膜作製
をするために、保護膜どうしは分離して配置する。この
ため、各弾性表面波共振子どうしを接続する配線パター
ンがむき出しになり、外気との接触が多くなるため、イ
オンチャージを緩和させ、LT基板の焦電性によるID
T電極スパーク不良が低減されるという効果がある。
ィルタでは、各弾性表面波共振子間で別個の保護膜作製
をするために、保護膜どうしは分離して配置する。この
ため、各弾性表面波共振子どうしを接続する配線パター
ンがむき出しになり、外気との接触が多くなるため、イ
オンチャージを緩和させ、LT基板の焦電性によるID
T電極スパーク不良が低減されるという効果がある。
【0027】
【実施例】次に、本発明に係るラダー型弾性表面波フィ
ルタを試作した実施例を説明する。42°YカットLi
TaO3 単結晶基板上に、Al−Cu(2wt.%)合
金の材料による微細電極パターンを形成した。パターン
作製には、縮小投影露光機(ステッパー)、およびRI
E(Reactive Ion Etching)装置
によりフォトリソグラフィを行なった。
ルタを試作した実施例を説明する。42°YカットLi
TaO3 単結晶基板上に、Al−Cu(2wt.%)合
金の材料による微細電極パターンを形成した。パターン
作製には、縮小投影露光機(ステッパー)、およびRI
E(Reactive Ion Etching)装置
によりフォトリソグラフィを行なった。
【0028】まず、基板材料をアセトン・IPA等によ
って超音波洗浄し、有機成分を落とした。次にクリーン
オーブンによって充分に基板乾燥を行なった後、電極の
成膜を行なった。電極成膜には、スパッタリング装置を
使用し、Al−Cu(2wt%)合金を成膜した。電極
膜厚は約2000Åとした。
って超音波洗浄し、有機成分を落とした。次にクリーン
オーブンによって充分に基板乾燥を行なった後、電極の
成膜を行なった。電極成膜には、スパッタリング装置を
使用し、Al−Cu(2wt%)合金を成膜した。電極
膜厚は約2000Åとした。
【0029】次に、レジストを約0.5μm厚みにスピ
ンコートし、縮小投影露光装置(ステッパー)により、
所望のパターニングを行なった。ステッパーには、パタ
ーニングの原版となるレチクル(コンタクトアライナー
のためのフォトマスクのようなもの)が必要であるが、
これは、ステッパー自身の光学系にて像を1/5に縮小
投影するため、実際のパターンの5倍のサイズで設計し
た。このため、逆に従来のコンタクトアライナーに比べ
ると、5倍の解像度が得られた。
ンコートし、縮小投影露光装置(ステッパー)により、
所望のパターニングを行なった。ステッパーには、パタ
ーニングの原版となるレチクル(コンタクトアライナー
のためのフォトマスクのようなもの)が必要であるが、
これは、ステッパー自身の光学系にて像を1/5に縮小
投影するため、実際のパターンの5倍のサイズで設計し
た。このため、逆に従来のコンタクトアライナーに比べ
ると、5倍の解像度が得られた。
【0030】次に、現像装置にて不要部分のレジストを
アルカリ現像液で溶解させ、所望パターンを表出した
後、RIE装置により、Al−Cuのエッチングを行な
い、電極のパターンニングを終了した。
アルカリ現像液で溶解させ、所望パターンを表出した
後、RIE装置により、Al−Cuのエッチングを行な
い、電極のパターンニングを終了した。
【0031】この後、保護膜を作製する。SiO2 をス
パッタリング装置にて成膜し、その後、フォトリソグラ
フィによってレジストのパターニングを行ない、RIE
装置等でワイヤーボンディング用窓開け部のエッチング
を行ない、保護膜パターンを完成した。
パッタリング装置にて成膜し、その後、フォトリソグラ
フィによってレジストのパターニングを行ない、RIE
装置等でワイヤーボンディング用窓開け部のエッチング
を行ない、保護膜パターンを完成した。
【0032】次に、基板をダイシングラインに沿って、
ダイシングしチップごとに分割した。そして、各チップ
をダイボンダーにかけ、ピックアップし、Si樹脂を主
成分とするダイボンド樹脂でSMDパッケージキャビテ
ィ内に接着した。この後、約160℃の温度をかけ、乾
燥・硬化した。SMDパッケージは3mm角の積層構造
である。次に、30μφAuワイヤーをSMDパッケー
ジのパッド部とチップ上のAl−Cuのパッド上にボー
ルボンディングした後、リッドをパッケージにかぶせ、
シームシーラーにてシーリングして完成した。なお、チ
ップ上のグランドは各々分離して配線し、Auボールボ
ンディングにてパッケージ上のグランドパッドにボンデ
ィングした。
ダイシングしチップごとに分割した。そして、各チップ
をダイボンダーにかけ、ピックアップし、Si樹脂を主
成分とするダイボンド樹脂でSMDパッケージキャビテ
ィ内に接着した。この後、約160℃の温度をかけ、乾
燥・硬化した。SMDパッケージは3mm角の積層構造
である。次に、30μφAuワイヤーをSMDパッケー
ジのパッド部とチップ上のAl−Cuのパッド上にボー
ルボンディングした後、リッドをパッケージにかぶせ、
シームシーラーにてシーリングして完成した。なお、チ
ップ上のグランドは各々分離して配線し、Auボールボ
ンディングにてパッケージ上のグランドパッドにボンデ
ィングした。
【0033】ラダー型弾性表面波フィルタを構成する弾
性表面波共振子は、IDT電極の対数が40〜120
対、交差幅が10〜30λ(λは弾性表面波の波長)
で、IDT電極のピッチ(=IDT1本分の線幅+スペ
ース幅)は直列と並列で違えてあるが、概略1μmとし
た。ここで、反射電極本数は直列共振子側で20本、並
列共振子側で20本とした。
性表面波共振子は、IDT電極の対数が40〜120
対、交差幅が10〜30λ(λは弾性表面波の波長)
で、IDT電極のピッチ(=IDT1本分の線幅+スペ
ース幅)は直列と並列で違えてあるが、概略1μmとし
た。ここで、反射電極本数は直列共振子側で20本、並
列共振子側で20本とした。
【0034】図6(a)、(b)は、本発明を用いて共
振子特性のΔfを制御した例である。比較の基準となる
弾性表面波共振子はIDT対数N=60対、IDT交差
幅W=10λ(λはLの4倍となる)、IDTの線幅L
=0.5μm、反射器の本数Nr=20本を用いた。こ
れはLT42°Yカット−X方向伝搬基板を用い、Al
−Cu2wt%電極2000Åで設計試作した。この弾
性表面波共振子上に保護膜として、SiO2を500Å
装荷した。実際の測定にはネットワークアナライザのS
11を測定し、概略1.9GHz付近で共振特性4を持
った。この結果、本保護膜付き共振子のΔfは約50M
Hzであった。保護膜なしの特性5は約60MHzであ
るから、約10MHz減少し、4のような従来よりも急
峻な特性を実現した。さらに我々は、保護膜材料・成膜
条件・保護膜膜厚によるΔfの変化を調査した。
振子特性のΔfを制御した例である。比較の基準となる
弾性表面波共振子はIDT対数N=60対、IDT交差
幅W=10λ(λはLの4倍となる)、IDTの線幅L
=0.5μm、反射器の本数Nr=20本を用いた。こ
れはLT42°Yカット−X方向伝搬基板を用い、Al
−Cu2wt%電極2000Åで設計試作した。この弾
性表面波共振子上に保護膜として、SiO2を500Å
装荷した。実際の測定にはネットワークアナライザのS
11を測定し、概略1.9GHz付近で共振特性4を持
った。この結果、本保護膜付き共振子のΔfは約50M
Hzであった。保護膜なしの特性5は約60MHzであ
るから、約10MHz減少し、4のような従来よりも急
峻な特性を実現した。さらに我々は、保護膜材料・成膜
条件・保護膜膜厚によるΔfの変化を調査した。
【0035】表1にその結果を示した。また、図8はこ
れをグラフにしたものであるが、保護膜材料・成膜条件
はSiO2 スパッタ、Siスパッタ、Si蒸着の
3条件とし、保護膜膜厚を150Å、250Å、500
Åの3条件で、組み合わせで計9条件の実験を行なっ
た。この結果から、保護膜材料・成膜条件によっては、
ほとんど差がみられないが、膜厚では大きく変化する。
れをグラフにしたものであるが、保護膜材料・成膜条件
はSiO2 スパッタ、Siスパッタ、Si蒸着の
3条件とし、保護膜膜厚を150Å、250Å、500
Åの3条件で、組み合わせで計9条件の実験を行なっ
た。この結果から、保護膜材料・成膜条件によっては、
ほとんど差がみられないが、膜厚では大きく変化する。
【0036】このため、実際の制御には、各共振子ごと
に保護膜膜厚を異ならせれば良いのであって、たとえ
ば、共振子が5個の2.5段T型フィルタの場合、フォ
トリソ・保護膜成膜の組み合わせを5回行ない、所望の
膜厚を順次、装荷していけば良い。あるいは、金属テン
プレートを用いて、穴のあいた部分を通してSiやSi
O2 などの材料を成膜する方法がある。これは、まず、
穴を最初の共振子(1段目の直列共振子)に合わせて所
望の膜厚だけ成膜した後、次に1段目の並列に穴を移し
てやはり所望の膜厚だけ成膜する。さらに2段目の直列
といった具合に、順次成膜を繰り返すことによって作製
することができ、フォトリソをしなくて良いため、はる
かに効率が良い。また、ウエハ上にフィルタパターンが
複数配置してある場合でも、テンプレート上に同様に複
数穴を開けておけば良い。また、保護膜の位置合わせ精
度はせいぜい±100μmもあれば十分なので、この方
法でも全く問題はない。
に保護膜膜厚を異ならせれば良いのであって、たとえ
ば、共振子が5個の2.5段T型フィルタの場合、フォ
トリソ・保護膜成膜の組み合わせを5回行ない、所望の
膜厚を順次、装荷していけば良い。あるいは、金属テン
プレートを用いて、穴のあいた部分を通してSiやSi
O2 などの材料を成膜する方法がある。これは、まず、
穴を最初の共振子(1段目の直列共振子)に合わせて所
望の膜厚だけ成膜した後、次に1段目の並列に穴を移し
てやはり所望の膜厚だけ成膜する。さらに2段目の直列
といった具合に、順次成膜を繰り返すことによって作製
することができ、フォトリソをしなくて良いため、はる
かに効率が良い。また、ウエハ上にフィルタパターンが
複数配置してある場合でも、テンプレート上に同様に複
数穴を開けておけば良い。また、保護膜の位置合わせ精
度はせいぜい±100μmもあれば十分なので、この方
法でも全く問題はない。
【0037】図1に示すように、共振子2が5個の2.
5段T型フィルタの場合、直列共振子の平均規格化保護
膜膜厚を0.020〔λ〕となるよう、1段目を0.0
25〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕、3段目を0.
015〔λ〕とした。各段ごとに膜厚を変えているのは
最適化した結果である。また、並列共振子は平均が0.
015〔λ〕となるよう、1段目を0.02〔λ〕、2
段目を0.01〔λ〕とした。これも各段ごとに膜厚を
変えているのは最適化した結果である。
5段T型フィルタの場合、直列共振子の平均規格化保護
膜膜厚を0.020〔λ〕となるよう、1段目を0.0
25〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕、3段目を0.
015〔λ〕とした。各段ごとに膜厚を変えているのは
最適化した結果である。また、並列共振子は平均が0.
015〔λ〕となるよう、1段目を0.02〔λ〕、2
段目を0.01〔λ〕とした。これも各段ごとに膜厚を
変えているのは最適化した結果である。
【0038】また、図12に示すように、共振子が5個
の2.5段π型フィルタの場合、直列共振子の平均規格
化保護膜膜厚を0.015〔λ〕となるよう、1段目を
0.020〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕とした。
各段ごとに膜厚を変えているのは最適化した結果であ
る。また、並列共振子は平均が0.020〔λ〕となる
よう、1段目を0.025〔λ〕、2段目を0.020
〔λ〕、3段目を0.015〔λ〕とした。これも各段
ごとに膜厚を変えているのは最適化した結果である。
の2.5段π型フィルタの場合、直列共振子の平均規格
化保護膜膜厚を0.015〔λ〕となるよう、1段目を
0.020〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕とした。
各段ごとに膜厚を変えているのは最適化した結果であ
る。また、並列共振子は平均が0.020〔λ〕となる
よう、1段目を0.025〔λ〕、2段目を0.020
〔λ〕、3段目を0.015〔λ〕とした。これも各段
ごとに膜厚を変えているのは最適化した結果である。
【0039】また、図13に示すように、共振子が6個
(偶数)の3段型フィルタの場合、直列共振子の平均規
格化保護膜膜厚を0.017〔λ〕となるよう、1段目
を0.020〔λ〕、2段目を0.015〔λ〕、3段
目を0.020〔λ〕とした。各段ごとに膜厚を変えて
いるのは最適化した結果である。また、並列共振子は平
均が0.020〔λ〕となるよう、1段目を0.025
〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕、3段目を0.01
5〔λ〕とした。これも各段ごとに膜厚を変えているの
は最適化した結果である。
(偶数)の3段型フィルタの場合、直列共振子の平均規
格化保護膜膜厚を0.017〔λ〕となるよう、1段目
を0.020〔λ〕、2段目を0.015〔λ〕、3段
目を0.020〔λ〕とした。各段ごとに膜厚を変えて
いるのは最適化した結果である。また、並列共振子は平
均が0.020〔λ〕となるよう、1段目を0.025
〔λ〕、2段目を0.020〔λ〕、3段目を0.01
5〔λ〕とした。これも各段ごとに膜厚を変えているの
は最適化した結果である。
【0040】なお、本発明の実施例では珪素,酸化珪素
(SiO2 )を使用して説明したが、他の保護膜材料
(珪素,酸化珪素,窒化珪素,窒化チタン,炭化珪素,
アルミナのうちの1種類以上)でも、効果は同じであ
る。
(SiO2 )を使用して説明したが、他の保護膜材料
(珪素,酸化珪素,窒化珪素,窒化チタン,炭化珪素,
アルミナのうちの1種類以上)でも、効果は同じであ
る。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電極構成
によって作製すれば、基板材料・電極膜厚を変えず、Δ
fの大きな弾性表面波共振子とΔfの小さな弾性表面波
共振子を混在させることができ、これらを用いて弾性表
面波フィルタを構成すれば、肩特性が急峻で、通過帯域
内が平坦な周波数特性を実現できる。また本発明は、基
板の焦電性によるIDT電極スパーク不良が低減される
という効果もある。
によって作製すれば、基板材料・電極膜厚を変えず、Δ
fの大きな弾性表面波共振子とΔfの小さな弾性表面波
共振子を混在させることができ、これらを用いて弾性表
面波フィルタを構成すれば、肩特性が急峻で、通過帯域
内が平坦な周波数特性を実現できる。また本発明は、基
板の焦電性によるIDT電極スパーク不良が低減される
という効果もある。
【図1】本発明に係る2.5段T型ラダー型弾性表面波
フィルタを示す平面図である。
フィルタを示す平面図である。
【図2】従来の2.5段T型ラダー型弾性表面波フィル
タを示す平面図である。
タを示す平面図である。
【図3】従来の弾性表面波フィルタの周波数特性を示す
線図である。
線図である。
【図4】従来の弾性表面波フィルタの周波数特性を示す
線図である。
線図である。
【図5】本発明に係る弾性表面波フィルタの周波数特性
を示す線図である。
を示す線図である。
【図6】(a)、(b)は、それぞれ本発明及び従来構
造の弾性表面波共振子のインピーダンス特性及び位相特
性を示す線図である。
造の弾性表面波共振子のインピーダンス特性及び位相特
性を示す線図である。
【図7】本発明及び従来構造の弾性表面波共振子のイン
ピーダンス特性変化を示す線図である。
ピーダンス特性変化を示す線図である。
【図8】弾性表面波共振子のΔfの変化を示す線図であ
る。
る。
【図9】π型接続をしたラダー型弾性表面波フィルタに
おける直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜の
最適膜厚を説明する図である。
おける直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜の
最適膜厚を説明する図である。
【図10】T型接続をしたラダー型弾性表面波フィルタ
における直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜
の最適膜厚を説明する図である。
における直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜
の最適膜厚を説明する図である。
【図11】偶数段のラダー型弾性表面波フィルタにおけ
る直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜の最適
膜厚を説明する図である。
る直列共振子及び並列共振子上に形成する保護膜の最適
膜厚を説明する図である。
【図12】本発明の2.5段π型ラダー型弾性表面波フ
ィルタを説明する平面図である。
ィルタを説明する平面図である。
【図13】本発明の偶数段接続したラダー型弾性表面波
フィルタを説明する平面図である。
フィルタを説明する平面図である。
1:保護膜 2:弾性表面波共振子 3:配線パターン 4:本発明の弾性表面波共振子の特性 5:従来の弾性表面波共振子の特性 S:圧電基板
Claims (3)
- 【請求項1】 圧電基板上に保護膜で被覆したIDT電
極から成る共振子の複数をラダー型回路に接続して成る
弾性表面波フィルタであって、各共振子上の保護膜の材
質を2種類以上および/又は保護膜の厚みを2箇所以上
に異ならせたことを特徴とする弾性表面波フィルタ。 - 【請求項2】 前記圧電基板を伝搬させる弾性表面波の
波長λで規格化した保護膜の厚みが、下記直線の式
(A)〜(E)で囲まれた領域の値を満足することを特
徴とする請求項1に記載の弾性表面波フィルタ。 Hp=−Hs+0.022 ・・・ (A) Hp=0.07 ・・・ (B) Hp=3Hs−0.09 ・・・ (C) Hp=−0.2Hs+0.027 ・・・ (D) Hs=0.008 ・・・ (E) (ただし、Hs:ラダー型回路における直列共振子上の
保護膜の平均厚み〔λ〕、Hp:ラダー型回路における
並列共振子上の保護膜の平均厚み〔λ〕) - 【請求項3】 前記保護膜が珪素,酸化珪素,窒化珪
素,窒化チタン,炭化珪素,アルミナのうちの1種類以
上から成ることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面
波フィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP37173398A JP2000196409A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 弾性表面波フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP37173398A JP2000196409A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 弾性表面波フィルタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000196409A true JP2000196409A (ja) | 2000-07-14 |
Family
ID=18499213
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP37173398A Pending JP2000196409A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | 弾性表面波フィルタ |
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---|---|
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-
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- 1998-12-28 JP JP37173398A patent/JP2000196409A/ja active Pending
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