JP6274044B2 - セラミック電子部品 - Google Patents
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Description
セラミック素子と、セラミック素子表面に設けられたコーティング膜およびセラミック素子の端部に設けられた外部電極と、を備えたセラミック電子部品であって、
コーティング膜が、樹脂と、セラミック素子の構成元素のうちカチオン性の元素と、を含み、
コーティング膜の表面が、セラミック素子の側面に形成されている外部電極の回り込み部分の表面より後退していること、
を特徴とする、セラミック電子部品である。
1.セラミック電子部品
本発明に係るセラミック電子部品について、バリスタを例にして説明する。
次に、バリスタ10の製造方法の一例を、図2を参照して説明する。図2は、バリスタ10の製造方法の一例を示すフローチャートである。
図3は、バリスタ10の変形例を示す断面図である。
実施例のバリスタ10(凹部14有り)と、比較例のバリスタ(凹部無し)が、それぞれ、前記実施の形態の製造方法によって作製された。ただし、比較例のバリスタの場合は、工程S7のセラミック素子のエッチング液浸漬は省略された。
作製された実施例および比較例のバリスタに対して、以下の特性評価が行なわれた。
ICP−AES分析法を用いて、バリスタを室温で0.3%硝酸溶液5mlに3分浸漬したときのZn成分の溶解量から耐酸性が評価された。評価サンプル数は10個である。その結果、実施例のバリスタ10(凹部14有り)のZn溶解量は、0.026mgと少なかった。一方、比較例のバリスタ(凹部無し)のZn溶解量は、0.525mgと多かった。
クリームはんだを塗布した回路基板にバリスタを実装して、ツームストーン発生率が評価された。評価サンプル数は10000個である。その結果、実施例のバリスタ10(凹部14有り)のツームストーン発生率は0%と良好であった。一方、比較例のバリスタ(凹部無し)のツームストーン発生率は0.2%と悪かった。
2 セラミック層
4a,4b 内部電極
6a,6b 外部電極
8、18 コーティング膜
10,10A バリスタ
12a,12b 外部電極の回り込み部分
14 凹部
Claims (8)
- 複数のセラミック層を含むセラミック素子と、前記セラミック素子表面に設けられたコーティング膜および前記セラミック素子の端部に設けられた外部電極と、を備えたセラミック電子部品であって、
前記コーティング膜が、樹脂と、前記セラミック素子の構成元素のうちカチオン性の元素と、を含み、
前記カチオン性の元素は、前記セラミック素子の前記セラミック層の一部から溶け出たものであり、
前記コーティング膜の表面が、前記セラミック素子の側面に形成されている前記外部電極の回り込み部分の表面より後退していること、
を特徴とする、セラミック電子部品。 - 前記セラミック素子の側面に形成されている前記外部電極の回り込み部分は、前記セラミック素子表面に接していること、を特徴とする、請求項1に記載のセラミック電子部品。
- 前記コーティング膜は、前記セラミック素子の表面に形成された凹部に設けられていること、を特徴とする、請求項1または請求項2に記載のセラミック電子部品。
- 前記セラミック素子の構成元素は、Ba、Ti、Ca、Zr、Fe、Ni、Cu、Zn、Mn、Co、Al、Siのうち少なくとも1種を含むこと、を特徴とする、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
- 前記樹脂の熱分解温度は、240℃以上であること、を特徴とする、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
- 前記樹脂は、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、フッ素系樹脂のうち少なくとも1種を含むこと、を特徴とする、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
- 前記コーティング膜は、加熱により架橋したものであること、を特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
- 前記外部電極にめっき皮膜が形成されていること、を特徴とする、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のセラミック電子部品。
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