JP6238385B2 - テトラアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
テトラアルコキシシランの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6238385B2 JP6238385B2 JP2016517892A JP2016517892A JP6238385B2 JP 6238385 B2 JP6238385 B2 JP 6238385B2 JP 2016517892 A JP2016517892 A JP 2016517892A JP 2016517892 A JP2016517892 A JP 2016517892A JP 6238385 B2 JP6238385 B2 JP 6238385B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tetramethoxysilane
- alcohol
- tetraalkoxysilane
- metal compound
- carbon dioxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 134
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 104
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 82
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 52
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 52
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 12
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 7
- -1 alkali metal bicarbonate Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 74
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 47
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 43
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 39
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001241 acetals Chemical group 0.000 description 9
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHDOIRMWHJLGTM-UHFFFAOYSA-N COC(C)(C)OC.COC(C)(C)OC Chemical compound COC(C)(C)OC.COC(C)(C)OC CHDOIRMWHJLGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005910 alkyl carbonate group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].CCO.CCO.CCO.CCO UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- HEVMDQBCAHEHDY-UHFFFAOYSA-N (Dimethoxymethyl)benzene Chemical compound COC(OC)C1=CC=CC=C1 HEVMDQBCAHEHDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- XUFDMPZZAIRCGV-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CCOC(C)(N(C)C)OCC XUFDMPZZAIRCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPIJMQVLTXAGME-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxycyclohexane Chemical compound COC1(OC)CCCCC1 XPIJMQVLTXAGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQLGYBGTRHODR-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxypropane Chemical compound CCOC(C)(C)OCC FGQLGYBGTRHODR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDOPITICNQWATG-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(4-chlorophenyl)-2,5-dioxoimidazolidin-4-yl]acetic acid Chemical compound O=C1C(CC(=O)O)NC(=O)N1C1=CC=C(Cl)C=C1 UDOPITICNQWATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMPQTNDWLXRUDK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxypropan-2-yloxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(C)(C)OCC1=CC=CC=C1 SMPQTNDWLXRUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006004 Quartz sand Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- NYRVXYOKUZSUDA-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C1=CC=CC=C1 NYRVXYOKUZSUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGCPMRIOBZXXBR-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;dibutyltin(2+) Chemical compound CCCCO[Sn](CCCC)(CCCC)OCCCC RGCPMRIOBZXXBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- ZNZBASDDVBURLC-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)stannane Chemical compound CCCC[Sn](OCC)(OCC)CCCC ZNZBASDDVBURLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N dibutyltin(2+);methanolate Chemical compound CCCC[Sn](OC)(OC)CCCC ZXDVQYBUEVYUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N dimethyl(oxo)tin Chemical compound C[Sn](C)=O WNVQCJNZEDLILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N niobium(v) ethoxide Chemical compound CCO[Nb](OCC)(OCC)(OCC)OCC ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUHCAXWYKVQBJV-UHFFFAOYSA-N oxo-di(propan-2-yl)tin Chemical compound CC(C)[Sn](=O)C(C)C MUHCAXWYKVQBJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011044 quartzite Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
従来から知られているアルコキシシラン類の工業的製造方法としては、天然の二酸化ケイ素を出発原料とし、炭素と混合して高温下で還元する事によって金属ケイ素を得て、これを塩素と反応させて四塩化ケイ素を製造した後、さらにアルコールと反応させる方法が知られている(特許文献1参照)。また金属ケイ素とアルコールを直接反応させる製造方法も知られている(特許文献2、3参照)。
しかし、これらの方法は、いずれも高温を要する金属ケイ素製造過程を経由する必要があり、エネルギー効率が悪い事が問題となっている。
他方、シリカから直接アルコキシシランを製造する方法として、アルカリ金属元素あるいはアルカリ土類金属元素を触媒としてシリカとアルキルカーボネートとを反応させて、アルコキシシランを製造する方法が知られている(特許文献4、5参照)。これらの方法は上記金属ケイ素を原料としないため、エネルギー効率的には有利である一方、比較的高価な化合物であるアルキルカーボネートを、化学量論としてシリカに対して少なくとも2倍のモル量を投入する必要があり、テトラアルコキシシランの工業的製法としては経済的な課題がある。
<1> アルコールと酸化ケイ素を用いたテトラアルコキシシランの製造方法であって、
アルコールを脱水剤の存在下及び/又は脱水手段を備えた反応器中で二酸化炭素と反応させる第一工程、並びに前記第一工程で得られた反応混合物を酸化ケイ素と反応させる第二工程を含み、
アルコールと酸化ケイ素と二酸化炭素が1つの反応系に存在することによって、前記第一工程及び前記第二工程が1つの反応系で進行することを特徴とする、テトラアルコキシシランの製造方法。
<2> 前記第一工程が、金属アルコキシド、有機金属酸化物、及び無機金属酸化物から
なる群より選択される少なくとも1種の金属化合物の存在下で行われる、<1>に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
<3> 前記金属化合物の金属元素が、チタン、スズ、又はジルコニウムである<2>に
記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
<4> 前記脱水剤が、有機脱水剤及び/又は無機脱水剤である、<1>〜<3>の何れ
かに記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
<5> 前記有機脱水剤が、下記一般式(1)で表されるアセタールである、<4>に記
載のテトラアルコキシシランの製造方法。
<6> 前記第二工程が、アルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物の存在
下で行われる、<1>〜<5>の何れかに記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
<7> 前記アルカリ金属化合物が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ハロゲン化物
、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩からなる群より選択される少なくとも1種である、<6>に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
本発明の一態様であるテトラアルコキシシランの製造方法(以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。)は、アルコールと酸化ケイ素を用いてテトラアルコキシシランを製造する方法であり、下記の第一工程と第二工程を含むことを特徴とする。
第一工程:アルコールを脱水剤の存在下及び/又は脱水手段を備えた反応器中で二酸化炭素と反応させる工程。
第二工程:第一工程で得られた反応混合物を酸化ケイ素と反応させる工程。
本発明者らは、金属ケイ素を経由しないテトラアルコキシシランの製造方法としてアルコールと酸化ケイ素を用いる方法に着目し、その検討を進めた結果、アルコールと酸化ケイ素を反応させる上で二酸化炭素を共存させることにより、効率良くテトラアルコキシシランが生成することを見出した。これは、アルコールが二酸化炭素と反応して活性化し、これが酸化ケイ素とより効率的に反応とするためであると考えられる。即ち、二酸化炭素が反応加速剤として働いているものと考えられる。また、二酸化炭素は再生して再利用することができるため、不要な排出物を極力減らすことに繋がり、さらにアルコールと酸化ケイ素という安価で有り触れた材料を出発原料として利用することにもなるため、工業的に非常に適した方法と言えるのである。
また、本発明者らは、脱水剤等を利用して反応によって生じた水を適切に除去しなければ、テトラアルコキシシランの収率が著しく低下してしまうことも確認している。
即ち、第一工程と第二工程を含む本発明の製造方法は、省エネルギーかつ高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる方法なのである。
なお、「第一工程」と「第二工程」を含むとは、それぞれ独立して反応が進行する態様に限られず、例えばアルコールと酸化ケイ素と二酸化炭素が1つの反応系に存在することによって、第一工程と第二工程が1つの反応系で進行するものであってもよいことを意味する。従って、図1の(a)に示されるように、回分反応器にアルコールと酸化ケイ素と二酸化炭素をそれぞれ投入して、第一工程と第二工程を進行させる態様、図1の(b)に示されるように、回分反応器でアルコールを二酸化炭素と反応させた後、さらに酸化ケイ素を投入して反応混合物を酸化ケイ素と反応させる態様、図1の(c)に示されるように、連続槽型反応器にアルコールと二酸化炭素を逐次投入し、反応混合物を別の連続槽型反応器に移して酸化ケイ素と反応させて、テトラアルコキシシランを逐次回収する態様、並びに図1の(d)に示されるように、連続管型反応器にアルコールと二酸化炭素を逐次投入し、酸化ケイ素と反応させて、テトラアルコキシシランを逐次回収する態様等の何れもが本発明の製造方法に含まれる。
第一工程は、アルコールを脱水剤の存在下及び/又は脱水手段を備えた反応器中で二酸化炭素と反応させる工程であるが、アルコールの種類は、特に限定されず、製造目的であるテトラアルコキシシランに応じて適宜選択することができる。例えばアルコールとしてメタノールを用いるとテトラメトキシシランが、エタノールを用いるとテトラエトキシシランを製造することができる。
アルコールは、脂肪族アルコールと芳香族アルコールのどちらでもよく、またアルコール中の炭化水素基は、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合等のそれぞれを有していてもよい。
アルコールの炭素数は、通常1以上であり、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは8以下である。
具体的なアルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール、ベンジルアルコール、フェノール等が挙げられる。中でも、メタノール、エタノールが好ましく、メタノールがより好ましい。
金属化合物の金属元素は、チタン、スズ又はジルコニウムからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
具体的な金属アルコキシドとしては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラメトキシスズ、テトラエトキシスズ、テトラ−t−ブトキシスズ、ジ−n−ブチルジメトキシスズ、ジ−n−ブチルジエトキシスズ、ジ−n−ブチルジブトキシスズ等が挙げられる。
具体的な有機金属酸化物としては、ジメチルスズオキシド、ジエチルスズオキシド、ジイソプロピルスズオキシド、ジ−n−ブチルスズオキシド等が挙げられる。
具体的な無機金属酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン等が挙げられる。
なお、金属化合物は、1種類のみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
金属化合物の使用量は、アルコール1molに対して、通常0mmol以上、好ましくは0.01mmol以上、より好ましくは0.1mmol以上であり、通常1mol以下、好ましくは500mmol以下、より好ましくは100mmol以下である。
反応器としては、前述のように回分反応器(図1の(a)、(b)参照)、連続槽型反応器(図1の(c)参照)、連続管型反応器(図1の(d)参照)等が挙げられる。なお、回分反応器は、オートクレーブ等の耐圧反応器であることが好ましい。
操作手順は、例えば回分反応器を用いる場合、反応器にアルコール、脱水剤、金属化合物等を投入し、二酸化炭素ガスで反応容器内を掃気した後、二酸化炭素を充填して密閉し、反応温度まで加熱を行う方法が挙げられる。なお、二酸化炭素の25℃における充填圧力は、0.1〜10MPaであることが好ましい。上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
また、連続槽型反応器や連続管型反応器を用いる場合、反応温度に加熱された反応器に、アルコール、脱水剤、二酸化炭素、金属化合物等を気体又は液体として、それぞれ連続的に反応器に投入する方法が挙げられる。なお、アルコール、脱水剤、二酸化炭素、金属化合物等を投入するためにキャリアーガスを用いてもよい。キャリアーガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスや二酸化炭素ガス自体をキャリアーガスとして用いることもできる。なお、キャリアーガスや二酸化炭素等の供給速度等は、反応器の大きさや反応条件等に応じて適宜選択することができる。
第一工程の反応温度は、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上であり、通常500℃以下、好ましくは400℃以下、より好ましくは300℃以下である。
第一工程の反応圧力は、通常0.1MPa以上、好ましくは1.0MPa以上、より好ましくは3.0MPa以上であり、通常60MPa以下、好ましくは30MPa以下、より好ましくは20MPa以下である。なお、二酸化炭素の分圧は、通常0MPa以上、好ましくは0.1MPa以上、より好ましくは0.2MPa以上であり、通常50MPa以下、好ましくは20MPa以下、より好ましくは10MPa以下である。
第一工程の反応時間は、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上であり、通常168時間以下、好ましくは120時間以下、より好ましくは100時間以下である。
上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
具体的な脱水剤としては、アセタール、酸無水物等の有機脱水剤、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、塩化カルシウム、酸化カルシウム、酸化リン(V)、酸化アルミニウム等の無機脱水剤、モレキュラーシーブ等の吸着剤等が挙げられる。中でも反応系中で均一に作用できるという観点から、有機脱水剤が好ましく、下記一般式(1)で表されるアセタールがより好ましい。
なお、アセタールのアルコキシ基は、二酸化炭素と反応させるアルコールと同一の炭化水素基を有するものであることが好ましい。脱水剤がアセタールであると、下記反応式(2)で示されるように、水と反応してアルコールが生成することになり、このアルコールを二酸化炭素と反応させるために利用することができる。また、反応終了後、回収したアルデヒドやケトンは、容易にアセタールに再生し、再利用することができる。
アセタールの使用量は、アルコール1molに対して、通常0mol以上、好ましくは0.001mol以上、より好ましくは0.005mol以上であり、通常1mol以下、好ましくは0.8mol以下、より好ましくは0.5mol以下である。上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
具体的な脱水手段としては、図2(a)に示されるような分離膜、図2(b)に示される蒸留装置等が挙げられる。なお、具体的な分離膜としては、炭素膜、シリカ膜、ゼオライト膜、高分子膜等が挙げられる。
第二工程は、第一工程で得られた反応混合物を酸化ケイ素と反応させる工程であるが、酸化ケイ素とは、ケイ素原子(Si)と酸素原子(O)を主要な構成元素として含む化合物を意味し、一酸化ケイ素(SiO)、二酸化ケイ素(SiO2)、或いはゼオライト等の他の金属との複合酸化物であってもよいことを意味する。
具体的な酸化ケイ素としては、ケイ石、ケイ砂、ケイ藻土、石英等の天然鉱物、ケイ素含有植物の焼成灰、火山灰、ケイ酸塩類、シリカゾル由来のシリカゲル、ヒュームドシリカ、シリカアルミナ、ゼオライト等が挙げられる。
アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物におけるアルカリ金属及びアルカリ土類金属としては、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、マグネシウム(Mg)、カリウム(K)、カルシウム(Ca)、セシウム(Cs)等が挙げられる。また、対イオンについては、水酸化物、ハロゲン化物、酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、アルコキシド、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、有機酸塩、硫酸塩、硝酸塩等が挙げられる。中でも水酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、炭酸水素塩が好ましく、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩がより好ましい。
具体的なアルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等が挙げられる。なお、アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物は、1種類のみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
アルカリ金属化合物とアルカリ土類金属化合物の総使用量は、酸化ケイ素(二酸化ケイ素の場合)1molに対して、通常0mol以上、好ましくは0.001mol以上であり、通常20mol以下、好ましくは10mol以下である。
反応器としては、第一工程と同様に回分反応器(図1の(a)、(b)参照)、連続槽型反応器(図1の(c)参照)、連続管型反応器(図1の(d)参照)等が挙げられる。なお、回分反応器は、オートクレーブ等の耐圧反応器であることが好ましい。
操作手順は、例えば回分反応器を用いる場合、反応器に第一工程で得られた反応混合物、酸化ケイ素、アルカリ金属化合物等を投入し、不活性ガスで反応容器内を掃気した後、不活性ガスを充填して密閉し、反応温度まで加熱を行う方法が挙げられる。
また、連続槽型反応器や連続管型反応器を用いる場合、酸化ケイ素、アルカリ金属化合物等を反応器に投入しておき、反応容器を反応温度まで加熱した後、第一工程で得られた反応混合物を気体又は液体として、それぞれ連続的に投入する方法が挙げられる。なお、第一工程で得られた反応混合物を投入するためにキャリアーガスを用いてもよい。
第二工程の反応温度は、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上であり、通常500℃以下、好ましくは400℃以下、より好ましくは300℃以下である。
第二工程の反応圧力は、通常0.1MPa以上、好ましくは1.0MPa以上、より好ましくは3.0MPa以上であり、通常60MPa以下、好ましくは30MPa以下、より好ましくは20MPa以下である。なお、二酸化炭素の分圧は、通常0MPa以上、好ましくは0.1MPa以上、より好ましくは0.2MPa以上であり、通常50MPa以下、好ましくは20MPa以下、より好ましくは10MPa以下である。
第二工程の反応時間は、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上であり、通常168時間以下、好ましくは120時間以下、より好ましくは100時間以下である。
上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
アルコールと酸化ケイ素を反応させる反応工程を含むテトラアルコキシシランの製造方法であって、前記反応工程が下記の(a)及び(b)の条件を満たす工程である、テトラアルコキシシランの製造方法。
(a)二酸化炭素の存在下で反応させる。
(b)脱水剤の存在下及び/又は脱水手段を備えた反応器中で反応させる。
また、第一工程と第二工程を1つの反応系で進行させる態様においても、アルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物の存在下で行われることが好ましい。なお、アルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物についての詳細は、前述の通りである。
反応器としては、前述のように回分反応器(図1の(a)参照)、連続管型反応器(図1の(d)参照)等が挙げられる。なお、回分反応器は、オートクレーブ等の耐圧反応器であることが好ましい。
操作手順は、例えば回分反応器を用いる場合、反応器にアルコール、酸化ケイ素、脱水剤、金属化合物、アルカリ金属化合物等を投入し、二酸化炭素ガスで反応容器内を掃気した後、二酸化炭素を充填して密閉し、反応温度まで加熱を行う方法が挙げられる。なお、二酸化炭素の25℃における充填圧力は、0.1〜10MPaであることが好ましい。上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
また、連続管型反応器を用いる場合、酸化ケイ素、脱水剤、アルカリ金属化合物等を反応器に投入しておき、反応容器を反応温度まで加熱した後、アルコール、二酸化炭素、金属化合物等を気体又は液体として、それぞれ連続的に投入する方法が挙げられる。なお、アルコール、二酸化炭素、金属化合物等を投入するためにキャリアーガスを用いてもよい。キャリアーガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスや二酸化炭素ガス自体をキャリアーガスとして用いることもできる。なお、キャリアーガスや二酸化炭素等の供給速度等は、反応器の大きさや反応条件等に応じて適宜選択することができる。
反応温度は、通常50℃以上、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上であり、通常500℃以下、好ましくは400℃以下、より好ましくは300℃以下である。
反応圧力は、通常0.1MPa以上、好ましくは1.0MPa以上、より好ましくは3.0MPa以上であり、通常60MPa以下、好ましくは30MPa以下、より好ましくは20MPa以下である。なお、二酸化炭素の分圧は、通常0MPa以上、好ましくは0.1MPa以上、より好ましくは0.2MPa以上であり、通常50MPa以下、好ましくは20MPa以下、より好ましくは10MPa以下である。
反応時間は、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上であり、通常168時間以下、好ましくは120時間以下、より好ましくは100時間以下である。
上記範囲内であると、より高収率でテトラアルコキシシランを製造することができる。
磁気撹拌子を入れた20mL容積のSUS製オートクレーブ(日東高圧社製)に、二酸化ケイ素(富士シリシア化学 CARiACT Q−10)0.18g、メタノール3.0g、有機脱水剤としてアセトンジメチルアセタール(2,2−ジメトキシプロパン)5.0g、水酸化カリウム0.02gを加え、25℃の温度下でボンベから二酸化炭素を、圧力計(スウェージロックFST社 PGI−50M−MG10)が示す圧力でオートクレーブ内が2MPaになるよう充填して10分間撹拌しながら保持し、密封した。その後、オートクレーブ内を1200rpmに攪拌しつつ242℃まで加熱し、24時間反応させた。冷却後、残存する二酸化炭素を放出し、反応混合物をガスクロマトグラフィー(島津製作所 GC−2014ATF/SPL)により分析した。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は47%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、反応時間を96時間とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は88%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素圧力を0.8MPaとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は27%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素圧力を1.2MPaとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は40%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素圧力を0.4MPaとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は7%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素圧力を3.0MPaとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は46%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素圧力を4.8MPaとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は30%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに水酸化ナトリウム(0.013g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は32%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに水酸化セシウム(0.045g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は52%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに水酸化リチウム(0.012g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は8%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに炭酸リチウム(0.022g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は10%であった。結果を表1−1に示す。
実施例2の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに炭酸ナトリウム(0.029g)とした以外は、実施例2と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は30%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに炭酸カリウム(0.036g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は56%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりに炭酸セシウム(0.069g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は60%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりにフッ化ナトリウム(0.013g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は17%であった。結果を表1−1に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりにフッ化カリウム(0.018g)とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は50%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウムの代わりにフッ化セシウム(0.04g)とした以外は、実施例1と同様の操作により、テトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は53%であった。結果を表1−2に示す。
実施例3の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン1.0mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例3と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は51%であった。結果を表1−2に示す。
実施例3の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン1.5mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例3と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は43%であった。結果を表1−2に示す。
実施例3の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例3と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は33%であった。結果を表1−2に示す。
実施例3の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン0.01mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例3と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は37%であった。結果を表1−2に示す。
実施例5の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例5と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は18%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、さらにテトラメトキシチタン0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は48%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、さらにテトラエトキシジルコニウム0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は23%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、さらにテトラ−t-ブトキシスズ0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は29%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、さらにペンタエトキシニオブ0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は66%であった。結果を表1−2に示す。
実施例3の反応条件に対し、さらにジ−n−ブチルジメトキシスズ0.1mol%(アルコール1molに対して)を加えた以外は、実施例3と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は6%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、反応温度を200℃とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は17%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、反応温度を180℃とした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は6%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、用いる二酸化ケイ素をアエロジル200(日本アエロジル社製)0.18gとした以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は48%であった。結果を表1−2に示す。
実施例1の反応条件に対し、水酸化カリウム及び2,2−ジメトキシプロパンを加えなかった以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は1%未満であった。結果を表1−3に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素を導入せず、2,2−ジメトキシプロパンを加えなかった以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は1%未満であった。結果を表1−3に示す。
実施例1の反応条件に対し、2,2−ジメトキシプロパンを加えなかった以外は、実施例1と同様の操作により、テトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は3%であった。結果を表1−3に示す。
実施例1の反応条件に対し、二酸化炭素の導入を行わなかった以外は、実施例1と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は3%であった。結果を表1−3に示す。
実施例20の反応条件に対し、二酸化炭素を導入せず、2,2−ジメトキシプロパンを加えなかった以外は、実施例20と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は1%未満であった。結果を表1−3に示す。
実施例20の反応条件に対し、二酸化炭素の導入を行わなかった以外は、実施例20と同様の操作によりテトラメトキシシランの製造を行った。二酸化ケイ素基準のテトラメトキシシランの収率は3%であった。結果を表1−3に示す。
Claims (7)
- アルコールと酸化ケイ素を用いたテトラアルコキシシランの製造方法であって、
アルコールを脱水剤の存在下及び/又は脱水手段を備えた反応器中で二酸化炭素と反応させる第一工程、並びに前記第一工程で得られた反応混合物を酸化ケイ素と反応させる第二工程を含み、
アルコールと酸化ケイ素と二酸化炭素が1つの反応系に存在することによって、前記第一工程及び前記第二工程が1つの反応系で進行することを特徴とする、テトラアルコキシシランの製造方法。 - 前記第一工程が、金属アルコキシド、有機金属酸化物、及び無機金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1種の金属化合物の存在下で行われる、請求項1に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
- 前記金属化合物の金属元素が、チタン、スズ、又はジルコニウムである請求項2に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
- 前記脱水剤が、有機脱水剤及び/又は無機脱水剤である、請求項1〜3の何れか1項に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
- 前記第二工程が、アルカリ金属化合物及び/又はアルカリ土類金属化合物の存在下で行
われる、請求項1〜5の何れか1項に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。 - 前記アルカリ金属化合物が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属炭酸水素塩からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項6に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014097748 | 2014-05-09 | ||
JP2014097748 | 2014-05-09 | ||
PCT/JP2015/063017 WO2015170666A1 (ja) | 2014-05-09 | 2015-04-30 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015170666A1 JPWO2015170666A1 (ja) | 2017-04-20 |
JP6238385B2 true JP6238385B2 (ja) | 2017-11-29 |
Family
ID=54392517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016517892A Active JP6238385B2 (ja) | 2014-05-09 | 2015-04-30 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10000514B2 (ja) |
EP (1) | EP3141553B1 (ja) |
JP (1) | JP6238385B2 (ja) |
CN (1) | CN106459100B (ja) |
WO (1) | WO2015170666A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102060081B1 (ko) | 2019-04-29 | 2019-12-30 | 한국과학기술연구원 | 테트라알콕시실란의 연속 제조방법 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL3199570T3 (pl) * | 2016-01-26 | 2018-08-31 | Evonik Degussa Gmbh | Sposób otrzymywania kompozycji zawierającej 2-etyloheksylokrzemian |
DE112018006623T5 (de) * | 2017-12-27 | 2020-09-03 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Verfahren zur Herstellung von Tetraalkoxysilan |
JP6934683B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2021-09-15 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 酸化カルシウムを用いるテトラアルコキシシランの製造方法 |
JP7133801B2 (ja) * | 2018-05-10 | 2022-09-09 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 有機珪素化合物の製造方法 |
RU2698701C1 (ru) * | 2019-03-29 | 2019-08-29 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Федеральный исследовательский центр "Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения Российской академии наук" (ИК СО РАН, Институт катализа СО РАН) | Способ получения тетраалкилортосиликатов из кремнезёма |
CN115518629A (zh) * | 2022-09-27 | 2022-12-27 | 中触媒新材料股份有限公司 | 一种合成四烷氧基硅烷的催化剂及其制备和使用方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2473260A (en) | 1946-06-26 | 1949-06-14 | Gen Electric | Preparation of tetramethyl silicate |
US2881198A (en) * | 1955-05-17 | 1959-04-07 | Union Carbide Corp | Preparation of alkyl orthosilicates by reacting silicon dioxide with an alcohol |
FR2332993A1 (fr) * | 1975-11-26 | 1977-06-24 | Rhone Poulenc Ind | Preparation du silicate de methyle |
JPS62114991A (ja) | 1985-11-15 | 1987-05-26 | Tonen Sekiyukagaku Kk | アルコキシシランの製造方法 |
US4730074A (en) * | 1986-12-31 | 1988-03-08 | Union Carbide Corporation | Vapor phase alcoholysis of aminosilanes and carbamatosilanes |
JP3026371B2 (ja) * | 1991-05-16 | 2000-03-27 | 株式会社日本触媒 | アルコキシシランの製造方法 |
JP2000178283A (ja) | 1998-12-17 | 2000-06-27 | Mitsui Chemicals Inc | アルコキシシランの製造方法 |
US6288257B1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-09-11 | General Electric Company | Method for making tetraorganooxysilanes |
JP4581123B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2010-11-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 炭酸エステルの製造方法 |
JP4332642B2 (ja) * | 2005-01-04 | 2009-09-16 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 炭酸エステルの製造方法 |
JP4415107B2 (ja) * | 2005-04-12 | 2010-02-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | アルコールと二酸化炭素からの炭酸エステルの製造方法 |
JP2009242306A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭酸エステルの製造方法 |
JP2014051455A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Sekisui Chem Co Ltd | テトラアルコキシシランの製造方法 |
-
2015
- 2015-04-30 WO PCT/JP2015/063017 patent/WO2015170666A1/ja active Application Filing
- 2015-04-30 EP EP15789345.4A patent/EP3141553B1/en active Active
- 2015-04-30 CN CN201580024399.XA patent/CN106459100B/zh active Active
- 2015-04-30 JP JP2016517892A patent/JP6238385B2/ja active Active
- 2015-04-30 US US15/309,900 patent/US10000514B2/en active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102060081B1 (ko) | 2019-04-29 | 2019-12-30 | 한국과학기술연구원 | 테트라알콕시실란의 연속 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10000514B2 (en) | 2018-06-19 |
WO2015170666A1 (ja) | 2015-11-12 |
EP3141553A4 (en) | 2017-12-27 |
EP3141553B1 (en) | 2019-05-22 |
EP3141553A1 (en) | 2017-03-15 |
US20170267701A1 (en) | 2017-09-21 |
JPWO2015170666A1 (ja) | 2017-04-20 |
CN106459100A (zh) | 2017-02-22 |
CN106459100B (zh) | 2019-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6238385B2 (ja) | テトラアルコキシシランの製造方法 | |
JP6238384B2 (ja) | テトラアルコキシシランの製造方法 | |
JP6281881B2 (ja) | 環状カーボネートの連続的製造方法 | |
JPWO2015060189A1 (ja) | 高級シランの製造触媒および高級シランの製造方法 | |
US11028106B2 (en) | Method for producing tetraalkoxysilane | |
JP2016098149A (ja) | Aei型ゼオライトの製造方法 | |
JP6624430B2 (ja) | テトラメトキシシランの製造方法 | |
JP6934683B2 (ja) | 酸化カルシウムを用いるテトラアルコキシシランの製造方法 | |
US9156861B2 (en) | Method for preparing trialkoxysilane | |
JP7012382B2 (ja) | 助溶媒によるテトラアルコキシシランの製造方法 | |
JP6361786B2 (ja) | 有機化合物の精製方法 | |
JP2003252879A (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
JP2021127264A (ja) | SiO2含有物硬化体の製造方法 | |
JPS60251114A (ja) | 水素化ケイ素の製造方法 | |
JP6853639B2 (ja) | ジグリシジル化合物の精製方法 | |
JP2001019419A (ja) | モノシラン及びテトラアルコキシシランの製造方法 | |
JP2001019418A (ja) | モノシラン及びテトラアルコキシシランの製造方法 | |
EP1323722A1 (en) | Process for producing alkoxysilanes | |
JP2016069299A (ja) | 2−トリフルオロメチル安息香酸エステルの製造方法 | |
WO2008125016A1 (fr) | Procédé de purification du hbr présent dans des hydrocarbures | |
JPS6045629B2 (ja) | マロン酸ジアルキルエステルの製造法 | |
JP2001131187A (ja) | モノシランの精製方法 | |
JP2016069327A (ja) | 1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチルアセトンの製造方法 | |
JPWO2006109775A1 (ja) | 炭酸エステルの製造方法 | |
JPH0253739A (ja) | 第三級オレフィンの製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20161108 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170808 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170913 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171010 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6238385 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |