JP3026371B2 - アルコキシシランの製造方法 - Google Patents
アルコキシシランの製造方法Info
- Publication number
- JP3026371B2 JP3026371B2 JP3111421A JP11142191A JP3026371B2 JP 3026371 B2 JP3026371 B2 JP 3026371B2 JP 3111421 A JP3111421 A JP 3111421A JP 11142191 A JP11142191 A JP 11142191A JP 3026371 B2 JP3026371 B2 JP 3026371B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbonate
- silica
- reaction
- metal compound
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明はアルコキシシランの製
造方法に関する。詳しくは、シリカをアルカリ金属化合
物あるいはアルカリ土類金属化合物を触媒として用いて
一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2は各々独立して炭素数１〜４のア
ルキル基であるか、Ｒ１とＲ２ は連結して炭素数２〜
４のアルキレン基または−ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＣＨ2−基、の
いずれかである）で表されるカーボネートと反応させ、
高収率、高選択率でアルコキシシランを製造する方法に
関する。
造方法に関する。詳しくは、シリカをアルカリ金属化合
物あるいはアルカリ土類金属化合物を触媒として用いて
一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2は各々独立して炭素数１〜４のア
ルキル基であるか、Ｒ１とＲ２ は連結して炭素数２〜
４のアルキレン基または−ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＣＨ2−基、の
いずれかである）で表されるカーボネートと反応させ、
高収率、高選択率でアルコキシシランを製造する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】 従来、アルコキシシランの工業的製造
方法として四塩化珪素とアルコールを反応させる方法
（特開昭６２−１１４９９１号）が知られている。
方法として四塩化珪素とアルコールを反応させる方法
（特開昭６２−１１４９９１号）が知られている。
【０００３】 ＳｉＣｌ4 ＋ ４ＲＯＨ → Ｓｉ(ＯＲ)4 ＋ ４ＨＣｌ (a) （式中、Ｒはアルキル基である。）この方法では式(a)
からわかるように塩化水素が副生する。副生した塩化水
素は装置を腐食したり、原料のアルコールと反応して水
を生成し、更に生成した水は目的物であるテトラアルコ
キシシランと反応して珪酸を与えることになり、テトラ
アルコキシシランの収率を低下させる。このようなこと
を防ぐために、反応溶液中にアンモニアやピリジンをあ
らかじめ混入させておき、副生する塩酸を即座にトラッ
プする方法も検討されている。しかし、この方法は反応
が複雑になるうえに大量の塩酸塩が副生するという問題
がある。
からわかるように塩化水素が副生する。副生した塩化水
素は装置を腐食したり、原料のアルコールと反応して水
を生成し、更に生成した水は目的物であるテトラアルコ
キシシランと反応して珪酸を与えることになり、テトラ
アルコキシシランの収率を低下させる。このようなこと
を防ぐために、反応溶液中にアンモニアやピリジンをあ
らかじめ混入させておき、副生する塩酸を即座にトラッ
プする方法も検討されている。しかし、この方法は反応
が複雑になるうえに大量の塩酸塩が副生するという問題
がある。
【０００４】また、金属珪素とアルコールを反応させる
方法（特開平３−４４３９３号、特開平１−１３５７８
８号、特開昭６３−２１５６８３号、特開昭６３−１５
６７９３号）も知られている。
方法（特開平３−４４３９３号、特開平１−１３５７８
８号、特開昭６３−２１５６８３号、特開昭６３−１５
６７９３号）も知られている。
【０００５】 Ｓｉ ＋ ４ＲＯＨ → Ｓｉ(ＯＲ)4 ＋ ２Ｈ2 (b) （式中、Ｒは前記と同じである。）これらの方法では、
反応条件によっては式(b) に示したテトラアルコキシシ
ラン以外にトリアルコキシシランも生成する。原料とし
て使用される金属珪素はシリカに炭素を混ぜ、電気炉で
高温に加熱、還元して製造されているが、多大な電力エ
ネルギーが必要である。
反応条件によっては式(b) に示したテトラアルコキシシ
ラン以外にトリアルコキシシランも生成する。原料とし
て使用される金属珪素はシリカに炭素を混ぜ、電気炉で
高温に加熱、還元して製造されているが、多大な電力エ
ネルギーが必要である。
【０００６】更に、非水溶液中でシリカにアルカリ金属
アルコキシドを反応させて直接シリカからアルコキシシ
ランを製造する方法（特開昭６３−２７０６８９号）も
提案されている。
アルコキシドを反応させて直接シリカからアルコキシシ
ランを製造する方法（特開昭６３−２７０６８９号）も
提案されている。
【０００７】 ＳｉＯ2 ＋ ４ＭＯＲ → Ｓｉ(ＯＲ)4 ＋ ２Ｍ2Ｏ (c) （式中、Ｒは前記と同じであり、Ｍはナトリウムやカリ
ウム等のアルカリ金属である。）しかし、この方法で
は、アルコキシシランの４倍当量のアルカリ金属アルコ
キシドが必要であり、また実施例によればアルコキシシ
ランの生成量もわずかであり、工業的製法とはなり得な
い。
ウム等のアルカリ金属である。）しかし、この方法で
は、アルコキシシランの４倍当量のアルカリ金属アルコ
キシドが必要であり、また実施例によればアルコキシシ
ランの生成量もわずかであり、工業的製法とはなり得な
い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】 本発明の目的は、前
記従来技術の問題点に鑑み、塩化物を原料に用いること
によって生じる装置の腐食や副生物の問題がなく、また
製造するのに多大な電力エネルギーを必要とする金属珪
素を原料として用いることなく、安価な原料であるシリ
カから直接効率よくアルコキシシランを製造する方法を
提供することにある。
記従来技術の問題点に鑑み、塩化物を原料に用いること
によって生じる装置の腐食や副生物の問題がなく、また
製造するのに多大な電力エネルギーを必要とする金属珪
素を原料として用いることなく、安価な原料であるシリ
カから直接効率よくアルコキシシランを製造する方法を
提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】 本発明者らはこれらの
問題点を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完
成するに至った。即ち本発明は、シリカを、アルカリ金
属化合物およびアルカリ土類金属化合物のうちの少なく
とも１種を触媒として用いて、一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2は各々独立して炭素数１〜４のア
ルキル基であるか、Ｒ1とＲ2 は連結して炭素数２〜４
のアルキレン基または−ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＣＨ2−基、のい
ずれかである）で表されるカーボネートと反応させるこ
とを要旨とするアルコキシシランの製造方法である。本
発明の反応は次の式(d) で表わされ、従来知られていな
い全く新規な反応である。
問題点を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完
成するに至った。即ち本発明は、シリカを、アルカリ金
属化合物およびアルカリ土類金属化合物のうちの少なく
とも１種を触媒として用いて、一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2は各々独立して炭素数１〜４のア
ルキル基であるか、Ｒ1とＲ2 は連結して炭素数２〜４
のアルキレン基または−ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＣＨ2−基、のい
ずれかである）で表されるカーボネートと反応させるこ
とを要旨とするアルコキシシランの製造方法である。本
発明の反応は次の式(d) で表わされ、従来知られていな
い全く新規な反応である。
【００１０】 （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じであり、ｎは０，
１，２，３または４である）本発明において原料として
用いられるシリカとしては各種の物が使用できる。例え
ば、珪石、珪砂、珪藻土等の天然鉱物、稲、麦のもみが
ら等のシリカを含む植物の焼成残渣、温泉あるいは地熱
発電等において湧出する珪酸含有熱水から回収されるシ
リカ、シリカゾルや珪酸ソーダをゲル化して得られるシ
リカゲル等が好適に使用できる。シリカの形態は、無定
形、クリストバライト、トリジマイト、石英でもよいが
好ましくは無定形のシリカである。また、反応性の点か
ら多孔質のシリカが好ましい。
１，２，３または４である）本発明において原料として
用いられるシリカとしては各種の物が使用できる。例え
ば、珪石、珪砂、珪藻土等の天然鉱物、稲、麦のもみが
ら等のシリカを含む植物の焼成残渣、温泉あるいは地熱
発電等において湧出する珪酸含有熱水から回収されるシ
リカ、シリカゾルや珪酸ソーダをゲル化して得られるシ
リカゲル等が好適に使用できる。シリカの形態は、無定
形、クリストバライト、トリジマイト、石英でもよいが
好ましくは無定形のシリカである。また、反応性の点か
ら多孔質のシリカが好ましい。
【００１１】一般式（１）で表されるカーボネートとし
ては、具体的に例示すると、ジメチルカーボネート、ジ
エチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、エチレ
ンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカ
ーボネート、フェニルエチレンカーボネート等が挙げら
れ、中でも特に工業的な有用性、入手のしやすさなどか
らジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチ
レンカーボネートが好適に使用される。
ては、具体的に例示すると、ジメチルカーボネート、ジ
エチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、エチレ
ンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカ
ーボネート、フェニルエチレンカーボネート等が挙げら
れ、中でも特に工業的な有用性、入手のしやすさなどか
らジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチ
レンカーボネートが好適に使用される。
【００１２】触媒として使用されるアルカリ金属化合物
又はアルカリ土類金属化合物としては、金属単体、水酸
化物、酸化物、ハロゲン化物、アルコキシド、有機酸
塩、硝酸塩、硫酸塩、珪酸塩、炭酸塩等が使用できる。
例えば、金属ナトリウム、金属カリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジ
ウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カ
ルシウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム、酸化ルビジウム、酸化セシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、
塩化カリウム、弗化カリウム、塩化ルビジウム、塩化セ
シウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、リチウム
メトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等が好適に使用できる。また、例えば原料シリカ
として植物の焼成残渣を用いる場合には原料シリカ中に
アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物が既に存
在している。このようなアルカリ金属化合物やアルカリ
土類金属化合物も触媒として機能しうる。このような場
合には新たに触媒を添加しないで反応を行うことが可能
なこともあるし、不足分を補う程度に添加して更に反応
を促進させてもよい。
又はアルカリ土類金属化合物としては、金属単体、水酸
化物、酸化物、ハロゲン化物、アルコキシド、有機酸
塩、硝酸塩、硫酸塩、珪酸塩、炭酸塩等が使用できる。
例えば、金属ナトリウム、金属カリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジ
ウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カ
ルシウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウ
ム、酸化ルビジウム、酸化セシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム、
塩化カリウム、弗化カリウム、塩化ルビジウム、塩化セ
シウム、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、リチウム
メトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等が好適に使用できる。また、例えば原料シリカ
として植物の焼成残渣を用いる場合には原料シリカ中に
アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物が既に存
在している。このようなアルカリ金属化合物やアルカリ
土類金属化合物も触媒として機能しうる。このような場
合には新たに触媒を添加しないで反応を行うことが可能
なこともあるし、不足分を補う程度に添加して更に反応
を促進させてもよい。
【００１３】触媒として使用されるアルカリ金属化合物
もしくはアルカリ土類金属化合物の量は、シリカに対し
て０．１〜２０重量％の範囲、好ましくは０．５〜１０
重量％程度の範囲で使用される。触媒量が少なすぎると
目的とする反応の進行が遅くなり、相対的にカーボネー
トがエーテルと二酸化炭素とに分解する副反応の割合が
増加する。触媒量が多すぎても特に効果が増すものでも
ない。
もしくはアルカリ土類金属化合物の量は、シリカに対し
て０．１〜２０重量％の範囲、好ましくは０．５〜１０
重量％程度の範囲で使用される。触媒量が少なすぎると
目的とする反応の進行が遅くなり、相対的にカーボネー
トがエーテルと二酸化炭素とに分解する副反応の割合が
増加する。触媒量が多すぎても特に効果が増すものでも
ない。
【００１４】反応方法に関しては、液相でも気相でも良
いが、反応温度、装置や操作の簡便さの点で気相の反応
方法が好ましい。気相で反応させる場合、シリカと触媒
との混合物を反応管に充填しておき、所定温度に加熱し
て前記一般式（１）で表されるカーボネートを気相で流
通させることにより実施できる。反応管に流通させるカ
ーボネートは１００％ガスでも、窒素、炭酸ガス、ヘリ
ウムなどで希釈してもよい。また、流動床式反応器にて
カーボネートを供給するとともにシリカも反応器に供給
して連続的にアルコキシシランを製造することもでき
る。
いが、反応温度、装置や操作の簡便さの点で気相の反応
方法が好ましい。気相で反応させる場合、シリカと触媒
との混合物を反応管に充填しておき、所定温度に加熱し
て前記一般式（１）で表されるカーボネートを気相で流
通させることにより実施できる。反応管に流通させるカ
ーボネートは１００％ガスでも、窒素、炭酸ガス、ヘリ
ウムなどで希釈してもよい。また、流動床式反応器にて
カーボネートを供給するとともにシリカも反応器に供給
して連続的にアルコキシシランを製造することもでき
る。
【００１５】気相反応を行なう場合、アルカリ金属化合
物あるいはアルカリ土類金属化合物は単にシリカと混合
して用いてもよいが、均一に混合することや取扱い易さ
を考慮し、アルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属
化合物を溶媒中に溶解もしくは分散させ、シリカを投入
して良く混合した後、溶媒を加熱蒸発除去することが好
適に行なわれる。この場合、溶媒としては、水、アルコ
ール等が好適に使用できる。このようにして調製された
シリカ−アルカリ金属もしくはシリカ−アルカリ土類金
属触媒中には、ある程度水分が含まれるが、水があると
生成したアルコキシシランが水と反応して珪酸になるの
で好ましくない。そのため、少なくとも１００℃以上の
温度で必要に応じて減圧下で乾燥を行ない、触媒中に残
存している水分を除くとよい。このようにして製造され
た触媒を含むシリカは、反応装置や反応条件に応じて、
適当な大きさに整えて使用される。
物あるいはアルカリ土類金属化合物は単にシリカと混合
して用いてもよいが、均一に混合することや取扱い易さ
を考慮し、アルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属
化合物を溶媒中に溶解もしくは分散させ、シリカを投入
して良く混合した後、溶媒を加熱蒸発除去することが好
適に行なわれる。この場合、溶媒としては、水、アルコ
ール等が好適に使用できる。このようにして調製された
シリカ−アルカリ金属もしくはシリカ−アルカリ土類金
属触媒中には、ある程度水分が含まれるが、水があると
生成したアルコキシシランが水と反応して珪酸になるの
で好ましくない。そのため、少なくとも１００℃以上の
温度で必要に応じて減圧下で乾燥を行ない、触媒中に残
存している水分を除くとよい。このようにして製造され
た触媒を含むシリカは、反応装置や反応条件に応じて、
適当な大きさに整えて使用される。
【００１６】液相反応を行なう場合、アルカリ金属化合
物あるいはアルカリ土類金属化合物が溶媒中に溶解また
はよく分散している状態であればシリカとの接触がよく
行え、反応もよく進行する。溶媒としては原料のカーボ
ネート自身を用いても他の不活性な溶媒を用いてもよ
い。
物あるいはアルカリ土類金属化合物が溶媒中に溶解また
はよく分散している状態であればシリカとの接触がよく
行え、反応もよく進行する。溶媒としては原料のカーボ
ネート自身を用いても他の不活性な溶媒を用いてもよ
い。
【００１７】反応温度は、１５０〜５００℃の範囲で行
なうことが出来るが、好ましくは２００〜４００℃であ
る。反応温度が低すぎると反応の進行が遅くなり、一
方、反応温度が高すぎると相対的にカーボネートがエー
テルと二酸化炭素とに分解する副反応の割合が増加す
る。触媒の融点以上の温度で反応させる場合には触媒と
シリカとの接触がよくなり、反応もよく進行する。
なうことが出来るが、好ましくは２００〜４００℃であ
る。反応温度が低すぎると反応の進行が遅くなり、一
方、反応温度が高すぎると相対的にカーボネートがエー
テルと二酸化炭素とに分解する副反応の割合が増加す
る。触媒の融点以上の温度で反応させる場合には触媒と
シリカとの接触がよくなり、反応もよく進行する。
【００１８】
【実施例】 以下に本発明を実施例により更に詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の％は特に断わりのない限り重
量基準とする。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、実施例中の％は特に断わりのない限り重
量基準とする。
【００１９】実施例１ 触媒として水酸化カリウムを用い、シリカとジメチルカ
ーボネート（以下、ＤＭＣと略す）との反応を以下のご
とく行った。
ーボネート（以下、ＤＭＣと略す）との反応を以下のご
とく行った。
【００２０】表面積１２０ｍ2／ｇ 、平均ポアサイズ３
１ｎｍ、平均粒径２５０〜５４５μのシリカゲル１３１
ｍｇ（２．１８mmol：富士デビソン社製）を、該シリカ
ゲルの５％となる量の水酸化カリウムをイオン交換水に
溶解した溶液中に投入した。十分シリカゲルをその溶液
中に浸漬させたのち、ロータリーエバポレーターにて溶
媒を加熱蒸発させ、水酸化カリウムを担持したシリカゲ
ルを得た。
１ｎｍ、平均粒径２５０〜５４５μのシリカゲル１３１
ｍｇ（２．１８mmol：富士デビソン社製）を、該シリカ
ゲルの５％となる量の水酸化カリウムをイオン交換水に
溶解した溶液中に投入した。十分シリカゲルをその溶液
中に浸漬させたのち、ロータリーエバポレーターにて溶
媒を加熱蒸発させ、水酸化カリウムを担持したシリカゲ
ルを得た。
【００２１】この水酸化カリウム担持シリカゲルを内径
１０ｍｍの固定床反応器に充填した後、反応器を３２７
℃に加熱してヘリウムガスを３０ｍｌ／分にて１時間流
通した。ついで、同じ３２７℃で、ＤＭＣをマイクロフ
ィーダーにて９．５mmol／時間の供給速度で添加してテ
トラメトキシシラン（以下、ＴＭＳと略す）の製造を行
なった。この時、ガスクロマトグラフ分析のため、内部
標準としてｎ−ヘプタンを０．５４８mmol／時間の供給
速度でＤＭＣとともに供給した。尚、反応生成物は、反
応管出口に接続したガスクロマトグラフにて自動的に
３．５分毎に分析した。
１０ｍｍの固定床反応器に充填した後、反応器を３２７
℃に加熱してヘリウムガスを３０ｍｌ／分にて１時間流
通した。ついで、同じ３２７℃で、ＤＭＣをマイクロフ
ィーダーにて９．５mmol／時間の供給速度で添加してテ
トラメトキシシラン（以下、ＴＭＳと略す）の製造を行
なった。この時、ガスクロマトグラフ分析のため、内部
標準としてｎ−ヘプタンを０．５４８mmol／時間の供給
速度でＤＭＣとともに供給した。尚、反応生成物は、反
応管出口に接続したガスクロマトグラフにて自動的に
３．５分毎に分析した。
【００２２】その結果、反応開始後ＴＭＳの生成速度は
急激に増加し初め、２７分後にその速度は最高値の３．
１mmol／時間に達し以降徐々に低下した。反応開始後約
７０分でＴＭＳの生成速度はゼロとなった。この時、原
料シリカの転化率は９８％に達した。また、分析の結
果、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１００％であ
り、ＴＭＳ以外の生成物はＤＭＣの分解物であるジメチ
ルエーテルと二酸化炭素のみであった。
急激に増加し初め、２７分後にその速度は最高値の３．
１mmol／時間に達し以降徐々に低下した。反応開始後約
７０分でＴＭＳの生成速度はゼロとなった。この時、原
料シリカの転化率は９８％に達した。また、分析の結
果、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１００％であ
り、ＴＭＳ以外の生成物はＤＭＣの分解物であるジメチ
ルエーテルと二酸化炭素のみであった。
【００２３】実施例２〜９ 触媒の種類を表１に示すように変えた以外は実施例１と
同様にして触媒の担持、反応を行なった。ＴＭＳの生成
速度が最高に達するまでの時間とその時の生成速度、Ｔ
ＭＳの生成速度がゼロになるまでの時間とその時の原料
シリカの転化率を表１に示した。
同様にして触媒の担持、反応を行なった。ＴＭＳの生成
速度が最高に達するまでの時間とその時の生成速度、Ｔ
ＭＳの生成速度がゼロになるまでの時間とその時の原料
シリカの転化率を表１に示した。
【００２４】尚、分析の結果、シリカからＴＭＳへの選
択率はほぼ１００％であった。
択率はほぼ１００％であった。
【００２５】
【表１】
【００２６】実施例１０〜１４ 反応温度を３２５℃にし、触媒として水酸化ナトリウム
を用い、そのシリカに担持する量を表２に示すように変
えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製、反応を
行なった。その結果を表２に示した。
を用い、そのシリカに担持する量を表２に示すように変
えた以外は、実施例１と同様にして触媒の調製、反応を
行なった。その結果を表２に示した。
【００２７】尚、分析の結果、シリカからＴＭＳへの選
択率はほぼ１００％であった。
択率はほぼ１００％であった。
【００２８】
【表２】
【００２９】実施例１５〜２２ ＤＭＣの流量を４３mmol／時間、触媒として塩化カリウ
ムまたは水酸化セシウムを用い、反応温度を表３のよう
に変えた以外は実施例１と同様にして、触媒の調製、お
よび反応を行なった。その結果を表３に示した。
ムまたは水酸化セシウムを用い、反応温度を表３のよう
に変えた以外は実施例１と同様にして、触媒の調製、お
よび反応を行なった。その結果を表３に示した。
【００３０】尚、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１
００％であった。
００％であった。
【００３１】
【表３】
【００３２】実施例２３〜２５ 反応温度３２５℃、触媒として水酸化ナトリウムを用
い、そのシリカに担持する量を２％とし、ヘリウムの流
量を調節してＤＭＣの分圧を表４に示したように変えた
以外は、実施例１と同様にして触媒の調製および反応を
行なった。その結果を表４に示した。
い、そのシリカに担持する量を２％とし、ヘリウムの流
量を調節してＤＭＣの分圧を表４に示したように変えた
以外は、実施例１と同様にして触媒の調製および反応を
行なった。その結果を表４に示した。
【００３３】尚、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１
００％であった。
００％であった。
【００３４】
【表４】
【００３５】実施例２６〜２７ ＤＭＣの流量を表５に示したように変化させた以外は実
施例１と同様にして触媒の担持および反応を行なった。
その結果を表５に示した。
施例１と同様にして触媒の担持および反応を行なった。
その結果を表５に示した。
【００３６】尚、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１
００％であった。
００％であった。
【００３７】
【表５】
【００３８】実施例２８ もみがらを焼成して得られたシリカ（シリカ ９１．７
％、Ｋ2Ｏ５％）をそのまま原料として使用した以外
は、実施例１と同様にして反応を行なった。その結果を
表６に示した。この実施例の場合、新たにアルカリ金属
を添加しなくてもＴＭＳが生成したが、これは、もみが
らを焼成して得られたシリカ中のＫ2Ｏ が触媒として作
用したためと考えられる。
％、Ｋ2Ｏ５％）をそのまま原料として使用した以外
は、実施例１と同様にして反応を行なった。その結果を
表６に示した。この実施例の場合、新たにアルカリ金属
を添加しなくてもＴＭＳが生成したが、これは、もみが
らを焼成して得られたシリカ中のＫ2Ｏ が触媒として作
用したためと考えられる。
【００３９】尚、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１
００％であった。
００％であった。
【００４０】実施例２９ シリカゲルの代わりに実施例２８のシリカを使用した他
は実施例１と同様に水酸化カリウムをシリカに担持させ
て反応を行なった。その結果を表６に示した。新たに水
酸化カリウムを添加したことにより実施例２８よりも反
応速度が更に向上した。
は実施例１と同様に水酸化カリウムをシリカに担持させ
て反応を行なった。その結果を表６に示した。新たに水
酸化カリウムを添加したことにより実施例２８よりも反
応速度が更に向上した。
【００４１】尚、シリカからＴＭＳへの選択率はほぼ１
００％であった。
００％であった。
【００４２】
【表６】
【００４３】比較例１ 実施例１の原料シリカゲルを触媒を加えずにそのまま反
応に用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なっ
た。その結果、一部ジメチルエーテルの生成は認められ
たが、ＴＭＳは全く生成しなかった。
応に用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なっ
た。その結果、一部ジメチルエーテルの生成は認められ
たが、ＴＭＳは全く生成しなかった。
Claims (3)
- 【請求項１】 シリカを、アルカリ金属化合物およびア
ルカリ土類金属化合物のうちの少なくとも１種を触媒と
して用いて、一般式（１） （式中、Ｒ1およびＲ2は各々独立して炭素数１〜４のア
ルキル基であるか、Ｒ1とＲ2 は連結して炭素数２〜４
のアルキレン基または−ＣＨ(Ｃ6Ｈ5)ＣＨ2−基、のい
ずれかである）で表されるカーボネートと反応させるこ
とを特徴とするアルコキシシランの製造方法。 - 【請求項２】 アルカリ金属化合物またはアルカリ土類
金属化合物が金属単体、水酸化物、酸化物、ハロゲン化
物、アルコキシド、有機酸塩、硝酸塩、硫酸塩、珪酸
塩、炭酸塩のいずれかである請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記式（１）で表されるカーボネートが
ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロ
ピルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレン
カーボネート、ブチレンカーボネート、フェニルエチレ
ンカーボネートのいずれかである請求項１または２に記
載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3111421A JP3026371B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | アルコキシシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3111421A JP3026371B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | アルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338393A JPH04338393A (ja) | 1992-11-25 |
| JP3026371B2 true JP3026371B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=14560752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3111421A Expired - Fee Related JP3026371B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | アルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3026371B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10000514B2 (en) | 2014-05-09 | 2018-06-19 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method for producing tetraalkoxysilane |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1323722A1 (en) * | 2001-12-25 | 2003-07-02 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for producing alkoxysilanes |
| WO2014143289A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Dow Corning Corporation | Preparation of organometallic compounds, hydrocarbyloxysilanes and hydrocarbyloxy-functional polyorganosiloxanes from alkali metal-impregnated silica |
| JP6624430B2 (ja) * | 2015-11-02 | 2019-12-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | テトラメトキシシランの製造方法 |
| CN115518629A (zh) * | 2022-09-27 | 2022-12-27 | 中触媒新材料股份有限公司 | 一种合成四烷氧基硅烷的催化剂及其制备和使用方法 |
-
1991
- 1991-05-16 JP JP3111421A patent/JP3026371B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10000514B2 (en) | 2014-05-09 | 2018-06-19 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method for producing tetraalkoxysilane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04338393A (ja) | 1992-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2562833B2 (ja) | トリアルコキシシラン−テトラアルコキシシラン混合物の製造方法 | |
| JP3026371B2 (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
| US5260471A (en) | Process for producing trialkoxysilane | |
| JP2005514312A (ja) | アモルファスシリコンおよび／またはこれから得られるオルガノハロゲンシランの製造方法 | |
| JPH05178863A (ja) | アルコール中弗化水素溶液とシリコンとを接触させるアルコキシシランの製造法 | |
| JPS63233007A (ja) | クロロポリシランの製造方法 | |
| CN102219802B (zh) | 一种新型异丁基三乙氧基硅烷的制备方法 | |
| CN102203104B (zh) | 甲硅烷和四烷氧基硅烷的制造方法 | |
| JP6014771B2 (ja) | トリアルコキシシランを用いたモノシランの製造方法 | |
| JP3658901B2 (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
| US20030135062A1 (en) | Process for producing an alkoxysilane | |
| JP2613259B2 (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
| JP2653700B2 (ja) | トリメトキシシランの製造方法 | |
| JP2613261B2 (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
| JP2563305B2 (ja) | トリアルコキシシランの製造方法 | |
| JPS60255612A (ja) | 水素化ケイ素の製造方法 | |
| JP2615803B2 (ja) | モノシランの製造法 | |
| JP3707875B2 (ja) | 三塩化珪素の製造方法 | |
| JP4663079B2 (ja) | トリアルコキシシランからシランの製造方法およびテトラアルコキシシランからトリアルコキシシランの製造方法 | |
| JP3676515B2 (ja) | 三塩化珪素の製造方法 | |
| JPH01313318A (ja) | トリクロロシランの製造方法 | |
| EP1323722A1 (en) | Process for producing alkoxysilanes | |
| JPH1121288A (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
| JPH0336764B2 (ja) | ||
| JPS60260418A (ja) | 水素化ケイ素の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080128 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |