JP6163983B2 - 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
液滴を吐出するノズル部材と、
前記ノズル部材に接着剤で接合する流路板と、を有し、
前記ノズル部材は、
ノズル穴が形成されたノズル基材の滴吐出側表面に、第1表面処理膜が形成されて、前記第1表面処理膜上に撥液膜が形成され、
前記ノズル基材の前記流路板との接合面側表面に、第2表面処理膜が形成され、
前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、いずれも、Siを含む酸化膜であり、前記酸化膜は、Siと酸素を介して結合した不動態膜を形成する遷移金属を含み、
前記第1表面処理膜におけるSiと遷移金属との配合比と、前記第2表面処理膜におけるSiと遷移金属との配合比とが異なる
構成とした。
余分な撥液剤樹脂を溶剤で洗い流す、あるいはふき取ることで、単分子を滴吐出面に残して取り除く。単分子層とすることで、非常に高い撥液性を持たせることができる。耐摩耗性を撥液性よりも重視する場合は行わなくてもよい。
101 ノズル(ノズル穴)
102 ノズル板
103 圧力室
104 流路板
105 振動板
110 ノズル基材
120 有機撥液膜
121 第1表面処理膜
122 第2表面処理膜
140 電気機械変換素子
233 キャリッジ
234a、234b 記録ヘッド
Claims (6)
- 液滴を吐出するノズル部材と、
前記ノズル部材に接着剤で接合する流路板と、を有し、
前記ノズル部材は、
ノズル穴が形成されたノズル基材の滴吐出側表面に、第1表面処理膜が形成されて、前記第1表面処理膜上に撥液膜が形成され、
前記ノズル基材の前記流路板との接合面側表面に、第2表面処理膜が形成され、
前記第1表面処理膜及び前記第2表面処理膜は、いずれも、Siを含む酸化膜であり、前記酸化膜は、Siと酸素を介して結合した不動態膜を形成する遷移金属を含み、
前記第1表面処理膜におけるSiと遷移金属との配合比と、前記第2表面処理膜におけるSiと遷移金属との配合比とが異なる
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記第1表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比が、前記第2表面処理膜における遷移金属に対するSiの配合比よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記第2表面処理膜は、前記ノズル基材のノズル穴の内壁面まで形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記撥液剤は、シラノール基を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記接着剤は、シラノール基を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。
- 請求項1ないし5のいずれかに記載の液体吐出ヘッドを備えていることを特徴とする画像形成装置。
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